JPH039576A - 赤外線検知素子 - Google Patents

赤外線検知素子

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JPH039576A
JPH039576A JP1144994A JP14499489A JPH039576A JP H039576 A JPH039576 A JP H039576A JP 1144994 A JP1144994 A JP 1144994A JP 14499489 A JP14499489 A JP 14499489A JP H039576 A JPH039576 A JP H039576A
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JP
Japan
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layer
aperture
infrared
opening
cdte
Prior art date
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Pending
Application number
JP1144994A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Kawachi
哲也 河内
Toshiyuki Ueda
敏之 上田
Kosaku Yamamoto
山本 功作
Tamotsu Yamamoto
保 山本
Tetsuo Saito
哲男 斉藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH039576A publication Critical patent/JPH039576A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 11g、、 CdイTeJIを受光部とした赤外線検知
素子の構造に関し、 コールドアパーチャの位置合わせ精度が良くて、製造方
法を容易にすることを目的とし、基板上に作成した赤外
線受光部となる1層目のHf+−x Cd、 Te層の
上に、2層目のCdTe層および3層目の)If!+−
y Cdy Te層(y≦X)を結晶成長し、前記t1
g+−x cdXTe層の受光検知領域に対応した3層
目のHg+−y Cdy Te層部分を開口して、残り
のI1g+−y Cd、 Te層部分にアパーチャ機能
をもたせた構造を具備してなることを特徴とする。
〔産業上の利用分野〕
本発明はlIg+−x CdXTe層を受光部とした赤
外線検知素子の構造に関する。
測温機能をもった赤外線撮像装置においては、検知素子
とコールドアパーチャの位置合わせの高精度化が要求さ
れており、本発明はその高精度化に関する。
〔従来の技術] 第4図は従来の赤外線検知素子の断面図を示しており、
記号1はCdTe基板、2は赤外線受光部となるffg
+−x CdXTe層(厚さ20μm)、3は陽極酸化
膜からなるパッシベート膜、4.5は金(Au)膜(厚
さ1μm)からなる電極、6はカーボンを塗布して黒化
したニッケル板(厚さ300μm)からなるアパーチャ
(コールドシールド)で、7はアパーチャの開口部、θ
は赤外線受光部の視野角度である。このような検知素子
は全体が液体窒素(LNz 、 77K )等で冷却し
て動作させている。
周知のように、この赤外線受光部のl1g+−x Cd
xTe1!i2はエネルギーバンドギャップの狭い半導
体で、例えばx =0.2の組成のものは波長10μm
程度の赤外線によって電子・正孔対が励起されて電気抵
抗が変化する。そのために、波長10umの赤外線に対
して高感度な赤外線検知素子となるもので、厚さ約20
μmのl1g、−、Cd、 Te結晶に電極を形成して
、その間の電気抵抗の変化を検出するものである。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、上記のアパーチャ6は検知素子の視野角度θ
を決定し、且つ、受光部周辺の反射による迷光を防止す
るために設けられているものであるが、このようなアパ
ーチャ6は異質の部材であり、素子端部(図示せず)に
接着して保持させている。
しかし、検知素子が多素子化されてくると、個々の素子
にアパーチャ6の開口部7を一致させることが必要で、
機械的にμmオーダーで合わせる位置精度とその接着法
が極めて困難であつζ、アパーチャ6の開口部の位置精
度が良くない問題がある。
本発明はこのような問題点を解消させて、アパーチャの
位置合わせ精度が良くて、製造方法を容易にすることを
目的とした赤外線検知素子を提案するものである。
〔課題を解決するための手段〕
その課題は、第1図に示すように、基板1上に結晶成長
した赤外線受光部となる1層目のHg+−xCdxTe
CdTe基板層目のCdTe層ILおよび3N目のt1
g+−y Cd、 Te層(y≦x)12を積層し、前
記Hg+−x Cdx Te層の受光検知領域に対応し
た3層目のHg+−y Cdy Te層部分を開口17
シて、周囲のHg1−、 Cd、 Te層部分にアパー
チャ機能をもたせた構造を具備している赤外線検知素子
によって解決される。尚、4,5は金(Au)電極を示
している。
〔作 用〕
即ち、本発明は赤外線受光部となる1層目のHg1−x
 Cdx Te層2のy値が小さくなるほど、長波長の
赤外線を吸収する特性を利用して、従来の異材質なアパ
ーチャに代わり、Hg+−y Cd、 76層(y≦x
)12をアパーチャとして用いるものである。
そうすれば、半導体材料からなる赤外線検知素子と同時
にアパーチャをパターンニングできて、赤外線受光領域
に対応した開口17を位置精度良く形成できて、しかも
、接着する必要がなく、製造方法が容易になる。
〔実施例〕
以下、図面を参照して実施例によって詳細に説明する。
第1図は本発明にかかる赤外線検知素子の断面図で、記
号lはCdTe基板(厚さ500μm以上)。
2は赤外線受光部となるHg+−x Cdx Te層(
厚さ20μm)、4.5は金(Au)電極(厚さ1μm
)+11は2層目のCdTe層(厚さ100μm) 、
 12はアパーチャとなる3層目のHg1−y Cdy
Te層(y≦X)(厚さ30μm)を示しており、17
はアパーチャの開口部、θは赤外線受光部の視野角度で
ある。尚、本構造は2層目のCdTe層11層表1保護
の役目をするために、従来のパッシベート膜は特に設け
る必要はない。
かくして、Hg1−y Cdy Te層(y≦x)12
のy値をt1g+−x Cd、 Te層2のy値と同等
か、または、y値よりも小さく、例えばx =0.2と
すればy=0゜15とすると開口17以外の部分からの
赤外線をl1g、−、Cd、 Te層12が吸収するた
めに、f1g+−y Cdy Te層12をアパーチャ
として機能させることができる。
第2図はHg+−x CdXTe層のy値と赤外線吸収
量との関係図を示しており、これよりI1g+−y C
d、 Te層12がアパーチャとして機能することが明
らかである。
次に、第3図(a)〜(d)は本発明にかかる赤外線検
知素子の製造方法の工程順斜視図を示している。
順を追って説明すると、 第3図(a)参照;まず、液相エピタキシャル成長法に
よってCdTe基板l上にIN目のIIgl−x Cd
、 TeN2(例えば、x =0.22)を厚さ約30
gmに成長させ、この結晶を11g(水銀)中の200
°C前後で熱処理してキャリア濃度をn=1〜5X10
”/cdlに調整する。更に、そのIIgl−、tca
XTe層2を研磨および化学エツチングして厚さ20μ
mに精度良く制御する。
第3図(t))参照;次いで、フォトプロセスによって
Ilg、□Cdx Te層2をパターンニングした後、
厚さ1μmの金(Au)膜4.5を蒸着して金電極を形
成する。前者のHg+ −x Cd+c Te層2パタ
ーンはレジストをマスクにしてブロムメタノール液でエ
ツチングして形成され、後者の金電極はマスクパターン
を形成し、金を蒸着した後、マスクパターンをリフトオ
フして形成する。
第3図(C)参照;次いで、気相エピタキシャル成長法
によって上面に2層目のCdTeN11 (厚さ100
μm)を成長し、更に、その上に3層目のIIgl−y
Cd、 Te層12 (例えば、y =0.21)を厚
さ30.czm程度にに成長させる。なお、これらのC
dTe層11とIIgl−y Cdy Te層12とは
単結晶である必要はなく、多結晶で良い。
第3図(d)参照;次いで、フォトプロセスによって3
層目のHg、−、Cd、 Te層12の開口部17(例
えば65μm角の大きさ)を窓あけし、更に、同じくフ
ォトプロセスによって両端のHg+−y Cdy Te
層12およびCdTe層11をエツチング除去して、金
電極に接続するポンディングパッドとなる部分を露出さ
せる。
以降は、このような赤外線検知素子を容器に収納してワ
イヤーボンディングして実装する。
上記のような赤外線検知素子に構成すれば、受光領域に
対応した開口17を位置精度良くパターンニングできて
、しかも、接着の必要がなく、製造方法が容易になる。
なお、このような赤外線検知素子は視野角度θを同じと
すれば、本発明にかかる構造は開口部17が受光領域に
近接するために従来の開口部7の大きさとは違って小さ
な開口になる。しかし、この開口部17はフォトプロセ
スによって開口するために精度良く形成することができ
る。
また、上記実施例では一次元のセンサを示したが、本発
明を二次元センサに適用することも可能である。
〔発明の効果〕
以上の説明から明らかなように、本発明にかかる赤外線
検知素子はアパーチャの開口が受光領域に一致して高精
度に形成され、しかも、作成が容易になり、特に多素子
化した赤外線検出装置の高品質化とコストダウンに顕著
に寄与するものである。
第1図は本発明にかかる赤外線検知素子の断面図、第2
図はIIgl−x CdXTe層のX値と赤外線吸収量
との関係図、 第3図(a)〜(d)は本発明にかかる赤外線検知素子
のの製造方法の工程順斜視図、 第4図は従来の赤外線検知素子の断面図である。
図において、 1はCdTe基板、 3は従来構造のパッシベート膜、 2は赤外線受光部となるHg+−x Cd)(Te層、
4.5は金(八U)電極、 6は従来構造のアパーチャ、 7は従来のアパーチャの開口部、 11は2層目のCdTeN。
12は3層目のHg+−y Cdy Te層(y≦x)
  (アパーチャ)、 17はアパーチャの開口または開口部、θは赤外線受光
部の視野角度
【図面の簡単な説明】
本発明1.工l外線砂知雫)−を面口 第1図 5I玉 第 図 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板(1)上に結晶成長した赤外線受光部となる1層目
    のHg_1_−_xCd_xTe層(2)の上に、2層
    目のCdTe層(10および3層目のHg_1_−_y
    Cd_yTe層(y≦x)(12)を積層し、前記Hg
    _1_−_xCd_xTe層(2)の受光検知領域に対
    応した3層目のHg_1_−_yCd_yTe層部分を
    開口(17)して、周囲のHg_1_−_yCd_yT
    e層(12)部分にアパーチャ機能をもたせた構造を具
    備してなることを特徴とする赤外線検知素子。
JP1144994A 1989-06-06 1989-06-06 赤外線検知素子 Pending JPH039576A (ja)

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JP1144994A JPH039576A (ja) 1989-06-06 1989-06-06 赤外線検知素子

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ID=15375003

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JP1144994A Pending JPH039576A (ja) 1989-06-06 1989-06-06 赤外線検知素子

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7163192B2 (en) 2002-06-20 2007-01-16 Kitz Corporation Actuator for valve
JP2011023720A (ja) * 2009-07-13 2011-02-03 Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives 光検出要素

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7163192B2 (en) 2002-06-20 2007-01-16 Kitz Corporation Actuator for valve
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