JPH035996A - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents

Nonvolatile semiconductor memory device

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Publication number
JPH035996A
JPH035996A JP1141521A JP14152189A JPH035996A JP H035996 A JPH035996 A JP H035996A JP 1141521 A JP1141521 A JP 1141521A JP 14152189 A JP14152189 A JP 14152189A JP H035996 A JPH035996 A JP H035996A
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JP
Japan
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capacitor
data
line
output
drive line
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Pending
Application number
JP1141521A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasushi Terada
寺田 康
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Publication of JPH035996A publication Critical patent/JPH035996A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve the limit of a reading time by using the operation mode of a non-volatile semiconductor memory device separately to a mode to execute volatile operation like a DRAM and a mode to execute non-volatile memory operation. CONSTITUTION:When the output level of a word line WL, which is connected to the gates of transistors Q1 and Q2, or the output level of a drive line DL connected to the capacitor of a ferroelectrics is changed, a potential to be applied to capacitors C1 and C2 is changed. When a high voltage is applied to the capacitors C1 and C2, the ferroelectrics is polarized and the non-volatile memory of data is executed samely as conventional operation. When a low voltage in a degree not to polarize the ferroelectrics is applied to the capacitors C1 and C2, the volatile memory of the data is executed according to the presence and absence of an electric charge which is charged to the capacitors C1 and C2. Accordingly, when it is set to execute the volatile memory at the time of normal data memory operation, the reading time of the data is regardless of the fatigue of the ferroelectrics. Thus, the limit of the reading time can be widely improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔卒業上の利用分野〕 本発明はトランジスタと強誘電体で形成された容量とを
有するメモリセルを複数個備えている不揮発性半導体記
憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application] The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device including a plurality of memory cells each having a transistor and a capacitor formed of a ferroelectric material.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第5図はrE1ectronics+ Feb、18.
1988年、94頁Jに掲載されている従来の不揮発性
半導体記憶装置のブロック図であり、図中1は多数ある
メモリセルの1つを示している。該メモリセル1は夫々
2つの選択トランジスタQl、Q2及び強誘電体で形成
された容量C1,C2の4素子から構成されており、前
記トランジスタQ1.Q2のドレインは、夫々にセンス
アンプ2及び電源に接続されたビット線B L。
FIG. 5 shows rE1 electronics+ Feb, 18.
This is a block diagram of a conventional nonvolatile semiconductor memory device published in 1988, page 94 J, and 1 in the figure indicates one of a large number of memory cells. The memory cell 1 is composed of four elements, each consisting of two selection transistors Ql and Q2 and capacitances C1 and C2 formed of ferroelectric material, and the transistors Q1. The drain of Q2 is the bit line BL connected to the sense amplifier 2 and the power supply, respectively.

反転ビット線BLと各別に接続されている。また、前記
トランジスタQ1.Q2の各ゲートはともに、ロウデコ
ーダ4の出力信号線であるワード線札に接続され、前記
トランジスタQ1.Q2の各ソースは容量C1,C2の
一方の電極と各別に接続されている。
They are each connected to the inverted bit line BL. Further, the transistor Q1. The respective gates of transistors Q2 are both connected to the word line tag which is the output signal line of the row decoder 4, and the gates of the transistors Q1. Each source of Q2 is connected to one electrode of capacitors C1 and C2, respectively.

そして、前記容量C1,C2の他方の電極はドライブ線
デコーダ5の出力信号線であるドライブ線ILLに接続
されている。
The other electrodes of the capacitors C1 and C2 are connected to the drive line ILL, which is the output signal line of the drive line decoder 5.

前記ロウデコーダ4.ドライブ線デコーダ5には夫々、
アドレスバッファ6から出力されたアドレス信号が入力
され、該アドレス信号に基づきロウデコーダ4で所定の
ワード線孔が、またドライブ線デコーダ5で所定のドラ
イブ線DLが選択される。なお、前記アドレス信号の出
力タイミングは、制御信号人力バッファ7から出力され
た信号によって制御される。また、前記制御信号人力バ
ッファ7から出力された制御信号はセンスタイミング発
生回路8及び人出力バッファ3に夫々入力され、前記制
御信号に基づ(クロック信号がセンスタイミング発生回
路8より前記センスアンプ2に与えられる。そしてセン
スアンプ2は前記クロック信号がハイレベルにある間、
前記ビット線BL、前記反転ビット線BLの電位差を検
出し、前記人出力バッファ3は前記制御信号に基づいて
、その検出信号を取り込む。
The row decoder 4. The drive line decoders 5 each have
An address signal output from address buffer 6 is input, and based on the address signal, row decoder 4 selects a predetermined word line hole, and drive line decoder 5 selects a predetermined drive line DL. Note that the output timing of the address signal is controlled by a signal output from the control signal manual buffer 7. Further, the control signal outputted from the control signal human power buffer 7 is input to the sense timing generation circuit 8 and the human output buffer 3, respectively, and based on the control signal (the clock signal is output from the sense timing generation circuit 8 to the sense amplifier 2), While the clock signal is at high level, the sense amplifier 2
A potential difference between the bit line BL and the inverted bit line BL is detected, and the human output buffer 3 takes in the detection signal based on the control signal.

次に前記各11c1.c2の特性について説明する。Next, each of the above 11c1. The characteristics of c2 will be explained.

第6図は第5図における容量C1、C2の特性を示す図
であり、(a)では横軸に時間を、また縦軸に電圧を夫
々とってあり、(b)、 (C)では横軸に時間を、ま
た縦軸に電流を夫々とっである。予め、容量CI又はC
2の電極に電圧を印加して容11c1又はC2の強誘電
体を分極させた後、容tc1又はC2に第6図(a)に
示すように一定の電圧を所定時間印加する。この電圧の
向きが、前記分極時に印加した電圧の向きと同じである
場合、即ち容1ic1又はC2の分極の向きと異なる場
合、(ハ)に示す如く容量C1又はC2を充電するよう
に電流が流れ込む。一方、ステップ状に印加した電圧が
前記分極の向きと同じである場合、(C)に示す如く容
IcI又はC2を充電するように電流が流れ込むと共に
、前記分極を反転させるための電流が流れ込む。つまり
、強誘電体で形成された容ICI又はC2に電圧を印加
したとき、容量C1又はC2の分極の向きにより流れ込
む電流の時間的変化の様子が異なる。
Fig. 6 is a diagram showing the characteristics of capacitances C1 and C2 in Fig. 5. In (a), time is plotted on the horizontal axis, and voltage is plotted on the vertical axis, and in (b) and (C), the horizontal axis is plotted with voltage. The axis is time, and the vertical axis is current. In advance, capacity CI or C
After polarizing the ferroelectric material of capacitor 11c1 or C2 by applying a voltage to the electrode of capacitor tc1 or C2, a constant voltage is applied to capacitor tc1 or C2 for a predetermined time as shown in FIG. 6(a). If the direction of this voltage is the same as the direction of the voltage applied at the time of polarization, that is, if it is different from the direction of polarization of capacitor 1ic1 or C2, the current will flow to charge capacitor C1 or C2 as shown in (c). Flow into. On the other hand, when the stepwise applied voltage is in the same direction as the polarization, as shown in (C), a current flows to charge the capacitor IcI or C2, and a current flows to reverse the polarization. That is, when a voltage is applied to the capacitor ICI or C2 formed of a ferroelectric material, the manner in which the flowing current changes over time differs depending on the polarization direction of the capacitor C1 or C2.

次にこの不揮発性半導体記憶装置の動作を説明する。Next, the operation of this nonvolatile semiconductor memory device will be explained.

第7図及び第8図はメモリセルへのデータの書込み動作
を示す説明図である。
FIGS. 7 and 8 are explanatory diagrams showing the operation of writing data to a memory cell.

まずビット線BLをハイレベルに、また反転ビット、W
BLをローレベルにすると共に、アドレス信号に基づい
て選択された所定のドライブ線OL、 ワード線孔をハ
イレベルにする。このことにより、反転ビット線■に接
続された容1jlc2が矢符に示す方向に、つまりトラ
ンジスタ[12のソースに接続した容量C2の電極から
、ドライブ線DLに接続した電極へ向かう方向に分極す
る(第7図)。
First, the bit line BL is set to high level, and the inverted bit, W
BL is set to low level, and a predetermined drive line OL and word line hole selected based on the address signal are set to high level. As a result, the capacitor 1jlc2 connected to the inverted bit line ■ is polarized in the direction shown by the arrow, that is, in the direction from the electrode of the capacitor C2 connected to the source of the transistor [12] to the electrode connected to the drive line DL. (Figure 7).

次いでドライブ線DLをローレベルにすると、ビット線
BLに接続された容量C1が、ドライブ線DLに接続し
た電極から、トランジスタQ1に接続した電極へ向かう
方向に、つまり容MC2と反対方向に分極する(第8図
)。このように、容−Ic1. C2を第8図に示す方
向に分極させることによって、メモリセル1にデーラダ
1′が書込まれる。また、反転ビット線乱をハイレベル
に、ビットiBLをローレベルにして容量C1,C2を
第8図に示す方向と夫々逆向きに分極させることにより
、メモリセル1にデータ“0”が書込まれる。
Next, when the drive line DL is set to a low level, the capacitor C1 connected to the bit line BL is polarized in the direction from the electrode connected to the drive line DL to the electrode connected to the transistor Q1, that is, in the opposite direction to the capacitor MC2. (Figure 8). In this way, Yong-Ic1. A data ladder 1' is written into the memory cell 1 by polarizing C2 in the direction shown in FIG. Furthermore, by setting the inverted bit line disturbance to high level and setting bit iBL to low level, the capacitors C1 and C2 are polarized in the directions opposite to those shown in FIG. 8, thereby writing data "0" into memory cell 1. It will be done.

第9図乃至第12図はメモリセルからのデータの続出し
動作を示す説明図である。
FIGS. 9 to 12 are explanatory diagrams showing the operation of sequentially outputting data from memory cells.

上述した如くメモリセル1に書込まれたデータ“1″の
読出しをする場合、まずビット線BL、反転ビット線肛
夫々に所定の電圧をプリチャージし、次いでアドレス信
号に基づいて選択されたドライブ線口しをローレベルに
、またワード線孔をハイレベルにする(第9図)。この
ことによって、容量C1,C2を充電する電流がメモリ
セル1内に流れ込むが、印加された電圧の向きは容量C
2の分極の向きと同じ方向であるので、第6図(C)で
示したように容tc2には容量C1よりも多くの電流が
流れ込む。
When reading the data "1" written in the memory cell 1 as described above, first precharge the bit line BL and the inverted bit line BL with a predetermined voltage, and then charge the selected drive based on the address signal. Set the line opening to low level and the word line hole to high level (Figure 9). As a result, a current that charges the capacitors C1 and C2 flows into the memory cell 1, but the direction of the applied voltage is
Since the direction of polarization is the same as that of capacitor 2, as shown in FIG. 6(C), a larger current flows into capacitor tc2 than capacitor C1.

従って、反転ビット線[の電位(0■)がビット線BL
の電位(5V)より低くなり(第10図)、この電位差
をセンスアンプ2で検出し、増幅することによって読出
しがなされる。
Therefore, the potential (0■) of the inverted bit line [is the bit line BL
(FIG. 10), and this potential difference is detected by the sense amplifier 2 and amplified to perform reading.

なおこの読出しによって、書込み時における容IC2の
分極の向きが第10図に示す如く反転する。
By this reading, the polarization direction of the capacitor IC 2 at the time of writing is reversed as shown in FIG. 10.

従って、ドライブ線DLをハイレベルにして容量C2の
分極の向きを書込み時と同じ方向に戻しく第11図)さ
らに、前記ドライブ線DLをローレベルにして容量C1
の分極を強化すれば(第12図)、再び元の状態即ち、
データ”■”がメモリセル1に書き込まれた状態に復元
される。
Therefore, the drive line DL is set to a high level to return the direction of polarization of the capacitor C2 to the same direction as when writing.
If the polarization of is strengthened (Fig. 12), the original state is restored, that is,
Data “■” is restored to the state written in memory cell 1.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

このように、従来の不揮発性半導体記憶装置においては
、メモリセル内のいずれかの容量の分極を反転させてデ
ータを読出しする、所謂破壊読出しであった。強誘電体
で形成した容量を分極できる回数は、109〜1012
回と制限があり従って、読出し回数も10″〜10′2
回しか出来ないという問題があった。
As described above, in the conventional nonvolatile semiconductor memory device, data is read by inverting the polarization of any capacitor within the memory cell, which is a so-called destructive read. The number of times a capacitor formed of ferroelectric material can be polarized is 109 to 1012.
Therefore, the number of readings is limited to 10'' to 10'2.
There was a problem that it could only be done once.

本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、不揮
発性半導体記憶装置の動作モードをDRAMのように揮
発性動作を行うモードと不揮発性記憶動作を行うモード
とに分けて使用できるようにして、読出し回数の制限を
大幅に向上できる不揮発性半導体記憶装置の提供を目的
とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to enable a nonvolatile semiconductor memory device to be used in two modes: a volatile operation mode like a DRAM, and a nonvolatile memory operation mode. Therefore, an object of the present invention is to provide a nonvolatile semiconductor memory device that can significantly improve the limit on the number of reads.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る不揮発性半導体記憶装置は、トランジスタ
のゲートに接続されたワード線又は強誘電体の容量に接
続されたドライブ線の出力レベルを変化させ、強誘電体
の分極を伴う不揮発性記憶又は分極を伴なわない揮発性
記憶を選択するものである。
A nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention changes the output level of a word line connected to the gate of a transistor or a drive line connected to a ferroelectric capacitor, and changes the output level of a word line connected to a gate of a transistor or a drive line connected to a ferroelectric capacitor, Volatile memory without polarization is selected.

〔作用〕[Effect]

本発明の不揮発性半導体記憶装置においては、トランジ
スタのゲートに接続されたワード線又は強誘電体の容量
に接続されたドライブ線の出力レベルを変化させると、
容量に加わる電位が変化する。容量に高い電圧が加わる
と、強誘電体が分極して従来同様のデータの不揮発性記
憶がなされ、また容量に強誘電体の分極が生じない程度
の低い電圧が加わると、容量に充電された電荷の有無に
よりデータの揮発性記憶がなされる。
In the nonvolatile semiconductor memory device of the present invention, when the output level of the word line connected to the gate of the transistor or the drive line connected to the ferroelectric capacitor is changed,
The potential applied to the capacitor changes. When a high voltage is applied to the capacitor, the ferroelectric material becomes polarized, resulting in non-volatile storage of data similar to conventional methods, and when a low voltage is applied to the capacitor, which does not cause polarization of the ferroelectric material, the capacitor is charged. Data is stored in a volatile manner depending on the presence or absence of charge.

〔実施例] 以下、本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に
詳述する。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically described in detail based on drawings showing examples thereof.

第1図は本発明に係る不揮発性半導体記憶装置のブロッ
ク図であり、図中1は多数あるメモリセルの1つを示し
ている。該メモリセル1は夫々2つの選択トランジスタ
(11,Q2及び強誘電体で形成された容量CL、C2
の4素子から構成されており、前記トランジスタQ1.
Q2のドレインは、夫々にセンスアンプ2及び電源に接
続されたビ・ント線BL。
FIG. 1 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, and in the figure, 1 indicates one of a large number of memory cells. The memory cells 1 each include two selection transistors (11, Q2 and capacitances CL, C2 formed of ferroelectric materials).
The transistor Q1.
The drain of Q2 is connected to the sense amplifier 2 and the power supply line BL, respectively.

反転ビット線札)各別に接続されている。また前記トラ
ンジスタΩ1.Q2の各ゲートはともに、ロウデコーダ
4の出力信号線であるワード線孔に出力切換部10を介
して接続され、前記トランジスタQl。
(inverted bit line tag) each connected separately. Further, the transistor Ω1. Each gate of transistor Q2 is connected to a word line hole, which is an output signal line of row decoder 4, via an output switching section 10, and the transistor Q1.

02の各ソースは容量c1.c2の一方の電極と各別に
接続されている。そして、前記各ic1.c2の他方の
電極はドライブ線デコーダ5の出力信号線であるドライ
ブ線OLに接続されている。
Each source of 02 has a capacity c1. They are each connected to one electrode of c2. And each ic1. The other electrode of c2 is connected to the drive line OL, which is the output signal line of the drive line decoder 5.

前記ロウデコーダ4.ドライブ線デコーダ5には夫々、
アドレスバッファ6から出力されたアドレス信号が入力
され、該アドレス信号に基づきロウデコーダ4で所定の
ワード線孔が、またドライブ線デコーダ5で所定のドラ
イブ線DLが選択される。なお、前記アドレス信号の出
力タイミングは、制御信号人カバンフプ7から出力され
た信号によって制御される。
The row decoder 4. The drive line decoders 5 each have
An address signal output from address buffer 6 is input, and based on the address signal, row decoder 4 selects a predetermined word line hole, and drive line decoder 5 selects a predetermined drive line DL. Note that the output timing of the address signal is controlled by a signal output from the control signal carrier 7.

また、前記制御信号入カバンファ7から出力された制御
信号はモード切換スイッチ9に入力され、モード切換ス
イッチ9はこの制御信号に応じてオン、オフ動作してD
RAMイネーブル信号OEをハイレベル又はローレベル
に切換え、ロウデコーダ4に接続された出力切換部10
及びドライブ線デコーダ5に夫々入力する。
Further, the control signal output from the control signal input buffer 7 is input to the mode changeover switch 9, and the mode changeover switch 9 is turned on and off in accordance with this control signal.
An output switching unit 10 that switches the RAM enable signal OE to high level or low level and is connected to the row decoder 4.
and the drive line decoder 5, respectively.

また、前記制御信号はセンスタイミング発生回路8及び
人出力バッファ3に夫々入力され、前記制御信号に基づ
くクロック信号がセンスタイミング発生回路8より前記
センスアンプ2に与えられる。センスアンプ2は前記ク
ロック信号がハイレベルにある間、前記ビット線BL、
前記反転ビット線乱の電位差を検出し、前記人出力バッ
ファ3は前記制御信号に基づいてその検出信号を取り込
む。
Further, the control signal is input to the sense timing generation circuit 8 and the human output buffer 3, respectively, and a clock signal based on the control signal is provided from the sense timing generation circuit 8 to the sense amplifier 2. While the clock signal is at a high level, the sense amplifier 2 connects the bit lines BL,
The potential difference of the inverted bit line disturbance is detected, and the human output buffer 3 takes in the detection signal based on the control signal.

第2図は第1図における出力切換部10の回路図であり
、出力切換部10は、電源電圧Vccをpチャネルのト
ランジスタq3並びに各ワード線14L毎に設けられた
pチャネルのトランジスタロ5及びnチャネルのトラン
ジスタq6を直列に介して接地すると共に、電源電圧V
ccより低く、容量C1,C2の強誘電体の分極を引き
起こさない電圧Vrefを、pチャネルのトランジスタ
Q4及びトランジスタロ5.Q6を介して接地した構造
となっている。
FIG. 2 is a circuit diagram of the output switching section 10 in FIG. The n-channel transistor q6 is connected to the ground through the series connection, and the power supply voltage V
A voltage Vref that is lower than cc and does not cause polarization of the ferroelectric material of capacitors C1 and C2 is applied to p-channel transistor Q4 and transistor RO5. The structure is grounded via Q6.

トランジスタQ3のゲートにはモード切換スイッチ9か
ら出力された信号DEが、トランジスタQ4のゲートに
は信号DEが反転された信号DHが与えられており、ト
ランジスタQ5及びQ6のゲートにはロウデコーダ4の
出力が与えられる。
The gate of the transistor Q3 is supplied with the signal DE output from the mode changeover switch 9, the gate of the transistor Q4 is supplied with the signal DH which is an inverted version of the signal DE, and the gates of the transistors Q5 and Q6 are supplied with the signal DE output from the mode changeover switch 9. Output is given.

前記信号DBがローレベルである場合、トランジスタ(
13がオンし、アドレス信号に基づくロウデコーダ4の
動作によりトランジスタQ5がオンして選択されたワー
ド線孔に電源電圧Vccが出力される。
When the signal DB is at a low level, the transistor (
13 is turned on, the transistor Q5 is turned on by the operation of the row decoder 4 based on the address signal, and the power supply voltage Vcc is output to the selected word line hole.

そしてドライブ線デコーダ5で選択されたドライブ線D
Lは、後述する書込み、読出し動作に従ってハイレベル
又はローレベルになり、強誘電体の分極によってデータ
の不揮発性記憶を行う。つまり、メモリセル1へのデー
タ“1”の書込みは、まず第7図に示したようにビット
線BLをハイレベルに、また反転ビット線層をローレベ
ルにすると共に、アドレス信号に基づいて選択された所
定のドライブ線DLをハイレベルにし、ワード線孔を電
源電圧Vccにする。このことにより、反転ビット線B
l、に接続された容ic2が矢符に示す方向に、つまり
トランジスタロ2のソースに接続した容量C2の電極か
ら、ドライブ線DLに接続した電極へ向かう方向に分極
する。
Then, the drive line D selected by the drive line decoder 5
L becomes a high level or a low level according to write and read operations, which will be described later, and nonvolatile storage of data is performed by polarization of the ferroelectric material. That is, to write data "1" to the memory cell 1, first, as shown in FIG. The predetermined drive line DL is set to high level, and the word line hole is set to the power supply voltage Vcc. As a result, the inverted bit line B
The capacitor IC2 connected to the transistor I is polarized in the direction shown by the arrow, that is, in the direction from the electrode of the capacitor C2 connected to the source of the transistor I2 to the electrode connected to the drive line DL.

次いで第8図に示す如く、ドライブ線OLをローレベル
にすると、ビット線BLに接続された容量C1がドライ
ブ線DLに接続した電極から、トランジスタロ1に接続
した電極へ向かう方向に、つまり容量C2と反対方向に
分極する。このように、容ficIC2を第8図に示す
方向に分極させることによって、メモリセル1にデータ
“1”が書込まれる。また、反転ビット線″肛をハイレ
ベルに、ビット線BLをローレベルにして容51c1 
、 C2を第8図に示す方向と夫々逆向きに分極させる
ことにより、メモリセル1にデータ“O#が書込まれる
Next, as shown in FIG. 8, when the drive line OL is set to a low level, the capacitor C1 connected to the bit line BL moves in the direction from the electrode connected to the drive line DL to the electrode connected to the transistor RO1, that is, the capacitor C1 connects to the bit line BL. Polarized in the opposite direction to C2. In this way, by polarizing the capacitor IC2 in the direction shown in FIG. 8, data "1" is written into the memory cell 1. In addition, the inverted bit line ``out'' is set to high level and the bit line BL is set to low level.
, C2 in directions opposite to those shown in FIG. 8, data "O#" is written into the memory cell 1.

そして、上述した如くメモリセル1に書き込まれたデー
タ“1”の続出しをする場合、第9図に示したようにま
ずビット線BL、反転ビット線BLを夫々プリチャージ
し、次いで選択されたドライブ線OLをローレベルに、
またワード線孔を電源電圧Vccにする。このことによ
って、容量CI、C2を充電する電流がメモリセル1内
に流れ込むが、印加された電圧の向きは容量C2の分極
の向きと同じ方向であるので、上述したように容量C2
には容量C1よりも多くの電流が流れ込む。従って第1
0図に示すように反転ビット線BLの電位(OV)がビ
ット線BLの電位(5v)より低くなり、この電位差を
センスアンプ2で検出し、増幅することによって続出し
がなされる。
When the data "1" written in the memory cell 1 is to be successively written as described above, the bit line BL and the inverted bit line BL are first precharged, respectively, as shown in FIG. Drive line OL to low level,
Further, the word line hole is set to the power supply voltage Vcc. As a result, a current that charges the capacitors CI and C2 flows into the memory cell 1, but since the direction of the applied voltage is the same as the polarization direction of the capacitor C2, as described above, the capacitor C2
More current flows into the capacitor C1 than the capacitor C1. Therefore, the first
As shown in FIG. 0, the potential (OV) of the inverted bit line BL becomes lower than the potential (5V) of the bit line BL, and this potential difference is detected by the sense amplifier 2 and amplified to perform continuous output.

なお、この読出しによって書込み時における容量C2の
分極の向きが第10図に示したように反転する。従って
、ドライブ線DLをハイレベルにして、容量C2の分極
の向きを書込み時と同じ方向に戻しく第11図)さらに
、前記ドライブ線DLをローレベルにして容IC1の分
極を強化すれば(第12図)、再び元の状態即ち、デー
タ“1”がメモリセル1に書込まれた状態に復元される
Note that by this reading, the direction of polarization of the capacitor C2 during writing is reversed as shown in FIG. 10. Therefore, by setting the drive line DL to a high level and returning the direction of polarization of the capacitor C2 to the same direction as when writing (Fig. 11), furthermore, by setting the drive line DL to a low level to strengthen the polarization of the capacitor IC1 (Fig. 11). (FIG. 12), the original state is restored again, that is, the state in which data "1" was written in the memory cell 1.

以上、本発明の不揮発性記憶は前述した従来の不揮発性
記憶と同様にして行われる。
As described above, the nonvolatile memory of the present invention is performed in the same manner as the conventional nonvolatile memory described above.

一方、出力切換部10に入力される信号DEが71イレ
ベルである場合、その反転された信号面がローレベルと
なってトランジスタQ4がオンし、アドレス信号に対応
して選択されたワード線孔に電源電圧Vccより低い電
圧Vrefが出力される。この電圧Vrefが選択され
たワード線WLを介して、メモリセル1内のトランジス
タQl、 Q2のゲートに与えられる。ドライブ’+M
oLをローレベルに固定して、ビ・ノt−線BLを5■
にし、反転ビット線■を0■にすると、トランジスタQ
2がオフする一方、トランジスタ01のソースに電位が
現れる。この電位は、電圧Vrefを3■、トランジス
タ01の闇値を1■としたとき、3■となり容1ctに
これが加わる。従って、このときは5vの印加により分
極する容IcIは、分極を引き起こさない。
On the other hand, when the signal DE input to the output switching unit 10 is at the 71 level, the inverted signal surface becomes the low level and the transistor Q4 is turned on, and the word line hole selected in accordance with the address signal is A voltage Vref lower than the power supply voltage Vcc is output. This voltage Vref is applied to the gates of transistors Ql and Q2 in memory cell 1 via selected word line WL. Drive'+M
Fix oL to low level and set Bi-not-line BL to 5■
When the inverted bit line ■ is set to 0■, the transistor Q
While transistor 2 is turned off, a potential appears at the source of transistor 01. This potential becomes 3■ when the voltage Vref is 3■ and the dark value of the transistor 01 is 1■, and this potential is added to the capacitance 1ct. Therefore, in this case, the capacitor IcI, which is polarized by the application of 5V, does not cause polarization.

そして、容ic1.C2の静電容量をCとした場合、容
量C1にのみ3Cの電荷が蓄積されて、データ“1”が
書込まれたことになる。またビ・ノドjFQBLを0■
にし、反転ビ・ノド線■を5■とすると容量C2にのみ
3Cの電荷が蓄積されて、データ“0”が書込まれたこ
とになる。
And ic1. If the capacitance of C2 is C, a charge of 3C is accumulated only in the capacitor C1, and data "1" is written. Also, Bi NodojFQBL is 0■
If the inverted bit/node line (2) is set to 5 (5), a charge of 3C is accumulated only in the capacitor C2, and data "0" is written.

このメモリセル1に書込まれたデータの読出しは、容f
f1c1 、 C2の電位をセンスアンプ2で検出する
ことにより行われる。
The reading of the data written in this memory cell 1 is as follows:
This is performed by detecting the potentials of f1c1 and C2 with the sense amplifier 2.

このように、容量の強誘電体の分極を伴う不揮発性記憶
モードと、前記分極を伴わず容量に蓄積された電荷のみ
で記憶を行う揮発性モードであるDRAMモードとを切
換えるモード切換スイッチ9を設け、通常のデータの記
憶動作時はDRAMとして動作するように設定すると、
データの読出し回数が強誘電体の疲労と無関係になり、
読出し回数の制限が向上される。
In this way, the mode selector switch 9 is used to switch between a nonvolatile storage mode that involves polarization of the ferroelectric material in the capacitor and a DRAM mode that is a volatile mode that performs storage using only the charge accumulated in the capacitor without polarization. If you set it up and set it to operate as a DRAM during normal data storage operations,
The number of data readouts is independent of the fatigue of the ferroelectric material,
The limit on the number of reads is improved.

次に本発明の他の実施例について説明する。Next, other embodiments of the present invention will be described.

第3図は本発明に係る他の不揮発性半導体記憶装置を示
すブロック図であり、第1図におけるロウデコーダ4に
接続された出力切換部10に換えて、ドライブ線デコー
ダ5からの出力を切換える出力切換部11が設けられて
いる。メモリセルI内のトランジスタ旧、Q2の各ソー
スは容1cLc2の一方の電極と各別に接続され、前記
各[C1,C2の他方の電極はドライブ線デコーダ5の
出力信号線であるドライブ線OLと出力切換部11を介
して接続されている。
FIG. 3 is a block diagram showing another nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, in which the output from the drive line decoder 5 is switched in place of the output switching section 10 connected to the row decoder 4 in FIG. An output switching section 11 is provided. The sources of the transistors Q2 and Q2 in the memory cell I are individually connected to one electrode of the capacitor 1cLc2, and the other electrode of each of the transistors [C1 and C2 is connected to the drive line OL, which is the output signal line of the drive line decoder 5. They are connected via an output switching section 11.

また、ロウデコーダ4.ドライブ線デコーダ5には夫々
、アドレスバッファ6から出力されたアドレス信号がア
ドレスカウンタ12を介して入力される。該アドレスカ
ウンタ12にはモード切換スイッチ9から出力された信
号DE及びデータの転送を制御する信号が入力され、ア
ドレスカウンタ12はデータの転送を制御する信号が与
えられている場合にのみ前記アドレス信号を出力する。
Also, row decoder 4. An address signal output from an address buffer 6 is input to each drive line decoder 5 via an address counter 12. The address counter 12 receives the signal DE output from the mode changeover switch 9 and a signal for controlling data transfer, and the address counter 12 receives the address signal only when the signal for controlling data transfer is supplied. Output.

第4図は第3図のドライブ線デコーダに接続された出力
切換部11の回路図である。出力切換部11は、一端が
電圧1/2VCCの電源と接続され、他端がドライブ線
口りと接続されたpチャネルのトランジスタQ7及び一
端がドライブ線デコーダ5と接続され、他端がドライブ
線口しと接続されたnチャネルのトランジスタQ8から
構成されている。トランジスタQ7.QBのゲートには
、夫々信号DHが反転された信号DHが与えられている
FIG. 4 is a circuit diagram of the output switching section 11 connected to the drive line decoder of FIG. 3. The output switching unit 11 has one end connected to a power supply with a voltage of 1/2 VCC, the other end connected to a drive line port, a p-channel transistor Q7, one end connected to a drive line decoder 5, and the other end connected to a drive line port. It consists of an n-channel transistor Q8 connected to the port. Transistor Q7. A signal DH, which is an inverted version of the signal DH, is applied to each gate of QB.

モード切換スイッチ9から出力された信号DHがローレ
ベルであるとき、その反転された信号DHがハイレベル
となり、不揮発性記憶モードとなって、トランジスタロ
8がオンし、選択されたドライブ線DLに電源電圧Vc
c又はOvが印加される。ビット線BLをハイレベルに
し、反転ビット線層をローレベルにすると共に、ドライ
ブ線DL及びワード線WLに夫々電源電圧νccを印加
して容量C2を分極させ、次いでドライブ線DLをOv
にして容量C1を容量C2と逆方向に分極させると、メ
モリセルlにデータ“1”が書込まれる。また、反転ビ
ット線BLをハイレベルに、ビット線BLをローレベル
にして容1cI。
When the signal DH output from the mode changeover switch 9 is at a low level, the inverted signal DH becomes a high level, the non-volatile storage mode is entered, the transistor 8 is turned on, and the selected drive line DL is connected to the selected drive line DL. Power supply voltage Vc
c or Ov is applied. The bit line BL is set to high level, the inverted bit line layer is set to low level, and the power supply voltage νcc is applied to the drive line DL and word line WL respectively to polarize the capacitor C2, and then the drive line DL is set to Ov.
When the capacitor C1 is polarized in the opposite direction to the capacitor C2, data "1" is written into the memory cell l. Further, the inverted bit line BL is set to high level, and the bit line BL is set to low level.

C2をデータ“1″の書込みと夫々逆向きに分極させる
ことにより、メモリセルエにデータ“0″が書込まれる
。このことにより、データの不揮発性記憶がなされる。
By polarizing C2 in the opposite direction to the writing of data "1", data "0" is written into the memory cell E. This provides non-volatile storage of data.

一方信号叶がハイレベルであるとき、その反転された信
号DEがローレベルとなり、DRAMモードとなって、
選択されたドライブ線DLに接続されたトランジスタQ
7がオンし、前記ドライブ線口しには常に1/2 Vc
cの電圧が印加された状態となる。従って、例えば電源
電圧Vccを5■としたとき、選択されたワード線WL
に5vが、選択されたドライブ線OLに2.5vが夫々
印加される。そしてビット線Bしを5vにし、反転ビッ
ト線層を0■とすると、容量CI、C2の静電容量をC
とした場合、容IC1には2.50の電荷が蓄積すると
共に容量C2は−2,50の電荷が蓄積してデータ“1
”が書込まれ、またビット線BLをOVにし、反転ビッ
ト線層を5■すると前述の場合とは逆に容量C1には−
2,50の電荷が蓄積すると共に容量C2は2.50の
電荷が蓄積してデータ“O#が書込まれる。
On the other hand, when the signal LE is at a high level, the inverted signal DE becomes a low level, and the DRAM mode is entered.
Transistor Q connected to the selected drive line DL
7 is on, and 1/2 Vc is always applied to the drive line inlet.
A voltage of c is applied. Therefore, for example, when the power supply voltage Vcc is 5■, the selected word line WL
5v is applied to the selected drive line OL, and 2.5v is applied to the selected drive line OL. Then, if bit line B is set to 5V and the inverted bit line layer is set to 0, the capacitance of capacitance CI and C2 is set to C
In this case, a charge of 2.50 is accumulated in the capacitor IC1, and a charge of -2.50 is accumulated in the capacitor C2, resulting in data "1".
” is written, and when the bit line BL is set to OV and the inverted bit line layer is set to 5■, the capacitance C1 becomes - contrary to the above case.
At the same time, a charge of 2.50 is accumulated in the capacitor C2, and data "O#" is written.

そして、メモリセル1に書込まれたデータの読出しは、
容量C1,C2の電位をセンスアンプ2で検出すること
により行われる。
Then, reading the data written in memory cell 1 is as follows:
This is done by detecting the potentials of the capacitors C1 and C2 with the sense amplifier 2.

即ちこの場合、前記読出しの際に利用できる電位差は5
■になる。
That is, in this case, the potential difference that can be used during the readout is 5
■ Become.

これに対し、第1図に示した不揮発性半導体記憶装置に
おいては、ビット線BLを5vにし、反転ビット線−肛
をO■とすると容量CIにのみ3Cの電荷が蓄積して、
データ”1″が書込まれ、またビット線BLを0■にし
、反転ビット線肌を5■とすると容量C2にのみ3Cの
電荷が蓄積してデータ″O”が書込まれる。
On the other hand, in the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG. 1, when the bit line BL is set to 5V and the inverted bit line is set to O■, a charge of 3C is accumulated only in the capacitor CI.
When data "1" is written, and the bit line BL is set to 0■ and the inverted bit line skin is set to 5■, a charge of 3C is accumulated only in the capacitor C2, and data "O" is written.

続出しは前述の場合と同様に行われるので、読出しの際
に利用できる電位差は3■になる。このため、第1図に
示した不揮発性半導体記憶装置における容量CI、C2
は、5■の印加によりデータを書き込む通常のDRAM
における容量の573倍の静電容量Cを必要とする。
Since successive reading is performed in the same manner as in the previous case, the potential difference available for reading is 3. Therefore, the capacitances CI and C2 in the nonvolatile semiconductor memory device shown in FIG.
is a normal DRAM that writes data by applying 5■
573 times the capacitance C is required.

従って、本実施例のようにDRAM動作時におけるドラ
イブ線口りの出力レベルを1/2Vccに保つようにす
ると、通常のDRAMにおける容量でDRAMの動作が
行え、メモリセル1の静電容量を小さくすることができ
る。
Therefore, if the output level of the drive line port during DRAM operation is maintained at 1/2 Vcc as in this embodiment, the DRAM can operate with the capacity of a normal DRAM, and the capacitance of the memory cell 1 can be reduced. can do.

なお、本実施例において出力切換部11として第4図に
示す回路を挙げたが、これに限るものではない。
Although the circuit shown in FIG. 4 is used as the output switching unit 11 in this embodiment, the circuit is not limited to this.

次に、アドレスカウンタ12の動作について説明する。Next, the operation of the address counter 12 will be explained.

前述した如くアドレスカウンタ12は、モード切換スイ
ッチ9から出力されたデータの転送を制御する信号が与
えられている場合にのみ、アドレス信号を出力する。な
お、ここにデータの転送とは、既にメモリセル1内に不
揮発性の又は揮発性の記憶がなされている所望のデータ
を読出し、揮発性データを不揮発性に又は不揮発性デー
タを揮発性にすべくメモリセル1へ再び転送することを
意味している。
As described above, the address counter 12 outputs an address signal only when a signal for controlling the transfer of data output from the mode changeover switch 9 is applied. Note that data transfer here refers to reading desired data that has already been stored in the memory cell 1 in a non-volatile or volatile manner, and converting volatile data to non-volatile or non-volatile data to volatile. This means that the data will be transferred again to memory cell 1 as soon as possible.

アドレスカウンタ12に入力したデータの転送を制御す
る信号がローレベルのときは、不揮発性半導体記憶装置
の動作はDRA??モード又は不揮発性記憶モードにな
り、アドレスバッファ6から出力されたアドレス信号が
そのままアドレスカウンタ12から出力される。
When the signal that controls the data transfer input to the address counter 12 is at low level, the nonvolatile semiconductor memory device operates as DRA? ? mode or nonvolatile storage mode, and the address signal output from the address buffer 6 is output from the address counter 12 as is.

そしてこのアドレス信号に基づいてロウデコーダ4で所
定のワード線孔が、またドライブ線デコーダ5で所定の
ドライブ線OLが選択され、上述したような不揮発性の
又は揮発性の記憶がなされる。
Based on this address signal, the row decoder 4 selects a predetermined word line hole, and the drive line decoder 5 selects a predetermined drive line OL, thereby performing nonvolatile or volatile storage as described above.

また、データの転送を制御する信号がハイレベルのとき
は、アドレスカウンタ12の出力は自動的にインクリメ
ント又はデクリメントされ、容量CI。
Furthermore, when the signal controlling data transfer is at high level, the output of the address counter 12 is automatically incremented or decremented, and the output of the address counter 12 is automatically incremented or decremented, and the output of the address counter 12 is automatically incremented or decremented.

C2に蓄積されたデータが順番にセンスアンプ2で読出
される。そして、そのデータに応じてドライフ線DLt
−ハイレベル又はローレベルにして容31 C1。
The data stored in C2 is sequentially read out by the sense amplifier 2. Then, according to the data, the dry line DLt
- Set to high or low level.31 C1.

C2の強誘電体の分極を行わせることにより、DRAM
モード時に蓄積されたデータを不揮発的に記憶させる。
By polarizing the ferroelectric material of C2, DRAM
To non-volatilely store data accumulated during mode.

またその逆の動作、つまり不揮発性モード時に蓄積され
たデータを揮発的に記憶させる動作も行われる。
The reverse operation, that is, the operation of storing data accumulated in the non-volatile mode in a volatile manner is also performed.

なお、アドレスカウンタ12はDRAMのリフレッシュ
カウンタも兼ねている。
Note that the address counter 12 also serves as a DRAM refresh counter.

このように、DRAM動作時にはリフレッシュカウンタ
として動作し、データ転送時にはデータの転送を制御す
るアドレスカウンタとして動作するアドレスカウンタ1
2を設けることにより、データの転送が容易に行え、し
かもチップ面積を小さくで以上、詳述した如く本発明に
係る不揮発性半導体記憶装置においては、トランジスタ
のゲートに接続されたワード線又は強誘電体の容量に接
続されたドライブ線の出力レベルを変化させる手段を備
え、前記ワード線又はドライブ線を介して容量に高い電
圧を加えると、強誘電体が分極して従来同様のデータの
不揮発性記憶がなされ、また容量に強誘電体の分極が生
じない程度の低い電圧を加えると、容量に充電された電
荷の有無によりデータの揮発性記憶がなされる。
In this way, the address counter 1 operates as a refresh counter during DRAM operation, and operates as an address counter that controls data transfer during data transfer.
By providing 2, data can be easily transferred and the chip area can be reduced. When a high voltage is applied to the capacitor through the word line or the drive line, the ferroelectric material is polarized and the data becomes non-volatile as in the past. Data is stored, and when a low voltage that does not cause polarization of the ferroelectric material is applied to the capacitor, data is stored in a volatile manner depending on the presence or absence of charge in the capacitor.

従って、通常のデータの記憶動作時では揮発性記憶がな
されるように設定すると、データの読出し回数が強誘電
体の疲労と無関係になり、読出し回数の制限を大幅に向
上できる優れた効果を奏する。
Therefore, if the data is set to be stored in a volatile manner during normal data storage operations, the number of data reads becomes independent of the fatigue of the ferroelectric material, which has the excellent effect of greatly increasing the limit on the number of reads. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る不揮発性半導体記憶装置のブロッ
ク図、第2図は第1図における出力切換部の回路図、第
3図は本発明に係る他の不揮発性半導体記憶装置のブロ
ック図、第4図は第3図における出力切換部の回路図、
第5図は従来の不揮発性半導体記憶装置のブロック図、
第6図は第5図における容i(:1.C2の特性を示す
図、第7図及び第8図はメモリセルへのデータの書込み
動作を示す説明図、第9図乃至第12図はメモリセルへ
のデータの読出し動作を示す説明図である。 1・・・メモリセル  4・・・ロウデコーダ5・・・
ドライブ線デコーダ  9・・・モード切換スイッチ 
 10・・・出力切換部  CI、C2・・・容量Ql
、口2・・・トランジスタ  WL−・・ワード線DL
・・・ドライブ線  BL・・・ビット線  BL・・
・反転ビット線 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代°理人゛大岩増雄 4 図 弔 図 BL BL 図 BL BL 図 BL BL 図 BL BL 1 図 BL BL 0 図 BL BL 2 図 手続補正書く自発)
FIG. 1 is a block diagram of a nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram of the output switching section in FIG. 1, and FIG. 3 is a block diagram of another nonvolatile semiconductor memory device according to the present invention. , FIG. 4 is a circuit diagram of the output switching section in FIG. 3,
FIG. 5 is a block diagram of a conventional nonvolatile semiconductor memory device.
FIG. 6 is a diagram showing the characteristics of the capacitor i(:1.C2) in FIG. It is an explanatory diagram showing the read operation of data to a memory cell. 1... Memory cell 4... Row decoder 5...
Drive line decoder 9...Mode selection switch
10... Output switching section CI, C2... Capacity Ql
, mouth 2...transistor WL-...word line DL
...Drive line BL...Bit line BL...
- Inverted bit line Note that in the figures, the same reference numerals indicate the same or equivalent parts. Deputy agent: Masuo Oiwa 4 Funeral map BL BL Figure BL BL Figure BL BL Figure BL BL 1 Figure BL BL 0 Figure BL BL 2 Self-motivated to write corrections for illustration procedure)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)強誘電体で形成された容量と、これに直列接続さ
れたトランジスタとを備え、容量の一端がこれを選択す
るドライブ線に、またトランジスタのゲートがこれを選
択するワード線に夫々接続されており、該ワード線の出
力によって前記容量に選択的に電圧を印加してデータの
記憶を行う不揮発性半導体記憶装置において、 前記ワード線又は前記ドライブ線の出力レ ベルを変化させる手段を備え、 該手段の動作により、前記強誘電体の分極 を伴う不揮発性記憶又は前記分極を伴なわない揮発性記
憶の選択が可能となしてあることを特徴とする不揮発性
半導体記憶装置。
(1) A capacitor made of ferroelectric material and a transistor connected in series to the capacitor, one end of the capacitor is connected to the drive line that selects the capacitor, and the gate of the transistor is connected to the word line that selects the capacitor. A nonvolatile semiconductor memory device that stores data by selectively applying a voltage to the capacitance based on the output of the word line, comprising means for changing the output level of the word line or the drive line, A nonvolatile semiconductor memory device characterized in that, by the operation of the means, it is possible to select a nonvolatile memory that involves polarization of the ferroelectric material or a volatile memory that does not involve the polarization.
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