JPH0368946A - Damping-waterless photosensitive planographic printing plate - Google Patents

Damping-waterless photosensitive planographic printing plate

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Publication number
JPH0368946A
JPH0368946A JP20374189A JP20374189A JPH0368946A JP H0368946 A JPH0368946 A JP H0368946A JP 20374189 A JP20374189 A JP 20374189A JP 20374189 A JP20374189 A JP 20374189A JP H0368946 A JPH0368946 A JP H0368946A
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JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive layer
printing plate
group
photosensitive
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP20374189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Akihisa Nakajima
彰久 中島
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Akio Kasakura
暁夫 笠倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP20374189A priority Critical patent/JPH0368946A/en
Publication of JPH0368946A publication Critical patent/JPH0368946A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the damping-waterless planographic printing plate which has excellent plate wear and image reproducibility and can be developed with an aq. developing soln. by incorporating a specific high-polymer compd. into a photosensitive layer. CONSTITUTION:The high-polymer compd. having the polymer unit expressed by formula I is incorporated into the photosensitive layer of the damping- waterless planographic printing plate formed by successively laminating the photosensitive layer contg. a quinone diazide compd. and an ink repulsing layer on a substrate, such as aluminum plate. In the formula, R<1> denotes a hydrogen atom or alkyl group which may have 1 to 10C substituent. X denotes a hydroxyl group, amino group or carboxyl group; n denotes 1 to 5 integer. X may be the same or different group when n is >=2. The content of the high-polymer compd. expressed by formula I is preferably 50 to 85wt.%.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、湿し水不要の感光性平版印刷版に関するもの
であり、更に詳しくは耐刷力に優れ、画像再現性が良好
であり、しかも水系現像液で現像することができる平版
印刷版が得られる湿し水不要の感光性平版印刷版に関す
る。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, and more specifically, has excellent printing durability, good image reproducibility, Moreover, the present invention relates to a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and can be developed with an aqueous developer.

[発明の背景] 平版印刷版を用いて印刷する際、通常、その使用時に湿
し水を用いて印刷されるが、湿し水不要の感光性平版印
刷版Cおいては、基板上に、感光層及び、インキ反発層
としてシリコーンゴム又は含フツ素化合物の層を順次設
けたもので、これより得られた平版印刷版は、印刷時、
湿し水を用いないで印刷が行われる。
[Background of the Invention] When printing using a lithographic printing plate, printing is usually performed using dampening water during use, but in the photosensitive lithographic printing plate C that does not require dampening water, on the substrate, A layer of silicone rubber or a fluorine-containing compound is sequentially provided as a photosensitive layer and an ink repellent layer, and the resulting lithographic printing plate is
Printing is performed without using dampening water.

最近、こような感光性平版印刷版は、種々開発され、例
えば、ポジ型感光性平版印刷版としては、特公昭54−
26923号公報等が、またネガ型感光性平版印刷版と
しては、特開昭55−59466号及び特開昭56−8
0046号等の各公報が実用上すぐれた性能を有するも
のとして知られており、特に特開昭56−80046号
等公報には、基板上に、ナフトキノン−1,2−ジアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノールノボラック
樹脂との反応物を多官能イソシアネートで架橋したもの
を含む感光層及び、インキ反撥層としてシリコーンゴム
層を順次設けた湿し水不要の感光性平版印刷版が開示さ
れている。
Recently, various kinds of such photosensitive planographic printing plates have been developed. For example, as a positive photosensitive planographic printing plate, the
26923, etc., and as negative photosensitive lithographic printing plates, JP-A-55-59466 and JP-A-56-8
Publications such as No. 0046 are known to have excellent practical performance, and in particular, Japanese Patent Application Laid-open No. 56-80046 discloses naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid on a substrate. A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water is disclosed, which has a photosensitive layer containing a reaction product of chloride and a phenol novolak resin crosslinked with a polyfunctional isocyanate, and a silicone rubber layer as an ink repellent layer.

しかしながら、これらの感光性平版印刷版は、感光層が
比較的脆く硬いため、印刷時、版面に加わる応力により
損傷し易く、印刷枚数が増えるにしたがい非画線部のシ
リコーンゴム層下の感光層に損傷が起こり、これがシリ
コーンゴム層にまで拡大し、画像の再現性が低下する等
の問題が生じる。その結果、耐刷力不足として現れる。
However, these photosensitive lithographic printing plates have a relatively brittle and hard photosensitive layer, so they are easily damaged by the stress applied to the plate surface during printing, and as the number of sheets printed increases, the photosensitive layer under the silicone rubber layer in the non-image area Damage occurs to the silicone rubber layer, and this damage spreads to the silicone rubber layer, causing problems such as reduced image reproducibility. As a result, it appears as insufficient printing durability.

また特開昭63−213848号公報には、基板上にキ
ノンジアジド化合物を含有する感光層及びインキ反撥層
を順次積層してなる湿し水不要の感光性平版印刷版にお
いて、前記の感光層にアクリル酸誘導体共重合体を含有
させたものが記載され、この感光性平版印刷版は、優れ
た耐剛力を有することが示されているが、アクリル酸誘
導体共重合体は、感光層中に50wt%以上のアクリル
酸誘導体共重合体を含有させると、画像再現性やシリコ
ーンゴムとの接着性を損なうという問題があり、また5
0重量%以下では耐刷力が不十分となり今後の改良余地
がある。
Furthermore, JP-A No. 63-213848 describes a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is constructed by sequentially laminating a photosensitive layer containing a quinonediazide compound and an ink repellent layer on a substrate. A photosensitive lithographic printing plate containing an acid derivative copolymer has been described, and it has been shown that this photosensitive lithographic printing plate has excellent stiffness resistance. When the above acrylic acid derivative copolymers are contained, there is a problem that image reproducibility and adhesion with silicone rubber are impaired.
If it is less than 0% by weight, the printing durability will be insufficient and there is room for future improvement.

更に、本発明に用いられる現像液としては、好ましくは
水を主成分とする現像液が用いられる。
Further, as the developer used in the present invention, preferably a developer containing water as a main component is used.

この水を主成分とする現像液は、従来キノンジアジド化
合物を含有する感光層とインキ反撥層を順次積層してな
る湿し不要の感光性平版印刷版用の現像液として用いら
れた有機溶剤を主成分とする現像液と比較して安全性や
毒性の点で有利であることが知られているが、これまで
水を主成分とする現像液で良好に現像することができる
キノンジアジド化合物を含有する感光層をを含む湿し不
要の感光性平版印刷版は知られていなかった。
This water-based developer is an organic solvent-based developer that has conventionally been used as a developer for photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening and are made by sequentially laminating a photosensitive layer containing a quinone diazide compound and an ink repellent layer. Although it is known to be advantageous in terms of safety and toxicity compared to developing solutions containing quinonediazide compounds, it has been known that quinonediazide compounds can be developed well with developing solutions whose main component is water. No dampening-required photosensitive lithographic printing plates containing a photosensitive layer were known.

そこで、本発明者等は、前記の問題点をについて種々研
究を重ねた結果、感光層に加える高分子化合物を選択す
ることにより、柔軟性を有し、かつ可撓性を向上させた
感光層が得られ、これより得られた平版印刷版は、耐剛
力と画像再現性が優れ、かつ水系現像液を用いて現像で
きることを見出し、これに基づいて本発明は完成したも
のである。
Therefore, as a result of various studies regarding the above-mentioned problems, the present inventors have developed a photosensitive layer that has flexibility and improved flexibility by selecting a polymer compound to be added to the photosensitive layer. It was discovered that the resulting lithographic printing plate had excellent rigidity and image reproducibility, and could be developed using an aqueous developer, and the present invention was completed based on this finding.

[発明の目的] しがたって、本発明の目的は、耐刷力に優れ、画像再現
性が良好で、しかも水系現像液で現像することができる
平版印刷版が得られる湿し水不要の感光性平版印刷版を
提供するものである。
[Object of the Invention] Therefore, the object of the present invention is to provide a photosensitive material that does not require dampening water and can provide a lithographic printing plate that has excellent printing durability, good image reproducibility, and can be developed with an aqueous developer. It provides a lithographic printing plate.

[発明の構成] 前記の本発明の目的は、基板上にキノンジアジド化合物
を含有する感光層及びインキ反撥層を順次積層してなる
湿し水不要の感光性平版印刷版において、前記感光層が
下記の一般式で示される重合単位を有する高分子化合物
を含有することを特徴とする湿し水不要の感光性平版印
刷版によって達成された。
[Structure of the Invention] The object of the present invention is to provide a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is formed by sequentially laminating a photosensitive layer containing a quinonediazide compound and an ink repellent layer on a substrate, wherein the photosensitive layer is as follows: This was achieved by a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized by containing a polymer compound having a polymerized unit represented by the general formula.

一般式 [式中、R′は水素原子又は炭素数1〜10の置換基を
有していてもよいアルキル基を表す。Xは水酸基、アミ
ノ基又はカルボキシル基を表し、nは1〜5の整数を表
しす。またXは、nが2以上のとき、同じであっても異
なっていてもよい。]以下に、本発明の構成について、
更に具体的に説明する。
General formula [wherein R' represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. X represents a hydroxyl group, an amino group or a carboxyl group, and n represents an integer of 1 to 5. Moreover, when n is 2 or more, X may be the same or different. ] Below, regarding the configuration of the present invention,
This will be explained more specifically.

本発明の特徴とするところは、前記感光層に加えられる
高分子化合物中に、前記の一般式で表される重合単位を
有することにある。
A feature of the present invention is that the polymer compound added to the photosensitive layer contains a polymerized unit represented by the above general formula.

この式において、R1の表される炭素数1〜10の置換
基を有していてもよいアルキル基としては、メチル基、
エチル基、ブチル基、アミル基、オクチル基、デシル基
等が挙げられ、好ましくは、メチル基である。
In this formula, the optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R1 includes a methyl group,
Examples include ethyl group, butyl group, amyl group, octyl group, decyl group, etc., and preferably methyl group.

以下に、本発明に用いられる一般式で表される重合単位
を例示する。
Examples of polymer units represented by the general formula used in the present invention are shown below.

1) 2) 9) 10) 3) 4) 11) 5) 6) 12) 13) 7) 8) 14) 15) 16) これらの−紋穴[I]で表される重合単位としては、X
が水酸基のものが好ましく、前記重合単位の例示の11
)あるいは14)が最も好ましい。
1) 2) 9) 10) 3) 4) 11) 5) 6) 12) 13) 7) 8) 14) 15) 16) The polymerized units represented by these - pattern holes [I] are
is preferably a hydroxyl group;
) or 14) is most preferred.

上記の一般式で示される重合単位と組み合せて用いるこ
とができる単量体単位としては、例えばエチレン、プロ
ピレン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエ
チレン系不飽和オレフィン類、 例えばスチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、p−クロロスチレン等のスチレン類、 例えばアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類、 例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸等の不
飽和脂肪族ジカルボン酸類、 例えばマレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレ
イン酸ジー2−エチルヘキシル、フマル酸ブチル、フマ
ル酸ジー2−エチルヘキシル等の不飽和ジカルボン酸の
ジエステル類、 例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデ
シル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニ
ル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル
、エタクリル酸エチル等のα−メチレン脂肪族モノカル
ボン酸エステル類、 例えばアクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニ
トリル類、 例えばアクリルアミド等のアミド類、 例えばアクリルアニリド、p−クロロアクリルアニリド
、m−ニトロアクリルアニリド、m−メトキシアクリル
アニリド等のアニリド類、例えばメチルビニルエーテル
、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、
β−クロロエチルビニルエーテル等のビニルエーテル類
、塩化ビニル、ビニリデンクロライド、ビニリデンシア
ナイド、 例えば1−メチル−1−メトキシエチレン、1.1−ジ
メトキシエチレン、1.2−ジメトキシエチレン、1.
1−ジメトキシカルボニルエチレン、1−メチル−1−
二トロエチレン等のエチレン誘導体類、 例えばN−ビニルビロール、N−ビニルカルバゾール、
N−ビニルインドール、N−ビニルピロリドン、N−ビ
ニルピロリドン等のN−ビニル化合物、等のビニル系単
量体、 ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタ
クリレート等のアルコール性水酸基を有する単量体、更
に特開昭63−213848号に記載された水酸基を有
するアクリルモノマー等がある。これらの水酸基を含有
する単量体は、シリコーンゴム層との接着性向上のため
に好ましく用いられる。これらの、ビニル系単量体は不
飽和二重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在す
る。
Examples of monomer units that can be used in combination with the polymerized unit represented by the above general formula include ethylenically unsaturated olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene, such as styrene, α-methylstyrene, Styrenes such as p-methylstyrene and p-chlorostyrene, acrylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid, unsaturated aliphatic dicarboxylic acids such as itaconic acid, maleic acid, and maleic anhydride, such as diethyl maleate, maleic acid, etc. Diesters of unsaturated dicarboxylic acids such as dibutyl acid, di-2-ethylhexyl maleate, butyl fumarate, di-2-ethylhexyl fumarate, such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, acrylic α-methylene aliphatic monocarboxylic acid esters such as dodecyl acid, 2-chloroethyl acrylate, phenyl acrylate, methyl α-chloroacrylate, methyl methacrylate, and ethyl ethacrylate; Nitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; For example, amides such as acrylamide; anilides such as acrylanilide, p-chloroacrylanilide, m-nitroacrylanilide, m-methoxyacrylanilide; methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether,
Vinyl ethers such as β-chloroethyl vinyl ether, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinylidene cyanide, such as 1-methyl-1-methoxyethylene, 1.1-dimethoxyethylene, 1.2-dimethoxyethylene, 1.
1-dimethoxycarbonylethylene, 1-methyl-1-
Ethylene derivatives such as ditroethylene, such as N-vinylpyrol, N-vinylcarbazole,
Vinyl monomers such as N-vinyl compounds such as N-vinylindole, N-vinylpyrrolidone, and N-vinylpyrrolidone; monomers having alcoholic hydroxyl groups such as hydroxyethyl acrylate and hydroxyethyl methacrylate; There are acrylic monomers having a hydroxyl group described in No. 63-213848. These hydroxyl group-containing monomers are preferably used to improve adhesion to the silicone rubber layer. These vinyl monomers exist in polymer compounds with a structure in which unsaturated double bonds are cleaved.

本発明に用いられる一般式で示される重合単位は、高分
子化合物中に10〜90mo1%を含有していることが
好ましく、更に好ましくは、20〜60mo1%ヲ含有
する。これにより本発明の効果が顕著に現れる。
The polymerized unit represented by the general formula used in the present invention preferably contains 10 to 90 mol%, more preferably 20 to 60 mol%, in the polymer compound. As a result, the effects of the present invention become apparent.

本発明において、感光層中の上記−紋穴[I]で示され
る重合単位を有する高分子化合物の含有量は、好ましく
は20〜95重量%、更には50〜85重量%である。
In the present invention, the content of the polymer compound having the polymerized unit represented by the above-mentioned pattern [I] in the photosensitive layer is preferably 20 to 95% by weight, more preferably 50 to 85% by weight.

次い、本発明に用いられる感光層は、O−キノンジアジ
ド化合物を含有する。0−キノンジアジド化合物は、感
光剤として機能し得るものであれば、任意のものを使用
できる。
Next, the photosensitive layer used in the present invention contains an O-quinonediazide compound. Any 0-quinonediazide compound can be used as long as it can function as a photosensitizer.

具体的には例えば、1.2−ベンゾキノンジアジド−4
−スルホニルクロライド、1,2−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホニルクロライド、1.2−ナフトキノン
ジアジド−5−スルホニルクロライド、1.2−ナフト
キノンジアジド−6−スルホニルクロライドと水酸基及
び/またはアミノ基含有化合物を縮合させた化合物が好
適に用いられる。
Specifically, for example, 1,2-benzoquinonediazide-4
- Condensation of sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide-4-sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide-5-sulfonyl chloride, 1,2-naphthoquinonediazide-6-sulfonyl chloride and a compound containing a hydroxyl group and/or an amino group. Compounds that have been used are preferably used.

水酸基含有化合物としては、例えばジヒドロキシベンゾ
フェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、トリヒド
ロキシベンゾフェノン、ジヒドロキシアントラキノン、
ビスフェノールA1フエノールノボラツク樹脂、レゾル
シンベンズアルデヒド縮合樹脂、ピロガロールアセトン
縮合樹脂等がある。また、アミノ基含有化合物としては
、例えばアニリン、p−アよノジフェニルアミン、p−
アミノベンゾフェノン、4,4°−ジアミノジフェニル
アミン、4.4’ −ジアミノベンゾフェノン等がある
。コレラノ中で好ましいキノンジアジド化合物は、ポリ
ヒドロキシベンゾフェノンとベンゾキノン−1,2−ジ
アジド−4または5−スルホン酸とのエステルである。
Examples of hydroxyl group-containing compounds include dihydroxybenzophenone, tetrahydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone, dihydroxyanthraquinone,
Examples include bisphenol A1 phenol novolac resin, resorcin benzaldehyde condensation resin, and pyrogallol acetone condensation resin. In addition, examples of amino group-containing compounds include aniline, p-aryonodiphenylamine, p-
Examples include aminobenzophenone, 4,4°-diaminodiphenylamine, 4,4'-diaminobenzophenone, and the like. Preferred quinonediazide compounds among cholerano are esters of polyhydroxybenzophenone and benzoquinone-1,2-diazide-4 or 5-sulfonic acid.

ここに記載したことを含めてキノンジアジド化合物に関
しては、更にジェイ・コザー(J、にosar)著「ラ
イト・センシティブ・システムJ (LightSen
sltIve 5ystea+)  にューヨーク市、
ジョンワイリーアンドサンズ社、1965年発行)、及
び米松、乾共著「感光性高分子」 (講談社、1977
年発行)に記載されたところに従うことができる。
For further information on quinonediazide compounds, including those described here, please refer to "Light Sensitive Systems J" by J.
sltIve 5ystea+) in New York City,
John Wiley and Sons, Inc., 1965) and Yonematsu and Inui, “Photosensitive Polymers” (Kodansha, 1977)
You can follow what is written in

本発明におけるキノンジアジド化合物の感光層中の含有
量は、好ましくは5量%〜70重量%、更に好ましくは
10量%〜40重量%である。
The content of the quinonediazide compound in the photosensitive layer in the present invention is preferably 5% to 70% by weight, more preferably 10% to 40% by weight.

また本発明に適用できる感光層としては、上記のキノン
ジアジド化合物及び本発明に用いられる高分子化合物の
混合物を多官能化合物で架橋させるか、あるいは単官能
化合物と結合させるなどして変性した構造を有するもの
も含まれる。
Furthermore, the photosensitive layer applicable to the present invention has a modified structure by crosslinking the mixture of the above-mentioned quinonediazide compound and the polymer compound used in the present invention with a polyfunctional compound or bonding it with a monofunctional compound. Also includes things.

上記の架橋構造を導入させるために用いられる化合物と
しては、多官能イソシアネート類、例えばパラフェニレ
ンジイソシアネート、4.4′ジフエニルメタンジイソ
シアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート、もしくはこれらの付加物等、あ
るいは多官能エポキシ化合物、例えばポリエチレングリ
コールジグリシジルエーテル類、ポリプロピレンジグリ
シジルエーテル類、ビスフェノールAジグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル
等がある。
Examples of the compound used to introduce the above-mentioned crosslinked structure include polyfunctional isocyanates such as para-phenylene diisocyanate, 4,4' diphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, or adducts thereof; Functional epoxy compounds include, for example, polyethylene glycol diglycidyl ethers, polypropylene diglycidyl ethers, bisphenol A diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, and the like.

これらの架橋反応は、加熱することにより進行するが、
この加熱範囲は、キノンジアジド化合物の熱分解を急速
に進行させないためには、通常150℃以下で行うこと
が好ましく、一般には触媒等が使用される。また変性さ
せる方法としては、該感光性化合物の活性な基を、例え
ばエステル化、アミド化、ウレタン化すること等が挙げ
られる。該感光性化合物の活性な基と反応させる化合物
としては、低分子であっても比較的高分子であってもよ
いし、該感光性化合物にモノマーをグラフト重合させる
等の方法でもよい。
These crosslinking reactions proceed by heating,
In order to prevent rapid thermal decomposition of the quinonediazide compound, the heating range is preferably 150° C. or lower, and a catalyst or the like is generally used. Examples of the modification method include esterification, amidation, and urethanization of the active group of the photosensitive compound. The compound reacted with the active group of the photosensitive compound may be a low-molecular compound or a relatively high-molecular compound, and a method such as graft polymerization of a monomer to the photosensitive compound may be used.

また本発明に用いられる感光層には、必要に応じて、上
記以外の高分子化合物、例えばノボラック樹脂(フェノ
ール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアル
デヒド樹脂、p−tert−ブチルフェノール−ホルム
アルデヒド樹脂等)、p−ヒドロキシスチレン樹脂、特
開昭63−213848号公報に記載されたアクリル酸
誘導体共重合体等の高分子化合物、染料、シランカップ
リング剤、可塑剤等の添加剤を加えることができる。
Further, the photosensitive layer used in the present invention may optionally contain polymeric compounds other than those mentioned above, such as novolak resin (phenol-formaldehyde resin, cresol-formaldehyde resin, p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, etc.), p-tert-butylphenol-formaldehyde resin, etc. Additives such as a hydroxystyrene resin, a polymer compound such as an acrylic acid derivative copolymer described in JP-A-63-213848, a dye, a silane coupling agent, and a plasticizer can be added.

これらの高分子化合物の中では、ノボラック樹脂を30
重量%〜5重量%添加することが好ましい。
Among these polymer compounds, novolak resin is
It is preferable to add it in an amount of 5% by weight.

本発明に用いられるインキ反撥層としては、主としてシ
リコーンゴム層が用いられるが、シリコーンゴムとして
は、次のような一般式[I]で示される繰り返し単位を
有する分子量数千〜数十万の主鎖中または主鎖の末端に
水酸基を有する線状有機ポリジオルガノシクロキサンを
主成分とするものが好ましい。
As the ink repellent layer used in the present invention, a silicone rubber layer is mainly used. As the silicone rubber, silicone rubber has a molecular weight of several thousand to several hundred thousand and has a repeating unit represented by the following general formula [I]. Preferably, the main component is a linear organic polydiorganocycloxane having a hydroxyl group in the chain or at the end of the main chain.

一般式[13 %式% ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシル基、ビニル
基、アリール基、シラノール基(OH基) であり%R
の60%以上がメチル基であるものが好ましい。なお上
記シラノール基(OH基)は主鎖中または主鎖の末端の
どちらにあってもよいが、末端にあることが好ましい。
General formula [13% formula% where n is an integer of 2 or more, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, an alkoxyl group, a vinyl group, an aryl group, a silanol group (OH group), and % R
It is preferable that 60% or more of the methyl groups are methyl groups. The silanol group (OH group) may be located either in the main chain or at the end of the main chain, but is preferably located at the end.

本発明に用いられるシランカップリング剤(またはシリ
コーン架橋剤)としては、 R,5iX4−n (式中、nは1〜3の整数であり、Rはアルキル、アリ
ール、アルケニルまたはこれらの組合された一価の基を
表し、またこれらの基はハロゲン、アミン、ヒドロキシ
、アルコキシ、アリーロキシ、チオール等の官能基を有
していてもよい。
The silane coupling agent (or silicone crosslinking agent) used in the present invention is R,5iX4-n (wherein, n is an integer of 1 to 3, and R is alkyl, aryl, alkenyl, or a combination thereof. It represents a monovalent group, and these groups may have a functional group such as halogen, amine, hydroxy, alkoxy, aryloxy, thiol, etc.

等の置換基を表す。ここでR2、R3は上記のRと同じ
ものを表し、R2、R3はそれぞれ同じであっても異っ
ていてもよい。またActiアセチル基を表す。)で示
されるシラン化合物である。
represents a substituent such as Here, R2 and R3 represent the same thing as R above, and R2 and R3 may be the same or different. It also represents an Acti acetyl group. ) is a silane compound represented by

本発明において有用なシリコーンゴムは、−e式[1F
で示されるシリコーン・ベースポリマーと、前記シリコ
ーン架橋剤との縮合反応によって得られるものである。
The silicone rubber useful in the present invention has the formula -e [1F
It is obtained by a condensation reaction between the silicone base polymer represented by the formula and the silicone crosslinking agent.

本発明に用いられるシランカップリング剤の具体例とし
ては、 HN((CH2)3Si(OMe)s]z 、ビニルト
リエトキシシラン、Cj (にH2) sSi (OM
e) 3、CHsSl (OAC) 3、R5(ctr
2) sSi (OMe) s、ビニルトリス(メチル
エチルケトオキシム)シラン 等が挙げられる。
Specific examples of the silane coupling agent used in the present invention include HN((CH2)3Si(OMe)s]z, vinyltriethoxysilane, Cj(inH2)sSi(OMe)
e) 3, CHsSl (OAC) 3, R5 (ctr
2) Examples include sSi (OMe) s, vinyltris(methylethylketoxime)silane, and the like.

前記のシリコーンゴムは市販品としても入手でき、例え
ば東芝シリコーン社製YE−3085等がある。またそ
の他の有用なシリコーンゴムは、前述の如きベース・ポ
リマーと、次のような一般式[II ]で示される繰り
返し単位を有するシリコーンオイルとの反応、あるいは
Rの3%程度がビニル基であるシリコーンのベース・ポ
リマーとの付加反応、あるいは該シリコーンオイル同士
の反応によっても得ることができる。
The silicone rubber described above is also available as a commercial product, such as YE-3085 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd. Other useful silicone rubbers can be produced by reacting the above-mentioned base polymer with a silicone oil having repeating units represented by the following general formula [II], or by reacting a silicone oil in which about 3% of R is a vinyl group. It can also be obtained by addition reaction of silicone with a base polymer or reaction of the silicone oils with each other.

(式中、Rは一般式[I]で示されるポリマーの置換基
であるRと同義であり、mは2以上の整数、nはOまた
は1以上の整数である。)このような架橋反応によって
シリコーンゴムを得るためには、架橋反応を触媒を用い
て行う。この触媒としては、錫、亜鉛、コバルト、鉛、
カルシウム、マンガン、等の金属の有機カルボン酸塩、
例えばラウリル酸ジブチルスズ、スズ(Iりオクトエー
ト、ナフテン酸コバルト等、あるいは塩化金酸等が用い
られる。
(In the formula, R has the same meaning as R, which is a substituent of the polymer represented by general formula [I], m is an integer of 2 or more, and n is O or an integer of 1 or more.) Such a crosslinking reaction To obtain silicone rubber, the crosslinking reaction is carried out using a catalyst. This catalyst includes tin, zinc, cobalt, lead,
Organic carboxylates of metals such as calcium, manganese, etc.
For example, dibutyltin laurate, tin (I di-octoate, cobalt naphthenate, etc.), chloroauric acid, etc. are used.

またシリコーンゴムの強度を向上させ、印刷作業中に生
じる摩擦力に耐えるシリコーンゴムを得るためには、充
填剤(フィラー)を混合することもできる。予めフィラ
ーの混合されたシリコーンゴムは、シリコーンゴムスト
ック、あるいはシリコーンゴムディスバージョンとして
市販されており、本発明のようにコーティングによりシ
リコーンゴム膜を得ることが好ましい場合には、RTV
あるいはLTVシリコーンゴムのディスバージョンが好
んで用いられる。このような例としては、トーレシリコ
ーン社製53110ff 23.5RX−257,5H
237等のベーパーコーティング用シリコーンゴムディ
スバージョンがある。
Additionally, fillers can be mixed in to improve the strength of the silicone rubber and to obtain a silicone rubber that can withstand the frictional forces generated during printing operations. Silicone rubber mixed with filler in advance is commercially available as silicone rubber stock or silicone rubber dispersion, and when it is preferable to obtain a silicone rubber film by coating as in the present invention, RTV
Alternatively, dispersion of LTV silicone rubber is preferably used. An example of this is 53110ff 23.5RX-257,5H manufactured by Toray Silicone.
There are silicone rubber dispersions for vapor coating such as 237.

本発明においては、縮合架橋タイプのシリコーンゴムを
用いることが好ましい。
In the present invention, it is preferable to use condensation and crosslinking type silicone rubber.

シリコーンゴム層には、更に接着性を向上させるために
アミノ基を有するシランカップリング剤を含有している
ことが好ましい。
The silicone rubber layer preferably contains a silane coupling agent having an amino group in order to further improve adhesiveness.

好ましいシランカップリング剤としては、例えば次のよ
うなものがある。
Examples of preferable silane coupling agents include the following.

(a) H2NCHzCHJH(CH2) sS i 
(OCHs) 5(b) H2NCE2CI2NH(C
H2) 3si (OCH3) 2 (CL)(c))
12N(CHz)ssi(OEt)s本発明に用いられ
るシリコーンゴム層中には、更に光増感剤を少量含有さ
せることができる。
(a) H2NCHzCHJH(CH2) sS i
(OCHs) 5(b) H2NCE2CI2NH(C
H2) 3si (OCH3) 2 (CL) (c))
12N(CHz)ssi(OEt)sThe silicone rubber layer used in the present invention may further contain a small amount of photosensitizer.

本発明に用いられるシリコーンゴム層は、シリコーンゴ
ムを適当な溶媒に溶解した後、感光層上に塗布、乾燥硬
化する。
The silicone rubber layer used in the present invention is prepared by dissolving silicone rubber in a suitable solvent, applying the solution onto the photosensitive layer, and drying and curing.

本発明の版材料に用いられる支持体としては、通常の平
版印刷機にセットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えるものであることが好ましく、例えばアルよニウ
ム、亜鉛、銅、鋼等の金属板、及びクロム、亜鉛、銅、
ニッケル、アルミニウム及び鉄等がメツキまたは蒸着さ
れた金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、
樹脂コート紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙等
が挙げられる。
The support used in the plate material of the present invention is preferably one that is flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and that can withstand the load applied during printing, such as metals such as aluminum, zinc, copper, and steel. plate, and chromium, zinc, copper,
Metal plates, paper, plastic films, and glass plates plated or vapor-deposited with nickel, aluminum, iron, etc.
Examples include resin-coated paper and paper covered with metal foil such as aluminum.

これらのうち好ましいものはアルミニウム板である。Among these, aluminum plates are preferred.

上記接着性向上のた、めの支持体自体に対する処理は特
に限定されるものではなく、各種粗面化処理等が含まれ
る。
The treatment for the support itself to improve the adhesion is not particularly limited, and includes various surface roughening treatments.

また支持体に感光層を被覆する前に、感光層と支持体と
の十分な接着性を得るために、支持体にプライマー層を
設けてもよく、該プライマー層には例えポリエステル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、ボリア主ド樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重合体、酢酸
ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリルブタジ
ェン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。
In addition, before coating the photosensitive layer on the support, a primer layer may be provided on the support in order to obtain sufficient adhesion between the photosensitive layer and the support. -vinyl acetate copolymer, acrylic resin,
Examples include vinyl chloride resin, boria-based resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, acrylate copolymer, vinyl acetate copolymer, phenoxy resin, polyurethane resin, polycarbonate resin, polyacrylonitrile butadiene, polyvinyl acetate, etc. .

また上記プライマー層を構成するアンカー剤としては、
例えばシランカップリング剤を用いることができ、また
有機チタネート等も有効である。
In addition, as the anchor agent constituting the primer layer,
For example, a silane coupling agent can be used, and organic titanates and the like are also effective.

本発明の版材を構成する各層の厚さは、以下の通りであ
る。即ち支持体は50〜400μ論、好ましくは100
〜300μm、感光層は0.05〜10μ■、好ましく
は0.5〜5μm1シリコ一ンゴム層は0.1〜20μ
重、好ましくは0.5〜4μmである。
The thickness of each layer constituting the plate material of the present invention is as follows. That is, the support has a thickness of 50 to 400 μm, preferably 100 μm.
~300μm, photosensitive layer 0.05~10μm, preferably 0.5~5μm, silicone rubber layer 0.1~20μm
The thickness is preferably 0.5 to 4 μm.

本発明において、インキ反撥層の上面には必要に応じて
保護層を有していてもよい。
In the present invention, a protective layer may be provided on the upper surface of the ink repellent layer, if necessary.

本発明の湿し水不要の版材は、例えば次のようにして製
造される。
The plate material of the present invention that does not require dampening water is manufactured, for example, as follows.

支持体上に、リバースロールコータ、エアーナイフコー
タ、メーヤパーコータ等の通常のコータあるいはホエラ
ーのような回転塗布装置を用い、感光層を構成すべき組
成物溶液を塗布乾燥する。
A composition solution to form a photosensitive layer is applied onto a support using a conventional coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a Mayer percoater, or a rotary coating device such as a Whaler, and then dried.

なお必要に応じて支持体と感光層の間に該感光層と同様
の方法でプライマー層を設けてた後、上記感光層上Cイ
ンキ反撥層を形成し得る溶液を同様な方法で塗布し、通
常100〜120℃の温度で数分間熱処理して、十分に
硬化せしめてインキ反撥層を形成する。必要に応じて前
記インキ反撥層上にラミネーターを用いて保護フィルム
を設けることができる。
If necessary, a primer layer is provided between the support and the photosensitive layer in the same manner as for the photosensitive layer, and then a solution capable of forming a C ink repellent layer is applied on the photosensitive layer in the same manner, It is usually heat treated at a temperature of 100 to 120° C. for several minutes to fully cure and form an ink repellent layer. If necessary, a protective film can be provided on the ink repellent layer using a laminator.

次に本発明の湿し水不要の版材料を用、いて湿し水不要
の印刷版を製造する方法を説明する。
Next, a method for manufacturing a printing plate that does not require dampening water using the plate material that does not require dampening water of the present invention will be explained.

原稿であるネガフィルムを版材表面に真空密着させ、露
光する。この露光用の光源は、紫外線を豊富に発生する
水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハ
ライドランプ、蛍光灯等が用いられる。
The original negative film is vacuum-adhered to the plate surface and exposed. As a light source for this exposure, a mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, a fluorescent lamp, etc., which generate abundant ultraviolet light, are used.

次いでネガフィルムを剥がし、現像液を用いて現像する
。現像液としては、水系現像液が好ましく用いられ、例
えば特開昭61−275759号公報に記載されている
もので、水を30重量%以上、有機溶剤、界面活性剤を
含む現像液を挙げることができる。更に好ましくはアル
カリ剤を含有する。
Next, the negative film is peeled off and developed using a developer. As the developer, an aqueous developer is preferably used, such as one described in JP-A No. 61-275759, which contains 30% by weight or more of water, an organic solvent, and a surfactant. I can do it. More preferably, it contains an alkaline agent.

水を主成分とする現像液社含有する有機溶剤としては、
例えば脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、′アイ
ソパーE、H,G” (エッソ化学社製、脂肪族炭化水
素類の商品名)或はガソリン、灯油等)、芳香族炭化水
素類(トルエン、キシレン等)、或はハロゲン化炭化水
素類(トリクレン等)k:下記の極性溶媒を添加したも
のが好適である。
Organic solvents containing water-based developers include:
For example, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, 'Isoper E, H, G' (trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.), gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, (xylene, etc.) or halogenated hydrocarbons (triclene, etc.) k: Those to which the following polar solvents are added are suitable.

アルコール類(メタノール、エタノール、3−メチル−
3−メトキシブタノール等)、エーテル類(メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチル
カルピトール、エチルカルピトール、ブチルカルピトー
ル、ジオキサン等)、ケトン類(アセトン、メチルエチ
ルケトン、4−メチル−1,3−ジオキソラン−2−オ
ン等)、エステル類(酢酸エチル、メチルセロソルブア
セテート、セロソルブアセテート、カルピトールアセテ
ート等) 本発明の現像液に添加される界面活性剤としては、アニ
オン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活
性剤及び両性イオン界面活性剤が用いられ、具体的には
以下のものが挙げられる。
Alcohols (methanol, ethanol, 3-methyl-
3-methoxybutanol, etc.), ethers (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carpitol, ethyl carpitol, butyl carpitol, dioxane, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, 4-methyl-1,3-dioxolane) -2-one, etc.), esters (ethyl acetate, methyl cellosolve acetate, cellosolve acetate, carpitol acetate, etc.) The surfactants added to the developer of the present invention include anionic surfactants, nonionic surfactants, Cationic surfactants and zwitterionic surfactants are used, and specific examples include the following.

アニオン界面活性剤としては、 (1)高級アルコール硫酸エステル類、(例えばラウリ
ルアルコールサルフェートのナトリウム塩、オクチルア
ルコールサルフェートのアンモニウム塩、ラウリルアル
コールサルフェートのアンモニウム塩、第二ナトリウム
アルキルサルフェート等) (2)脂肪族アルコールリン酸エステル塩類(例えば、
セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩等) (3)アルキルアリールスルホン酸塩類(例えば、ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩、イソプロピルナ
フタレンスルホン酸ナトリウム塩、ジナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム塩、メタニトロベンゼンスールホン酸ナ
トリウム塩等)(4)アルキルアくドスルホン酸塩類 (5)二塩基脂肪族エステルのスルホン酸塩類(例えば
ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリ
ウムスルコハク酸ジヘキシルエステル等) (6)アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデ
ヒド縮金物(例えば、ジブチルナフタレンスルホン酸ナ
トリウムのホルムアルデヒド縮金物等)が挙げられる。
Examples of anionic surfactants include (1) higher alcohol sulfate esters (e.g. sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sulfur sodium alkyl sulfate, etc.) (2) Fat Group alcohol phosphate ester salts (e.g.
(3) Alkylaryl sulfonic acid salts (e.g., dodecylbenzenesulfonic acid sodium salt, isopropylnaphthalenesulfonic acid sodium salt, dinaphthalenesulfonic acid sodium salt, metanitrobenzenesulfonic acid sodium salt, etc.) ) (4) Alkyla acido sulfonates (5) Sulfonates of dibasic aliphatic esters (e.g. sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, etc.) (6) Formaldehyde condensates of alkylnaphthalene sulfonates ( For example, a formaldehyde condensate of sodium dibutylnaphthalene sulfonate, etc.) can be mentioned.

ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアル
キルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール
エーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、オキシエチ
レンオキシプロピレンブロックボリマー等が挙げられる
Examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkylphenol ether, polyoxyethylene fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, oxyethylene oxypropylene block polymer, etc. It will be done.

カチオン界面活性剤としては、アルキルアミン塩、第四
級アンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン
等が挙げられる。
Examples of the cationic surfactant include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamines, and the like.

両性イオン界面活性剤としては、アルキルベタイン等が
挙げられるが、これらの中でもアニオン界面活性剤が適
している。
Examples of amphoteric surfactants include alkyl betaines, and among these, anionic surfactants are suitable.

これらの界面活性剤は、単独でもまたは2種以上を組合
せて使用することができる。
These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる界面活性剤の使用量は、0.5重量
%〜60重量%、好ましくは1重量%〜50重量%が適
当である。
The appropriate amount of the surfactant used in the present invention is 0.5% to 60% by weight, preferably 1% to 50% by weight.

更に本発明において用いられる界面活性剤は、アルカリ
剤と共に用いることが好ましく、該アルカリ剤としては
、 (1)ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第二または
第三リン酸ナトリウムまたはアンモニウム塩、メタケイ
酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア等の無機ア
ルカリ剤、(2)モノ、ジまたはトリメチルアよン、モ
ノ、ジまたはトリメチルアよン、モノまたはジイソプロ
ピルアミン、n−ブチルアミン、モノ、ジまたはトリエ
タノールアミン、モノ、ジまたはトリイソプロパノール
アミン、エチレンイミン、エチレンジイミン等の有機ア
ミン化合物等が挙げられる。
Further, the surfactant used in the present invention is preferably used together with an alkaline agent, and the alkaline agents include (1) sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, or inorganic alkaline agents such as trisodium or ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium carbonate, ammonia, (2) mono-, di- or trimethylamine, mono-, di- or trimethylamine, mono- or diisopropylamine; Examples include organic amine compounds such as n-butylamine, mono-, di-, or triethanolamine, mono-, di-, or triisopropanolamine, ethyleneimine, and ethylenediimine.

またクリスタルバイオレット、アストラゾンレット等の
染料を現像液に加えて現像と同時に画像部の染色を行う
こともできる。
It is also possible to dye the image area simultaneously with development by adding a dye such as crystal violet or astrazonelet to the developer.

現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
でこすったり現像液を版面に注いだ後に現像ブラシでこ
する等の方法で行うことができる。
Development can be carried out, for example, by rubbing with a developing pad containing a developer as described above, or by pouring a developer onto the printing plate and then rubbing with a developing brush.

上記現像により、露光部のインキ反撥層が除去されて感
光層、プライマー層あるいは支持体が露出し、未露光部
はインキ反撥層が残っている印刷版が得られる。
By the above development, a printing plate is obtained in which the ink repellent layer in the exposed areas is removed and the photosensitive layer, primer layer or support is exposed, and the ink repellent layer remains in the unexposed areas.

このとき、該感光層が架橋されたり、変性されたりして
いない場合には、該感光層の5一部もしくは全部が除去
され、露出した支持体もしくはプライマー層の表面が受
容部となり、該感光層が架橋されたり変性されて現像液
に対して不溶化された感光層の場合には、感光層は実質
的にその厚みを減することなく残存し、その露出した感
光層表面がインキ受容部となる。本発明に用いられる感
光層としては、前者の現像で感光層が除去されるような
感光層に好ましく適用され、水系現像液で良好に現像さ
れる湿し水不要の感光性平版印刷版が得られる。
At this time, if the photosensitive layer is not crosslinked or modified, part or all of the photosensitive layer is removed, and the exposed surface of the support or primer layer becomes a receiving area, and the photosensitive layer is removed. In the case of a photosensitive layer that has been crosslinked or modified to be insolubilized in a developer, the photosensitive layer remains with substantially no reduction in its thickness, and the exposed surface of the photosensitive layer serves as an ink receiving area. Become. The photosensitive layer used in the present invention is preferably applied to a photosensitive layer in which the photosensitive layer is removed during development, and a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is well developed with an aqueous developer is obtained. It will be done.

[実施例] 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、こ
れらに限定されるものではない。
[Examples] The present invention will be described below with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 [アルミニウム板aの製造] 厚さ0.2mmのアルミニウム板を3%水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬して脱脂し、水洗した後、塩酸濃度2%
の水溶液中において、温度25℃で70A/dm’の条
件で10秒間電解エツチングを行い、1%水酸化ナトリ
ウム水溶液に温度50℃において10秒間浸漬し、水洗
後、35%硫酸水溶液中において温度30℃で5A/d
m’の条件で20秒間陽極酸化を行い、水洗し、更に温
度85℃の水に25秒間浸漬し、水洗、乾燥してアルミ
ニウム板aを得た。
Example 1 [Manufacture of aluminum plate a] An aluminum plate with a thickness of 0.2 mm was degreased by immersing it in a 3% aqueous sodium hydroxide solution, washed with water, and then soaked in hydrochloric acid with a concentration of 2%.
Electrolytic etching was carried out for 10 seconds in an aqueous solution of 70 A/dm' at a temperature of 25°C, immersed in a 1% sodium hydroxide aqueous solution at a temperature of 50°C for 10 seconds, and after washing with water, etched in a 35% sulfuric acid aqueous solution at a temperature of 30°C. 5A/d at °C
Anodic oxidation was performed for 20 seconds under the conditions of m', washed with water, further immersed in water at a temperature of 85° C. for 25 seconds, washed with water, and dried to obtain aluminum plate a.

アルミニウム板aに下記の組成の感光性組成物を塗布し
、100℃で2分間乾燥して厚さ0.5μmの感光層を
形成した。
A photosensitive composition having the composition shown below was applied to an aluminum plate a, and dried at 100° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 0.5 μm.

[感光性組成物] (a)2,3.4−トリヒドロキシベンゾフェノン1モ
ルとナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホン酸
3モルとのエステル   20部(b)N−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアよド、アクリロニトリル
、エチルアクリレート、メタクリル酸メチル共重合体(
組成比:3゜/3015/35 (−[−ル比〉)  
   70部(C)ビクトリアピュアブルーBOH(保
土ケ谷化学(株)製、染料)         1部(
d)フェノールとm −p−混合クレゾールとネル5ム
アルデヒド共重縮合樹脂(フェノールとクレゾールの組
成比40/60 (モル比))10部 (e)メチルセロソルブ      900部ついで、
上記の感光層上に下記のシリコーンゴム組成物を塗布し
、100℃で10分間加熱硬化して、厚さ1.5μ−の
シリコーンゴム層を有する湿し水不要の平版印刷版材料
を得た。
[Photosensitive composition] (a) 20 parts of ester of 1 mol of 2,3.4-trihydroxybenzophenone and 3 mol of naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid (b) N-(4-hydroxyphenyl ) Methacrylic acid, acrylonitrile, ethyl acrylate, methyl methacrylate copolymer (
Composition ratio: 3°/3015/35 (-[-r ratio>)
70 parts (C) Victoria Pure Blue BOH (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd., dye) 1 part (
d) 10 parts of phenol, m-p-mixed cresol and Nermaldehyde copolycondensation resin (composition ratio of phenol and cresol 40/60 (molar ratio)) (e) 900 parts of methyl cellosolve,
The following silicone rubber composition was coated on the above photosensitive layer and cured by heating at 100° C. for 10 minutes to obtain a lithographic printing plate material having a silicone rubber layer with a thickness of 1.5 μm and requiring no dampening water. .

[シリコーンゴム層組成物] (a)両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン
(分子量40,000)   100部(b)ビニルト
リス(メチルエチルケトキシム)シラン       
        8部(C)γ−アよノブロピルトリエ
トキシシラン0.1部 (d)ジブチル錫ジアセテート     0.2部(e
)アイソパーE(エッソ社製)  900部上記版材料
の上面にネガフィルムを真空密着させた後、光源として
メタルハライドランプを用いて露光した0次に下記の現
像液を用いて現像した。現像中に、版材料の表面を現像
パッドで擦ることにより、露光部分の感光層とシリコー
ンゴム層が容易に除去され、小点再現性、シャドウ部再
現性共に優れた印刷版が得られた。
[Silicone rubber layer composition] (a) 100 parts of dimethylpolysiloxane (molecular weight 40,000) having hydroxyl groups at both ends (b) Vinyl tris(methyl ethyl ketoxime) silane
8 parts (C) 0.1 part of γ-Ayonopropyltriethoxysilane (d) 0.2 part of dibutyltin diacetate (e
) Isopar E (manufactured by Esso) 900 parts After a negative film was vacuum-adhered to the upper surface of the above plate material, it was exposed to light using a metal halide lamp as a light source and developed using the following developer. During development, by rubbing the surface of the plate material with a developing pad, the photosensitive layer and silicone rubber layer in exposed areas were easily removed, and a printing plate with excellent dot reproducibility and shadow area reproducibility was obtained.

[現像液組成] (a)アイソパーH(エッソ社製)0.5部(b)3−
メチル−3−メトキシブタノール20部 (c)炭酸カリウム          0.5部(d
)ジエタノールアよン       0.5部(e)ペ
レックスNBL (花王社製、アニオン界面活性剤35
%水溶液)         20部(f)水    
        60部[比較例−1] 実施例1の感光性組成物中の(b)の代りに2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−エチルへキシルメタク
リレート共重合体(組成比=80/20(モル比))を
用いた以外は、実施例1と同様にして湿し水不要の平版
印刷版を得た。ついで現像液で現像を試みたが、印刷版
として十分な画質を有するものは得られなかった。
[Developer composition] (a) Isopar H (manufactured by Esso) 0.5 part (b) 3-
Methyl-3-methoxybutanol 20 parts (c) Potassium carbonate 0.5 part (d
) Diethanolamine 0.5 part (e) Perex NBL (manufactured by Kao Corporation, anionic surfactant 35
% aqueous solution) 20 parts (f) water
60 parts [Comparative Example-1] In place of (b) in the photosensitive composition of Example 1, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (composition ratio = 80/20 (molar ratio)) ) was used in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate that did not require dampening water. Next, an attempt was made to develop the plate with a developer, but a printing plate with sufficient image quality could not be obtained.

[比較例−2] 実施例1の感光性組成物中の(b)の代りにN−フェニ
ルメタクリルアくド、アクリロニトリル、エチルアクリ
レート、メタクリル酸メチル共重合体(組成比: 30
/3015/35 (モル比)を用いた以外は、実施例
1と同様にして湿し水不要の平版印刷版を得た。ついで
現像液で現像を試みたが、印刷版として十分な画質を有
するものは得られなかった。
[Comparative Example-2] In place of (b) in the photosensitive composition of Example 1, N-phenyl methacrylate, acrylonitrile, ethyl acrylate, methyl methacrylate copolymer (composition ratio: 30
A lithographic printing plate that does not require dampening water was obtained in the same manner as in Example 1, except that the molar ratio of /3015/35 was used. Next, an attempt was made to develop the plate with a developer, but a printing plate with sufficient image quality could not be obtained.

[発明の効果] 本発明は、感光層に特定の高分子化合物を含有すること
により、耐剛力に優れ、画像再現性に優れ、しかも水系
現像液で現像できる良好な湿し水不要の平版印刷版が得
られる。
[Effects of the Invention] By containing a specific polymer compound in the photosensitive layer, the present invention provides excellent stiffness resistance, excellent image reproducibility, and good planographic printing that can be developed with an aqueous developer and does not require dampening water. You can get the version.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 基板上にキノンジアジド化合物を含有する感光層及びイ
ンキ反撥層を順次積層してなる湿し水不要の感光性平版
印刷版において、前記感光層が下記の一般式で示される
重合単位を有する高分子化合物を含有することを特徴と
する湿し水不要の感光性平版印刷版。 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素原子又は炭素数1〜10の置換基
を有していてもよいアルキル基を表す。Xは水酸基、ア
ミノ基又はカルボキシル基を表し、nは1〜5の整数を
表しす。またXは、nが2以上のとき、同じであっても
異なっていてもよい。]
[Scope of Claims] A photosensitive lithographic printing plate that does not require a dampening solution and is formed by sequentially laminating a photosensitive layer containing a quinonediazide compound and an ink repellent layer on a substrate, wherein the photosensitive layer is a polymer compound represented by the following general formula: A photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized by containing a polymer compound having units. General formula ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R^1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. X represents a hydroxyl group, an amino group or a carboxyl group, and n represents an integer of 1 to 5. Moreover, when n is 2 or more, X may be the same or different. ]
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH04258956A (en) * 1991-02-14 1992-09-14 Nippon Paint Co Ltd Alkali-developable photosensitive resin composition
US8922037B2 (en) 2008-04-15 2014-12-30 Aloys Wobben Wind energy system having busbars

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