JPH04106546A - Composition for liquid photograph developable by alkaline solution - Google Patents

Composition for liquid photograph developable by alkaline solution

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JPH04106546A
JPH04106546A JP2225010A JP22501090A JPH04106546A JP H04106546 A JPH04106546 A JP H04106546A JP 2225010 A JP2225010 A JP 2225010A JP 22501090 A JP22501090 A JP 22501090A JP H04106546 A JPH04106546 A JP H04106546A
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copolymer
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linear
reaction
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Eitetsu Ri
李 榮哲
Seido Ri
政道 李
Bunkei Chin
沈 文馨
Noriyoshi Hayashi
林 徳嘉
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Abstract

PURPOSE: To protect a metallic wire on a printed wiring board from corrosion by using a liquid image forming composition capable of using as a soldering mask and developing with an alkali solution. CONSTITUTION: The composition is concerned with a photopolymerizing composition developable with the alkali solution, is an acrylic copolymer composed substantially of a hydroxy-containing unit, a carboxyl-containing unit and a branched unsaturated double bond-containing unit, has the average molecular weight of 3000-100000 and >=30mgKOH/g acid value and is composed of 20-80wt.% acrylic copolymer consisting of 3-15mol% hydroxy-containing unit per the copolymer, 5-45mol% carboxyl-containing unit and 5-40mol% branched unsaturated double bond-containing unit, 5-40wt.% hydroxyl-containing photoreactive monomer containing >=2 double bonds, 5-30wt.% melamine compound and 0.5-12wt.% free radical photoinitiator.

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、プリント配線板のための永久保護層として、
即ち、はんだマスクとして使用できる、アルカリ溶液で
現像可能な、液体の画像生成組成物に係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention provides a permanent protective layer for printed wiring boards.
That is, it relates to an alkaline solution developable liquid imaging composition that can be used as a solder mask.

はんだマスクは、はんだプロセスの間における短絡を防
止し、腐食から金属ワイヤを保護し、及び、良好な電気
絶縁を維持するための、プリント配線板の表面上の被覆
層として使用される。はんだマスクの性能は、その耐熱
度と、耐溶剤性と、及び、接着強さとによって決定され
る。これらの特性は、−船釣に、次のように測定される
。即ち、そのはんだマスクで被覆された試験プレートが
、10秒間に互って240〜280℃の溶融スズ−鉛は
んだの中に漬けられ、その後で、2分間に亙ってジクロ
ロメタンの中に漬けられる。その後で、接着強さ試験が
、3M Corporation、 USAから市販の
No、 600接着テープを用いて行われる。はんだ防
止層の剥離は観察されてもよいが、適切なはんだマスク
は、そうした試験の下での剥離の痕跡を全(示してはな
らない。
Solder masks are used as a covering layer on the surface of printed wiring boards to prevent short circuits during the soldering process, protect metal wires from corrosion, and maintain good electrical insulation. The performance of a solder mask is determined by its heat resistance, solvent resistance, and adhesive strength. These properties are measured as follows: - In boat fishing. That is, the test plate coated with the solder mask is immersed in molten tin-lead solder at 240-280° C. for 10 seconds and then in dichloromethane for 2 minutes. . Adhesive strength testing is then performed using No. 600 adhesive tape available from 3M Corporation, USA. Although delamination of the anti-solder layer may be observed, a suitable solder mask must show no signs of delamination under such testing.

プリント配線板上のより精巧で及びより近接したワイヤ
ラインための基準に適合するために、写真用塗膜形成は
んだマスクが開発されてきた。そうしたはんだマスクは
、特定の波長範囲の光による照射を用いて重合すること
が可能な光重合組成物である。この組成物がマスクによ
って覆われる場合には、この組成物の非照射区域は重合
されず、従って、その後で、溶剤又はアルカリ溶液を用
いる溶解によって除去されることになろう。その後に、
重合されたはんだ防止層の画像が得られる。
Photographic coating solder masks have been developed to meet standards for finer and closer wire lines on printed wiring boards. Such solder masks are photopolymerizable compositions that can be polymerized using irradiation with light in a specific wavelength range. If the composition is covered by a mask, the non-irradiated areas of the composition will not be polymerized and will therefore be subsequently removed by dissolution using a solvent or alkaline solution. After that,
An image of the polymerized anti-solder layer is obtained.

その後、更にこの画像は、紫外線光を照射され又は約1
50℃に加熱され、その結果、より強い保護とに分類さ
れることが可能である。欧州特許出願第EP 01i5
354号は、ポリエステル薄膜とポリビニルエステル薄
膜との間に光重合性組成物が挿入される、乾燥薄膜タイ
プのはんだマスクを開示する。前記薄膜が使用される時
には、前記ポリビニル薄膜が取り除かれ、その残った層
がプリント配線板上に押し付けられる。この薄膜の欠点
は、ワイヤライン間においては貧弱な接着しか得られな
いということである。ワイヤライン間の間隙が8M未満
である場合には、更に悪い結果が得られることが多い。
This image is then further irradiated with ultraviolet light or about 1
It is heated to 50° C. and can therefore be classified with stronger protection. European Patent Application No. EP 01i5
No. 354 discloses a dry thin film type solder mask in which a photopolymerizable composition is inserted between a polyester thin film and a polyvinyl ester thin film. When the film is used, the polyvinyl film is removed and the remaining layer is pressed onto a printed wiring board. The disadvantage of this thin film is that it provides poor adhesion between wire lines. Even worse results are often obtained when the gap between wire lines is less than 8M.

これとは反対に、液体状の写真用はんだマスクは、プリ
ント配線板基板に対する流動性及び湿潤性がより良好で
あるが故に、優れた接着強さを有する。
In contrast, liquid photographic solder masks have superior adhesion strength due to their better flowability and wettability to printed wiring board substrates.

写真用はんだマスクは溶剤を用いて現像されることが可
能である。しかし、溶剤の使用−は環境上の問題を引き
起こし、及び、溶剤回収のためにコストが更に上昇する
Photographic solder masks can be developed using solvents. However, the use of solvents poses environmental problems and further increases costs due to solvent recovery.

1%の水性N a 2 COa溶液のような水性アルカ
リ溶液も、写真用はんだマスクを現像するために使用さ
れてきた。こうした水性アルカリ溶液が、70v+%よ
り高い固形分を含む写真はんだマスクと組み合わされて
使用される場合には、環境汚染問題が著しく軽減される
ことが可能である。
Aqueous alkaline solutions, such as a 1% aqueous Na 2 COa solution, have also been used to develop photographic solder masks. When such aqueous alkaline solutions are used in combination with photographic solder masks containing solids content higher than 70v+%, environmental pollution problems can be significantly reduced.

従来は、アルカリ溶液で現像可能なはんだマスクは、酸
基を含む直鎖状ポリマーバインダーと、感光性の又は感
熱性の架橋モノマーと及び光開始剤とから成る。類似の
はんだマスクが、例えば、欧州特許出願第EP 011
5354号と及び日本公開特許出願昭62−16044
0号に開示されている。その酸性バインダーは、感光性
又は感熱性架橋反応には関与せず、従って、その組成物
が弱アルカリ溶液を用いて現像されることも可能ではあ
るが、高温度における焼成の後にその結果として得られ
る架橋薄膜は、5%NaOHのような強アルカリ溶液の
腐食に耐えることができない。そうした薄膜では、(例
えばCH2c!12に対するような)耐溶剤性と、耐熱
性と及び衝撃強さとのようなその他や特性も、劣ったも
のである。こうした特性上の欠点は、前記酸性バインダ
ーの高い溶解度と及び小さな分子量のモノマーの脆弱な
架橋構造とに起因する。
Conventionally, alkaline solution developable solder masks consist of a linear polymeric binder containing acid groups, a photosensitive or heat-sensitive crosslinking monomer, and a photoinitiator. Similar solder masks are available, for example in European Patent Application No. EP 011
No. 5354 and Japanese published patent application 1986-16044
It is disclosed in No. 0. The acidic binder does not participate in photo- or heat-sensitive crosslinking reactions and therefore, although it is possible for the composition to be developed using weakly alkaline solutions, the resultant product after calcination at high temperatures is The crosslinked thin films produced cannot withstand the attack of strong alkaline solutions such as 5% NaOH. Other properties such as solvent resistance (eg to CH2c!12), heat resistance and impact strength are also poor in such thin films. These property disadvantages are due to the high solubility of the acidic binder and the fragile cross-linked structure of the small molecular weight monomers.

発明の要約 従って、本発明の目的は、永久保護層としてブリント配
線板上に使用可能な、アルカリ溶液で現像可能な液体画
像生成組成物を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide an alkaline solution developable liquid imaging composition that can be used on printed wiring boards as a permanent protective layer.

本発明の別の目的は、プリント配線板上の金属ワイヤを
腐食から保護するために使用される、アルカリ溶液で現
像可能な液体画像生成組成物を提供することである。
Another object of the invention is to provide an alkaline solution developable liquid imaging composition used to protect metal wires on printed wiring boards from corrosion.

本発明の更に別の目的は、良好な電気的特性と、高温度
に対する耐久性と及び溶剤に対する抵抗性とを有する、
アルカリ溶液で現像可能な液体画像生成組成物を提供す
ることである。
Yet another object of the invention is to provide a material having good electrical properties, durability to high temperatures and resistance to solvents.
An object of the present invention is to provide a liquid imaging composition that is developable with an alkaline solution.

本発明の、これらの目的と及びその他の目的と、利点と
並びに特徴とは、本明細書の記載を参照することによっ
て更に十分に理解され認識されるだろう。
These and other objects, advantages, and features of the present invention will be more fully understood and appreciated by reference to the description herein.

発明の詳細 な説明は、プリント配線板のための永久保護層、即ち、
はんたマスクとして使用可能な、アルカリ溶液で現像可
能な液体画像生成組成物に係わり、この組成物は、 a)ヒドロキシル含有ユニットと、カルボキシル含有ユ
ニットと及び側鎖不飽和二重結合含有ユニットとから本
質的に成るアクリルコポリマーであって、前記コポリマ
ーの数平均分子量が3.[lH〜100.000であり
、前記コポリマーの酸価が30■KOH/g以上であり
、前記ヒドロキシル含有ユニットが前記コポリマーの3
〜15モルパーセントを成し、前記カルボキシル含有ユ
ニットが前g己コポリマーの5〜45モルパーセントを
成し、及び、前記懸垂不飽和二重結合含有ユニットが前
記コポリマーの5〜40モルパーセントを成すアクリル
ポリマー20〜80重量%と、 b)  2つ以上の二重結合を有するヒドロキシル含有
光反応性モノマー5〜40重量%と、C)メラミン化合
物5〜30重量%と、並びに、d)遊離基光開始剤0.
5〜12重量%とから成る。
A detailed description of the invention describes a permanent protective layer for printed wiring boards, namely:
An alkaline solution developable liquid imaging composition usable as a solder mask, the composition comprising: a) hydroxyl-containing units, carboxyl-containing units, and pendant unsaturated double bond-containing units; an acrylic copolymer consisting essentially of: wherein said copolymer has a number average molecular weight of 3. [lH~100.000, the acid value of the copolymer is 30 KOH/g or more, and the hydroxyl-containing unit is
15 mole percent of the copolymer, the carboxyl-containing units make up 5 to 45 mole percent of the copolymer, and the pendant unsaturated double bond-containing units make up 5 to 40 mole percent of the copolymer. 20-80% by weight of a polymer; b) 5-40% by weight of a hydroxyl-containing photoreactive monomer having two or more double bonds; C) 5-30% by weight of a melamine compound; and d) free radical light. Initiator 0.
5 to 12% by weight.

本発明に従って、前記組成物は、アルカリ溶液で現像可
能な光重合組成物に係わり、この組成物は、少なくとも
、 (1)  ヒドロキシ基と、カルボキシル基と及び分枝
不飽和炭素二重結合とを有し、並びに、数平均分子量が
3.000〜10G、、000であり及び酸価が30■
KOH/g以上である、アクリルコポリマーと、(2)
その不飽和炭素二重結合官能基の数が2つ以上であるヒ
ドロキシ基を有する光反応性モノマーと、 (3)メラミン化合物と、並びに、 (4)遊離基光開始剤とから成る。
According to the present invention, the composition relates to a photopolymerizable composition developable in an alkaline solution, the composition comprising at least (1) hydroxy groups, carboxyl groups, and branched unsaturated carbon double bonds. It has a number average molecular weight of 3.000 to 10G, .000 and an acid value of 30.
an acrylic copolymer having KOH/g or more; (2)
It consists of a photoreactive monomer having a hydroxyl group in which the number of unsaturated carbon double bond functional groups is 2 or more, (3) a melamine compound, and (4) a free radical photoinitiator.

本発明のこの組成物の組成を適用することによって、良
好な電気的特性と、良好な耐高温度性と及び良好な耐溶
媒性とを有する保護薄膜が得られることが可能であり、
この薄膜は特にはんだ防止剤としてプリント配線板に使
用されるのに適している。
By applying the composition of this composition of the invention, it is possible to obtain a protective thin film having good electrical properties, good high temperature resistance and good solvent resistance,
This film is particularly suitable for use in printed wiring boards as a soldering inhibitor.

本発明の組成物の特徴の1つは、架橋官能基の数が多い
ということである。従って、被覆された薄膜の架橋度が
非常に高く、従って、前記組成物は良好な耐熱性及び耐
溶剤性を有することになる。
One of the characteristics of the compositions of the invention is the high number of crosslinking functional groups. Therefore, the degree of crosslinking of the coated thin film is very high, and therefore the composition has good heat resistance and solvent resistance.

ヒドロキシ基と、カルボキシル基と及び分枝不飽和炭素
二重結合とを有するコポリマーの合成は、2つの段階か
ら成る。第1の段階は、直鎖状アクリルポリマーの合成
であり、及び、第2の段階は、前記分枝不飽和炭素二重
結合の前記ポリマーへの付加である。直鎖状アクリルポ
リマーの重合においては、この直鎖状ポリマーは、次の
モノマー即ち、 (1) 0.05〜0.3モル分率(モルパーセント)
の、ヒドロキシ基を有するアクリルモノマーと、(b)
 0.05〜0.6モル分率の、カルボキシル基を有す
るアクリルモノマーと、及び、 (e)  0.2〜0.6モル分率の、アクリラートモ
ノマーとから成る。
The synthesis of copolymers with hydroxy groups, carboxyl groups and branched unsaturated carbon double bonds consists of two steps. The first step is the synthesis of a linear acrylic polymer and the second step is the addition of the branched unsaturated carbon double bonds to the polymer. In the polymerization of a linear acrylic polymer, the linear polymer contains the following monomers: (1) 0.05 to 0.3 mole fraction (mole percent);
(b) an acrylic monomer having a hydroxy group;
(e) 0.05 to 0.6 mole fraction of acrylic monomers having carboxyl groups; and (e) 0.2 to 0.6 mole fraction of acrylate monomers.

本発明により、この重合は適当な溶剤の中で行われ、及
び、その反応を開始するために反応開始剤が使用される
。その結果として得られるポリマーの分子量は約3.0
00〜約100. [100であり、その酸価は50■
NOR/gを越える。その結果として得られる直鎖状ポ
リマーの構造は次のように表され、C0OHC=OC=
0 ・o         O OH 前式中でR=H,CH3であり、r=j 〜18である
時にR=CHであり、並びに、n12  t  2++
1 m及びpは整数である。
According to the invention, this polymerization is carried out in a suitable solvent and a reaction initiator is used to initiate the reaction. The molecular weight of the resulting polymer is approximately 3.0
00 to about 100. [100, and its acid value is 50■
Exceeds NOR/g. The structure of the resulting linear polymer is expressed as: C0OHC=OC=
0 ・o O OH In the previous formula, R=H, CH3, and when r=j ~ 18, R=CH, and n12 t 2++
1 m and p are integers.

上記(a)  ヒドロキシ基を有するアクリルモノマー
は、ヒドロキシエチルメタクリラートと、ヒドロキシエ
チルアクリラートと及び次式のアクリルモノマーとから
成るグループから選択され、HC=C−C−OR2−O
H 前式中でRはH又はCH3であり、R2はアクシルと、
アリシルと、ポリエチレングリコールと、ポリプロピレ
ングリコールと及びアリール基とである。
(a) The acrylic monomer having a hydroxy group is selected from the group consisting of hydroxyethyl methacrylate, hydroxyethyl acrylate, and an acrylic monomer of the formula: HC=C-C-OR2-O
H In the above formula, R is H or CH3, R2 is axyl,
They are allysyl, polyethylene glycol, polypropylene glycol, and aryl group.

上記(b)カルボキシル基を有するアクリルモノマーは
、アクリル酸と、メタクリル酸と及び2−メチレンコハ
ク酸とから成るグループから選択される。
Said (b) acrylic monomer having a carboxyl group is selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid, and 2-methylenesuccinic acid.

上記(C)アクリルモノマーは、そのアクリル基の炭素
原子数が1〜18つである、アルキルアクリラートモノ
マー又はアルキルメタクリラートモノマーから選択され
る。フェニルアクリラートと、2−フェニルエチルアク
リラートと、3−フェニルプロピルアクリラートと、2
−シクロヘキシルエチルアクリラートと、ベンジルアク
リラートと、ベンジルメタクリラートと、フェニルメタ
クリラートと、2−フェニルエチルメタクリラートと、
3−フェニルプロピルメタクリラートと、2−シクロヘ
キシルエチルメタクリラートと、アクリロニトリルと、
スチレンと、メチルスチレンと、及びそれに類似するも
のとのような他のアクリラートが、使用可能である。
The acrylic monomer (C) is selected from alkyl acrylate monomers and alkyl methacrylate monomers whose acrylic groups have 1 to 18 carbon atoms. Phenyl acrylate, 2-phenylethyl acrylate, 3-phenylpropyl acrylate, 2
- cyclohexylethyl acrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, 2-phenylethyl methacrylate,
3-phenylpropyl methacrylate, 2-cyclohexylethyl methacrylate, acrylonitrile,
Other acrylates such as styrene, methylstyrene, and the like can be used.

前記分枝不飽和二重結合と前記直鎖状アクリルポリマー
との間のグラフト反応は、次に示される反応の中の1つ
である。
The grafting reaction between the branched unsaturated double bond and the linear acrylic polymer is one of the reactions shown below.

配置鎖状コポリマー上の−OHとの間の置換反応。Substitution reaction between -OH on a linear copolymer.

する化合物と、前記直鎖状コポリマー上のC0OHとの
間の縮合反応。
and C0OH on the linear copolymer.

合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OH又は−COO
Hとの間の縮合反応。
compound and -OH or -COO on the linear copolymer
Condensation reaction between H.

上記反応(i)、(ii)、(iii )においては、
RはH又は−CH3であり、及び、R2はグラフト反応
に関与しない基でなければならず、例えば、この基は、
アルキル基と、アルコキシ基と、アリシル基と及びアリ
ール基とから成るグループから選択されることが可能で
ある。単官能アクリラート又はメタクリラートのモル数
は、C0OH又は−OHの官能基のモル数よりも小さく
なければならない。前記反応の終了時においては、その
結果として得られたグラフト生成物中に含まれる一〇H
基のモル数は、原則として、そのポリマー主鎖の中の反
復ユニットのモル数の3〜15%を占めなければならず
、一方、−COOH基のモル数は、前記主鎖の中の反復
ユニットのモル数の5〜40%を占めなければならない
。このグラフトポリマーの量は、その組成物の約20〜
80重量%、好ましくは約40〜60重量%である。
In the above reactions (i), (ii), (iii),
R is H or -CH3, and R2 must be a group that does not participate in the grafting reaction, e.g.
It can be selected from the group consisting of alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups and aryl groups. The number of moles of monofunctional acrylate or methacrylate must be smaller than the number of moles of C0OH or -OH functional groups. At the end of the reaction, the 10H contained in the resulting grafted product
The number of moles of groups should, as a rule, account for 3 to 15% of the number of moles of repeating units in the polymer backbone, while the number of moles of -COOH groups should account for 3 to 15% of the number of moles of repeating units in said backbone. It must account for 5-40% of the moles of units. The amount of this graft polymer is about 20 to 20% of the composition.
80% by weight, preferably about 40-60% by weight.

上記(百)反応においては、ヒドロキシ基を有する光反
応性モノマーの中の不飽和炭素二重結合官能基の数は、
2つ以上でなければならない。使用可能な光反応性モノ
マーは、ペンタエリトリトール(エリドライド)トリア
クリラードと、ジペンタエリトリトールヒドロキシペン
タアクリラートと、ビス(アクリルオキシエチル)ヒド
ロキシエチルイソシアヌラートと、ペンタエリトリトー
ルジアクリラートと、ペンタエリトリトールジメタクリ
ラートと及びペンタエリトリトールトリメタクリラート
とからなるグループから選択され、その使用量はその組
成物の約5〜40重量%である。
In the above (100) reaction, the number of unsaturated carbon double bond functional groups in the photoreactive monomer having a hydroxy group is
Must be 2 or more. Photoreactive monomers that can be used include pentaerythritol (eridoride) triacrylate, dipentaerythritol hydroxypentaacrylate, bis(acryloxyethyl)hydroxyethyl isocyanurate, pentaerythritol diacrylate, and pentaerythritol dimethacrylate, and pentaerythritol trimethacrylate, in an amount of about 5-40% by weight of the composition.

本発明の組成物では、適当なメラ、ミン化合物は、まず
第一に、そのメトキシ基が部分的に又は完全にヒドロキ
シ基又はアルコキシ基で置換されることが可能であり、
及び、そのアルコキシ基の炭素原子数が2〜4つである
ことが可能なヘキサ(メトキシメチル)−メラミンであ
る。このメラミン化合物の使用量は、前記組成物の約5
〜30重量%である。
In the compositions of the invention, suitable mela, amine compounds can, first of all, have their methoxy groups partially or completely substituted with hydroxy or alkoxy groups;
and hexa(methoxymethyl)-melamine whose alkoxy group can have 2 to 4 carbon atoms. The amount of melamine compound used is approximately 5% of the composition.
~30% by weight.

本発明の組成物に適した遊離基開始剤は、ジフェニルケ
トンと、ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノンと、
4.4’−ジメチルアミンジフェニルケトンと、2−ク
ロロチオキサントンと、2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−フェニルプロパン−■−オンと、及び、1−ヒドロ
キシシクロへキシルフェニルケトン等とから成るグルー
プから選択される。この遊離基開始剤の使用量は、約0
,5〜12重量%である。
Free radical initiators suitable for the compositions of the invention include diphenylketone, dimethoxy-2-phenylacetophenone,
4.4'-dimethylamine diphenylketone, 2-chlorothioxanthone, and 2-hydroxy-2-methyl-
It is selected from the group consisting of 1-phenylpropane-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, and the like. The amount of free radical initiator used is approximately 0
, 5 to 12% by weight.

ベンゾインと、ベンゾインアルキルエーテルと、ベンジ
ルケタールと、及び、アセチルベンゼンとの誘導体のよ
うな他の遊離基開始剤も、本発明の組成物に使用可能で
ある。
Other free radical initiators can also be used in the compositions of the invention, such as derivatives of benzoin, benzoin alkyl ethers, benzyl ketals, and acetylbenzene.

上記の成分に加えて、溶剤、又は可塑剤と、色素と、増
量剤と、チキソトロピー剤と、防火剤と、泡止め剤と、
及び、湿潤剤とのような添加剤が、適した量で加えられ
ることが可能である。ケトンと、エーテルと、エステル
と、及び、アルコールとのような非反応性の溶剤が、こ
の組成物に使用可能である。更に、炭化水素及びl\ロ
ゲン化炭化水素も使用可能である。典型的には、使用さ
れる溶剤は、アセトンと、ブタノンと、シクロヘキサン
ソと、ジェトキシエタンと、ジエチレングリコールジエ
チレンエーテルと、1.4−ジオキサンと、エチレンジ
アセタートと、イソブチルアセタートと、2−エトキシ
エチルアセタートと、2−ブトキシエチルアセタートと
、エトキシエトキシエチルアセタートと、2−ブトキシ
ェタノールと、エトキシエトキシエタノールと、ペンタ
ノールと、シクロヘキサンと、ナフサと、トルエンと、
キシレンと、クロロベンゼンと、及び、ジクロロベンゼ
ン等とから成るグループから選択されることが可能であ
る。
In addition to the above ingredients, a solvent or plasticizer, a pigment, a filler, a thixotropic agent, a fire retardant, an antifoaming agent,
Additives such as wetting agents and wetting agents can also be added in suitable amounts. Non-reactive solvents such as ketones, ethers, esters, and alcohols can be used in this composition. Furthermore, hydrocarbons and halogenated hydrocarbons can also be used. Typically, the solvents used are acetone, butanone, cyclohexane, jetoxyethane, diethylene glycol diethylene ether, 1,4-dioxane, ethylene diacetate, isobutyl acetate, 2-ethoxy Ethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, ethoxyethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, ethoxyethoxyethanol, pentanol, cyclohexane, naphtha, toluene,
It can be selected from the group consisting of xylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and the like.

本発明では、泡止め剤は、31J Cotporiti
onUSAから市販のFC430及びFC431、又は
、Mon5an+o Co、  USAから市販のMo
da!lovであることが可能である。これに加えて、
IIYK Co、、から市販ノ[1YK−020又!t
BYK−141も、望ましい量でその組成物に加えられ
ることが可能である。
In the present invention, the antifoam agent is 31J Cotporiti
FC430 and FC431 commercially available from onUSA, or Mon5an+o Co, Mo commercially available from USA
Da! lov. In addition to this,
Commercially available from IIYK Co. [1YK-020] t
BYK-141 can also be added to the composition in any desired amount.

本発明の組成物の被覆方法は、ネットプリント法、ロー
ラープリント法、もしくは、スクリーンプリント法であ
ってもよく、又は、スクレーパープレートもしくはスク
レーパーナイフを用いて被覆されることも可能である。
The coating method of the composition of the invention may be a net printing method, a roller printing method or a screen printing method, or it can also be coated using a scraper plate or a scraper knife.

本発明は、次の実施例を参照して、より明確に理解され
るだろう。以下の実施例で用いられる全ての割合及び百
分率は、特に指摘のない限り、重量によるものである。
The invention will be more clearly understood with reference to the following examples. All parts and percentages used in the following examples are by weight unless otherwise indicated.

実  施  例 実施例1 加熱用マントルを有する攪拌された30リットル反応器
容器の中に、その容器内温度を70℃に調整次の成分ヅ
5時間に亙って連続的に加 しながら、 え今生た。
Examples Example 1 Into a stirred 30-liter reactor vessel with a heating mantle, the temperature inside the vessel was adjusted to 70°C, and the following ingredients were added continuously over a period of 5 hours. I'm alive now.

メタクリル酸 メタクリル酸メチル エチルヒドロキシルメタクリラ− 22′−アゾージ(イソブチルアク 2−ブトキシェタノール 二酢酸グリコール ナフサ n−ドデカンチオール 322g 820 g トロ24g リロニトリル) 4g 200 g 200g 00 g 2ひOg その温度を4時間亙って維持した。その結果、バインダ
ー溶液が得られた。その後で、次の成分をこのバインダ
ー溶液に加え、7時間に亙って反応させた。
Methacrylic acid Methyl ethyl hydroxyl methacrylate 22'-Azodi (Isobutyl acetate 2-butoxyshetanol Diacetate Glycol naphtha n-dodecanethiol 322 g 820 g Toro 24 g Rilonitrile) 4 g 200 g 200 g 00 g 2 Og The temperature is 4 It was maintained over time. As a result, a binder solution was obtained. Thereafter, the following ingredients were added to the binder solution and allowed to react for 7 hours.

ヒドロキノン 2g テトラ−n−ブチル−アンモニウムクロリド0g グルシジルメタクリラート      2988゜その
後、光重合性コポリマーが得られた。その数平均分子量
は約5600であり、及び、その酸価は約8hg KO
R#だった。
Hydroquinone 2g Tetra-n-butyl-ammonium chloride 0g Glucidyl methacrylate 2988° Thereafter, a photopolymerizable copolymer was obtained. Its number average molecular weight is about 5600, and its acid value is about 8hg KO
It was R#.

実施例2 攪拌された500m反応器容器の中に、その容器温度を
45℃に調整しながら、次の成分を加えた。
Example 2 The following ingredients were added into a stirred 500 m reactor vessel while adjusting the vessel temperature to 45°C.

トルエン2.4−ジイソシアナート34.83 gジブ
チルジラウリル酸第二スズ    0.331g2−(
2−エトキシエトキシ)エチルアセタート10゜ その後で、27−3gのエチルヒドロキシルメタクリラ
ートを、この反応混合物の中に2時間に亙っに亙って攪
拌し、プレポリマー(A)を得た。
Toluene 2.4-diisocyanate 34.83 g stannic dibutyl dilaurate 0.331 g 2-(
2-Ethoxyethoxy)ethyl acetate 10° Then 27-3 g of ethyl hydroxyl methacrylate were stirred into the reaction mixture for 2 hours to obtain prepolymer (A).

攪拌された11の反応器容器の中に、次の成分を5時間
に亙って連続的に加えた。
The following ingredients were added sequentially over a period of 5 hours into 11 stirred reactor vessels.

メタクリル酸            29.3 gメ
タクリル酸メチル         25.0gアクリ
ル酸ブチル          37gエチルヒドロキ
シルメタクリラート  156g2.2′−アゾージ(
イソブチルアクリロニトリル)−ブチロールアセトン 
       94.7gメチルエチルケトン    
      157gn−ドデカンチオール     
    0.2gその後、この反応を3時間に亙って6
6℃において続けた。その後、36.71 gのプレポ
リマー(A)を加え、更に3時間に亙って反応を継続し
、その結果として、光重合アクリルコポリマーが得られ
た。
Methacrylic acid 29.3 g Methyl methacrylate 25.0 g Butyl acrylate 37 g Ethyl hydroxyl methacrylate 156 g 2.2'-Azodi(
isobutylacrylonitrile)-butyrolacetone
94.7g methyl ethyl ketone
157gn-dodecanethiol
The reaction was then continued for 3 hours with 6
Continued at 6°C. Thereafter, 36.71 g of prepolymer (A) was added, and the reaction was continued for an additional 3 hours, resulting in a photopolymerized acrylic copolymer.

て加えた。その後、この反応混合物を更に2時間実施例
3 この実施例では、アルカリ液体写真用組成物が使用され
た。その組成物は卓越した耐熱性を有する。
added. The reaction mixture was then stirred for an additional 2 hours Example 3 In this example, an alkaline liquid photographic composition was used. The composition has excellent heat resistance.

実施例1のバインダー溶液      215gジメト
キン2−フェニルアセトフェノン  12gペンタエリ
トリトールトリアクリラート 36gへキサメトキシメ
チルメラミン     15g泡止め剤       
         4g2−ブトキシェタノール   
       12gNo、 7  緑色色素    
         4g上記の成分が混合された後に、
その混合物の粒子の全てが10ミクロン未満となるまで
、その混合物が、 30一ラー式ローラーミルを用いて
摩砕された。その組成物が、110メツシユのシルクス
クリーンを使用して、0.75mmのFR−4ベースプ
レート上にスクリーンプリントされ、その後で、次の手
順に従って処理された。
Binder solution of Example 1 215g dimethquine 2-phenylacetophenone 12g pentaerythritol triacrylate 36g hexamethoxymethylmelamine 15g antifoam agent
4g 2-butoxycetanol
12gNo. 7 Green pigment
4g After the above ingredients are mixed,
The mixture was milled using a 30 roller mill until all of the particles of the mixture were less than 10 microns. The composition was screen printed onto a 0.75 mm FR-4 base plate using a 110 mesh silk screen and then processed according to the following procedure.

(1)前記被覆プレートが非粘着性であるように、前記
プレートから溶剤を除去するために、前記混合物を20
〜40分間に亙って80℃に加熱する。
(1) To remove the solvent from the plate so that the coated plate is non-stick, apply the mixture for 20 minutes.
Heat to 80°C for ~40 minutes.

(2)前記回路(配線)ベースプレートをマスクと接触
させ、601]ml/crlの露光を行う。尚、使用さ
れる照射源は3KW 、 5KW又は7KWの出力を有
する。
(2) The circuit (wiring) base plate is brought into contact with a mask and exposed to light at 601]ml/crl. It should be noted that the radiation source used has a power of 3KW, 5KW or 7KW.

(3)液体圧力1〜2kgv/a+fにおいて、約1%
の炭酸ナトリウム水性溶液を現像に使用し、現像は60
〜120秒以内に完了する。
(3) Approximately 1% at liquid pressure of 1 to 2 kgv/a+f
An aqueous sodium carbonate solution of 60% was used for development.
Completes within ~120 seconds.

(4) 40〜60分間に亙って140〜150℃で後
焼成し、それによって、永久保護被覆が得られる。
(4) Post-calcination at 140-150° C. for 40-60 minutes, thereby obtaining a permanent protective coating.

上記の組成物において、5tou[er 21スケール
感光性試験フイルムが使用された。このフィルムが60
0m1/aiの露光を受けた。現像後、10つのグリ・
ソドが残った。従って、この組成物は非常に高い感光性
を有する。
In the above composition, a 5 tou[er 21 scale photosensitive test film was used. This film is 60
It received an exposure of 0 m1/ai. After development, 10 greens
Sodo remained. This composition therefore has very high photosensitivity.

本発明の組成物で被覆されたFR−4ベースプレートが
、高温度で焼成された後に、 3x 10cmの試験標本に一切断された。その後で、
これらの標本に次の試験を行った。
An FR-4 base plate coated with the composition of the invention was cut into 3 x 10 cm test specimens after being fired at high temperature. after,
The following tests were conducted on these specimens.

(i)耐アルカリ性試験 標本が50℃の5%Na0fl水性溶液内に漬けられた
(i) Alkali resistance test specimens were immersed in a 5% Na0fl aqueous solution at 50°C.

この標本は、5分間に亙って前記溶液内に漬けられた後
に取り出された。その後で、この標本は外界温度におい
て水で洗浄され、乾燥された。その後で、361 Co
、、  USAから市販のNo、 600接着テープが
前記標本の上に接着された。剥離の形跡は全く観察され
なかった。
The specimen was immersed in the solution for 5 minutes and then removed. The specimen was then washed with water and dried at ambient temperature. After that, 361 Co
No. 600 adhesive tape, commercially available from USA, was glued onto the specimen. No evidence of peeling was observed.

(jl)ジクロロメタン溶剤試験 はんだ付は補助剤(solder−1id)によって湿
潤された標本が、260℃の溶融スズ−鉛浴の中に10
秒間に亙って漬けられた。その標本は前記浴から取り出
され、残存するはんだ付は補助剤を取り除くために水(
40℃)で洗浄された。その標本は、乾燥された後に、
ジクロロメタンの中に2分間に亙って漬けられ、その後
で取り出され、再び乾燥された。No、 600接着テ
ープ(3M Co、、から市販)がその標本の上に接着
された。剥離の形跡は全く観察されなかった。
(jl) Dichloromethane solvent test For soldering, the specimen moistened with an auxiliary agent (solder-1id) is placed in a molten tin-lead bath at 260°C for 10 min.
It was soaked for seconds. The specimen is removed from the bath and the remaining solder is washed with water to remove the adjuvant.
40°C). After the specimen is dried,
It was soaked in dichloromethane for 2 minutes, then removed and dried again. No. 600 adhesive tape (commercially available from 3M Co., Ltd.) was adhered onto the specimen. No evidence of peeling was observed.

(iii)熱衝撃試験 標本が120℃において10分間に亙って焼成され、そ
の直後に、液体窒素の中に10秒間に亙って漬けられ、
その後で、取り出された。この手順が2度繰り返された
。その試験標本には、剥離の形跡又はその他の変化の形
跡は全く示されなかった。
(iii) Thermal shock test specimens are baked at 120° C. for 10 minutes and immediately immersed in liquid nitrogen for 10 seconds;
It was then taken out. This procedure was repeated twice. The test specimen showed no evidence of peeling or other changes.

結論としては、本発明による組成物は卓越した耐熱性と
及び耐アルカリ性とを有する。
In conclusion, the composition according to the invention has excellent heat resistance and alkali resistance.

実施例4 実施例2のポリマー溶液       200gジメト
キシ2−フェニルアセトフェノン   8gジペンタエ
リトリトールペンタアクリラート40g ヘキサメトキシメチルメラミン     20g硫酸バ
リウム             10gメチルエチル
ケトン          20g緑色色素No、 7
             4 g組成物を調製するた
めに、上記の成分が混合された。スクレーパーを使って
、0.1mm FR−4ベースプレート上に上記組成物
が塗布された。その被覆薄膜は約30−だった。実施例
3の手順が用いられた。600m1/ciの露光が行わ
れた。実施例3の耐アルカリ性試験と、耐溶剤性試験と
及び耐熱衝撃性試験とが用いられた。電気絶縁抵抗値は
109オームを越え、及び、鉛筆硬度は4Hを越えるも
のだった。
Example 4 Polymer solution of Example 2 200g Dimethoxy 2-phenylacetophenone 8g Dipentaerythritol pentaacrylate 40g Hexamethoxymethylmelamine 20g Barium sulfate 10g Methyl ethyl ketone 20g Green dye No. 7
The above ingredients were mixed to prepare a 4 g composition. The above composition was applied onto a 0.1 mm FR-4 base plate using a scraper. The coated film was about 30-. The procedure of Example 3 was used. Exposure was performed at 600 m1/ci. The alkali resistance test, solvent resistance test, and thermal shock resistance test of Example 3 were used. The electrical insulation resistance value exceeded 109 ohms, and the pencil hardness exceeded 4H.

比  較  例 B、F、  Goodrich Co、、のCarbo
+et XL 27が、この比較実施例のバインダーと
して使用された。そのコポリマーはアクリラートコポリ
マーたった。その酸価は約80mg KOI(/gであ
り、及び、その分子量は40.000だった。
Comparison Examples B, F, Carbo of Goodrich Co.
+et XL 27 was used as the binder in this comparative example. The copolymer was an acrylate copolymer. Its acid value was approximately 80 mg KOI (/g) and its molecular weight was 40.000.

Ca+boset XL 27           
 100 gジメトキシ2−フェニルアセトフェノン 
10gペンタエリトリトールトリアクリラート 36g
へキサメトキシメチルメラミン     15gメチエ
チルケトン           50g緑色色素No
、 7             4 g上記の成分が
組成物を調製するために混合された。スクレーパーを使
って、0.1mm FR−4ベースプレート上に上記組
成物が塗布された。その被覆薄膜は約30IJImだっ
た。その標本は実施例3の手順に従って処理された。そ
の標本が高温度で焼成された後に、前記試験が行われた
。耐アルカリ性試験と及び耐溶剤性試験とにおいて著し
い剥離の形跡があることが発見され、及び、耐熱衝撃性
試験において著しい亀裂があることが発見された。
Ca+boset XL 27
100 g dimethoxy 2-phenylacetophenone
10g Pentaerythritol triacrylate 36g
Hexamethoxymethyl melamine 15g Methiethyl ketone 50g Green dye No.
, 74 g The above ingredients were mixed to prepare the composition. The above composition was applied onto a 0.1 mm FR-4 base plate using a scraper. The coating film was about 30 IJIm. The specimen was processed according to the procedure of Example 3. The test was performed after the specimen was fired at high temperature. It was found that there was evidence of significant delamination in the alkali resistance test and the solvent resistance test, and significant cracking was found in the thermal shock resistance test.

上記のように本発明は説明してきたが、本発明の組成物
が様々な形に変形させられることが可能なことは明らか
であろう。そうした変形は、本発明の思想と範囲からの
逸脱と見なされるべきでなく、及び、そうした部分的変
更の全ては本発明の特許請求の範囲内に含まれるべきも
のである。
The invention being thus described, it will be obvious that the compositions of the invention may be varied in many ways. Such modifications should not be considered a departure from the spirit and scope of the invention, and all such modifications are to be included within the scope of the claims of the invention.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)画像の形に露光された後に、水性アルカリ溶液を
用いて現像可能な、光重合性組成物であって、 a)ヒドロキシル含有ユニットと、カルボキシル含有ユ
ニットと及び側鎖不飽和二重結合含有ユニットとから本
質的に成る直鎖状アクリルコポリマーであって、前記コ
ポリマーの数平均分子量が3,000〜100,000
であり、前記コポリマーの酸価が30mgKOH/g以
上であり、前記ヒドロキシル含有ユニットが前記コポリ
マーの3〜15モルパーセントを成し、前記カルボキシ
ル含有ユニットが前記コポリマーの5〜45モルパーセ
ントを成し、及び、前記側鎖不飽和二重結合含有ユニッ
トが前記コポリマーの5〜40モルパーセントを成すア
クリルコポリマー20〜80重量%と、 b)2つ以上の二重結合を有するヒドロキシル含有光反
応性モノマー5〜40重量%と、 c)メラミン化合物5〜30重量%と、並びに、d)遊
離基光開始剤0.5〜12重量%とから成る光重合性組
成物。
(1) A photopolymerizable composition developable with an aqueous alkaline solution after imagewise exposure, comprising: a) a hydroxyl-containing unit, a carboxyl-containing unit, and a pendant unsaturated double bond; a linear acrylic copolymer consisting essentially of containing units, the copolymer having a number average molecular weight of 3,000 to 100,000.
and the acid value of the copolymer is 30 mg KOH/g or more, the hydroxyl-containing units constitute 3 to 15 mole percent of the copolymer, and the carboxyl-containing units constitute 5 to 45 mole percent of the copolymer, and 20 to 80% by weight of an acrylic copolymer in which the side chain unsaturated double bond-containing units constitute 5 to 40 mole percent of the copolymer; b) a hydroxyl-containing photoreactive monomer 5 having two or more double bonds; c) 5-30% by weight of a melamine compound, and d) 0.5-12% by weight of a free radical photoinitiator.
(2)前記ヒドロキシル含有光反応性モノマーが、ペン
タエリトライトトリアクリラートと、ジペンタエリトラ
イトヒドロキシペンタアクリラートと、ペンタエリトラ
イトジアクリラートと、第四ペンタエリトライトジメタ
クリラートと、ペンタエリトライトトリメチルアクリラ
ートと、ビス(アクリルオキシエチル)ヒドロキシエチ
ルイソシアヌラートと、及び、これらの何れの混合物と
からなるグループから選択される請求項1に記載の光重
合性組成物。
(2) The hydroxyl-containing photoreactive monomer includes pentaerythrite triacrylate, dipentaerythrite hydroxypentaacrylate, pentaerythrite diacrylate, quaternary pentaerythrite dimethacrylate, pentaerythrite The photopolymerizable composition according to claim 1, which is selected from the group consisting of light trimethyl acrylate, bis(acryloxyethyl)hydroxyethyl isocyanurate, and mixtures thereof.
(3)前記メラミン化合物が、そのメトキシ基が2〜4
つの炭素原子を含み及びヒドロキシル基又はアルコキシ
ル基によって部分的に又は完全に置換されることが可能
な、ヘキサメトキシメチルメラミンである請求項1に記
載の光重合性組成物。
(3) The melamine compound has 2 to 4 methoxy groups.
2. Photopolymerizable composition according to claim 1, which is hexamethoxymethylmelamine, which contains 1 carbon atom and can be partially or completely substituted by hydroxyl or alkoxyl groups.
(4)前記光開始剤が、ベンゾインと、ベンゾインアル
キルエーテルと、ベンジルケタールと、及び、アセトフ
ェノンとの誘導体から成るグループから選択される請求
項1に記載の光重合性組成物。
4. The photopolymerizable composition of claim 1, wherein the photoinitiator is selected from the group consisting of derivatives of benzoin, benzoin alkyl ethers, benzyl ketals, and acetophenones.
(5)前記直鎖状アクリルコポリマーが、 (a)0.05〜0.3モル分率の、ヒドロキシ基を有
するアクリルモノマーと、 (b)0.05〜0.6モル分率の、カルボキシル基を
有するアクリルモノマーと、及び、 (c)0.2〜0.6モル分率の、アクリラートモノマ
ーとから成り、 更に、前記コポリマーが、溶剤の中で、前記光開始剤を
用いて重合反応を開始させられ、その結果、次の構造を
持つ直鎖状ポリマー ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中でR_1=H、CH_3であり、r=1〜18で
ある時にR_2=C_rH_2_r_+_1であり、並
びに、n、m及びpが整数である]を形成する、請求項
1に記載の光重合性組成物。
(5) The linear acrylic copolymer contains (a) 0.05 to 0.3 mole fraction of an acrylic monomer having a hydroxy group, and (b) 0.05 to 0.6 mole fraction of a carboxyl monomer. and (c) 0.2 to 0.6 mole fraction of an acrylate monomer, wherein said copolymer is polymerized using said photoinitiator in a solvent. A reaction is initiated, and as a result, a linear polymer with the following structure ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 = H, CH_3, and when r = 1 to 18, R_2 = C_rH_2_r_+_1, and n, m, and p are integers.
(6)前記分枝不飽和二重結合と前記直鎖状アクリルコ
ポリマーとの間のグラフト反応が、次に示される反応: (i)式▲数式、化学式、表等があります▼を有する化
合物と、前 記直鎖状コポリマー上の−OHとの間の置換反応;(i
i)式▲数式、化学式、表等があります▼を有 する化合物と、前記直鎖状コポリマー上の −COOHとの間の縮合反応;及び、 (iii)式▲数式、化学式、表等があります▼を有す
る化 合物と、前記直鎖状コポリマー上の−OH又は−COO
Hとの間の縮合反応とから成る反応、から選択され、 前式中で、R_1がH又は−CH_3であり、並びに、
R_2がグラフト反応に関与しない基であり、及び、ア
ルキル基と、アルコキシ基と、アリシル基と及びアリー
ル基とから成るグループから選択される 請求項1に記載の光重合性組成物。
(6) The grafting reaction between the branched unsaturated double bond and the linear acrylic copolymer is the reaction shown below: , a substitution reaction between -OH on the linear copolymer; (i
i) Condensation reaction between a compound having the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ and -COOH on the linear copolymer; and (iii) Condensation reaction between a compound having the formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. and -OH or -COO on the linear copolymer.
a condensation reaction with H, in which R_1 is H or -CH_3, and
The photopolymerizable composition according to claim 1, wherein R_2 is a group that does not participate in a graft reaction and is selected from the group consisting of an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, and an aryl group.
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