JPH04108811A - ポリオレフィンの製造方法 - Google Patents
ポリオレフィンの製造方法Info
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Landscapes
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は特定触媒を用いたポリオレフィンの製造方法に
関する。さらに詳しくは、本発明は活性の高い特定な触
媒の存在下にオレフィンを重合または共重合することに
より、分子量分布または組成分布が狭く、粘着性が少な
く、しかもかさ密度の高いポリオレフィンを製造する方
法に関する。
関する。さらに詳しくは、本発明は活性の高い特定な触
媒の存在下にオレフィンを重合または共重合することに
より、分子量分布または組成分布が狭く、粘着性が少な
く、しかもかさ密度の高いポリオレフィンを製造する方
法に関する。
[従来技術]
近年、メタロセン系成分とメチルアルモキサンとからな
る触媒系が、エチレンの単独重合およびエチレンとα−
オレフィンの共重合において注目を浴びている。この触
媒系は、遷移金属あたりの活性が比較的高く、また得ら
れるポリマーは分子量分布が狭く、エチレン・α−オレ
フィン共重合体においては組成分布が比較的狭く、べた
つきも少ないなどの特長を備えている。
る触媒系が、エチレンの単独重合およびエチレンとα−
オレフィンの共重合において注目を浴びている。この触
媒系は、遷移金属あたりの活性が比較的高く、また得ら
れるポリマーは分子量分布が狭く、エチレン・α−オレ
フィン共重合体においては組成分布が比較的狭く、べた
つきも少ないなどの特長を備えている。
例えば、特開昭58−19309号には上記触媒系が記
載されている。この触媒系は均一系重合触媒であるが、
これを用いて気相重合を行った場合には、重合反応器中
でブロック状ポリマーが生成し、これが重合反応器壁ま
たは撹拌機へ付着するため、連続運転がほとんど不可能
となってしまう問題点があった。
載されている。この触媒系は均一系重合触媒であるが、
これを用いて気相重合を行った場合には、重合反応器中
でブロック状ポリマーが生成し、これが重合反応器壁ま
たは撹拌機へ付着するため、連続運転がほとんど不可能
となってしまう問題点があった。
この問題点を解決するため、触媒成分を無機酸化物担体
に担持させて使用する方法が提案されている(特開昭6
1−296008号、特開昭61−108610号)。
に担持させて使用する方法が提案されている(特開昭6
1−296008号、特開昭61−108610号)。
しかし、提案された方法でも触媒活性は未だ充分でなく
、これを改良する目的で助触媒として活性剤化合物を追
加供給する方法が提案されている(特開昭63−514
07号、特開平1−101315号)。
、これを改良する目的で助触媒として活性剤化合物を追
加供給する方法が提案されている(特開昭63−514
07号、特開平1−101315号)。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、これらのような従来技術では、遷移金属
あたりの触媒活性こそ向上させ得るものの、得られたポ
リマーのかさ密度は未だ十分でなく、また粒子形状も満
足できるものではなかった。
あたりの触媒活性こそ向上させ得るものの、得られたポ
リマーのかさ密度は未だ十分でなく、また粒子形状も満
足できるものではなかった。
特に、実質上溶媒の存在しない気相条件下における重合
では、ポリマー粒子形状が良いこと、かさ密度が大きい
ことが、連続運転時の重要な要素であり、この要求に応
え得る方法の開発が望まれている。
では、ポリマー粒子形状が良いこと、かさ密度が大きい
ことが、連続運転時の重要な要素であり、この要求に応
え得る方法の開発が望まれている。
[問題を解決するための手段]
本発明者らは、上述の欠点ならびに要求を解決すべく鋭
意検討した結果、ついに所期の目的に適うポリオレフィ
ンの新規な製造方法を見出し、本発明に到達した。すな
わち、本発明の方法は、[I](i)多孔質無機酸化物
、 (if)ハロゲン化マグネシウム、 (iii)一般式A1(OR)nX3−n(式中、Rは
炭素数1〜24の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し
、nはQ<11≦3である)で表される化合物、および
(iv)一般式RI MX (式中、Mは周期律表
■属のr 遷移金属元素を示し R1はシクロペンタジェニル基、
置換シクロペンタジェニル基、インデニル基、置換イン
デニル基または炭素数7〜24のアラルキル基を示し
R1同士は炭素数2〜8のアルキレン基を介し結合して
いてもよく、Xはハロゲン原子、水素原子または炭素数
1〜24の炭化水素残基を示し、pおよびrは2≦p≦
4.0≦r≦2およびp +r−4を満たすものである
)で表される化合物 を相互に接触させることにより得られる固体触媒成分と
、 [n]有機アルミニウム化合物と水との反応によって得
られるA I −0−A I結合を含む変性有機アルミ
ニウム化合物 とからなる触媒の存在下に、オレフィンを重合または共
重合することを特徴とする。
意検討した結果、ついに所期の目的に適うポリオレフィ
ンの新規な製造方法を見出し、本発明に到達した。すな
わち、本発明の方法は、[I](i)多孔質無機酸化物
、 (if)ハロゲン化マグネシウム、 (iii)一般式A1(OR)nX3−n(式中、Rは
炭素数1〜24の炭化水素基、Xはハロゲン原子を示し
、nはQ<11≦3である)で表される化合物、および
(iv)一般式RI MX (式中、Mは周期律表
■属のr 遷移金属元素を示し R1はシクロペンタジェニル基、
置換シクロペンタジェニル基、インデニル基、置換イン
デニル基または炭素数7〜24のアラルキル基を示し
R1同士は炭素数2〜8のアルキレン基を介し結合して
いてもよく、Xはハロゲン原子、水素原子または炭素数
1〜24の炭化水素残基を示し、pおよびrは2≦p≦
4.0≦r≦2およびp +r−4を満たすものである
)で表される化合物 を相互に接触させることにより得られる固体触媒成分と
、 [n]有機アルミニウム化合物と水との反応によって得
られるA I −0−A I結合を含む変性有機アルミ
ニウム化合物 とからなる触媒の存在下に、オレフィンを重合または共
重合することを特徴とする。
本発明の方法で用いる新規な重合触媒は、遷移金属あた
りの活性が極めて高く、連続重合が可能であり、しかも
得られるポリオレフィンは粒子形状が良好でかさ密度が
高い特長を有し、特に実質上溶媒の存在しない気相重合
条件下において製造された重合生成物も、上記した特長
を具備するものである。これに加えて、本発明の方法で
得られたポリオレフィン、特にエチレンとα−オレフィ
ンとの共重合体は、組成分布が狭く、表面粘着性も極め
て少ないという優れた特長を備えている。
りの活性が極めて高く、連続重合が可能であり、しかも
得られるポリオレフィンは粒子形状が良好でかさ密度が
高い特長を有し、特に実質上溶媒の存在しない気相重合
条件下において製造された重合生成物も、上記した特長
を具備するものである。これに加えて、本発明の方法で
得られたポリオレフィン、特にエチレンとα−オレフィ
ンとの共重合体は、組成分布が狭く、表面粘着性も極め
て少ないという優れた特長を備えている。
さらに、本発明の製造方法においては固体触媒成分の遷
移金属としてチタンを用いたとき、耐熱性及びヒートシ
ール性に優れたエチレン・α−オレフィン共重合体を得
ることができるが、この共重合体には示差走査熱量計(
D S C)による融点測定で高温側融点と低温側融点
の2つの融点ピークが存在する特異な現象が認められる
。
移金属としてチタンを用いたとき、耐熱性及びヒートシ
ール性に優れたエチレン・α−オレフィン共重合体を得
ることができるが、この共重合体には示差走査熱量計(
D S C)による融点測定で高温側融点と低温側融点
の2つの融点ピークが存在する特異な現象が認められる
。
また、驚くべきことには、固体触媒成分の構成成分のひ
とつである一般式AI(OR)nX3−nで表される化
合物の触媒成分中における存在量により、生成ポリマー
の物性、特に融点が調節可能である。
とつである一般式AI(OR)nX3−nで表される化
合物の触媒成分中における存在量により、生成ポリマー
の物性、特に融点が調節可能である。
さらに、本発明の方法により得られるポリオレフィン、
特にエチレン重合体またはエチレン・α−オレフィン共
重合体はダイスウェル比が大きい等の特長を有している
。
特にエチレン重合体またはエチレン・α−オレフィン共
重合体はダイスウェル比が大きい等の特長を有している
。
以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
本発明のポリオレフィンの製造方法では前記した「固体
触媒成分」と「変性有機アルミニウム化合物」とからな
る特定の触媒が使用されるが、まず、これらの触媒成分
について詳述する。
触媒成分」と「変性有機アルミニウム化合物」とからな
る特定の触媒が使用されるが、まず、これらの触媒成分
について詳述する。
[I]固体触媒成分
本発明で使用される固体触媒成分は前記した通り、(i
)多孔質無機酸化物、(it)ハロゲン化マグネシウム
、(Hi)一般式AI(OR)nX3−、で表される化
合物および(1v)一般式R’ MX で表される
r 化合物を相互に接触させることにより得られるものであ
る。
)多孔質無機酸化物、(it)ハロゲン化マグネシウム
、(Hi)一般式AI(OR)nX3−、で表される化
合物および(1v)一般式R’ MX で表される
r 化合物を相互に接触させることにより得られるものであ
る。
本発明に使用される多孔質無機酸化物としては、通常、
表面積が50〜100曜/g、好ましくは100〜50
0r1f/g1 さらに好ましくは150〜350 d
/gであり、細孔容積が通常0.5〜3.0 cm’/
g−好ましくはl、0〜2.5Cm”/g、さらに好
ましくは1.5〜2.5 cm’/ irである多孔性
を有した無機の酸しては、例えばシリカ、アルミナ、シ
リカ拳アルミナ、チタニア、ジルコニア、ドリアあるい
はこれらの混合物などが挙げられ、特にシリカ、アルミ
ナが好ましい。これらの多孔性無機酸化物は、市販品を
そのまま本発明の触媒調製に用いても良いが、予め不活
性ガス中において加熱処理するか、または乾燥して使用
することが望ましい。この時の加熱または乾燥条件は特
に限定されないが、通常150〜800℃、好ましくは
200〜600℃の温度範囲が望ましく、また加熱また
は乾燥時間は通常1〜10時間、好ましくは2〜5時間
が望ましい。
表面積が50〜100曜/g、好ましくは100〜50
0r1f/g1 さらに好ましくは150〜350 d
/gであり、細孔容積が通常0.5〜3.0 cm’/
g−好ましくはl、0〜2.5Cm”/g、さらに好
ましくは1.5〜2.5 cm’/ irである多孔性
を有した無機の酸しては、例えばシリカ、アルミナ、シ
リカ拳アルミナ、チタニア、ジルコニア、ドリアあるい
はこれらの混合物などが挙げられ、特にシリカ、アルミ
ナが好ましい。これらの多孔性無機酸化物は、市販品を
そのまま本発明の触媒調製に用いても良いが、予め不活
性ガス中において加熱処理するか、または乾燥して使用
することが望ましい。この時の加熱または乾燥条件は特
に限定されないが、通常150〜800℃、好ましくは
200〜600℃の温度範囲が望ましく、また加熱また
は乾燥時間は通常1〜10時間、好ましくは2〜5時間
が望ましい。
ハロゲン化マグネシウムとしては実質的に無水のものが
用いられフッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化
マグネシウム、ヨウ化マグネシウムおよびこれらの混合
物が挙げられるが、特に塩化マグネシウムが好ましい。
用いられフッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、臭化
マグネシウム、ヨウ化マグネシウムおよびこれらの混合
物が挙げられるが、特に塩化マグネシウムが好ましい。
これらのハロゲン化マグネシウムはアルコール、エステ
ル、ケトン、カルボン酸、エーテル、アミン、ホスフィ
ンなどの電子供与体で処理したものであってもよい。
ル、ケトン、カルボン酸、エーテル、アミン、ホスフィ
ンなどの電子供与体で処理したものであってもよい。
本発明に使用される一般式AI(OR)nX3. (
ここでRは炭素数1〜24、好ましくは1〜工2のアル
キル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基、X
はハロゲン原子を示し、nはQ<n≦3である)で表わ
される化合物としては、例えばトリメトキシアルミニウ
ム、ジメトキシモノクロルアルミニウム、メトキシジク
ロロアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、ジェト
キシモノクロルアルミニウム、エトキシジクロロアルミ
ニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、ジイソプロ
ポキシモノクロルアルミニウム、インプロポキシジクロ
ロアルミニウム、トリn−ブトキシアルミニウム、ジロ
ーブトキシモノクロルアルミニウム、n−ブトキシジク
ロロアルミニウム、トリ5ec−ブトキシアルミニウム
、ジ5ee−ブトキシモノクロロアルミニウム、5ec
−ブトキシジクロロアルミニウム、トリペントキシアル
ミニウム、ジェトキシモノクロルアルミニウム、ペント
キシジクロロアルミニウム、トリフエノキシアルミニウ
ム、ジフェノキシモノクロロアルミニウム、モノフェノ
キシジクロロアルミニウム、トリトリルオキジアルミニ
ウム、ジトリルオキシモノクロロアルミニウム、トリル
オキシジクロロアルミニウム、トリベンジルオキジアル
ミニウム等が挙げられ、好ましくはトリエトキシアルミ
ニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリn−ブ
トキシアルミニウム等が挙げられる。
ここでRは炭素数1〜24、好ましくは1〜工2のアル
キル基、アリール基、アラルキル基等の炭化水素基、X
はハロゲン原子を示し、nはQ<n≦3である)で表わ
される化合物としては、例えばトリメトキシアルミニウ
ム、ジメトキシモノクロルアルミニウム、メトキシジク
ロロアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、ジェト
キシモノクロルアルミニウム、エトキシジクロロアルミ
ニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、ジイソプロ
ポキシモノクロルアルミニウム、インプロポキシジクロ
ロアルミニウム、トリn−ブトキシアルミニウム、ジロ
ーブトキシモノクロルアルミニウム、n−ブトキシジク
ロロアルミニウム、トリ5ec−ブトキシアルミニウム
、ジ5ee−ブトキシモノクロロアルミニウム、5ec
−ブトキシジクロロアルミニウム、トリペントキシアル
ミニウム、ジェトキシモノクロルアルミニウム、ペント
キシジクロロアルミニウム、トリフエノキシアルミニウ
ム、ジフェノキシモノクロロアルミニウム、モノフェノ
キシジクロロアルミニウム、トリトリルオキジアルミニ
ウム、ジトリルオキシモノクロロアルミニウム、トリル
オキシジクロロアルミニウム、トリベンジルオキジアル
ミニウム等が挙げられ、好ましくはトリエトキシアルミ
ニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリn−ブ
トキシアルミニウム等が挙げられる。
本発明において使用される一数式R’ MX でr
表わされる化合物は、式中のMが周期律表■属の遷移元
素であり、R1がシクロペンタジェニル基、置換シクロ
ペンタジェニル基、インデニル基、置換インデニル基ま
たは炭素数7〜24、好ましくは7〜13のアラルキル
基であり R1同士は炭素数2〜8、好ましくは2〜4
のアルキレン基を介し結合していてもよく、Xは塩素、
臭素またはフッ素等のハロゲン原子、水素原子または炭
素数1〜24、好ましくは1〜12の炭化水素残基であ
り、p。
素であり、R1がシクロペンタジェニル基、置換シクロ
ペンタジェニル基、インデニル基、置換インデニル基ま
たは炭素数7〜24、好ましくは7〜13のアラルキル
基であり R1同士は炭素数2〜8、好ましくは2〜4
のアルキレン基を介し結合していてもよく、Xは塩素、
臭素またはフッ素等のハロゲン原子、水素原子または炭
素数1〜24、好ましくは1〜12の炭化水素残基であ
り、p。
qおよびrは2≦p≦4,0≦r≦2.p+r−4を満
足する数である。
足する数である。
さらに詳細には、式中のR1が置換シクロペンタジエニ
ル基および置換インデニル基である場合に於ける当該置
換基としては、炭素数1〜6のメチル基、エチル基、プ
ロピル基等のアルキル基または水素原子であり、またR
1のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェニルブチル基、
フェニルプロピル基等が例示される。
ル基および置換インデニル基である場合に於ける当該置
換基としては、炭素数1〜6のメチル基、エチル基、プ
ロピル基等のアルキル基または水素原子であり、またR
1のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基
、ベンズヒドリル基、トリチル基、フェニルブチル基、
フェニルプロピル基等が例示される。
R1同士を結合するアルキレン基が存在する場合、該ア
ルキレン基はR1がシクロペンタジェニル基、置換シク
ロペンタジェニル基、インデニル基、置換インデニル基
の場合、通常かかる環を結合するものである。また、X
の炭化水素残基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリー
ル基、ベンジル基、フェネチル基、ベンズヒドリル基、
トリチル基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基等
のアラルキル基、エトキシ基、プロポキシ基、フェノキ
シ基等のアルコキシ基、アリールオキシ基等が好例とし
て挙げられる。また、r−2の場合、Xは同種でも異種
であってもよい。
ルキレン基はR1がシクロペンタジェニル基、置換シク
ロペンタジェニル基、インデニル基、置換インデニル基
の場合、通常かかる環を結合するものである。また、X
の炭化水素残基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基等のアリー
ル基、ベンジル基、フェネチル基、ベンズヒドリル基、
トリチル基、フェニルブチル基、フェニルプロピル基等
のアラルキル基、エトキシ基、プロポキシ基、フェノキ
シ基等のアルコキシ基、アリールオキシ基等が好例とし
て挙げられる。また、r−2の場合、Xは同種でも異種
であってもよい。
一般式RI MX で表される化合物の具体例とr
しては、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロロチタニ
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)メチルクロロチタ
ニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメチルチタニ
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)エトキシクロロチ
タニウム、ビス(シクロペンタジェニル)プロポキシク
ロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)フェノ
キシクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
プロピルクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジフェニルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジトリルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)チタニウムベンジル、ビス(シクロペンタジェニル)
チタニウムモノクロロモノハライド、ビス(メチルシク
ロペンタジェニル)ジメチルチタニウム、テトラシクロ
ペンタジェニルチタニウム、ビス(インデニル)ジクロ
ロチタニウム、ビス(インデニル)ジメチルチタニウム
、エチレンビス(インデニル)チタニウムジクロリド、
エチレンビス(テトラヒドロインデニル)チ] 2 タニウムジクロリド、テトラネオペンチルチタニウム、
テトラネオフィルチタニウム、テトラベンジルチタニウ
ム、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロロジルコニウ
ム、ビス(シクロペンタジェニル)メチルクロロジルコ
ニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメチルジルコ
ニウム、ビス(インデニル)ジメチルジルコニウム、ビ
ス(インデニル)ジクロロジルコニウム、エチレンビス
(インデニル)ジクロロジルコニウム、エチレンビス(
テトラヒドロインデニル)ジクロロジルコニウム、ビス
(メチルシクロペンタジェニル)ジメチルジルコニウム
、ビス(シクロペンタジェニル)ジルコニウムモノクロ
ロモノハイドライド、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
ルコニウムジベンジル、テトラシクロペンタジェニルジ
ルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、ビス(シク
ロペンタジェニル)エトキシク・ロロジルコニウム、ビ
ス(シクロペンタジェニル)プロポキシクロロジルコニ
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)フェノキシクロロ
ジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)プロピル
クロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
フェニルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
ジトリルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
モノメチルモノハライドジルコニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)モノエチルモノクロリドジルコニウム、
ビス(シクロペンタジェニル)モノフェニルモノクロリ
ドジルコニウム、テトラネオペンチルジルコニウム、テ
トラネオフィルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジメチルハフニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)メチルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)エチルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)プロピルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタ
ジェニル)フェニルクロロハフニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)ジフェニルハフニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)ジトリルハフニウム、ビス(シクロペン
タジェニル)モノクロロモノハライドハフニウム、ビス
(シクロペン]4 タジエニル)モノメチルモノハライドハフニウム、ビス
(シクロペンタジェニル)ジメチルチタニウム、エチレ
ンビス(インデニル)ジクロロハフニウム、エチレンビ
ス(テトラヒドロインデニル)ジクロロハフニウム、テ
トラネオペンチルハフニウム、テトラネオフィルハフニ
ウム等が例示され、好ましくは、ビス(シクロペンタジ
ェニル)ジクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジメチルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジメチルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)ジメチルハフニウムが挙ケられる。
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)メチルクロロチタ
ニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメチルチタニ
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)エトキシクロロチ
タニウム、ビス(シクロペンタジェニル)プロポキシク
ロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)フェノ
キシクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
プロピルクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジフェニルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジトリルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)チタニウムベンジル、ビス(シクロペンタジェニル)
チタニウムモノクロロモノハライド、ビス(メチルシク
ロペンタジェニル)ジメチルチタニウム、テトラシクロ
ペンタジェニルチタニウム、ビス(インデニル)ジクロ
ロチタニウム、ビス(インデニル)ジメチルチタニウム
、エチレンビス(インデニル)チタニウムジクロリド、
エチレンビス(テトラヒドロインデニル)チ] 2 タニウムジクロリド、テトラネオペンチルチタニウム、
テトラネオフィルチタニウム、テトラベンジルチタニウ
ム、ビス(シクロペンタジェニル)ジクロロジルコニウ
ム、ビス(シクロペンタジェニル)メチルクロロジルコ
ニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジメチルジルコ
ニウム、ビス(インデニル)ジメチルジルコニウム、ビ
ス(インデニル)ジクロロジルコニウム、エチレンビス
(インデニル)ジクロロジルコニウム、エチレンビス(
テトラヒドロインデニル)ジクロロジルコニウム、ビス
(メチルシクロペンタジェニル)ジメチルジルコニウム
、ビス(シクロペンタジェニル)ジルコニウムモノクロ
ロモノハイドライド、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
ルコニウムジベンジル、テトラシクロペンタジェニルジ
ルコニウム、テトラベンジルジルコニウム、ビス(シク
ロペンタジェニル)エトキシク・ロロジルコニウム、ビ
ス(シクロペンタジェニル)プロポキシクロロジルコニ
ウム、ビス(シクロペンタジェニル)フェノキシクロロ
ジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)プロピル
クロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)ジ
フェニルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
ジトリルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニル)
モノメチルモノハライドジルコニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)モノエチルモノクロリドジルコニウム、
ビス(シクロペンタジェニル)モノフェニルモノクロリ
ドジルコニウム、テトラネオペンチルジルコニウム、テ
トラネオフィルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジメチルハフニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)メチルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)エチルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)プロピルクロロハフニウム、ビス(シクロペンタ
ジェニル)フェニルクロロハフニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)ジフェニルハフニウム、ビス(シクロペ
ンタジェニル)ジトリルハフニウム、ビス(シクロペン
タジェニル)モノクロロモノハライドハフニウム、ビス
(シクロペン]4 タジエニル)モノメチルモノハライドハフニウム、ビス
(シクロペンタジェニル)ジメチルチタニウム、エチレ
ンビス(インデニル)ジクロロハフニウム、エチレンビ
ス(テトラヒドロインデニル)ジクロロハフニウム、テ
トラネオペンチルハフニウム、テトラネオフィルハフニ
ウム等が例示され、好ましくは、ビス(シクロペンタジ
ェニル)ジクロロチタニウム、ビス(シクロペンタジェ
ニル)ジメチルチタニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジメチルジルコニウム、ビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロハフニウム、ビス(シクロペンタジェニル
)ジメチルハフニウムが挙ケられる。
もちろん、これらの化合物を二種以上混合して用いるこ
ともできる。
ともできる。
本発明に用いられる固体触媒成分は前記の四成分、すな
わち(i)多孔質無機酸化物、(11)ハロゲン化マグ
ネシウム、(tit)一般式AI(OR)nX3−0で
表される化合物および(iv)一般式R’ MX
でr 表される化合物を相互に接触させることにより得られる
が、接触順序、接触方法等の接触条件は特に限定される
ものではない。従って、各成分を接触させるに際しては
、成分(1)〜(1v)の同時接触、成分(i)に成分
(if)、成分(iii)次いで成分(iv)を接触さ
せる手順、成分(i)と成分(tit)を接触させた後
、成分(if)および成分(iv)を接触させる手順、
成分(if)と成分(fit)を接触させた後、成分(
i)および(iv)を接触させる手順、成分(iii)
と成分(iv)を接触させた後、成分(i i)および
成分(+)を接触させる手順、成分(if)、成分(0
1)および成分(iv)を接触させた後、成分(j)を
接触させる手順のいずれもが採用可能である。中でも成
分(11)と成分(iff)を接触させた後、成分(i
)および成分(iv)を接触させる手順が好ましい。
わち(i)多孔質無機酸化物、(11)ハロゲン化マグ
ネシウム、(tit)一般式AI(OR)nX3−0で
表される化合物および(iv)一般式R’ MX
でr 表される化合物を相互に接触させることにより得られる
が、接触順序、接触方法等の接触条件は特に限定される
ものではない。従って、各成分を接触させるに際しては
、成分(1)〜(1v)の同時接触、成分(i)に成分
(if)、成分(iii)次いで成分(iv)を接触さ
せる手順、成分(i)と成分(tit)を接触させた後
、成分(if)および成分(iv)を接触させる手順、
成分(if)と成分(fit)を接触させた後、成分(
i)および(iv)を接触させる手順、成分(iii)
と成分(iv)を接触させた後、成分(i i)および
成分(+)を接触させる手順、成分(if)、成分(0
1)および成分(iv)を接触させた後、成分(j)を
接触させる手順のいずれもが採用可能である。中でも成
分(11)と成分(iff)を接触させた後、成分(i
)および成分(iv)を接触させる手順が好ましい。
また、接触方法も任意に選ぶことができ、例えばヘプタ
ン、ヘキサン、ペンタン、ノナン、ベンゼン、トルエン
等で例示される不活性炭化水素類や、アルコール類、フ
ェノール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミ
ン類、ニトリル類、または1,2−ジクロロエタン、テ
トラクロルエタン、エチリデンクロライド、四塩化炭素
、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等
で例示されるハロゲン含有化合物類あるいは極性溶媒類
あるいはこれらの混合物からなる有機溶媒中で通常20
〜200℃、好ましくは50〜100℃の温度で通常5
分〜30時間、好ましくは30分〜lO時間撹拌下に接
触させ、しかる後、有機溶媒を除去する方法や、溶媒の
存在下または不存在下にボールミル、振動ミル、ロッド
ミル、衝撃ミル等を用いて、通常−20〜200℃、好
ましくは50〜100℃の温度で通常10分〜50時間
、好ましくは30分〜30時間共粉砕する方法等が挙げ
られる。
ン、ヘキサン、ペンタン、ノナン、ベンゼン、トルエン
等で例示される不活性炭化水素類や、アルコール類、フ
ェノール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミ
ン類、ニトリル類、または1,2−ジクロロエタン、テ
トラクロルエタン、エチリデンクロライド、四塩化炭素
、クロロホルム、クロルベンゼン、ジクロロベンゼン等
で例示されるハロゲン含有化合物類あるいは極性溶媒類
あるいはこれらの混合物からなる有機溶媒中で通常20
〜200℃、好ましくは50〜100℃の温度で通常5
分〜30時間、好ましくは30分〜lO時間撹拌下に接
触させ、しかる後、有機溶媒を除去する方法や、溶媒の
存在下または不存在下にボールミル、振動ミル、ロッド
ミル、衝撃ミル等を用いて、通常−20〜200℃、好
ましくは50〜100℃の温度で通常10分〜50時間
、好ましくは30分〜30時間共粉砕する方法等が挙げ
られる。
成分(i)と成分(fit)との接触あるいは成分(i
ff)と成分(iv)との接触に際しては、上記不活性
炭化水素、ハロゲン含有化合物類あるいは極性溶媒中で
それぞれの成分を接触させ、しかる後溶媒を除去する方
法が好ましく、又、成分(11)と成分(jii)との
接触または成分(11)、成分(fit)および成分(
iv)の三成分の接触に際しては、共粉砕による方法が
好ましく採用される。
ff)と成分(iv)との接触に際しては、上記不活性
炭化水素、ハロゲン含有化合物類あるいは極性溶媒中で
それぞれの成分を接触させ、しかる後溶媒を除去する方
法が好ましく、又、成分(11)と成分(jii)との
接触または成分(11)、成分(fit)および成分(
iv)の三成分の接触に際しては、共粉砕による方法が
好ましく採用される。
上記四成分の使用割合につい′て言えば、成分(if)
の使用割合は成分(i)Igに対して成分(ii)を0
.1 ミリモル〜5ミリモル、好ましくは0.5 ミリ
モル〜2ミリモルの範囲で使用することが望ましく、成
分(tit)の使用割合は成分(i)1gに対して成分
(iii)を0.1 ミリモル〜2ミリモル、好ましく
は0.15ミリモル〜1.5 ミリモルの範囲で用いる
ことが望ましい。また、成分(iv)の使用割合は、各
成分を接触させて得られた固体触媒成分中に遷移金属元
素として通常0.5〜10重量%の範囲、好ましくは0
.1〜8.0重量%の範囲で含まれるよう使用すること
が好ましい。
の使用割合は成分(i)Igに対して成分(ii)を0
.1 ミリモル〜5ミリモル、好ましくは0.5 ミリ
モル〜2ミリモルの範囲で使用することが望ましく、成
分(tit)の使用割合は成分(i)1gに対して成分
(iii)を0.1 ミリモル〜2ミリモル、好ましく
は0.15ミリモル〜1.5 ミリモルの範囲で用いる
ことが望ましい。また、成分(iv)の使用割合は、各
成分を接触させて得られた固体触媒成分中に遷移金属元
素として通常0.5〜10重量%の範囲、好ましくは0
.1〜8.0重量%の範囲で含まれるよう使用すること
が好ましい。
[II]変性有機アルミニウム化合物
本発明において使用される変性有機アルミニウム化合物
は、有機アルミニウム化合物と水との反応生成物で、分
子中に少なくともA I −0−A I結合を含有する
ものであり、その結合数は1〜100個、好ましくは1
〜50個である。有機アルミニウムと水との反応は、通
常不活性炭化水素中で行われる。
は、有機アルミニウム化合物と水との反応生成物で、分
子中に少なくともA I −0−A I結合を含有する
ものであり、その結合数は1〜100個、好ましくは1
〜50個である。有機アルミニウムと水との反応は、通
常不活性炭化水素中で行われる。
不活性炭化水素としてはペンタン、ヘキサン、ヘプタン
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水
素が挙げられるが、脂肪族、芳香族炭化水素が好ましい
。
、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の脂肪族、脂環族、芳香族炭化水
素が挙げられるが、脂肪族、芳香族炭化水素が好ましい
。
有機アルミニウム化合物としては、一般式RAIX(R
は炭素数1〜18、好ましくは13−n 〜12のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラ
ルキル基等の炭化水素基、Xは水素原子またはハロゲン
原子を表わし、nは1≦n≦3の範囲のものである)で
表される化合物であり、好ましくは、トリアルキルアル
ミニウムが用いられる。
は炭素数1〜18、好ましくは13−n 〜12のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラ
ルキル基等の炭化水素基、Xは水素原子またはハロゲン
原子を表わし、nは1≦n≦3の範囲のものである)で
表される化合物であり、好ましくは、トリアルキルアル
ミニウムが用いられる。
トリアルキルアルミニウムのアルキル基としてメチル基
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基等を例示できるが、メチル基が特
に好ましい。
、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、
イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基等を例示できるが、メチル基が特
に好ましい。
水と有機アルミニウム化合物との比(水/A1モル比)
は0.25/ 1〜1.2/1、特に0.5/:1〜1
/1が好ましく、また反応温度は通常−70〜100°
C1好ましくは一20〜20℃である。反応時間は通常
5〜48時間、好ましくは10〜24時間が良い。反応
に要する水として、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水
和物等の結晶水を利用して実施することもできる。
は0.25/ 1〜1.2/1、特に0.5/:1〜1
/1が好ましく、また反応温度は通常−70〜100°
C1好ましくは一20〜20℃である。反応時間は通常
5〜48時間、好ましくは10〜24時間が良い。反応
に要する水として、硫酸銅水和物、硫酸アルミニウム水
和物等の結晶水を利用して実施することもできる。
オレフィンの重合または共重合
本発明は前記した固体触媒成分と変性有機アルミニウム
化合物からなる触媒の存在下に、エチレン重合体を製造
するものである。固体触媒成分と変性有機アルミニウム
は、別々に重合系内に供給することができ、また、予め
両者を接触させた後、重合系内に供給してもよい。
化合物からなる触媒の存在下に、エチレン重合体を製造
するものである。固体触媒成分と変性有機アルミニウム
は、別々に重合系内に供給することができ、また、予め
両者を接触させた後、重合系内に供給してもよい。
固体触媒成分と変性有機アルミニウム化合物との使用割
合は、固体触媒成分内の遷移金属に対すする変性アルミ
ニウム化合物中のアルミニウムの原子比で1〜L、00
0.000 、好ましくは5〜1,000の範囲にある
。
合は、固体触媒成分内の遷移金属に対すする変性アルミ
ニウム化合物中のアルミニウムの原子比で1〜L、00
0.000 、好ましくは5〜1,000の範囲にある
。
本発明の方法はチーグラー触媒で重合できるすべてのオ
レフィンの重合に適用可能であり、特に炭素数2〜■2
のα−オレフィン、例えば、エチルン、プロピレン、ブ
テン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン−1など
のα−オレフィン類の単独重合、エチレンとプロピレン
、エチレンとブテン−1、エチレンとヘキセン−1、エ
チレンと4−メチルペンテン−1等で例示されるエチレ
ンと炭素数3〜12、好ましくは3〜6のα−オレフィ
ンとの共重合、プロピレンとブテン−1との共重合およ
びエチレンと他の2種以上のα−オレフィンとの共重合
などに好適である。
レフィンの重合に適用可能であり、特に炭素数2〜■2
のα−オレフィン、例えば、エチルン、プロピレン、ブ
テン−1、ヘキセン−1,4−メチルペンテン−1など
のα−オレフィン類の単独重合、エチレンとプロピレン
、エチレンとブテン−1、エチレンとヘキセン−1、エ
チレンと4−メチルペンテン−1等で例示されるエチレ
ンと炭素数3〜12、好ましくは3〜6のα−オレフィ
ンとの共重合、プロピレンとブテン−1との共重合およ
びエチレンと他の2種以上のα−オレフィンとの共重合
などに好適である。
また、ポリオレフィンの改質を目的とする場合のジエン
との共重合にも、本発明の方法を適用することができる
。この時使用されるジエン化合物の例としてはブタジェ
ン、1,4−へキサジエン、エチリデンノルボルネン、
ジシクロペンタジェン等を挙げることができる。
との共重合にも、本発明の方法を適用することができる
。この時使用されるジエン化合物の例としてはブタジェ
ン、1,4−へキサジエン、エチリデンノルボルネン、
ジシクロペンタジェン等を挙げることができる。
なお、共重合の際のコモノマー含有率は任意に選択でき
うるものであるが、例えば、エチレンと炭素数3〜12
のα−オレフィンとの共重合の場合、エチレン・α−オ
レフィン共重合体のα−オレフィン含有量は40モル%
以下、好ましくは30モル%以下、さらに好ましくは2
0モル%以下とするのが望ましい。
うるものであるが、例えば、エチレンと炭素数3〜12
のα−オレフィンとの共重合の場合、エチレン・α−オ
レフィン共重合体のα−オレフィン含有量は40モル%
以下、好ましくは30モル%以下、さらに好ましくは2
0モル%以下とするのが望ましい。
本発明の触媒はオレフィンのスラリー重合、溶液重合ま
たは気相重合に使用することができ、特に気相重合に好
適に用いることができる。重合反応は、すべて実質的に
酸素、水等を絶った状態で、不活性炭化水素の存在下ま
たは不存在下で行われる。不活性炭化水素を使用しない
場合は、生成するポリマーを流動化状態に保ちながら重
合を行う流動床気相反応法や撹拌式気相反応法を採用す
ることができ、さらに連続式、回分式のいずれもが採用
可能である。重合条件は、温度が通常20〜200℃、
好ましくは50〜100℃、圧力が常圧〜70kg /
cJ G 、好ましくは常圧〜20)cg/cdGで
あり、時間は特に限定されないが、滞留時間にして通常
5分〜10時間、好ましくは10分〜5時間である。
たは気相重合に使用することができ、特に気相重合に好
適に用いることができる。重合反応は、すべて実質的に
酸素、水等を絶った状態で、不活性炭化水素の存在下ま
たは不存在下で行われる。不活性炭化水素を使用しない
場合は、生成するポリマーを流動化状態に保ちながら重
合を行う流動床気相反応法や撹拌式気相反応法を採用す
ることができ、さらに連続式、回分式のいずれもが採用
可能である。重合条件は、温度が通常20〜200℃、
好ましくは50〜100℃、圧力が常圧〜70kg /
cJ G 、好ましくは常圧〜20)cg/cdGで
あり、時間は特に限定されないが、滞留時間にして通常
5分〜10時間、好ましくは10分〜5時間である。
生成重合体または共重合体の分子量は、重合温度、触媒
のモル比などの重合条件を変えることによってもある程
度調節できるが、重合系中に水素を添加することにより
効果的に行われる。もちろん、本発明の触媒を用いて、
水素濃度、重合温度などの重合条件の異なった2段階な
いしそれ以上の多段階の重合反応も何ら支障な〈実施す
ることができる。
のモル比などの重合条件を変えることによってもある程
度調節できるが、重合系中に水素を添加することにより
効果的に行われる。もちろん、本発明の触媒を用いて、
水素濃度、重合温度などの重合条件の異なった2段階な
いしそれ以上の多段階の重合反応も何ら支障な〈実施す
ることができる。
[実施例コ
以下に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
発明は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例および比較例で得られた重合体の物性測定
は次の方法で行った。
は次の方法で行った。
メルトインデックス(MI)
ASTM D 1238−57Tに基づき測定した。そ
の際の条件は190℃、2.18kg荷重をMI2・1
6.10kg荷重をMIIOとして示した。
の際の条件は190℃、2.18kg荷重をMI2・1
6.10kg荷重をMIIOとして示した。
ダイスウェル比(D S R)
MI測定装置を用いて次式で定義する。
密度
ASTM D 1505−68に準拠した。
DSCによる融点測定
セイコー電子波のDSC−20型融点測定装置使用(サ
ンプル量5mg)。
ンプル量5mg)。
測定法は次のとおりである。180℃で3分保持次いで
10°C/分で0℃まで冷却、0℃で10分保持、その
後10°C/分で昇温した。
10°C/分で0℃まで冷却、0℃で10分保持、その
後10°C/分で昇温した。
メチルアルモキサン(MAO)の調製
硫酸銅5水塩1.3gを電磁誘導撹拌機付き300 m
13つ目フラスコに入れ、更にトルエン50m1を入れ
懸濁させた。次いで0℃でトルメチルアルミニウムの1
mmol /mlの溶液150 mlを2時間かけて
滴下し、滴下終了後25℃に昇温し、その温度で24時
間反応させた。
13つ目フラスコに入れ、更にトルエン50m1を入れ
懸濁させた。次いで0℃でトルメチルアルミニウムの1
mmol /mlの溶液150 mlを2時間かけて
滴下し、滴下終了後25℃に昇温し、その温度で24時
間反応させた。
次いで反応物を濾過し、反応生成物を含有する液中のト
ルエンを除去して白色結晶状メチルアルモキサン4gを
得た。
ルエンを除去して白色結晶状メチルアルモキサン4gを
得た。
ベンジルマグネシウムクロリド70gを含むジエチルエ
ーテル溶液500 mlを、窒素雰囲気下O℃において
入れる。次いで四塩化ジルコニウム30gを窒素雰囲気
下30分かけて添加した。その混合物を2時間撹拌し、
その間に温度を室温にまで上昇させた。
ーテル溶液500 mlを、窒素雰囲気下O℃において
入れる。次いで四塩化ジルコニウム30gを窒素雰囲気
下30分かけて添加した。その混合物を2時間撹拌し、
その間に温度を室温にまで上昇させた。
次いでデカリン300 mlを添加し、室温で1時間撹
拌した。生成した塩化マグネシウムを分離し、得られた
デカリン溶液を50℃に加熱しつつ、窒素ガスを吹き込
みながらエーテルを除去した。得られたデカリン溶液か
らテトラベンジルジルコニウム32gを得た。
拌した。生成した塩化マグネシウムを分離し、得られた
デカリン溶液を50℃に加熱しつつ、窒素ガスを吹き込
みながらエーテルを除去した。得られたデカリン溶液か
らテトラベンジルジルコニウム32gを得た。
固体触媒成分A
(1) MgCl2Al (OC2Hs )ヨ共粉砕物
の調製直径1/2インチのステンレススチール製ボール
が25ケ入った内容積400 mlのステンレススチー
ル製ポットに、lOgの無水MgCI 2および3.8
3gのAI (OC2H5) !を入れ、窒素雰囲気下
、室温で116時間ボールミリングを行い、MgCl2
とA1(OC2H5)の共粉砕物を得た。この共粉砕物
2.83gを脱水したテトラハイドロフラン80m1に
溶解させた。
の調製直径1/2インチのステンレススチール製ボール
が25ケ入った内容積400 mlのステンレススチー
ル製ポットに、lOgの無水MgCI 2および3.8
3gのAI (OC2H5) !を入れ、窒素雰囲気下
、室温で116時間ボールミリングを行い、MgCl2
とA1(OC2H5)の共粉砕物を得た。この共粉砕物
2.83gを脱水したテトラハイドロフラン80m1に
溶解させた。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
窒素雰囲気下、電磁誘導撹拌機を備えた300 m13
つロフラスコに460℃で焼成した5i02(富士デピ
ソン社グレード#952 ) 10gを入れ、さらにに
上記(1)で得られたテトラハイドロフラン溶液80m
1を室温にて加えた後、室温で2時間撹拌後昇温しでリ
フラックス下3時間反応させた。反応後玉澄液を除去し
、窒素ブローにて溶媒テトラハイドロフランを除去した
。次いで1,2−ジクロロエタン70m1にビス(シク
ロペンタジェニル)ジクロロチタン(以下Cp2 Ti
Cl2と略記) 0.7 gを溶解させた溶液を窒素雰
囲気下室部で加える。次いで室温で2時間撹拌後、50
℃窒素ブローにて1゜2−ジクロロエタンを除去して固
体触媒成分Aを得た。この固体触媒成分は1.02vt
%のTjを含有していた。
つロフラスコに460℃で焼成した5i02(富士デピ
ソン社グレード#952 ) 10gを入れ、さらにに
上記(1)で得られたテトラハイドロフラン溶液80m
1を室温にて加えた後、室温で2時間撹拌後昇温しでリ
フラックス下3時間反応させた。反応後玉澄液を除去し
、窒素ブローにて溶媒テトラハイドロフランを除去した
。次いで1,2−ジクロロエタン70m1にビス(シク
ロペンタジェニル)ジクロロチタン(以下Cp2 Ti
Cl2と略記) 0.7 gを溶解させた溶液を窒素雰
囲気下室部で加える。次いで室温で2時間撹拌後、50
℃窒素ブローにて1゜2−ジクロロエタンを除去して固
体触媒成分Aを得た。この固体触媒成分は1.02vt
%のTjを含有していた。
固体触媒成分B
(1) MgCl2Al (OC2H5) g共粉砕物
の調製AI (OC2H5) 3の量を3.83gから
8.5gに増加させた以外は、固体触媒成分Aと同様に
共粉砕物を得た。この共粉砕物5.3gを脱水したテト
ラハイドロフラン160m1に溶解させ、塩化マグネシ
ウム−トルエキシアルミニウム共粉砕物のテトラハイド
ロフラン溶液を調製した。
の調製AI (OC2H5) 3の量を3.83gから
8.5gに増加させた以外は、固体触媒成分Aと同様に
共粉砕物を得た。この共粉砕物5.3gを脱水したテト
ラハイドロフラン160m1に溶解させ、塩化マグネシ
ウム−トルエキシアルミニウム共粉砕物のテトラハイド
ロフラン溶液を調製した。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
上記(1)で得られたテトラハイドロフラン溶液180
mlを加えたこと、およびCp2 TiCh 0.8
3gを用いた以外は固体触媒成分Aと同様に固体触媒成
分Bを調製した。この固体触媒成分Bは0.98vt%
のTiを含有していた。
mlを加えたこと、およびCp2 TiCh 0.8
3gを用いた以外は固体触媒成分Aと同様に固体触媒成
分Bを調製した。この固体触媒成分Bは0.98vt%
のTiを含有していた。
固体触媒成分C
(1) MgCh Al (OC2H5) i共粉砕
物の調製AI (QC2H,) 3の量を3.83gか
ら4,9gに増加させた以外は、固体触媒成分Aと同様
に共粉砕物を得た。この共粉砕物142gを脱水したテ
トラハイドロフラン50m1に溶解させ、塩化マグネシ
ウム−トルエキシアルミニウム共粉砕物のテトラハイド
ロフラン溶液を調製した。
物の調製AI (QC2H,) 3の量を3.83gか
ら4,9gに増加させた以外は、固体触媒成分Aと同様
に共粉砕物を得た。この共粉砕物142gを脱水したテ
トラハイドロフラン50m1に溶解させ、塩化マグネシ
ウム−トルエキシアルミニウム共粉砕物のテトラハイド
ロフラン溶液を調製した。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
上記(1)で得られたテトラハイドロフラン溶液50m
1を加えたこと、およびCp2TiCh O,(i2g
を用いた以外は固体触媒成分Aと同様に固体触媒成分C
を調製した。この固体触媒成分Cは1.03wt%のT
iを含有していた。
1を加えたこと、およびCp2TiCh O,(i2g
を用いた以外は固体触媒成分Aと同様に固体触媒成分C
を調製した。この固体触媒成分Cは1.03wt%のT
iを含有していた。
固体触媒成分D
Cp2 TiCl2に代えてビス(シクロペンタジェニ
ル)ジクロロジルコニウム(以下Cp2 ZrCl2と
略記) 0.42gを用いた以外は、固体触媒成分Aと
同様に固体触媒成分りを調製した。この固体触媒成分り
は1 、0wt%のZrを含有していた。
ル)ジクロロジルコニウム(以下Cp2 ZrCl2と
略記) 0.42gを用いた以外は、固体触媒成分Aと
同様に固体触媒成分りを調製した。この固体触媒成分り
は1 、0wt%のZrを含有していた。
固体触媒成分E
(1) MgCh Al(O4Cs H7) s共粉
砕物の調製AI (OC2H5) aの代わりにAI(
OiC3H7) 94.8gを用いてMgC12Al(
OiC+ H7) 3共粉砕物を得た。この共粉砕物2
.8gを脱水したテトラハイドロフラン80m1に溶解
させた。
砕物の調製AI (OC2H5) aの代わりにAI(
OiC3H7) 94.8gを用いてMgC12Al(
OiC+ H7) 3共粉砕物を得た。この共粉砕物2
.8gを脱水したテトラハイドロフラン80m1に溶解
させた。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
上記(1)で得られたテトラハイドロフラン溶液80m
1を加えたこと以外は、固体触媒成分Aと同様に固体触
媒成分Eを調製した。この固体触媒成分Eは0.99v
t%のTiを含有していた。
1を加えたこと以外は、固体触媒成分Aと同様に固体触
媒成分Eを調製した。この固体触媒成分Eは0.99v
t%のTiを含有していた。
固体触媒成分F
電磁誘導撹拌機を備えた300m13つロフラスコに、
460℃で焼成した5iO2(富士デピソン社グレード
#952 ) 10gを入れ、さらにトリイソプロポキ
シアルミニウム(Al(OiCgH7) s )0.6
gを100m1のn−ヘキサンに溶解させた溶液を室温
にて加える。次いで窒素雰囲気下50℃に昇温し2時間
撹拌した。撹拌後玉澄液を除去し、100 mlのn−
へキサンにて洗浄し窒素ブローにて乾燥した。次いでM
gCl20.95gを脱水エタノール80m1に溶解し
た溶液を加え、室温で2時間撹拌後、50℃で窒素ブロ
ーし、さらに100℃で真空乾燥2時間行い乾燥した。
460℃で焼成した5iO2(富士デピソン社グレード
#952 ) 10gを入れ、さらにトリイソプロポキ
シアルミニウム(Al(OiCgH7) s )0.6
gを100m1のn−ヘキサンに溶解させた溶液を室温
にて加える。次いで窒素雰囲気下50℃に昇温し2時間
撹拌した。撹拌後玉澄液を除去し、100 mlのn−
へキサンにて洗浄し窒素ブローにて乾燥した。次いでM
gCl20.95gを脱水エタノール80m1に溶解し
た溶液を加え、室温で2時間撹拌後、50℃で窒素ブロ
ーし、さらに100℃で真空乾燥2時間行い乾燥した。
次いで1.2−ジクロロエタン70m1にCp2 Ti
Cl20.83gを溶解させた液を窒素雰囲気下室温で
加える。次いで室温でこれを撹拌後50℃窒素ブローに
て1,2−ジクロロエタンを除去して固体触媒成分Fを
得た。この固体触媒成分Fは1.0wt%のTjを含有
していた。
Cl20.83gを溶解させた液を窒素雰囲気下室温で
加える。次いで室温でこれを撹拌後50℃窒素ブローに
て1,2−ジクロロエタンを除去して固体触媒成分Fを
得た。この固体触媒成分Fは1.0wt%のTjを含有
していた。
固体触媒成分G
(1) AI(OiCg H7) s C1)2 T
iCl2の反応電磁誘導撹拌機付300ccの3つ目フ
ラスコにAI(OiCヨH7) 30.46gおよびC
I)2 TiCh O,62gを入れ、さらに1,2−
ジクロロエタン10Omlを加えて窒素雰囲気下でリフ
ラックス2時間反応させた。
iCl2の反応電磁誘導撹拌機付300ccの3つ目フ
ラスコにAI(OiCヨH7) 30.46gおよびC
I)2 TiCh O,62gを入れ、さらに1,2−
ジクロロエタン10Omlを加えて窒素雰囲気下でリフ
ラックス2時間反応させた。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
固体触媒成分Aと同様に、300m13つロフラスコに
460℃で焼成した5i02(グレード#952)10
gを入れ、さらに塩化マグネシウム0.95gを溶解さ
せたエタノール溶液150m1を加えた。室温にて2時
間撹拌した後、窒素ブローおよび50℃真空乾燥にて乾
燥させた。このものに(1)で得られたAI(OjCs
H7) s C1)2 TiCl2反応物の1,2
−ジクロロエタン溶液100 mlを窒素下室温で加え
る。
460℃で焼成した5i02(グレード#952)10
gを入れ、さらに塩化マグネシウム0.95gを溶解さ
せたエタノール溶液150m1を加えた。室温にて2時
間撹拌した後、窒素ブローおよび50℃真空乾燥にて乾
燥させた。このものに(1)で得られたAI(OjCs
H7) s C1)2 TiCl2反応物の1,2
−ジクロロエタン溶液100 mlを窒素下室温で加え
る。
次いで室温で2時間撹拌後50℃窒素ブローにて1゜2
−ジクロロエタンを除去して固体触媒成分Gを得た。こ
の固体触媒成分Gは0,98νt%のT1を含有してい
た。
−ジクロロエタンを除去して固体触媒成分Gを得た。こ
の固体触媒成分Gは0,98νt%のT1を含有してい
た。
固体触媒成分H
(1) MgCh At(OiCヨH7) 3 C
1)2 TiCl2共粉砕物の調製 MgCh 1og、 AI (OC2H5) 3.83
gに代えて、MgCh 4.75g、 AI(OiPr
)i 3 g、 CI)2 TiCh 3.15gを用
いたこと以外は、固体触媒成分Aと同様に共粉砕物を得
た。この共粉砕物2.18gを脱水エタノール150
mlに懸濁させた。
1)2 TiCl2共粉砕物の調製 MgCh 1og、 AI (OC2H5) 3.83
gに代えて、MgCh 4.75g、 AI(OiPr
)i 3 g、 CI)2 TiCh 3.15gを用
いたこと以外は、固体触媒成分Aと同様に共粉砕物を得
た。この共粉砕物2.18gを脱水エタノール150
mlに懸濁させた。
(2)シリカ担持触媒成分の調製
テトラハイドロフラン溶液に代えて上記(1)で得られ
たエタノール懸濁液を使用したこと以外は、固体触媒成
分Aと同様に固体触媒成分Hを調製した。この固体触媒
成分Hはl 、 Ovt%のTiを含有していた。
たエタノール懸濁液を使用したこと以外は、固体触媒成
分Aと同様に固体触媒成分Hを調製した。この固体触媒
成分Hはl 、 Ovt%のTiを含有していた。
固体触媒成分1−M
固体触媒成分Aと同様に調製したが、シリカ担持触媒調
製時、CI)2 TiCl2に代えて表1記載の化合物
を使用した。
製時、CI)2 TiCl2に代えて表1記載の化合物
を使用した。
固体触媒成分N−P
固体触媒成分Aと同様に調製したが、触媒調製時、シリ
カに代えて表1記載の化合物を使用した。
カに代えて表1記載の化合物を使用した。
固体触媒成分S
固体触媒成分Aと同様に調製したが、触媒成分調製時、
AI (QC2HS) 3に代えて、AI (0−ic
iH7)2C1を用いた。
AI (QC2HS) 3に代えて、AI (0−ic
iH7)2C1を用いた。
固体触媒成分Q
4CO℃で焼成した5i02(富士デピソン社グレード
#952 ) 20gを電磁誘導撹拌機を備えた300
m13つロフラスコに入れ、次いで1,2−ジクロロエ
タン70m1にCI)2 TiC121,1gを溶解さ
せた溶液を窒素下室部で加え、次いで室温で2時間撹拌
後、50℃窒素ブローにて1,2−ジクロロエタンを除
去して固体触媒成分Qを得た。この固体触媒成分Qは1
.0wt%のTiを含有していた。
#952 ) 20gを電磁誘導撹拌機を備えた300
m13つロフラスコに入れ、次いで1,2−ジクロロエ
タン70m1にCI)2 TiC121,1gを溶解さ
せた溶液を窒素下室部で加え、次いで室温で2時間撹拌
後、50℃窒素ブローにて1,2−ジクロロエタンを除
去して固体触媒成分Qを得た。この固体触媒成分Qは1
.0wt%のTiを含有していた。
固体触媒成分R
460℃で焼成した5i02(富士デピソン社グレード
#952 ) 20gを電磁誘導撹拌機を備えた300
m13つ目フラスコに入れ、さらにアルミニウムイソプ
ロピレートAI(OjPrh 2.Ogを100 ml
のnヘキサンに溶解させた溶液を室温にて加える。次い
で窒素雰囲気下50℃に昇温し2時間撹拌した。
#952 ) 20gを電磁誘導撹拌機を備えた300
m13つ目フラスコに入れ、さらにアルミニウムイソプ
ロピレートAI(OjPrh 2.Ogを100 ml
のnヘキサンに溶解させた溶液を室温にて加える。次い
で窒素雰囲気下50℃に昇温し2時間撹拌した。
撹拌後、上澄液を除去し、100 mlのn−ヘキサン
にて洗浄し、窒素ブローにて乾燥した。次いで1゜2−
ジクロロエタン70m1にビス(シクロペンタジェニル
)ジクロロチタン1.2 gを溶解させた液を窒素下室
部で加える。次いで室温で2時間撹拌後、50℃窒素ブ
ローにて1,2−ジクロロエタンを除去して固体触媒成
分Rを得た。この固体触媒成分Rは1 、0wt%のT
iを含有していた。
にて洗浄し、窒素ブローにて乾燥した。次いで1゜2−
ジクロロエタン70m1にビス(シクロペンタジェニル
)ジクロロチタン1.2 gを溶解させた液を窒素下室
部で加える。次いで室温で2時間撹拌後、50℃窒素ブ
ローにて1,2−ジクロロエタンを除去して固体触媒成
分Rを得た。この固体触媒成分Rは1 、0wt%のT
iを含有していた。
実施例1
撹拌機を付した容量3ヱのステンレススチール製オート
クレーブを窒素置換し、ポリエチレンペレット20gを
加え、更に固体触媒成分A100+ngとメチルアンモ
キサン2.7mmol/ml溶液3.9mlを加えて撹
拌下60℃に加熱した。次いでエチレンとブテン−1の
混合ガス(ブテン−1/エチレンのモル比0.25)を
9kgf’/cJGとなるように前記のオートクレーブ
に張り込んで重合を開始し、エチレンとブテン−1の混
合ガス(ブテン−1エチレンのモル比0.05)を連続
的に供給しつつ、全圧を9kgf/c+&Gに維持し、
2時間の重合を行った。
クレーブを窒素置換し、ポリエチレンペレット20gを
加え、更に固体触媒成分A100+ngとメチルアンモ
キサン2.7mmol/ml溶液3.9mlを加えて撹
拌下60℃に加熱した。次いでエチレンとブテン−1の
混合ガス(ブテン−1/エチレンのモル比0.25)を
9kgf’/cJGとなるように前記のオートクレーブ
に張り込んで重合を開始し、エチレンとブテン−1の混
合ガス(ブテン−1エチレンのモル比0.05)を連続
的に供給しつつ、全圧を9kgf/c+&Gに維持し、
2時間の重合を行った。
重合終了後余剰の混合ガスを排出し、冷却、内容物を取
り出し、ペレットを除いて白色ポリマー87gを得た。
り出し、ペレットを除いて白色ポリマー87gを得た。
実施例2〜実施例17
実施例1において使用した固体触媒成分Aの代わりに、
固体触媒成分B−Pをそれぞれ用いた以外は実施例1と
同様に重合を行った。
固体触媒成分B−Pをそれぞれ用いた以外は実施例1と
同様に重合を行った。
比較例1〜2
実施例1において使用した固体触媒成分Aの代わりに、
固体触媒成分Q、 Rを使用した以外は実施例1と同様
に重合を行った。
固体触媒成分Q、 Rを使用した以外は実施例1と同様
に重合を行った。
以上の各実施例および比較例で使用した重合触媒の構成
および得られた重合体それぞれの物性測定結果を表1お
よび表2に示す。
および得られた重合体それぞれの物性測定結果を表1お
よび表2に示す。
[発明の効果コ
本発明の方法で用いる触媒は、遷移金属あたりの活性が
極めて高く、連続重合を可能であり、しかも得られるポ
リオレフィンは粒子形状が良好でかさ密度も高い特長を
有し、実質上溶媒の存在しない気相重合条件下において
製造される重合生成物も上記の特長を具備するものであ
る。本発明の製造方法により得られたポリオレフィン、
特にエチレンとα−オレフィンとの共重合体は、ダイス
ウェル比が大きく、かつ組成分布も狭く、表面粘着性の
極めて少ないという優れた特長を有している。本発明の
製造方法においては固体触媒成分の遷移金属としてチタ
ンを用いたとき、得られるエチレン拳α−オレフィン共
重合体はDSCによる融点測定で高温側融点と低温側融
点の2つの融点ピークが存在する特異な現象がみられ、
このものは耐熱性があり、かつヒートシール性も良好で
ある。
極めて高く、連続重合を可能であり、しかも得られるポ
リオレフィンは粒子形状が良好でかさ密度も高い特長を
有し、実質上溶媒の存在しない気相重合条件下において
製造される重合生成物も上記の特長を具備するものであ
る。本発明の製造方法により得られたポリオレフィン、
特にエチレンとα−オレフィンとの共重合体は、ダイス
ウェル比が大きく、かつ組成分布も狭く、表面粘着性の
極めて少ないという優れた特長を有している。本発明の
製造方法においては固体触媒成分の遷移金属としてチタ
ンを用いたとき、得られるエチレン拳α−オレフィン共
重合体はDSCによる融点測定で高温側融点と低温側融
点の2つの融点ピークが存在する特異な現象がみられ、
このものは耐熱性があり、かつヒートシール性も良好で
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 [ I ](i)多孔質無機酸化物、 (ii)ハロゲン化マグネシウム、 (iii)一般式Al(OR)_nX_3_−_n(式
中、Rは炭素数1〜24の炭化水素基、Xはハロゲン原
子を示し、nは0<n≦3である)で表される化合物、
および (iv)一般式R^1_pMX_r(式中、Mは周期律
表IV属の遷移金属元素を示し、R^1はシクロペンタジ
エニル基、置換シクロペンタジエニル基、インデニル基
、置換インデニル基または炭素数7〜24のアラルキル
基を示し、R^1同士は炭素数2〜8のアルキレン基を
介し結合していてもよく、Xはハロゲン原子、水素原子
または炭素数1〜24の炭化水素残基を示し、pおよび
rは2≦p≦4、 0≦r≦2およびp+r=4を満たすものである)で表
される化合物を相互に接触させることにより得られる固
体触媒成分と、 [II]有機アルミニウム化合物と水との反応によって得
られるAl−O−Al結合を含む変性有機アルミニウム
化合物とからなる触媒の存在下に、オレフィンを重合ま
たは共重合することを特徴とするポリオレフィンの製造
方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22695590A JP2678397B2 (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | ポリオレフィンの製造方法 |
DE1991614087 DE69114087T2 (de) | 1990-08-21 | 1991-08-19 | Polyolefine. |
EP91307633A EP0474391B1 (en) | 1990-08-21 | 1991-08-19 | Polyolefins |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22695590A JP2678397B2 (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | ポリオレフィンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04108811A true JPH04108811A (ja) | 1992-04-09 |
JP2678397B2 JP2678397B2 (ja) | 1997-11-17 |
Family
ID=16853240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22695590A Expired - Fee Related JP2678397B2 (ja) | 1990-08-21 | 1990-08-29 | ポリオレフィンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2678397B2 (ja) |
-
1990
- 1990-08-29 JP JP22695590A patent/JP2678397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2678397B2 (ja) | 1997-11-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |