JPH04119652A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH04119652A
JPH04119652A JP2238904A JP23890490A JPH04119652A JP H04119652 A JPH04119652 A JP H04119652A JP 2238904 A JP2238904 A JP 2238904A JP 23890490 A JP23890490 A JP 23890490A JP H04119652 A JPH04119652 A JP H04119652A
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JP
Japan
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circuit
connection node
resistor
identification circuit
identification
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JP2238904A
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Japanese (ja)
Inventor
Kenji Numata
沼田 健二
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To enable a current level difference to be set large enough to serve as discriminating data by a method wherein a semiconductor device is provided with a discriminating circuit which contains a fuse element and a diode, and an impedance viewed from the standpoint of a connection node of a discriminating circuit toward an inner circuit is set larger than that toward the discriminating circuit. CONSTITUTION:A discriminating circuit 3 is composed of a fuse element 31 and a diode 32 connected in series between a connection node N and a power supply potential Vcc. On the other hand, a resistor R0 is an equivalent resistor of a wiring between an input pin 1 and the connection node N of the discriminating circuit, and a resistor Ra is an equivalent resistor of a wiring between the connection node N and the input circuit 2. An R1 is an equivalent resistor viewed from the connection node N toward the discriminating circuit 3 including the resistance of the fuse element 31. Apart from these resistors, an resistor Rb is a resistor which is inserted so as to enable a resistor, R2=Ra+Rb, viewed from the connection node N toward the input circuit 2 to be much larger than the equivalent resistor R1 toward a discriminating circuit 2 side. By this setup, discrimination data can be detected large enough in sensitivity, so that it can be discriminated that a redundant circuit system is utilized or not.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、冗長回路を有する半導体集積回路装置に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device having a redundant circuit.

(従来の技術) 半導体集積回路において、しばしばハードエラー救済の
ために冗長回路を設けることが行われる。例えばダイナ
ミック型半導体記憶装置(DRAM)においては、冗長
回路は、必要なワード線やカラム選択線の他にスペア・
ワード線。
(Prior Art) In semiconductor integrated circuits, redundant circuits are often provided for hard error relief. For example, in dynamic semiconductor memory devices (DRAM), redundant circuits include spare lines and column selection lines in addition to necessary word lines and column selection lines.
word line.

スペア・カラム選択線を設け、かつ冗長ビットの選択・
不選択を制御するスペア・ロウデコーダ。
A spare column selection line is provided, and redundant bit selection/
Spare row decoder to control deselection.

スペア・カラムデコーダを搭載して構成される。It is configured with a spare column decoder.

この場合チップ内部には、不良アドレスをフェーズ・デ
ータとしてもっていて、不良アドレスが選択された時に
これをスペア・ワード線またはスペア・カラム選択線に
置換する。この冗長回路システムにより、DRAMの歩
留まりは向上する。
In this case, the chip contains the defective address as phase data, and when the defective address is selected, it is replaced with a spare word line or spare column selection line. This redundant circuit system improves the yield of DRAMs.

しかしなからこの種の冗長回路システムは、メーカーが
製品の歩留まり向上の手段として採用するものであって
、ユーザーから見たときにはそのDRAMが冗長回路に
よる救済良品か完全良品かの区別はつかない。そこでユ
ーザーが外部ピンから簡単に救済良品か完全良品かを識
別することかできるように、DRAMチップ内に識別回
路を設けることも行われている。
However, this type of redundant circuit system is adopted by manufacturers as a means of improving product yield, and from the user's perspective, it is impossible to tell whether the DRAM is a non-defective product that has been salvaged by the redundant circuit or a completely non-defective product. Therefore, an identification circuit is provided within the DRAM chip so that the user can easily identify whether it is a repaired non-defective product or a completely non-defective product using an external pin.

第8図はその様な従来の識別回路の構成例である。図は
、出力ピン11と出力回路12を繋ぐ配線上に識別回路
13を設けた場合を示している。
FIG. 8 shows an example of the configuration of such a conventional identification circuit. The figure shows a case where an identification circuit 13 is provided on the wiring connecting the output pin 11 and the output circuit 12.

ここで出力回路12は、二つのNMOS)−ランジスタ
Ql、Q2をドライバトランジスタとして持つ。識別回
路13は、フェーズ素子31とダイオード32により構
成されている。RO,Raは配線抵抗等の等価抵抗を示
している。
Here, the output circuit 12 has two NMOS transistors Ql and Q2 as driver transistors. The identification circuit 13 includes a phase element 31 and a diode 32. RO and Ra indicate equivalent resistance such as wiring resistance.

識別情報は、フェーズ素子31を断線(カット)するか
否かにより書き込まれる。すなわち冗長回路を利用した
場合にはフェーズ素子31をカットし、冗長回路を利用
しない場合にはカットせずに残す。この識別情報の判別
は、出力ピン11に電源電位Vccより高い電位を与え
て、そのときの電流レヘルを読むことにより行われる。
The identification information is written depending on whether or not the phase element 31 is disconnected (cut). That is, when a redundant circuit is used, the phase element 31 is cut, and when a redundant circuit is not used, it is left uncut. This identification information is determined by applying a potential higher than the power supply potential Vcc to the output pin 11 and reading the current level at that time.

第10図の実線でに示すように、フェーズ・カットかあ
る場合■とない場合■とては電圧−電流特性か大きく異
なり、これによりフェーズ・カットの有無すなわち、完
全良品か救済良品かの識別か出来る。
As shown by the solid line in Figure 10, the voltage-current characteristics of ■ with phase cut and ■ without phase cut are significantly different, and this allows us to identify whether there is phase cut or not, that is, whether it is a completely good product or a repaired good product. I can do it.

ところがこの様な従来の識別回路方式では、第9図に示
すように出力回路12のドライノ(部分がCMO3化さ
れたときに問題が生じる。第9図のように出力回路12
の出力段が、電源Vce側にPMOS)ランジスタQl
l、接地VSS側にNMOS)ランジスタQ12を用い
たCMO5構成になると、その出力端子には図に示した
極性でダイオードDi  D2か入る。そうすると、出
力ピン11に正の電位を与えたときに、出力回路12の
ダイオードD1のリークによって識別回路13のフェー
ズ・カットの有無が十分に検出できな(なる。その時の
電圧−電流特性を第10図に破線■、■で示しである。
However, in such a conventional identification circuit system, a problem arises when the Drino (portion) of the output circuit 12 is converted to CMO3 as shown in FIG.
The output stage of is a PMOS) transistor Ql on the power supply Vce side.
When a CMO5 configuration is adopted using an NMOS (NMOS) transistor Q12 on the ground VSS side, a diode DiD2 is inserted into its output terminal with the polarity shown in the figure. Then, when a positive potential is applied to the output pin 11, the presence or absence of a phase cut in the identification circuit 13 cannot be sufficiently detected due to leakage from the diode D1 of the output circuit 12. This is indicated by broken lines ■ and ■ in Figure 10.

同様の問題は、識別回路を入力回路部に設ける場合にも
生しる。入力回路部にはしばしば、配線と電源電位Vc
cおよび接地電位■SSの間に保護用のダイオードが設
けられるからである。
A similar problem also occurs when the identification circuit is provided in the input circuit section. The input circuit section often includes wiring and power supply potential Vc.
This is because a protective diode is provided between c and the ground potential SS.

(発明が解決しようとする課題) 以上のように従来のフェーズ素子とダイオードだけで構
成される識別回路方式では、出力回路がCMO8化され
た場合や入力回路に保護ダイオードが設けられた場合に
その機能を発揮することができない、という問題があっ
た。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional identification circuit system consisting only of phase elements and diodes, when the output circuit is converted to CMO8 or when a protection diode is provided in the input circuit, The problem was that it could not function properly.

本発明は、この様な問題を解決した識別回路を持つ半導
体集積回路装置を提供することを目的とする。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having an identification circuit that solves such problems.

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、ハードエラーを救済する冗長回路と、入出力
ピンと内部回路を接続する配線に接続された冗長回路を
用いたか否かを識別するためのフェーズ素子とダイオー
ドを含む識別回路とを有する半導体集積回路装置におい
て、配線上の識別回路の接続ノードからの内部回路方向
のインピーダンスか、識別回路方向のインピーダンスよ
り大きく設定されていることを特徴としている。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention identifies whether or not a redundant circuit for relieving hard errors and a redundant circuit connected to wiring connecting an input/output pin and an internal circuit are used. In a semiconductor integrated circuit device having an identification circuit including a phase element and a diode, the impedance in the direction of the internal circuit from the connection node of the identification circuit on the wiring is set to be greater than the impedance in the direction of the identification circuit. It is said that

(作用) 本発明によれば、識別回路の基本構成は従来と同様のも
のとしながら、識別回路の接続ノードから見た識別回路
側と内部回路側のインピーダンスに着目して両者に一定
の差をつけることにより、出力回路或いは入力回路の構
成如何に拘らず、識別情報として十分な電流レベルの差
を作ることができる。
(Function) According to the present invention, while the basic configuration of the identification circuit is the same as the conventional one, a certain difference is established between the two by focusing on the impedance of the identification circuit side and the internal circuit side as seen from the connection node of the identification circuit. By attaching this, it is possible to create a sufficient difference in current level as identification information, regardless of the configuration of the output circuit or the input circuit.

(実施例) 以下、本発明をDRAMに適用した実施例につき説明す
る。
(Example) Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a DRAM will be described.

第1図は実施例のDRAMにおける識別回路を設けた入
力回路部の構成を示し、第2図はその識別回路部のDR
AMチップ上のレイアウトを示している。第1図に示す
ように、入力ピン1と入力回路2の間の配線上に識別回
路3が設けられている。入力回路2はその入力端子と電
源電位Vecおよび接地電位■SSとの間にそれぞれ保
護用ダイオード2122か設けられている。識別回路3
は、その接続ノードNと電源電位Vccの間にフェーズ
素子31とダイオード32を直列接続して構成されてい
る。この識別回路3の基本構成は従来と変わらない。R
Oは入力ピン1から識別回路の接続ノードNまでの配線
の等価抵抗であり、Raは接続ノードNから入力回路2
までの配線の等価抵抗である。またR1は、接続ノード
Nから識別回路3側を見た時のフェーズ素子31の抵抗
をも含めた等価抵抗である。これらの抵抗に対し、Rb
は、接続ノードNから入力回路2側を見た時の抵抗R2
(−Ra +Rb )が、識別回路2側の等価抵抗R1
より十分大きくなるように挿入された挿入抵抗である。
FIG. 1 shows the configuration of the input circuit section provided with the identification circuit in the DRAM of the embodiment, and FIG. 2 shows the DR of the identification circuit section.
The layout on the AM chip is shown. As shown in FIG. 1, an identification circuit 3 is provided on the wiring between the input pin 1 and the input circuit 2. Input circuit 2 is provided with protective diodes 2122 between its input terminal and power supply potential Vec and ground potential SS. Identification circuit 3
is constructed by connecting a phase element 31 and a diode 32 in series between its connection node N and power supply potential Vcc. The basic configuration of this identification circuit 3 is unchanged from the conventional one. R
O is the equivalent resistance of the wiring from input pin 1 to connection node N of the identification circuit, and Ra is the resistance of the wiring from connection node N to input circuit 2.
is the equivalent resistance of the wiring up to . Further, R1 is an equivalent resistance including the resistance of the phase element 31 when looking from the connection node N to the identification circuit 3 side. For these resistances, Rb
is the resistance R2 when looking at the input circuit 2 side from the connection node N.
(-Ra +Rb) is the equivalent resistance R1 on the identification circuit 2 side
This is an insertion resistance inserted so that it becomes sufficiently larger.

第2図に示すようにDRAMチップ4には、メモリアレ
イ5か分割して配置される。そのメモリアレイ5の間に
はバッファや入出力回路等の各種周辺回路が配置される
。第1図の識別回路部は、図に等価回路で示したように
この周辺回路領域に配置される。
As shown in FIG. 2, a memory array 5 is arranged in a divided manner in the DRAM chip 4. Various peripheral circuits such as buffers and input/output circuits are arranged between the memory arrays 5. The identification circuit section in FIG. 1 is arranged in this peripheral circuit area as shown by the equivalent circuit in the figure.

いま、第1図の構成において、入力ピン1に、識別回路
3のダイオード32が順バイアスされるように電源電位
VCCより高い電位V PINを与えたとき、入力ピン
1から見た内部インピーダンスRinは、概路次のよう
に表される。フェーズ31がカットされていない場合の
内部インピーダンスR1n0は、 R1n0 =RO+R1・R2/ (R1+R2)・・
・(1) となり、フェーズ31かカットされた時の内部インピー
ダンスR1n1は、 R1n1 =RO+R2−(2) となる。この実施例では、R1<R2を満たすように、
挿入抵抗Rbの値か選ばれる。このとき(1)式は、 RjnO=RO+R1=13) と表される。(2)、(3)式を比較して明らかなよう
に、フェーズ・カットの有無によって内部インピーダン
スは大きく異なり、したがって識別情報として十分な電
流レベルの差を確保することができる。
Now, in the configuration shown in FIG. 1, when a potential V PIN higher than the power supply potential VCC is applied to the input pin 1 so that the diode 32 of the identification circuit 3 is forward biased, the internal impedance Rin seen from the input pin 1 is , the outline is expressed as follows. The internal impedance R1n0 when the phase 31 is not cut is R1n0 = RO+R1・R2/ (R1+R2)...
-(1) The internal impedance R1n1 when the phase 31 is cut is R1n1 = RO + R2 - (2). In this example, so that R1<R2 is satisfied,
The value of insertion resistance Rb is selected. At this time, equation (1) is expressed as RjnO=RO+R1=13). As is clear from comparing equations (2) and (3), the internal impedance varies greatly depending on the presence or absence of a phase cut, and therefore a sufficient difference in current level can be secured as identification information.

第3図は、この実施例でのフェーズ・カットの有無によ
る電圧−電流特性を示している。抵抗ROに関しては通
常、RO=R1程度にするのが好ましいか、必ずしもこ
れに限られるわけてはない。すなわちRO<R2を満足
すれば、十分効果が得られる。第3図の特性は、RO=
170Ω、R1=170Ω、Ra=600Ω、Rb=1
.3にΩの場合の結果である。図に示すように、電圧(
VPIN  Vcc)−2,5Vで、フェーズ・カット
無の場合は約5mAの電流か流れ、フェーズ・カット有
の場合は約0.75mAの電流が流れる。
FIG. 3 shows voltage-current characteristics with and without phase cut in this embodiment. Regarding the resistance RO, it is usually preferable that RO=R1, but it is not necessarily limited to this. That is, if RO<R2 is satisfied, sufficient effects can be obtained. The characteristics in Figure 3 are RO=
170Ω, R1=170Ω, Ra=600Ω, Rb=1
.. This is the result when Ω is set to 3. As shown in the figure, the voltage (
VPIN Vcc) -2.5V, a current of approximately 5 mA flows without phase cut, and a current of approximately 0.75 mA flows with phase cut.

この電流差によって、フェーズ・カットの有無を確実に
検知することができる。
This current difference makes it possible to reliably detect the presence or absence of a phase cut.

上述のような電流差によりフェーズ・カットの有無を検
出するためには、Rinlが少なくともR1n0の2倍
以上であることが望ましい。ただし、挿入抵抗Rbを大
きくしてR2を大きくすることは、DRAMチップの動
作上好ましいことではない。したがって、ROおよびR
1を極力小さくすることによって、R2の値も余り大き
くしないことが望ましい。そして、ROおよびR1を極
力小さくして、DRAMチップの動作に悪影響を与えな
い範囲でR2を設定することにより、フェーズ・カット
の有無による内部インピーダンスの比Rinl / R
1nloを約1000程度まで大きく設定する事が可能
である。
In order to detect the presence or absence of a phase cut based on the current difference as described above, it is desirable that Rinl is at least twice as large as R1n0. However, increasing the insertion resistance Rb to increase R2 is not preferable in terms of the operation of the DRAM chip. Therefore, RO and R
By making 1 as small as possible, it is desirable not to make the value of R2 too large. Then, by minimizing RO and R1 and setting R2 within a range that does not adversely affect the operation of the DRAM chip, the internal impedance ratio Rinl / R with and without phase cut can be adjusted.
It is possible to set 1nlo as large as about 1000.

第4図は別の実施例である。第1図と対応する部分には
第1図と同一符号を付して詳細な説明は省略する。この
実施例では、フェーズ経路のダイオード32としてNM
OSトランジスタをダイオード接続したMOSダイオー
ドを用いている。このとき用いるMOSl−ランジスタ
のしきい値をpnダイオードの順方向電圧降下V、より
小さいものとすることにより、本発明の効果をより発揮
させることができる。
FIG. 4 shows another embodiment. Portions corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals as in FIG. 1, and detailed description thereof will be omitted. In this embodiment, NM
A MOS diode in which an OS transistor is diode-connected is used. By setting the threshold value of the MOS1-transistor used at this time to be smaller than the forward voltage drop V of the pn diode, the effects of the present invention can be more fully exhibited.

第5図は、対vSS側にフェーズ経路を設けた場合の実
施例であり、さらに第6図はその場合にダイオード32
をn段直列接続した実施例である。
FIG. 5 shows an example in which a phase path is provided on the side to vSS, and FIG. 6 shows a diode 32 in that case.
This is an embodiment in which n stages are connected in series.

これらの実施例でも、第1図と対応する部分には第1図
と同一符号を付しである。
In these embodiments as well, parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals as in FIG. 1.

第7図は、出力回路側に識別回路を設けた実施例である
。ここでは、従来例である第9図と対応する部分に第9
図と同じ符号を付しである。出力回路12は、その出力
段ドライバがPMOSトランジスタQllとNMOS)
ランジスタQ12のCMOS構成となっている。この場
合も、識別回路13の接続ノードNから識別回路13側
を見たインピーダンスと出力回路12側を見たインピー
ダンスが、第1図の実施例と同様の関係を満たすように
、図中に示した抵抗R1、R2(−Ra +Rb)が設
定される。これにより、出力回路12がCMOS構成で
あるにも拘らず、フェーズ・カットの有無を出力ピン1
1から確実に検出することができる。
FIG. 7 shows an embodiment in which an identification circuit is provided on the output circuit side. Here, the part corresponding to FIG. 9 which is a conventional example is shown in FIG.
The same reference numerals as in the figure are given. The output stage driver of the output circuit 12 is a PMOS transistor Qll and an NMOS)
It has a CMOS configuration of transistor Q12. In this case, the impedance as seen from the connection node N of the identification circuit 13 toward the identification circuit 13 side and the impedance seen from the output circuit 12 side are shown in the figure so that they satisfy the same relationship as in the embodiment shown in FIG. The resistors R1 and R2 (-Ra +Rb) are set. As a result, even though the output circuit 12 has a CMOS configuration, whether or not there is a phase cut can be determined from the output pin 1.
1 can be reliably detected.

本発明は上記実施例に限られるものではない。The present invention is not limited to the above embodiments.

たとえば、DRAMの地間様の冗長回路システムを内蔵
させた各種半導体集積回路に本発明を適用することか可
能である。
For example, the present invention can be applied to various semiconductor integrated circuits incorporating a DRAM-like redundant circuit system.

[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、入出力回路構成の如
何に拘らず、十分な検出感度をもって識別情報を検出で
き、冗長回路システムの利用の有無を判別できるように
した半導体集積回路装置を提供することができる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, identification information can be detected with sufficient detection sensitivity regardless of the input/output circuit configuration, and it is possible to determine whether or not a redundant circuit system is used. A semiconductor integrated circuit device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例のDRAMの識別回路部の構
成を示す図、 第2図はそのDRAMのレイアウトを示す図、第3図は
識別情報判別のための電圧−電流特性を示す図、 第4図は他の実施例のDRAMの識別回路部の構成を示
す図、 第5図は対VSSの識別回路を設けた実施例のDRAM
の識別回路部の構成を示す図、第6図は第5図を僅かに
変形した実施例のDRAMの識別回路部の構成を示す図
、第7図は出力回路側に識別回路を設けた実施例のDR
AMの識別回路部の構成を示す図、第8図は従来のDR
AMの識別回路部の構成を示す図、 第9図は問題がある従来のDRAMの識別回路部の構成
を示す図、 第10図は第8図および第9図での識別情報判別のため
の電圧−電流特性を示す図である。 1・・・入力ビン、2・・・入力回路、21.22・・
・保護用ダイオード、3・・・識別回路、31・・・フ
ェーズ素子、32・・・ダイオード、N・・・接続ノー
ド、RO・・・配線抵抗、R1・・・識別回路側等価抵
抗、R2・・・入力回路側等価抵抗、Ra・・・配線抵
抗、Rb・・・挿入抵抗、4・・・DRAMチップ、5
・・・メモリアレイ、11・・・出力ピン、12・・・
出力回路、Qll・・・PMOSトランジスタ、Q12
・・・NMOS)ランジスタ、13・・・識別回路。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1 図 X2 図 VPIN −Vcc (V) 第3図 第5図 第 図 第8図 第9 図 VPOOT −VCC (V) 第10図
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of the identification circuit section of a DRAM according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing the layout of the DRAM, and FIG. 3 is a diagram showing voltage-current characteristics for identifying identification information. 4 is a diagram showing the configuration of the identification circuit section of a DRAM according to another embodiment. FIG. 5 is a diagram showing a DRAM of an embodiment provided with an identification circuit for VSS.
FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the identification circuit section of a DRAM according to an embodiment that is slightly modified from FIG. 5, and FIG. 7 is an implementation in which the identification circuit is provided on the output circuit side. Example DR
A diagram showing the configuration of the AM identification circuit section, FIG. 8 is a diagram showing the configuration of the AM identification circuit section.
FIG. 9 is a diagram showing the configuration of the identification circuit section of the conventional DRAM, which has a problem. FIG. FIG. 3 is a diagram showing voltage-current characteristics. 1...Input bin, 2...Input circuit, 21.22...
・Protective diode, 3... Identification circuit, 31... Phase element, 32... Diode, N... Connection node, RO... Wiring resistance, R1... Identification circuit side equivalent resistance, R2 ...Equivalent resistance on the input circuit side, Ra...Wiring resistance, Rb...Insertion resistance, 4...DRAM chip, 5
...Memory array, 11...Output pin, 12...
Output circuit, Qll...PMOS transistor, Q12
...NMOS) transistor, 13...Identification circuit. Applicant's Representative Patent Attorney Takehiko Suzue 1 Figure X2 Figure VPIN -Vcc (V) Figure 3 Figure 5 Figure 8 Figure 9 Figure VPOOT -VCC (V) Figure 10

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)ハードエラーを救済する冗長回路と、入出力ピン
と内部回路を接続する配線に接続された前記冗長回路を
用いたか否かを識別するためのフェーズ素子とダイオー
ドを含む識別回路と、を有する半導体集積回路装置にお
いて、 前記配線上の前記識別回路の接続ノードからの前記内部
回路方向のインピーダンスが前記識別回路方向のインピ
ーダンスより大きく設定されていることを特徴とする半
導体集積回路装置。
(1) It has a redundant circuit for relieving hard errors, and an identification circuit including a phase element and a diode for identifying whether or not the redundant circuit is used, which is connected to wiring connecting input/output pins and internal circuits. A semiconductor integrated circuit device, characterized in that impedance in the direction of the internal circuit from a connection node of the identification circuit on the wiring is set to be larger than impedance in the direction of the identification circuit.
(2)前記接続ノードからの前記内部回路方向のインピ
ーダンスを前記識別回路方向のインピーダンスより大き
く設定するために、前記接続ノードと前記内部回路の間
に抵抗素子を介在させたことを特徴とする請求項1記載
の半導体集積回路装置。
(2) A resistance element is interposed between the connection node and the internal circuit in order to set the impedance from the connection node in the direction of the internal circuit to be larger than the impedance in the direction of the identification circuit. The semiconductor integrated circuit device according to item 1.
(3)前記接続ノードからの前記内部回路方向のインピ
ーダンスが前記識別回路方向のインピーダンスより2倍
以上大きく設定されていることを特徴とする請求項1記
載の半導体集積回路装置。
(3) The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the impedance in the direction of the internal circuit from the connection node is set to be twice or more larger than the impedance in the direction of the identification circuit.
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US6852051B2 (en) 2001-08-22 2005-02-08 Tsubakimoto Chain Co. Tensioner lever for transmission device

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