JPH0394097A - Plating device - Google Patents

Plating device

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JPH0394097A
JPH0394097A JP23221789A JP23221789A JPH0394097A JP H0394097 A JPH0394097 A JP H0394097A JP 23221789 A JP23221789 A JP 23221789A JP 23221789 A JP23221789 A JP 23221789A JP H0394097 A JPH0394097 A JP H0394097A
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JP
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workpiece
holding
rod
holder
holding mechanism
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Ryosuke Hamada
良介 濱田
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Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
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Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To hold works of various lengths and to reduce workhours by holding a transferred vertical rod-shaped work with both holders with the relative position controllable from the upper and lower parts, conveying and lifting up and down the work. CONSTITUTION:The rod-shaped work W is supplied from a supply mechanism and dipped in a plating tank T by the transfer mechanism 1. Namely, the upper holder 17 of the mechanism 1 is slid, and the work is transferred between both holders with the distance from the lower holder 14 increased. The lower end of the work W is seated in the recess 15 of the holder 14, and the holder 17 is lowered to seat the upper end on the periphery of the step at the lower part. Consequently, the work W, long or short, is surely ana automatically held. The mechanism 1 is conveyed by the conveyor mechanism 3 along the work treating region, the work W is moved to the upper part of the tank T by a lifting part 50, and the position of the work W in the tank T is adjusted by a vertical position adjusting mechanism 60.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、棒状のワーク(被加工物)を保持機構により
保持してめっき液等の処理液に漬けるようにしためっき
処理装置に関し、より具体的には、保持機構に対するワ
ークのローディング(取付け作業)及びアンローディン
グ(取外し作業)や処理領域におけるワークの搬送を自
動的に行うようにした装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a plating processing apparatus in which a rod-shaped workpiece (workpiece) is held by a holding mechanism and immersed in a processing solution such as a plating solution. Specifically, the present invention relates to an apparatus that automatically loads (installs) and unloads (removes) a work onto a holding mechanism and transports the work in a processing area.

[従来の技術] これらの装置の一例が実公昭62−38984号に記載
されている。この公報に記載の装置では、保持機構によ
りワークを垂直な姿勢に保持して処理槽内の処理液に漬
けるようになっている。そのために保持機構にはワーク
の下端部及び上端部を保持するホルダーが設けてある。
[Prior Art] An example of these devices is described in Japanese Utility Model Publication No. 62-38984. In the apparatus described in this publication, a workpiece is held in a vertical position by a holding mechanism and immersed in a processing liquid in a processing tank. For this purpose, the holding mechanism is provided with a holder that holds the lower and upper ends of the workpiece.

下側のホルダーはブロック状の部材で横成されており、
その上面に設けたテーパー穴にワークの下端部を差込む
ようになっている。上側のホルダーは板ばねで構威され
ており、ワークの上端部をその直径方向両側から挟むよ
うになっている。
The lower holder is made of a block-shaped member,
The lower end of the workpiece is inserted into a tapered hole provided on its upper surface. The upper holder is made up of leaf springs and is designed to hold the upper end of the work from both sides in the diametrical direction.

[発明が解決しようとする課題] ところが、上記構造によると、上側と下側の両ホルダー
間の間隔が一定であるので、ワークの長5 さが短い場合、上側のホルダーでワークを保持すること
か不可能である。又、ワークが長い場合、上側のホルダ
ーはワークの長手方向中間部を保持することになり、そ
の中間部にめっき処理を施すことが不可能になる。この
ように、従来構造では、ワーク長さの変更に対処できな
い(又は対処することが困難である)という問題がある
[Problem to be Solved by the Invention] However, according to the above structure, the distance between the upper and lower holders is constant, so if the workpiece length 5 is short, it is difficult to hold the workpiece with the upper holder. or impossible. Furthermore, if the workpiece is long, the upper holder will hold the longitudinally intermediate portion of the workpiece, making it impossible to perform plating on that intermediate portion. As described above, the conventional structure has the problem of not being able to deal with (or having difficulty dealing with) changes in the length of the workpiece.

むろん、上記従来構造においても、上側のホルグーの上
下位置を調節できるように構成すると、上記問題を解消
することができるが、その様な構造においても、ワーク
長さが変更される都度、上側のホルダーの位置を変更し
なければならず、そのための作業に手間及び時間がかか
る。
Of course, even in the above conventional structure, the above problem can be solved if the upper and lower positions of the upper hole can be adjusted, but even in such a structure, the upper part is adjusted every time the length of the workpiece is changed. The position of the holder must be changed, which takes time and effort.

本発明は、上記問題を解決した保持機構を提供すると共
に、その様な保持機構を採用しためつき処理装置を提供
することを目的としている。
An object of the present invention is to provide a holding mechanism that solves the above-mentioned problems, and also to provide a locking processing device that employs such a holding mechanism.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下
に延びる姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構
に、ワークを下方及び上方から保持6 するホルダーを両ホルダーの相対位置を調節できる状態
で設け、ワーク供給機構から供給されたワークを保持し
て上記両ホルダーの間へ移送するワク移送機構を設け、
ワーク移送機構から移送されるワークを受け入れるため
に両ホルダーの間の間隔を広げておくためのホルダー位
置調節機構を設け、上記保持機構をワーク処理領域に沿
って搬送する搬送機構を設け、搬送機構に、ワークが処
理槽内に位置する下降位置と処理槽の上方に位置する上
昇位置との間で保持機構を昇降させる昇降機構を設け、
上記下降位置での保持機構の上下位置を調節する上下位
置調節機構を設けたことを特徴とするめっき処理装置を
堤供するものである。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides a holding mechanism that holds a rod-shaped workpiece to be crushed in a plating treatment tank in a posture extending vertically, and a holder that holds the workpiece from below and above in the holding mechanism. is provided in such a way that the relative position of both holders can be adjusted, and a work transfer mechanism is provided for holding the work supplied from the work supply mechanism and transferring it between the two holders,
A holder position adjustment mechanism is provided for widening the gap between both holders in order to receive the workpiece transferred from the workpiece transfer mechanism, a transport mechanism is provided for transporting the holding mechanism along the workpiece processing area, and the transport mechanism is provided with a lifting mechanism that raises and lowers the holding mechanism between a lowered position where the work is located in the processing tank and a raised position located above the processing tank,
The present invention provides a plating processing apparatus characterized in that a vertical position adjustment mechanism is provided for adjusting the vertical position of the holding mechanism in the lowered position.

又本発明は、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上
下に延びる姿勢で保持するための保持機構であって、搬
送機構により処理槽の上方に配置される支持アームと、
支持アームから下方へ延びる固定ロッドと、固定ロッド
の下端部に固定される下部ホルダーと、上下方向に延び
て支持アームに上下方向に移動自在に支持される可動ロ
ッドと、可動ロッドの下端部に固定される上部ホルダー
とを備え、下部ホルダーが、ワークの下端及び外周を支
持する凹部を備え、上部ホルダーが、ワークの外周に嵌
合する環状部と、ワークの上端に着座する着座面とを備
えていることを特徴とするめつき処理装置用ワーク保持
装置を提供するものである。
The present invention also provides a holding mechanism for holding a rod-shaped workpiece to be crushed in a plating treatment tank in a vertically extending posture, the support arm being disposed above the treatment tank by a transport mechanism;
A fixed rod extending downward from the support arm, a lower holder fixed to the lower end of the fixed rod, a movable rod extending vertically and supported by the support arm so as to be movable in the vertical direction, and a lower holder fixed to the lower end of the movable rod. The upper holder has an annular portion that fits around the outer circumference of the workpiece, and a seating surface that seats on the upper end of the workpiece. A workpiece holding device for a plating processing apparatus is provided.

又本発明は、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上
下に延びる姿勢で保持する保持機構に、搬送機構により
処理槽の上方に配置される支持アームと、支持アームか
ら下方へ延びる固定ロッドと、固定ロッドの下端部に固
定される下部ホルダーと、上下方向に延びて支持アーム
に上下方向に移動自花に支持される可動ロッドと、可動
ロッドの下端部に固定される上部ホルダーとを設け、上
部ホルダー及び可動ロッドが自重により降下することに
より下部及び上部ホルダーの間でワークが保持されるよ
うに構成し、可動ロッドと係合して該ロッドを支持アー
ムに対して相対的に上昇させるロッド制御機構を設けた
ことを特徴とするめっき処理装置用ワーク保持装置を提
供するものである。
Further, the present invention provides a holding mechanism for holding a rod-shaped workpiece crushed in a plating treatment tank in an attitude extending vertically, a support arm disposed above the treatment tank by a transport mechanism, and a fixed rod extending downward from the support arm. , a lower holder fixed to the lower end of the fixed rod, a movable rod extending vertically and supported by a self-flowering member that moves vertically on a support arm, and an upper holder fixed to the lower end of the movable rod. , the work is held between the lower and upper holders by lowering the upper holder and the movable rod due to their own weight, and engages with the movable rod to raise the rod relative to the support arm. A workpiece holding device for a plating processing apparatus is provided, which is characterized by being provided with a rod control mechanism.

又本発明は、めっき処理槽に潰けられる棒状ワクを上下
に延びる姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構
にワークを下方及び上方から保持するホルダーを両者の
相対位置を調節できる状態で設け、上記保持機構をロー
ディング領域から処理領域を経てアンローディング領域
へ搬送する搬送機構を設け、搬送機構に、垂直コラムと
、該コラムを保持機構の搬送経路に沿って移動させる駆
動機構とを設、け、保持機構に、垂直コラムにより昇降
のみ自在に案内される昇降部を設け、乗直コラムに、上
記昇降部に下方から係合する上下位置調節部材と、上下
位置調節部材を昇降自在に支持する支持部と、上下位置
調節部材の下降を阻止するための一方向ストッパーとを
設け、上記ロディング領域に、上下位置調節部材を上方
へ移動させるための駆動機構と、上記一方向ストッパを
上下位置調節部材の下降を阻止する作動位置から阻止し
ない解除位置へ移動させるための角tt除機9 構とを設けたことを特徴とするめつき処理装置を提供す
るものである。
Further, the present invention is provided with a holding mechanism for holding a rod-shaped workpiece to be crushed in a plating treatment tank in an attitude extending vertically, and a holder for holding the workpiece from below and from above is attached to the holding mechanism in a state in which the relative positions of the two can be adjusted. and a conveying mechanism for conveying the holding mechanism from the loading area through the processing area to the unloading area, and the conveying mechanism includes a vertical column and a drive mechanism for moving the column along the conveying path of the holding mechanism. The holding mechanism is provided with an elevating section that is guided only up and down by a vertical column, and the vertical position adjustment member that engages with the elevating section from below and the up and down position adjustment member are provided on the direct column so that the vertical position adjustment member can be moved up and down. A support part for supporting the vertical position adjusting member and a one-way stopper for preventing the vertical position adjusting member from lowering are provided, and a drive mechanism for moving the vertical position adjusting member upward and a one-way stopper for moving the vertical position adjusting member upward and downward are provided in the loading area. The present invention provides a plating processing device characterized in that it is provided with a corner tt removal mechanism 9 for moving the position adjusting member from an operating position where it is prevented from descending to a release position where it is not blocked.

又本発明は、めっき処理槽に潰けられる棒状ワクを上下
に延びる姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構
にワークを下方及び上方から保持するホルダーを両者の
相対位置を調節できる状態で設け、めっき処理槽内を上
下に延びる姿勢で配置されるアノードと、アノードを保
持するアノド保持部材と、処理槽外においてアノード保
持部材を昇降自在に支持する支持部と、アノード保持部
材を上下に移動させてその上下位置を調節する駆動機構
とを設けたことを特徴とするめつき処理装置を提供する
・ものである。
Further, the present invention is provided with a holding mechanism for holding a rod-shaped workpiece to be crushed in a plating treatment tank in an attitude extending vertically, and a holder for holding the workpiece from below and from above is attached to the holding mechanism in a state in which the relative positions of the two can be adjusted. an anode, an anode holding member that holds the anode, a support member that supports the anode holding member so as to be movable up and down outside the processing tank, and an anode that is arranged to extend vertically within the plating tank; The present invention provides a plating processing device characterized by being provided with a drive mechanism that moves the plating device and adjusts its vertical position.

[実施例] 垂直断聞略図である第1図において、棒状のワークWは
垂直な姿勢で保持機構1に保持されており、その状態で
めっき処理槽2や図示されていない前処理槽及び後処理
槽山の処理液Lに順々に潰けられる。
[Example] In FIG. 1, which is a schematic vertical cross-sectional view, a rod-shaped work W is held in a holding mechanism 1 in a vertical position, and in that state, a plating tank 2, a pre-processing tank (not shown), and a post-processing tank are installed. They are crushed one after another by the processing liquid L in the processing tank pile.

めっき処理槽2や前処理槽及び後処理槽は、そ10 れぞれ、多数設けてあり、その様な檜が一列かつ例えば
U形に並べてある。ワークWと保持機構1はその様なU
形の処理槽群に沿って後述する如く搬送される。又、そ
の様な処理槽群を設置した領域(処理領域)の人口の上
手にはローディング領域が設けてあり、処理領域の出口
の下手にはアンローディング領域が設けてある。ローデ
ィング領域では、保持機構1に対するワークWの取付け
が後述する如く行われる。アンローディグ領域では、処
理の完了したワークWが保持機構1から後述する如く取
外される。又、アンローディング領域においてワークW
を取外した保持機構1は、新たなワークWを装着するた
めに、ローデイング領域へ送られる。
A large number of plating tanks 2, pre-processing tanks, and post-processing tanks are each provided, and such cypresses are arranged in a row, for example, in a U shape. The workpiece W and the holding mechanism 1 are
It is transported along a group of shaped processing tanks as will be described later. Further, a loading area is provided above the population of the area (processing area) where such a group of processing tanks are installed, and an unloading area is provided below the exit of the processing area. In the loading area, the workpiece W is attached to the holding mechanism 1 as will be described later. In the unloading area, the processed workpiece W is removed from the holding mechanism 1 as will be described later. Also, in the unloading area, the work W
The holding mechanism 1 from which it has been removed is sent to a loading area in order to mount a new workpiece W thereon.

次に保持機++Si 1の訂細{1〜1・逍を説明ずる
。f米1,1f機構1はめっき処理槽2の上方をその幅
方向(第1図で左右方向)に延びる支持アーム10を備
えている。支持アーム10の先端部と中間部には、それ
ぞれ、垂直な固定ロッド11と筒状のロッド支持部12
とが固定されている。固疋ロッド11は]1 その下半部がめつき処理槽2の内部に入るように構成さ
れており、その下端部から水平に突出したブラケット1
3の上面に下部ホルダー14が固定されている。下部ホ
ルダー14は上−に四部15を備えている。ワークWは
その下端部が四部15に入込んで下端が凹部15の内面
に着座すると共に、下端外周が四部15のテーバー状内
周面により半径方向に移動不能に保持されている。
Next, the details of the holding machine ++Si 1 will be explained. The mechanism 1 includes a support arm 10 extending above the plating tank 2 in the width direction (left-right direction in FIG. 1). A vertical fixed rod 11 and a cylindrical rod support portion 12 are provided at the tip and middle portions of the support arm 10, respectively.
is fixed. The fixing rod 11 is constructed such that its lower half enters the inside of the plating treatment tank 2, and a bracket 1 protrudes horizontally from its lower end.
A lower holder 14 is fixed to the upper surface of 3. The lower holder 14 has four parts 15 on the upper side. The lower end of the workpiece W enters the four parts 15, and the lower end is seated on the inner surface of the recess 15, and the outer periphery of the lower end is held by the tapered inner peripheral surface of the four parts 15 so as not to move in the radial direction.

前記ロッド支持部12の出周には垂直な可動ロッド16
が上下方向にJFI動自在に保持されている。
A movable rod 16 is perpendicular to the circumference of the rod support portion 12.
is held so that the JFI can move freely in the vertical direction.

可動ロッド16の下端部はブロック状の上部ホルダー1
7に下記の如く連結されている。上部ホルダー17は中
空の部材で、その内部に小形ブロック18が上下方向に
摺動自在に収容されている。
The lower end of the movable rod 16 is a block-shaped upper holder 1
7 is connected as shown below. The upper holder 17 is a hollow member, and a small block 18 is housed inside the upper holder 17 so as to be slidable in the vertical direction.

可動ロッド16の下端部は上部ホルダー17の上端壁部
の孔を通過してブロック18に固疋状態で連結されてい
る。ブロック18の下面中央部には叫部が設けてあり、
その凹部表市がワークWの上端面に着座している。又、
上部ホルダー17の下側壁部にはワークWが咲合ずる孔
19が設けてあ12 る。孔1つの下部には下方に拡開したテーバrIH20
が設けてある。ワークWの上端部は中間部よりも直径が
小さく、その小径上端部と大径中間部との間に環状の段
部が形成されている。この環状段部の外周縁に上記テー
パ面20に当接してマスキング機能を果しており、これ
により、電気めっき処理作業において、上記段部の外周
縁部にめっきが集中することが防止されている。むろん
、テパ面20が上記段部の外周に当接することにより、
ワークWの上部が半径方向に位置決めされる。
The lower end of the movable rod 16 passes through a hole in the upper end wall of the upper holder 17 and is rigidly connected to the block 18. A shouting part is provided in the center of the lower surface of the block 18,
The recessed surface is seated on the upper end surface of the workpiece W. or,
The lower wall of the upper holder 17 is provided with a hole 19 into which the workpiece W is inserted. At the bottom of one hole is a taber rIH20 that expands downward.
is provided. The upper end portion of the workpiece W has a smaller diameter than the middle portion, and an annular step portion is formed between the small diameter upper end portion and the large diameter middle portion. The outer periphery of this annular stepped portion comes into contact with the tapered surface 20 to perform a masking function, thereby preventing plating from concentrating on the outer periphery of the stepped portion during electroplating work. Of course, when the tapered surface 20 comes into contact with the outer periphery of the stepped portion,
The upper part of the workpiece W is positioned in the radial direction.

以上の説明から明らかなように、ブロック18はそれ自
身及び可動ロッド16の自重により降下してワークWの
上端に着座している。又、上部ホルダー17は可動ロッ
ド16やブロック18に対して昇降自在であるので、ホ
ルダー17自身の自重により降下してテーパ面20にお
いてワークWの段部外周に着座している。従って、ワー
クWの長さが長い場合や短い場合でも、上部ホルダー1
7及びブロック18はそれらの自重によりワークWの上
端部を上述の如く確尖かつ1′−1動的に保1fず13 る。
As is clear from the above description, the block 18 descends due to its own weight and that of the movable rod 16, and is seated on the upper end of the workpiece W. Further, since the upper holder 17 can be moved up and down with respect to the movable rod 16 and the block 18, the holder 17 descends due to its own weight and is seated on the tapered surface 20 on the outer periphery of the stepped portion of the workpiece W. Therefore, even if the length of the work W is long or short, the upper holder 1
7 and the block 18 keep the upper end of the workpiece W sharply and dynamically as described above by their own weight.

このようにワークWの長さを変更することができ、従っ
て、処理槽2内でのワークWの全体的な上下位置が変化
するので、それに対応させてワークWに対する処理状態
の均一化を図るためには、ワークWの長さ、すなわち、
めっき処理槽2内におけるアノード30の上下位置を調
節する必要がある。そのために、以下のような機構が採
用されている。
In this way, the length of the workpiece W can be changed, and therefore the overall vertical position of the workpiece W within the processing tank 2 changes, so that the processing state of the workpiece W can be made uniform in accordance with this change. In order to do this, the length of the workpiece W, that is,
It is necessary to adjust the vertical position of the anode 30 in the plating tank 2. For this purpose, the following mechanism is adopted.

前述の如く、各支持アーム10には2組の固定ロッド1
1及びロッド支持部12が設けられるので、各保持機構
1は2個のワークWをめっき処理槽2の妬方向に間隔を
隔てて保持することになる。
As mentioned above, each support arm 10 has two sets of fixed rods 1.
1 and rod support part 12 are provided, each holding mechanism 1 holds two works W at intervals in the longitudinal direction of the plating tank 2.

そして、めっき処理槽2内で、アノード30は各ワーク
Wとそれに隣接するめっき処理槽2の側壁31との間及
び両ワークWの間に設けられる。アノード30は上下に
延びる棒状又は帯状の部材で、その様なアノード30が
処理槽群の長手方向に多数配列されており、いずれも、
上端部がアノード保持部材32又は33により保持され
ている。ア14 ノード30への給電は、アノード保持部利32、32の
上方の図示されていない機構から行われる。
In the plating tank 2, the anode 30 is provided between each workpiece W and the adjacent side wall 31 of the plating tank 2 and between both works W. The anode 30 is a rod-shaped or band-shaped member extending vertically, and a large number of such anodes 30 are arranged in the longitudinal direction of the processing tank group, and each
The upper end portion is held by an anode holding member 32 or 33. A14 Power is supplied to the node 30 from a mechanism (not shown) above the anode holding parts 32, 32.

アノード保持部祠32、33に、はアノード30を囲む
網状のケージ35の上端部が取{−Jけてある。
The upper ends of a net-like cage 35 surrounding the anode 30 are attached to the anode holding portions 32 and 33.

それらのケージ35はめっき処理搏2の底部近傍におい
て連続している。
The cages 35 are continuous near the bottom of the plated plate 2.

両側部のアノード保持部材32は、側壁31よりも外側
に張出した部分において、垂直部材36の上端に固定さ
れている。各垂直部材36はその近傍に位置する垂直な
支持部37により昇降自在に保持されている。図示され
ていないが垂直部材36には雌ねじ部が設けてあり、そ
の雌ねじ部に乗直なねじ軸38が連粘している。ねじ1
i+l+ 3 8の下端は変速機3つを介してモーター
e・の駆動機構40に連結している。駆動機構40は一
方の変速機39の近傍に設けてあり、他方の変速機39
と駆動機構40とは水平な中間軸41を介して連結され
ている。
The anode holding members 32 on both sides are fixed to the upper ends of the vertical members 36 at portions extending outward from the side walls 31 . Each vertical member 36 is held movably up and down by a vertical support 37 located near it. Although not shown, the vertical member 36 is provided with a female threaded portion, and a threaded shaft 38 perpendicular to the female threaded portion is connected. screw 1
The lower end of i+l+38 is connected to a drive mechanism 40 of motor e. via three transmissions. The drive mechanism 40 is provided near one transmission 39, and the drive mechanism 40 is provided near the other transmission 39.
and the drive mechanism 40 are connected via a horizontal intermediate shaft 41.

この構成によると、駆動機構40によりねじ軸38を回
転させると、垂直部材36が昇降してア15 ノード30の上下位置が変化し、アノード30を、ワー
クWの全体的な上下位置に対応させて、最適の上下位置
に調節することができる。
According to this configuration, when the screw shaft 38 is rotated by the drive mechanism 40, the vertical member 36 moves up and down, and the vertical position of the anode 30 changes, causing the anode 30 to correspond to the overall vertical position of the workpiece W. You can adjust it to the optimal vertical position.

次に保持機構1及びワークWを搬送するための搬送機構
3について説明する。前述の如く、保持機構1はローデ
イング領域、処理領域、アンローディング領域を巡回す
るように搬送されるが、搬送機構3は、その搬送経路に
沿って配置される上下1対の駆動チェーン45を備えて
いる。各駆動チェーン45は基礎フレームに固定された
装置固定フレーム上の適当な案内レールにより案内支持
されており、図示されていないモーター等により駆動さ
れる。上下の駆動チェーン45には垂直なコラム46が
園定されている。コラム46は端部にローラー47を備
え、ローラー47は固定フレームに設けたレール上を走
行する。
Next, the holding mechanism 1 and the transport mechanism 3 for transporting the workpiece W will be explained. As described above, the holding mechanism 1 is transported so as to circulate through the loading area, the processing area, and the unloading area, and the transport mechanism 3 includes a pair of upper and lower drive chains 45 disposed along the transport path. ing. Each drive chain 45 is guided and supported by a suitable guide rail on a device fixing frame fixed to the base frame, and is driven by a motor or the like (not shown). A vertical column 46 is installed in the upper and lower drive chains 45. The column 46 is provided with rollers 47 at its ends, which run on rails provided on the fixed frame.

このコラム46には保持機構1の昇降部50がローラー
51を介して昇降自在に支持されている。
An elevating section 50 of the holding mechanism 1 is supported on this column 46 via rollers 51 so as to be movable up and down.

昇降部50は上下に長い部材で、その両端部に上記ロー
ラー51が取付けてある。前述の支持アー1 6 ム10は基端部が昇降部50に剛直に固定されている。
The elevating part 50 is a vertically long member, and the rollers 51 are attached to both ends thereof. The aforementioned support arm 16 has its base end rigidly fixed to the elevating section 50.

この構造によると、駆動チェーン45を駆動してコラム
46を水平に移動させることにより、保持機構1及びそ
れに保持されるワークWもコラム46及び昇降部50と
ノ(に前記種々の領域を移動する。
According to this structure, by driving the drive chain 45 to move the column 46 horizontally, the holding mechanism 1 and the workpiece W held therein are also moved between the column 46 and the elevating section 50 through the various areas. .

このような水平移動の他にワークW及び保持機構1は上
下方向にも移動させる必要があり、そのために、搬送機
構3は昇降機構53を備えている。
In addition to such horizontal movement, the workpiece W and the holding mechanism 1 must also be moved in the vertical direction, and for this purpose, the transport mechanism 3 is provided with a lifting mechanism 53.

昇降機構53は、フレームに固定される垂直な案内コラ
ム54と、案内コラム54により昇降自在に案内される
昇降部55と、昇降部55を昇降させるためのチェーン
及びモーター等(図示せず)とを備えている。昇降部5
5には、水平方向に張出したレール56が固定されてい
る。前記昇降部50の上端部にはレール56の上方まで
突出したアーム57が設けてあり、アーム57の先端部
にローラー58が取付けてある。
The elevating mechanism 53 includes a vertical guide column 54 fixed to the frame, an elevating section 55 that is guided by the guide column 54 to be able to rise and fall freely, and a chain, a motor, etc. (not shown) for elevating the elevating section 55. It is equipped with Lifting section 5
5, a rail 56 extending horizontally is fixed. An arm 57 that protrudes above the rail 56 is provided at the upper end of the elevating section 50, and a roller 58 is attached to the tip of the arm 57.

図示されていないモーター及びチェーンにより17 昇降部55を上昇させると、レール56がローラ58に
下方から係合して昇降部50をコラム46に沿って上昇
させ、それにより支持機構1及びワークWがめつき処理
槽2の上方の上昇位置へ移動させられる。又昇降部55
を下降させると、昇降部10とともに保持機構1及びワ
ークWも下降し、ワークWがめつき処理槽2出の処理液
Lに潰けられる。
When the lifting section 55 is raised by a motor and a chain (not shown), the rail 56 engages the rollers 58 from below and raises the lifting section 50 along the column 46, thereby causing the support mechanism 1 and the workpiece W to be raised. It is moved to a raised position above the processing tank 2. Also, the lifting section 55
When the holding mechanism 1 and the workpiece W are lowered together with the lifting section 10, the workpiece W is crushed by the processing liquid L from the plating processing tank 2.

上述の昇降機構53は保持機構1の昇阿を必要とする位
置だけに設けてあり、それ以外の位置(区間)では、保
持機構1を一定の高さに保持するために、レール56と
同様のレールが適当なフレームに剛直に固定されている
The above-mentioned elevating mechanism 53 is provided only at the position where the holding mechanism 1 needs to be lifted, and at other positions (sections), it is provided similarly to the rail 56 in order to hold the holding mechanism 1 at a constant height. The rails are rigidly fixed to a suitable frame.

前述の如く、本発明によると、ワークWの長さを変更す
ることができるので、その長さに対応させてめっき処理
槽2内でのワークWの上下位置を調節する必要がある。
As described above, according to the present invention, the length of the workpiece W can be changed, so it is necessary to adjust the vertical position of the workpiece W in the plating tank 2 in accordance with the length.

その様な位置調節のために図示の構造では、コラム46
に対する昇降部50、すなわち保持機構1の下降限界位
置を調節するための上下位置調節機構60が設けてある
For such position adjustment, the structure shown includes columns 46.
A vertical position adjustment mechanism 60 is provided for adjusting the lowering limit position of the lifting section 50, that is, the holding mechanism 1.

18 上下位置調節機構60は、コラム46の背面(保持機構
1と反対側の面)の近傍に設けられる垂直な上下位置調
節部拐61を備えている。上下位置調節部材61はコラ
ム46に固定したガイド62により昇降自71ミに支持
されている。上下位置調節部材6]の保持機構1と反対
側の面にはラック63を有する棒状部材が固定されてい
る。上記ガイド62にはラック63の近傍まで突出した
ブラケッl−65(ストッパー支持部)が設けてあり、
そのブラケット65に一方向ストッパー66の中間部が
回動自在に支持されている。ストッパー66はラック6
3と噛合う爪を一端部に備えたレバ状の部材で、その爪
とラック63とにより一種のラチェット機構が横成され
ている。このラチェット機構は、作動状態(噛合い状態
)において、上下位置調節部材61がコラム46に対し
て柑対的に上昇することを許容するが、下降することを
阻止する。
18 The vertical position adjustment mechanism 60 includes a vertical position adjustment part 61 provided near the back surface of the column 46 (the surface opposite to the holding mechanism 1). The vertical position adjustment member 61 is supported by the elevator 71 by a guide 62 fixed to the column 46. A rod-shaped member having a rack 63 is fixed to the surface of the vertical position adjustment member 6 opposite to the holding mechanism 1. The guide 62 is provided with a bracket l-65 (stopper support part) that protrudes to the vicinity of the rack 63.
An intermediate portion of a one-way stopper 66 is rotatably supported by the bracket 65. The stopper 66 is the rack 6
It is a lever-like member with a pawl at one end that engages with the rack 63, and the pawl and the rack 63 form a kind of ratchet mechanism. This ratchet mechanism allows the vertical position adjustment member 61 to move up relative to the column 46 in the operating state (meshing state), but prevents it from going down.

さらに前記上下位置調節機構60は上下位置調節部材6
1等の他に、駆動機構70及び解除機構19 71を備えている。駆動機構70は上下位置調節部材6
1よりも低い位置に配置されており、垂直なエアーシリ
ンダ72と、そのロッドにより上方へ駆動されるプッシ
−t− − 7 3とを適当なフレームにより支持され
た状態で備えている。プツシャ73の上端は上下位置調
節部材61の下端のブラケット74に下方から当接する
ようになっており、エアーシリンダ72てプッシャー7
3を上方へ押し上げると、上下位置調節部+4’61が
上方へ押し」二げられ、それ1こより、部4イ61がア
ーム57(又はその他の適当な部分)を上方へ押し上げ
て昇降部50すなわち保持機構工をコラム46上で上昇
さセる。このようにして上下位置(下降限昇位置)が調
節された後は、ストッパー66がラック63と噛合うこ
とにより、保持機構1や昇降部50がコラム46に対し
て下降することが防止される。これにより、1対のワー
クWは一連の処理作業において、常に所定の上下位置で
めっき処理槽2内の処理液Lに潰けられる。
Further, the vertical position adjustment mechanism 60 includes a vertical position adjustment member 6
1, etc., a drive mechanism 70 and release mechanisms 19 and 71 are provided. The drive mechanism 70 is the vertical position adjustment member 6
1, and includes a vertical air cylinder 72 and a pusher t-73, which is driven upward by its rod, supported by a suitable frame. The upper end of the pusher 73 comes into contact with the bracket 74 at the lower end of the vertical position adjustment member 61 from below, and the pusher 7
When 3 is pushed upward, the vertical position adjustment part +4'61 is pushed upward, and from this, part 4'61 pushes up the arm 57 (or other suitable part) and lifts and lowers the elevating part 50. That is, the holding mechanism is raised above the column 46. After the vertical position (lowering limit raised position) is adjusted in this way, the stopper 66 engages with the rack 63 to prevent the holding mechanism 1 and the lifting section 50 from descending relative to the column 46. . As a result, the pair of workpieces W are always crushed by the processing liquid L in the plating tank 2 at predetermined vertical positions during a series of processing operations.

新たなワークについては保持機描1の上下位置20 を変更する必要が生じることがあり、そのために前述の
解除機構71が設けてある。解除機構71は図示されて
いないフレームにより支持されたエアーシリンダであり
、そのシリンダロッドの上端にブラケット6つが固定さ
れている。このブラケット69は、ストッパー66の爪
と反対側の端部の上方へ突出しており、解除機構71を
作動させることにより、ブラケッ1・69がス1・ツバ
ー66の端部を押し下げ、それによりス1・ツバー66
がラック63から外れ、ブザイ61、すなわち保持部5
0の下降が許容される。
For a new work, it may be necessary to change the vertical position 20 of the holding machine drawing 1, and for this purpose the above-mentioned release mechanism 71 is provided. The release mechanism 71 is an air cylinder supported by a frame (not shown), and six brackets are fixed to the upper end of the cylinder rod. This bracket 69 protrudes above the end opposite to the claw of the stopper 66, and by operating the release mechanism 71, the bracket 1/69 pushes down the end of the stopper 66, thereby causing the stopper 66 to move upward. 1.Tuber 66
is removed from the rack 63, and the buzzer 61, that is, the holding part 5
A fall of 0 is allowed.

上記説明から明らかなように、保持機構1の高さ調節は
例えばローディング領域だけで行えばよく、従って、駆
動機構70及び解除機構71はロディング領域だけ(又
はローディング領域とアンローディング領域)とに設け
てある。
As is clear from the above description, the height adjustment of the holding mechanism 1 may be performed only in the loading area, and therefore the drive mechanism 70 and the release mechanism 71 are provided only in the loading area (or in the loading area and the unloading area). There is.

前述の如くワークWを両ホルダー14、17の間に装着
するためには、予め両ホルダー14、17間の間隔を広
げておく必要がある。そのために、ローディング領域と
アンローデ,fング領域には上21 部ホルダー17を上昇させるためのホルダー位置調節機
構(ロッド制御機構75)が設けてある。
In order to mount the workpiece W between the holders 14 and 17 as described above, it is necessary to widen the gap between the holders 14 and 17 in advance. For this purpose, a holder position adjustment mechanism (rod control mechanism 75) for raising the upper 21 part holder 17 is provided in the loading area, unloading area, and franging area.

ロッド制御機構75はフレームにより支持される垂直な
エアーシリンダ76と垂直な1対のガイドロッド77と
を備えている。ガイドロッド77は上記フレームに対し
て昇降l:1(1:.であり、ガイドロッド77の下端
部とエアーシリンダ76のΩツドの下端部とが適当な寸
法形状の昇降部78に固定されている。昇降部78の両
側部には爪79の基端部が適当な支軸を介して支持され
ている。爪79は水平な姿勢と上方へ突出した垂直な姿
勢との間で回転するように構成されており、明確には図
示されていないが、その回転を行うためのロータリーア
クチュエーターも昇降部78に取付けてある。
The rod control mechanism 75 includes a vertical air cylinder 76 supported by a frame and a pair of vertical guide rods 77. The guide rod 77 is raised and lowered with respect to the frame at a ratio of 1:1 (1:. The proximal ends of claws 79 are supported on both sides of the elevating part 78 via appropriate support shafts.The claws 79 are rotated between a horizontal position and a vertical position protruding upward. Although not clearly shown in the figure, a rotary actuator for rotation is also attached to the elevating section 78.

前記1対の可動ロッド16はロッド支持部12よりも上
方へ突出しており、その上端部に互いに接近する方向に
突出したアーム80を備えている。
The pair of movable rods 16 protrude above the rod support portion 12, and have arms 80 at their upper ends that protrude in a direction toward each other.

各アーム80の先端部にはローラー81が取付けてあり
、前記爪7つは、水平な姿勢において、ロ22 ラー81に下側から保合できる。
A roller 81 is attached to the tip of each arm 80, and the claws 7 can be held on the roller 22 from below in a horizontal position.

この構造によると、上部ホルダー17及びブロック18
を上方へ引上げる場合、まず、爪79を垂直な姿勢にし
た状態で、エアーシリンダ76によりH降部78を上方
から両ローラー81の間を通過さ0・てローラー81の
下側まで移動さセ−、次に爪79を水平な姿勢に倒し、
その後にエアーシリンダ76により昇降部78を上昇さ
せる。これにより、爪79がローラー81に係合して可
動ロッド16が引上げられ、上部ホルダー17が上昇す
る。この状態でワークWを両ホルダー14、17の間に
陀置し、次に’t+’ IP?f部78をド將させると
、可動ロッド16等が自重により陣下し、上部ホルダー
17及びブロック18がワークWの上端部に前述の如く
係合する。この保合の後、爪79を垂直な姿勢に戻すこ
とにより、昇降部78をローラ81よりも上方へ引上げ
ることができる。
According to this structure, the upper holder 17 and the block 18
When pulling up upward, first, with the claw 79 in a vertical position, the air cylinder 76 moves the H descending part 78 from above through between both rollers 81 to the bottom of the roller 81. Then, lower the claw 79 to a horizontal position,
Thereafter, the elevating section 78 is raised by the air cylinder 76. As a result, the claw 79 engages with the roller 81, the movable rod 16 is pulled up, and the upper holder 17 is raised. In this state, place the workpiece W between both holders 14 and 17, and then press 't+' IP? When the f section 78 is opened, the movable rod 16 and the like move down due to their own weight, and the upper holder 17 and block 18 engage with the upper end of the workpiece W as described above. After this fixation, the lifting portion 78 can be pulled up above the roller 81 by returning the claw 79 to the vertical position.

このようにしてローディング領域においてワークWが保
持機構1に装着されるが、次に、ワークWを保持機構1
まで移送するための機構を第2図23 及び第3図(第2図の■−■矢視略図)により説明する
In this way, the workpiece W is mounted on the holding mechanism 1 in the loading area.
The mechanism for transferring the material up to the point will be explained with reference to FIG. 2 and FIG.

第2図において、ワークWを保持機構1に取付けるため
の装置としては、ワーク移送機構4とワタ供給機構5と
が設けてある。第3図において、ワーク供給機構5は水
平なチェーンコンベアで構成されており、そのチェーン
に多数の受けブロック82が適当な間隔ごとに取{−1
けてある。各受けブロック82はV形に窪んだ溝を上面
に備え、その満にワークWが水)14な姿勢で載U・ら
れている。
In FIG. 2, a work transfer mechanism 4 and a cotton supply mechanism 5 are provided as devices for attaching the work W to the holding mechanism 1. In FIG. 3, the work supply mechanism 5 is composed of a horizontal chain conveyor, and a large number of receiving blocks 82 are attached to the chain at appropriate intervals.
It is written. Each receiving block 82 has a V-shaped recessed groove on its upper surface, and a workpiece W is placed in a vertical position in the V-shaped groove.

ワークWはワーク供給機構5の搬送方向と直角な姿勢で
ワーク移送機構4の近傍まで送られてくる。
The workpiece W is sent to the vicinity of the workpiece transfer mechanism 4 in a posture perpendicular to the conveyance direction of the workpiece supply mechanism 5.

ワーク移送機構4には受けブロック82上のワークWを
保持する2個の保持機構83が設けてある。
The work transfer mechanism 4 is provided with two holding mechanisms 83 that hold the work W on the receiving block 82.

各保持機構83は開閉動作を行う1対のフィンガー85
とそれを駆動する適当なシリンダ機構とを備えており、
ワークWの外周を1対のフィンガ85で両側から掴むこ
とができるようになっている。図示されていないが、保
持機構83は、それを昇降させるための機構と、水平方
向に移動させ24 るための機構と、1対の保持機構83の間の間隔を変更
するための機構とに取リイ・1けてある。ワーク供給機
構5上のワークWを拙む動作では、まず、両保持機構8
3は両者間の間隔が狭く、フィンガー85が開いた状態
で、上方の位置からワークWの近傍まで下降する。下降
後にフィンガー85が閉じてワークWを掴むと、保持機
構83は上昇し、ワーク移送機構4の保持機構86の上
方まで水平方向に移動し、その間(又はその後)に両保
持機構83間の間隔を移送機構4の1幻の保持機摺86
の間隔と一致するまで広げる。保持機構86は保持機構
83と同様の構造であり、各保持機構86から1対のフ
ィンガー87が上方へ突出している。保持機構86の上
方に到達した前記保持機構83は次に降下し、ワークW
を開放状態にあるフィンガー87の間へ移動させる。次
にフィンガー87が閉鎖してワークWを保持すると、保
持機構83のフィンガー85は開放し、逆の経路を経て
ワーク供給機構5側へ戻る。
Each holding mechanism 83 has a pair of fingers 85 that perform opening and closing operations.
and an appropriate cylinder mechanism to drive it,
The outer periphery of the workpiece W can be gripped from both sides by a pair of fingers 85. Although not shown, the holding mechanism 83 has a mechanism for raising and lowering it, a mechanism for moving it in the horizontal direction, and a mechanism for changing the distance between the pair of holding mechanisms 83. It is marked 1 digit. In the operation of holding the workpiece W on the workpiece supply mechanism 5, first, both holding mechanisms 8
3 has a narrow space between them, and descends from the upper position to the vicinity of the workpiece W with the fingers 85 open. When the finger 85 closes and grasps the workpiece W after descending, the holding mechanism 83 rises and moves horizontally to above the holding mechanism 86 of the workpiece transfer mechanism 4, during which (or after) the interval between both holding mechanisms 83 is reduced. The transfer mechanism 4's phantom holding machine slide 86
Expand until it matches the spacing between. The holding mechanisms 86 have a similar structure to the holding mechanisms 83, and a pair of fingers 87 protrudes upward from each holding mechanism 86. The holding mechanism 83 that has reached above the holding mechanism 86 then descends and holds the workpiece W.
is moved between the fingers 87 in the open state. Next, when the finger 87 closes and holds the workpiece W, the finger 85 of the holding mechanism 83 opens and returns to the workpiece supplying mechanism 5 side through the opposite path.

上記1対の保持機構86は共通の可動台88の25 上面に固定されている。第2図の如く、可動台88はフ
レームで支持した水平なガイド90とシリンダ機構91
とに連結されている。シリンダ機構91を作動させるこ
とにより、可動台88や保持機構86は、第2図に2点
饋線で示す後退位置から実線で示す前進位置まで移動で
きる。保持機構86は、後退位置において、前記保持機
構83からワークを受け取り、前進位置まで移動する。
The pair of holding mechanisms 86 are fixed to the upper surface of a common movable base 88. As shown in FIG. 2, the movable table 88 includes a horizontal guide 90 supported by a frame and a cylinder mechanism 91.
is connected to. By operating the cylinder mechanism 91, the movable base 88 and the holding mechanism 86 can be moved from a retracted position shown by a two-dot highlighted line in FIG. 2 to a forward position shown by a solid line. The holding mechanism 86 receives the workpiece from the holding mechanism 83 at the retreat position and moves to the forward position.

前進位置において保持機構86で保持されたワークWは
別のフィンガー92により他まれる。むろん、フィンガ
ー92がワークWを拙んだ後は、フィンガー87はワー
クWを解放し、シリンダ機構91により後退位置まで戻
される。
The workpiece W held by the holding mechanism 86 in the forward position is moved by another finger 92. Of course, after the fingers 92 have removed the workpiece W, the fingers 87 release the workpiece W and are returned to the retracted position by the cylinder mechanism 91.

上記フィンガー92はフィンガー87と同様の構造であ
り、フィンガー92を設けた保持機構93がシリンダ機
構94に取付けてある。シリンダ機構94は可動台95
に取付けてある。可動台95は2点鎖線で示す水平な姿
勢と、その姿勢から上方へ起上がった垂直な姿勢との間
で回動するようになっている。その様な回転動作を行う
ために、26 可動台95は基端部が水平な支軸96を介して支持台9
7で支持されている。支持台97は水平な可動台98の
一端部上面に取付けてある。可動台98の他端部上面に
はブラケット及び支軸を介してシリンダ99の基端部が
連桔されている。シリンダ99のロンド先端部はピンを
介してアーム1ノ OOの一端部に連結されている。アーム100の他端部
は前記支軸96を介して可動台95に連結されており、
シリンダ99を作動させることにより、可動台95を前
述の如く凹動させることができる。
The finger 92 has the same structure as the finger 87, and a holding mechanism 93 provided with the finger 92 is attached to a cylinder mechanism 94. The cylinder mechanism 94 is a movable base 95
It is installed on. The movable base 95 is configured to rotate between a horizontal position shown by a two-dot chain line and a vertical position raised upward from the horizontal position. In order to perform such a rotational operation, the movable base 95 is connected to the support base 9 via a support shaft 96 whose base end is horizontal.
7 is supported. The support stand 97 is attached to the upper surface of one end of a horizontal movable stand 98. A base end of a cylinder 99 is connected to the upper surface of the other end of the movable base 98 via a bracket and a support shaft. The tip of the cylinder 99 is connected to one end of the arm 1OO via a pin. The other end of the arm 100 is connected to the movable base 95 via the support shaft 96,
By operating the cylinder 99, the movable base 95 can be moved downward as described above.

前述の如くフィンガー92がワークWを掴み、続いて可
動台95及びシリンダ機構94が水平姿勢から垂直姿勢
まで回動させられると、ワークWは保持機構1の下部ホ
ルダー14の上方へ垂直な姿勢で到達する。この状態で
は、シリンダ機構94は保持機構93を最も高い位置に
位置させており、ワークWは下部ホルダー14よりも1
t′6い泣置にある。次にシリンダ機構94が作動して
保持機構93を下降させ、それによりワークWが下部ホ
27 ルダ−14内に着座し、続いて第1図のホルダー14、
17がワークWの上端と係合する位置まで下降させられ
る。このようにして下部ホルダー14及び上部ホルダー
17等でワークWが保持されると、フィンガー92が開
いてワークWを離し、その後にシリンダ9つが逆に作動
して新たなワークWを受取る位置(水平姿勢)に可動合
Qr,iを戻す。
As described above, when the fingers 92 grip the workpiece W and the movable base 95 and the cylinder mechanism 94 are subsequently rotated from the horizontal position to the vertical position, the workpiece W is moved upwardly to the lower holder 14 of the holding mechanism 1 in a vertical position. reach. In this state, the cylinder mechanism 94 positions the holding mechanism 93 at the highest position, and the workpiece W is positioned 1 point higher than the lower holder 14.
It's in the t'6th place. Next, the cylinder mechanism 94 operates to lower the holding mechanism 93, whereby the workpiece W is seated in the lower holder 14, and then the holder 14 of FIG.
17 is lowered to a position where it engages with the upper end of the workpiece W. When the workpiece W is held by the lower holder 14, upper holder 17, etc. in this way, the fingers 92 open and release the workpiece W, and then the nine cylinders operate in reverse to receive a new workpiece W (horizontal). Return the movement Qr,i to (posture).

このようにして1対の14、17へのワーク取付けが完
了すると、続いて他の1対のホルダー14、17へのワ
ーク取付けが行われる。この2回目のワーク取付け作業
も先の作業と同様に行われるが、他方のホルダー14、
17は上記一方のホルダー14、17に対して横方向に
ずれているので、2回目のワーク取付け作業では、シリ
ンダ機構94やシリンダ9つが前述の如く作動する他に
、フィンガー92で保持したワークWが他方の下部ホル
ダー14の上方へ達するように、可動台98が水平方向
に移動させられる。
After the attachment of the workpiece to the pair of holders 14 and 17 is completed in this manner, the attachment of the workpiece to the other pair of holders 14 and 17 is subsequently performed. This second workpiece mounting work is performed in the same manner as the previous work, but the other holder 14,
17 is shifted laterally with respect to one of the holders 14 and 17, so in the second workpiece mounting operation, in addition to the cylinder mechanism 94 and the nine cylinders operating as described above, the workpiece W held by the fingers 92 The movable base 98 is moved in the horizontal direction so that it reaches above the other lower holder 14.

この水平方向の移動を行うために、可動台9828 は基礎フレーム上の適当なガイド103上に移動自7r
−.に支持されており、基礎フレームに固定したシリン
ダ101のロッドの端部にブラケット102を介して可
動台98が連結されている。このシリンダ101により
可動台98が水平方向に移動させられる。
In order to perform this horizontal movement, the movable base 9828 is mounted on a suitable guide 103 on the base frame.
−. A movable base 98 is connected via a bracket 102 to the end of a rod of a cylinder 101 fixed to the base frame. The cylinder 101 causes the movable base 98 to move in the horizontal direction.

第2図及び第3図の装置はローディング領域においてワ
ークWを保持機構1に装着するための装置であるが、同
様の装置がアンローディング領域にも設けてあり、その
装置は、上述の装置とは逆に作動し、めっき処理の完了
したワークWを保持機構1から取外して後続の行程へ送
るようになっている。
The device shown in FIGS. 2 and 3 is a device for mounting the workpiece W on the holding mechanism 1 in the loading area, but a similar device is also provided in the unloading area, and this device is similar to the above-mentioned device. operates in the opposite direction to remove the work W on which plating has been completed from the holding mechanism 1 and send it to the subsequent process.

[発明の効果] 以上説明したように本発明によると、棒状のワークWを
垂直姿勢で保持するための保持機構1において、上部ホ
ルダー17の上下位置を自由に調節することができるの
で、ワークWをその長さとは無関係に、正確かつ簡単に
保持することができる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, in the holding mechanism 1 for holding the rod-shaped workpiece W in a vertical posture, the vertical position of the upper holder 17 can be freely adjusted. can be held accurately and easily, regardless of its length.

2つ さらに本発明によると、その様な種々の長さワークWを
保持できる保持機構1に関連させて、それらの上下位置
やめっき処理時のアノード30の上下位置を調節できる
ように構成したので、その様な保持機構に適しためっき
処理装置を得ることができる。
Furthermore, according to the present invention, in conjunction with the holding mechanism 1 that can hold such workpieces W of various lengths, the vertical position of the workpieces W and the vertical position of the anode 30 during plating processing can be adjusted. , a plating processing apparatus suitable for such a holding mechanism can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明実施例の垂直断面略図、第2図はワーク
を保持機構に装着するための装置の正面略図、第3図は
第2図の■一■矢視略図である。 1・・・保持機構、2・・・めっき処理槽、3・・・搬
送機構、10・・・支持アーム、11・・・固定ロッド
、14・・・下部ホルダー、15・・・凹部、16・・
・可動ロッド、17・・・上部ホルダー、30・・・ア
ノード、32・・・アノード保持部材、37・・・支持
部、40・・・駆動機摺、45・・・駆動チェーン(駆
動機構)、50・・・昇降部、60・・・上下位置調節
機構、61・・・上下位置調節部材、65・・・ブラケ
ット、66・・・ストッパー、70・・・駆動機構、7
1・・・解除機構、75・・・ロッド制御機構、80・
・・アーム、81・・・ローラー、L・・・処理30 液、 W・・・ワーク
1 is a schematic vertical cross-sectional view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic front view of a device for mounting a workpiece on a holding mechanism, and FIG. 3 is a schematic view taken in the direction of arrows 1 and 2 of FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Holding mechanism, 2... Plating processing tank, 3... Transport mechanism, 10... Support arm, 11... Fixed rod, 14... Lower holder, 15... Recessed part, 16・・・
- Movable rod, 17... Upper holder, 30... Anode, 32... Anode holding member, 37... Support part, 40... Drive mechanism slide, 45... Drive chain (drive mechanism) , 50... Elevating part, 60... Vertical position adjustment mechanism, 61... Vertical position adjustment member, 65... Bracket, 66... Stopper, 70... Drive mechanism, 7
1...Release mechanism, 75...Rod control mechanism, 80.
...Arm, 81...Roller, L...Processing 30 liquid, W...Work

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下に延び
る姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構に、ワ
ークを下方及び上方から保持するホルダーを両ホルダー
の相対位置を調節できる状態で設け、ワーク供給機構か
ら供給されたワークを保持して上記両ホルダーの間へ移
送するワーク移送機構を設け、ワーク移送機構から移送
されるワークを受け入れるために両ホルダーの間の間隔
を広げておくためのホルダー位置調節機構を設け、上記
保持機構をワーク処理領域に沿って搬送する搬送機構を
設け、搬送機構に、ワークが処理槽内に位置する下降位
置と処理槽の上方に位置する上昇位置との間で保持機構
を昇降させる昇降機構を設け、上記下降位置での保持機
構の上下位置を調節する上下位置調節機構を設けたこと
を特徴とするめっき処理装置。 2、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下に延び
る姿勢で保持するための保持機構であって、搬送機構に
より処理槽の上方に配置される支持アームと、支持アー
ムから下方へ延びる固定ロッドと、固定ロッドの下端部
に固定される下部ホルダーと、上下方向に延びて支持ア
ームに上下方向に移動自在に支持される可動ロッドと、
可動ロッドの下端部に固定される上部ホルダーとを備え
、下部ホルダーが、ワークの下端及び外周を支持する凹
部を備え、上部ホルダーが、ワークの外周に嵌合する環
状部と、ワークの上端に着座する着座面とを備えている
ことを特徴とするめっき処理装置用ワーク保持装置。 3、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下に延び
る姿勢で保持する保持機構に、搬送機構により処理槽の
上方に配置される支持アームと、支持アームから下方へ
延びる固定ロッドと、固定ロッドの下端部に固定される
下部ホルダーと、上下方向に延びて支持アームに上下方
向に移動自在に支持される可動ロッドと、可動ロッドの
下端部に固定される上部ホルダーとを設け、上部ホルダ
ー及び可動ロッドが自重により降下することにより下部
及び上部ホルダーの間でワークが保持されるように構成
し、可動ロッドと係合して該ロッドを支持アームに対し
て相対的に上昇させるロッド制御機構を設けたことを特
徴とするめっき処理装置用ワーク保持装置。 4、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下に延び
る姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構にワー
クを下方及び上方から保持するホルダーを両者の相対位
置を調節できる状態で設け、上記保持機構をローディン
グ領域から処理領域を経てアンローディング領域へ搬送
する搬送機構を設け、搬送機構に、垂直コラムと、該コ
ラムを保持機構の搬送経路に沿って移動させる駆動機構
とを設け、保持機構に、垂直コラムにより昇降のみ自在
に案内される昇降部を設け、垂直コラムに、上記昇降部
に下方から係合する上下位置調節部材と、上下位置調節
部材を昇降自在に支持する支持部と、上下位置調節部材
の下降を阻止するための一方向ストッパーとを設け、上
記ローディング領域に、上下位置調節部材を上方へ移動
させるための駆動機構と、上記一方向ストッパーを上下
位置調節部材の下降を阻止する作動位置から阻止しない
解除位置へ移動させるための解除機構とを設けたことを
特徴とするめっき処理装置。 5、めっき処理槽に潰けられる棒状ワークを上下に延び
る姿勢で保持する保持機構を設け、上記保持機構にワー
クを下方及び上方から保持するホルダーを両者の相対位
置を調節できる状態で設け、めっき処理槽内を上下に延
びる姿勢で配置されるアノードと、アノードを保持する
アノード保持部材と、処理槽外においてアノード保持部
材を昇降自在に支持する支持部と、アノード保持部材を
上下に移動させてその上下位置を調節する駆動機構とを
設けたことを特徴とするめっき処理装置。
[Claims] 1. A holding mechanism is provided to hold a bar-shaped workpiece that is crushed in a plating tank in a posture extending vertically, and a holder for holding the workpiece from below and from above is attached to the holding mechanism, and the relative positions of both holders are fixed. A workpiece transfer mechanism is provided to hold the workpiece supplied from the workpiece supply mechanism and transfer it between the two holders, and a workpiece transfer mechanism is provided between the two holders to receive the workpiece transferred from the workpiece transfer mechanism. A holder position adjustment mechanism is provided to widen the interval, and a transport mechanism is provided to transport the holding mechanism along the workpiece processing area. 1. A plating processing apparatus comprising: a lifting mechanism for raising and lowering a holding mechanism between a raised position located at a lower position; and a vertical position adjustment mechanism for adjusting the vertical position of the holding mechanism at the lowered position. 2. A holding mechanism for holding a rod-like workpiece that is crushed in a plating tank in a vertically extending posture, which includes a support arm that is placed above the processing tank by a transport mechanism, and a fixed rod that extends downward from the support arm. a lower holder fixed to the lower end of the fixed rod; a movable rod extending vertically and supported by a support arm so as to be movable vertically;
an upper holder fixed to the lower end of the movable rod, the lower holder has a recess that supports the lower end and outer periphery of the work, and the upper holder has an annular part that fits around the outer periphery of the work, and A workpiece holding device for a plating processing apparatus, comprising a seating surface on which to sit. 3. The holding mechanism that holds the rod-like workpiece that is crushed in the plating tank in a posture extending vertically includes a support arm that is placed above the processing tank by the transport mechanism, a fixed rod that extends downward from the support arm, and a fixed rod. The upper holder and The workpiece is configured to be held between the lower and upper holders by the movable rod descending due to its own weight, and the rod control mechanism engages with the movable rod to raise the rod relative to the support arm. A workpiece holding device for a plating processing apparatus, characterized in that: 4. A holding mechanism is provided to hold a rod-shaped workpiece to be crushed in a plating tank in a posture extending vertically, and a holder for holding the workpiece from below and above is provided in the holding mechanism in a state where the relative positions of the two can be adjusted. A transport mechanism is provided for transporting the holding mechanism from a loading area through a processing area to an unloading area, and the transport mechanism includes a vertical column and a drive mechanism for moving the column along a transport path of the holding mechanism. an elevating part that is guided only up and down by a vertical column; a vertical position adjustment member that engages with the elevating part from below; and a support part that supports the up and down position adjustment member so that it can be raised and lowered; A one-way stopper for preventing the vertical position adjusting member from lowering is provided, a drive mechanism for moving the vertical position adjusting member upward in the loading area, and a one-way stopper for preventing the vertical position adjusting member from lowering. 1. A plating processing apparatus comprising a release mechanism for moving the plating device from an operating position where it is blocked to a release position where it is not blocked. 5. A holding mechanism is provided to hold the rod-shaped workpiece that is crushed in the plating tank in a posture extending vertically, and a holder for holding the workpiece from below and above is provided in the holding mechanism so that the relative positions of the two can be adjusted. An anode arranged to extend vertically inside the processing tank, an anode holding member that holds the anode, a support part that supports the anode holding member so as to be movable up and down outside the processing tank, and an anode holding member that is moved up and down. A plating processing apparatus characterized by being provided with a drive mechanism that adjusts the vertical position of the plating processing apparatus.
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CN112251693A (en) * 2020-09-08 2021-01-22 徐州瑞马智能技术有限公司 Vertical blowing type hot galvanizing device for foundation bolts only plated in partial length
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