JPH0359896A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH0359896A
JPH0359896A JP1195988A JP19598889A JPH0359896A JP H0359896 A JPH0359896 A JP H0359896A JP 1195988 A JP1195988 A JP 1195988A JP 19598889 A JP19598889 A JP 19598889A JP H0359896 A JPH0359896 A JP H0359896A
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data
circuit
match
coincidence
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Sanpei Miyamoto
宮本 三平
Tamihiro Ishimura
石村 民弘
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To shorten test time by selectively outputting one of output data of a memory array, and the outputs of coincidence/dissidence detection circuits of n-number of sub-arrays and all the sub-arrays. CONSTITUTION:N-number of first coincidence/dissidence detection circuits 50-1 to 50-n which read m-number of data written into respective sub-arrays 30-1 to 30-n and which detect coincidence/dissidence among m-number of data, and one second coincidence/dissidence detection circuit 60 which reads nXm-number of data written into all the sub-arrays 30-1 to 30-n and which detects coincidence/dissidence among nXm-number of data are provided. Furthermore, output means (buffer) 80-1 to 80-n which selectively output output data of the memory array, the outputs of n-number of first coincidence/dissidence detection circuits and the output of the second coincidence/dissidence detection circuit are provided. Thus, test time can be shortened and test cost can be reduced without making circuit constitution complicated.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、不良メモリセル救済用の冗長回路を有し、か
つ良否判定のオンチップテスト機能(セルフテスト機能
)を持つテスト回路を内蔵したダイナミックRAM (
ランダム・アクセス・メモリ)等の半導体記憶装置に関
するものである。
[Detailed Description of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention has a built-in test circuit that has a redundant circuit for relieving defective memory cells and has an on-chip test function (self-test function) for determining pass/fail. Dynamic RAM (
The invention relates to semiconductor memory devices such as random access memory (random access memory) and the like.

(従来の技術) 従来、このような分野の技術としては、例えば第2図の
ようなものがあった。以下、その構成を図を用いて説明
する。
(Prior Art) Conventionally, as a technology in this field, there has been a technology as shown in FIG. 2, for example. The configuration will be explained below using figures.

第2図は、従来のテスト回路内蔵の半導体記憶装置の一
構成例を示す概略のブロック図である。
FIG. 2 is a schematic block diagram showing an example of the configuration of a conventional semiconductor memory device with a built-in test circuit.

この半導体記憶装置では、メモリの大容量に伴うアクセ
スタイムの遅れや、消費電力の増大等を防止するため、
データ格納用のメモリアレイ10が、複数(n>個のサ
ブアレイ)○−1〜10−nに分割して形成されている
。各サブアレイ101〜10−nは、複数(m>本のデ
ータ出力D1〜D0を持ち、メモリセルアレイ11、行
デコーダ12及び列デコーダ13の他に、冗長回路14
をそれぞれ有している。冗長回路14は、不良メモリセ
ルの救済を行うもので、複数の冗長メモリセル、及びそ
の選択用のデコーダ等で構成されている。
In this semiconductor storage device, in order to prevent delays in access time and increase in power consumption due to large memory capacity,
A memory array 10 for data storage is formed by being divided into a plurality of (n>subarrays) ○-1 to 10-n. Each sub-array 101 to 10-n has a plurality (m> data outputs D1 to D0), and in addition to a memory cell array 11, a row decoder 12, and a column decoder 13, a redundant circuit 14
They each have The redundancy circuit 14 is for relieving defective memory cells, and is composed of a plurality of redundant memory cells, a decoder for selecting them, and the like.

各サブアレイl0−1〜10−nのデータ出力Dl〜D
、は、入出力回路15−1〜15−nを介してデコーダ
16に接続されると共に、オンチップテスト用のテスト
回路20に接続されている。
Data outputs Dl to D of each subarray l0-1 to 10-n
, are connected to the decoder 16 via input/output circuits 15-1 to 15-n, and are also connected to a test circuit 20 for on-chip testing.

デコーダエ6は、各入出力回路15−1〜15−nから
のデータ出力Hx(Dt〜D、)をデコードして、いず
れか一つを選択する回路である。
The decoder 6 is a circuit that decodes the data output Hx (Dt to D,) from each of the input/output circuits 15-1 to 15-n and selects one of them.

テスト回路20は、全入出力回路15−1〜(5−nか
らのデータ出力HX (Dt〜D、)の全てが一致する
か否かの検出を行う一致/不一致検出回路2工と、テス
ト信号に基づきデコーダ16または一致/不一致検出回
路2工のいずれか一方の出力を切換えるスイッチ回路2
2とで、構成されている。スイッチ回路22の出力は、
出力バッファ23を介して、出力信号Doutの形で出
力される。
The test circuit 20 includes a match/mismatch detection circuit 2 that detects whether all data outputs HX (Dt to D,) from all input/output circuits 15-1 to 5-n match, and a test A switch circuit 2 that switches the output of either the decoder 16 or the match/mismatch detection circuit 2 based on the signal.
It is composed of 2. The output of the switch circuit 22 is
It is output via the output buffer 23 in the form of an output signal Dout.

なお、入出力回路15−工〜15−nには、図示しない
書込み回路が接続されている。
Note that a write circuit (not shown) is connected to the input/output circuits 15-1 to 15-n.

次に、製造方法及び動作等を説明する。Next, the manufacturing method, operation, etc. will be explained.

半導体記憶装置の製造では、半導体ウェハ上に、第2図
のメモリアレイ10、入出力回路上5−1〜15−n、
デコーダ16及び出力バッファ23等を形成した後、不
良メモリセルの検出のためのブロービングを行って、各
冗長回路工4の救済プログラム処理を行う。
In manufacturing a semiconductor memory device, on a semiconductor wafer, the memory array 10 shown in FIG. 2, input/output circuits 5-1 to 15-n,
After forming the decoder 16, output buffer 23, etc., probing is performed to detect defective memory cells, and a relief program process for each redundant circuit 4 is performed.

即ち、ブロービング時において、メモリ用テスタを用い
、そのテスタにより、入出力回路151〜15−nを介
して各サブアレイ10−1〜10−n中のメモリセルア
レイ1工へデータを書込む。そして、書込んだデータを
、例えば入出力回路15−1〜15−n、デコーダ16
、スイッチ回E@22及び゛出力バッファ23を介して
読出し、テスタで期待値と比較して不良メモリセルの有
無と不良アドレスの検出を行う。例えば、サブアレイ1
0−1中に不良メモリセルが存在する場合、その不良ア
ドレスに対応する冗長回路14中の冗長メモリセル箇所
をレーザビーム等で切断し、不良メモリセルを冗長メモ
リセルで置き換えて修復する(救済プログラム処理)。
That is, during probing, a memory tester is used to write data to one memory cell array in each subarray 10-1 to 10-n via input/output circuits 151 to 15-n. Then, the written data is transferred to, for example, the input/output circuits 15-1 to 15-n and the decoder 16.
The data is read through the switch E@22 and the output buffer 23, and compared with an expected value by a tester to detect the presence or absence of a defective memory cell and a defective address. For example, subarray 1
If a defective memory cell exists in 0-1, the redundant memory cell location in the redundant circuit 14 corresponding to the defective address is cut with a laser beam or the like, and the defective memory cell is replaced with a redundant memory cell for repair. program processing).

その後、所定のプロセスを経て半導体記憶装置の製造を
終る。製造終了後、オンチップテストにより、製品の良
否判定を行う。この場合、図示しない外部からのテスト
信号により、スイッチ回路22を一致/不一致検出回路
2を側に切換える。
Thereafter, the manufacturing of the semiconductor memory device is completed through a predetermined process. After manufacturing is completed, on-chip testing is performed to determine the quality of the product. In this case, the switch circuit 22 is switched to the match/mismatch detection circuit 2 side by a test signal from the outside (not shown).

そして、入出力回路15−1〜15−nを介して全サブ
アレイ↑0−1〜10−nへ書込んだデータを続出し、
そのデータ出力nX(Dt〜D。)を一致/不一致検出
回路21へ入力する。−致/不一致検出回路21は、全
入力データ間の一致/不一致を検出し、その検出結果を
出力する。検出結果は、スイッチ回路22及び出力バッ
ファ23を介して、出力信号Doutの形で外部へ出力
されるので、製品の良否判定が可能となる。このような
オンチップテストを行うことにより、テスト装置の簡略
化、テスト時間の短縮化、及びテストコストの削減化等
が図れる。
Then, the data written to all sub-arrays ↑0-1 to 10-n is sequentially sent via the input/output circuits 15-1 to 15-n, and
The data output nX (Dt to D.) is input to the match/mismatch detection circuit 21. - The match/mismatch detection circuit 21 detects match/mismatch among all input data and outputs the detection result. The detection result is output to the outside in the form of an output signal Dout via the switch circuit 22 and the output buffer 23, so that it is possible to determine the quality of the product. By performing such an on-chip test, it is possible to simplify the test device, shorten the test time, and reduce the test cost.

なお、通常の読出し時においては、全入出力回路15−
1〜15−nからのデータ出力nX (D1〜D、)中
の一つが、デコーダ16により選択され、スイッチ22
及び出力バッファ23を介して外部へ出力される。
Note that during normal reading, all input/output circuits 15-
One of the data outputs nX (D1 to D,) from 1 to 15-n is selected by the decoder 16, and the switch 22
and is output to the outside via the output buffer 23.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記構成の半導体記憶装置では、次のよ
うな課題があった。
(Problems to be Solved by the Invention) However, the semiconductor memory device having the above configuration has the following problems.

従来の半導体記憶装置では、テスト回路20を内蔵して
いるため、製品完成後の良否判定が簡単に行えるという
利点がある。しかし、オンチップテスト時、一致/不一
致検出回路21では、各サブアレイ10−1〜10−n
の全データ出力n×(Di〜D、)をまとめて一致/不
一致の検出を行うので、どのサブアレイ10−工〜■○
−nに不良メモリセルが含まれているのか判定できない
Since a conventional semiconductor memory device has a built-in test circuit 20, it has the advantage that it can easily determine whether the product is good or bad after it is completed. However, during on-chip testing, the match/mismatch detection circuit 21
Match/mismatch detection is performed for all data outputs n×(Di~D,) at once, so which subarray 10-E~■○
It is not possible to determine whether -n includes a defective memory cell.

つまり、不良メモリセルを有するサブアレイ1゜−1〜
10−nを指定することができない。そのため、冗長回
路14の救済プログラムに必要な不良アドレスの判定が
できないので、ブロービング時にオンチップテスト機能
が使えず、メモリ用テスタを用いてメモリアレイ10中
の全メモリセルの良否を判定しなければならなかった。
In other words, subarrays 1°-1 to 1°-1 with defective memory cells
10-n cannot be specified. Therefore, since it is not possible to determine the defective address required for the redundant circuit 14 relief program, the on-chip test function cannot be used during probing, and a memory tester must be used to determine the acceptability of all memory cells in the memory array 10. I had to.

従って、テスト時間の短縮化、及びテストコストの削減
等の点において、技術的に充分満足のゆくものが得られ
ず、回路構成の複雑化やチップサイズの大型化を招くこ
となく、的確な解決手段が望まれていた。
Therefore, in terms of shortening test time and reducing test costs, it has not been possible to achieve sufficient technical satisfaction, and it is difficult to find an accurate solution without complicating the circuit configuration or increasing the chip size. A means was needed.

本発明は前記従来技術が持っていた課題として、テスト
時間の短縮化及びテストコストの削減化等において未だ
不充分な点について解決した半導体記憶装置を提供する
ものである。
The present invention provides a semiconductor memory device that solves the problems of the prior art, which are still insufficient in terms of shortening test time and reducing test costs.

(課題を解決するための手段) 本発明は前記課題を解決するために、不良メモリセル救
済用の冗長回路及びm(複数)本のデータ出力をそれぞ
れ有するn(複数)個のサブアレイより構成されたメモ
リアレイと、前記メモリアレイに書込んだ複数のデータ
を読出してそれらのデータ間の一致/不一致を検出する
テスト回路とを、備えた半導体記憶装置において、前記
テスト回路を次のように楢戒したものである。即ち、前
記テスト回路は、少なくとも、前記各サブアレイに書込
んだm個のデータを読出してそのm個のデータ間の一致
/不一致をそれぞれ検出するn個の第1の一致/不一致
検出回路と、前記全サブアレイに書込んだn×m個のデ
ータを読出してそのn×m個のデータ間の一致/不一致
を検出する1個の第2の一致/不一致検出回路と、前記
メモリアレイの出力データ、前記n個の第Iの一致/不
一致検出回路の出力、及び前記第2の一致/不一致検出
回路の出力のいずれか一つを選択的に出力する出力手段
とで、構成されている。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the above problems, the present invention comprises a redundant circuit for relieving defective memory cells and n (plural) subarrays each having m (plural) data outputs. In the semiconductor memory device, the test circuit is configured as follows: It is a commandment. That is, the test circuit includes at least n first coincidence/mismatch detection circuits that read m pieces of data written in each of the subarrays and detect coincidence/mismatch between the m pieces of data, respectively; one second match/mismatch detection circuit that reads n×m pieces of data written in all the subarrays and detects matches/mismatches between the n×m pieces of data; and output data of the memory array. , an output means for selectively outputting any one of the outputs of the n-th I-th coincidence/mismatch detection circuits and the outputs of the second coincidence/mismatch detection circuits.

(作用) 本発明によれば、以上のように半導体記憶装置を構成し
たので、第1の一致/不一致検出回路は、各サブアレイ
からのデータ出力の一致/不一致をそれぞれ検出し、各
サブアレイ中に不良メモリセルが存在するか否かの判定
を可能にさせる。第2の一致/不一致検出回路は、各サ
ブアレイがらの全データ出力間の一致/不一致を検出し
、メモリアレイ全体の良否判定を可能にさせる。従って
、前記課題を解決できるのである。
(Operation) According to the present invention, since the semiconductor memory device is configured as described above, the first coincidence/mismatch detection circuit detects coincidence/mismatch of data output from each subarray, and detects coincidence/mismatch of data output from each subarray. It is possible to determine whether a defective memory cell exists. The second match/mismatch detection circuit detects match/mismatch between all data outputs from each subarray, making it possible to determine the quality of the entire memory array. Therefore, the above problem can be solved.

(実施例) 第1図は、本発明の実施例を示す半導体記憶装置の概略
の構成ブロック図である。
(Embodiment) FIG. 1 is a schematic block diagram of a semiconductor memory device showing an embodiment of the present invention.

この半導体記憶装置は、例′えば大容量のダイナミック
RAM (ランダム・アクセス・メモリ)で構成される
もので、分割されたn個のサブアレイ30−1〜30−
nからなるデータ格納用のメモリアレイ30を備えてい
る。各サブアレイ3〇−1〜30−nは、m本のデータ
出力D1〜D、を持ち、複数のメモリセル及びセンスア
ンプからなるメモリセルアレイ31と、メモリセルアレ
イ31の行及び列選択を行う行デコーダ32及び列デコ
ーダ13と、冗長メモリセル及び冗長デコーダ等を有す
る冗長回路34とで、それぞれ構成されている。
This semiconductor memory device is composed of, for example, a large-capacity dynamic RAM (random access memory), and is divided into n subarrays 30-1 to 30-.
A memory array 30 for data storage consisting of n is provided. Each sub-array 30-1 to 30-n has m data outputs D1 to D, and includes a memory cell array 31 consisting of a plurality of memory cells and sense amplifiers, and a row decoder that selects rows and columns of the memory cell array 31. 32, a column decoder 13, and a redundant circuit 34 having a redundant memory cell, a redundant decoder, etc., respectively.

各サブアレイ30−1〜30−nのデータ出力D1〜D
mは、入出力回路35−1〜35−〇を介してデコーダ
36に接続されると共に、オンチップテスト用のテスト
回路40に接続されている。
Data outputs D1 to D of each subarray 30-1 to 30-n
m is connected to the decoder 36 via input/output circuits 35-1 to 35-0, and is also connected to a test circuit 40 for on-chip testing.

デコーダ36は、各入出力回路35−l〜35−nから
のデータ出力nX(Dt〜D、)をテ゛コードして、い
ずれか一つを選択する回路である。
The decoder 36 is a circuit that decodes the data output nX (Dt to D,) from each of the input/output circuits 35-l to 35-n and selects one of them.

デス1〜回路40は、各入出力回路35−1〜35−n
からのデータ出力Dl〜Doがそれそ゛れ一致するか否
かの検出を行うn個の一致/不一致検出回B50−1〜
50−nと、全入出力回路35−1〜35−nからのテ
′−タ出力n×(D1〜D、)の全てが一致するか否か
の検出を行う川内の一致/不一致検出回路60と、スイ
ッチ回路70とで、構成されている。スイッチ回路70
は、テスト信号TSI、TS2に基づき、デコーダ36
の出力、一致/不一致検出回Elt 50− nの出力
、または一致/不一致検出回路70の出力のいずれか一
つを切換える回路である。例えば、テスト信号TSIが
“H”レベルの時は一致/不一致検出回路50−nの出
力が、テスト信号TS2が゛H′ルベルの時は一致/不
一致検出回路70の出力が、テスト信号TSIとTS2
が゛L″レベルの時はデコーダ36の出力が、それぞれ
選択される。
The circuits 1 to 40 are each input/output circuit 35-1 to 35-n.
n match/mismatch detection circuits B50-1 to 1 for detecting whether the data outputs Dl to Do match each other.
50-n and Kawauchi's coincidence/mismatch detection circuit that detects whether all data outputs n×(D1 to D,) from all input/output circuits 35-1 to 35-n match. 60 and a switch circuit 70. switch circuit 70
is the decoder 36 based on the test signals TSI and TS2.
, the output of the coincidence/mismatch detection circuit Elt 50-n, or the output of the coincidence/mismatch detection circuit 70. For example, when the test signal TSI is at the "H" level, the output of the match/mismatch detection circuit 50-n is the "H" level, and when the test signal TS2 is at the "H" level, the output of the match/mismatch detection circuit 70 is the test signal TSI. TS2
When the signal is at the "L" level, the output of the decoder 36 is selected.

一致/不一致検出回路50−工〜5O−(n−1)及び
゛スイッチ回路70の各出力1則には、出力信号り。1
〜Donをそれぞれ出力するための出力バッファ80−
1〜80−nが接続されている。
Each output signal of the match/mismatch detection circuit 50-5O-(n-1) and the switch circuit 70 has an output signal. 1
~Output buffer 80- for outputting each Don
1 to 80-n are connected.

なお、入出力回路35−1〜35−nには、図示しない
書込み回路が接続されている。
Note that a write circuit (not shown) is connected to the input/output circuits 35-1 to 35-n.

第3図は、第1図における一致/不一致検出回路50−
1〜50−n、60及びスイッチ回路70の一構成例を
示す部分回路図である。
FIG. 3 shows the match/mismatch detection circuit 50- in FIG.
1 to 50-n, 60, and a partial circuit diagram showing a configuration example of a switch circuit 70. FIG.

各一致/不一致検出回路50−1〜50−nは、同一の
回路で構成されている。例えば、一致/不一致検出回路
50−1は、インバータ51,5256a  56b、
Pチャネル型MOSトランジスタ(以下、PMO3とい
う)53a、53b、Nチャネル型MOSトランジスタ
(以下、NMO3という>54a、54b、55a、5
5b、及び2人力のナントゲート(以下、NANDとい
う)57等を有するエクスクル−シブ・ノアゲート(以
下、Ex −NORという〉で構成されている。
Each of the coincidence/mismatch detection circuits 50-1 to 50-n is composed of the same circuit. For example, the match/mismatch detection circuit 50-1 includes inverters 51, 5256a 56b,
P-channel type MOS transistors (hereinafter referred to as PMO3) 53a, 53b, N-channel type MOS transistors (hereinafter referred to as NMO3) >54a, 54b, 55a, 5
5b, and an Ex-NOR gate (hereinafter referred to as Ex-NOR) having a two-man powered Nand gate (hereinafter referred to as NAND) 57, etc.

このEx−NORは、入出力回路35−1からのデータ
出力D1〜D、がオール“1 ++またはオールII 
OIIの時に出力が“1′°、それ以外の時に出力が゛
0パとなる回路である。
In this Ex-NOR, data outputs D1 to D from the input/output circuit 35-1 are all "1 ++" or all "II"
This is a circuit in which the output is "1'° during OII, and the output is 0% at other times.

一致/不一致検出回路60は、インバータ61゜62.
66a、66b、PMO863a、63b、NMO36
4a、64b、65a、65b、及び2人力のNAND
67等を有するEx・NORで構成されている。このE
x−NORは、全入出力回路35−l〜35−nからの
データ出力n×(Di−D、)がオールパ↓パまたはオ
ール“0″の時に出力がII I ++、それ以外の時
に出力がII O++、となる回路である。
The match/mismatch detection circuit 60 includes inverters 61, 62, .
66a, 66b, PMO863a, 63b, NMO36
4a, 64b, 65a, 65b, and 2-person NAND
It is composed of Ex/NOR with 67 etc. This E
The x-NOR outputs II I ++ when the data output n×(Di-D,) from all input/output circuits 35-l to 35-n is all ↓ or all “0”, and outputs otherwise. is II O++.

スイッチ回路70は、インバータ71〜73と、2人力
のノアゲート(以下、NORという)74と、PMO3
及びNMO3の並列接続からなるアナログスイッチ75
〜77とで、構成されている。
The switch circuit 70 includes inverters 71 to 73, a two-man powered NOR gate (hereinafter referred to as NOR) 74, and a PMO3.
Analog switch 75 consisting of parallel connection of and NMO3
~77.

このスイッチ回路70は、テスト信号TSIが′“Hu
レベルの時にアナログスイッチ75がオンして一致/不
一致検出回路50−nと出力バッファ80−nとの間が
導通し、テスト信号TS2が”H”レベルの時にアナロ
グスイッチ76がオンして一致/不一致検出回路60と
出力バッファ80−nとの間が導通する。さらに、テス
ト信号TS1とTS2が“L”の時には、N0R74を
介してアナログスイッチ77がオンし、デコーダ36と
出力バッファ80−nとの間が導通する。
This switch circuit 70 is configured such that the test signal TSI is
When the test signal TS2 is at the "H" level, the analog switch 75 is turned on and conduction is established between the match/mismatch detection circuit 50-n and the output buffer 80-n, and when the test signal TS2 is at the "H" level, the analog switch 76 is turned on and the match/mismatch detection circuit 50-n is turned on. Conductivity is established between the mismatch detection circuit 60 and the output buffer 80-n. Further, when the test signals TS1 and TS2 are "L", the analog switch 77 is turned on via the N0R 74, and conduction is established between the decoder 36 and the output buffer 80-n.

次に、動作を説明する。Next, the operation will be explained.

先ず、ブロービング時に救済プログラムの処理を行う場
合、テスト信号TSIをII HI+レベルにしてスイ
ッチ回路70を一致/不一致検出回路50− n (j
ljJへ切換える。そして、図示しない書込み回路によ
り、入出力回路35−1〜35−nを介して各サブアレ
イ30−1〜30−n中のメモリセルアレイ31へ、7
11 ++または110 ++の同一データを書込む。
First, when processing a relief program during probing, the test signal TSI is set to II HI+ level and the switch circuit 70 is set to match/mismatch detection circuit 50-n (j
Switch to ljJ. Then, by a write circuit (not shown), the 7
Write the same data of 11 ++ or 110 ++.

次に、書込んだデータを各サブアレイ30〜1〜30−
nがら続出し、その読出した各データ出力D□〜D。を
入出力回B55−1〜35−nから送出する。すると、
各一致/不一致検出回路50−1〜50−nは、各デー
タ出力D1〜D、nが一致するか否かをそれぞれ検出し
、一致の時(不良メモリセル無しの時〉には+111+
を出力し、不一致の時(不良メモリセル有りの時)には
○′″を出力する。
Next, write the written data to each subarray 30-1-30-
Each of the read data outputs D□ to D are successively read out. is sent from the input/output circuits B55-1 to 35-n. Then,
Each match/mismatch detection circuit 50-1 to 50-n detects whether or not each data output D1 to D, n match, and when they match (when there is no defective memory cell), +111+
is output, and when there is a mismatch (when there is a defective memory cell), ○''' is output.

この各出力は、出力バッファ80−1〜8O−(n−1
)を介して出力信号Do 1〜Do n  1の形で出
力されると共に、スイッチ回路70及び出力バッファ8
0−nを介して出力信号り。nの形で出力される。その
ため、各出力信号り。工〜Donの論理状態を検出する
ことにより、不良メモリセルを有するサブアレイ30−
1〜30−nの判定が行える。従って、不良メモリセル
を有するサブアレイ30−1〜30−nに対して、メモ
リ用テスタ等で不良アドレスの検出を行い、その不良ア
ドレスに対応する冗長回路34中の冗長メモリセル箇所
をレーザビーム等で切断して、不良メモリセルを冗長メ
モリセルに置き換えれば、テスト時間の短縮化とテスト
コストの低減化が図れる。
These outputs are output from output buffers 80-1 to 80-(n-1
) are output in the form of output signals Do 1 to Don 1, and the switch circuit 70 and the output buffer 8
Output signal via 0-n. It is output in the form of n. Therefore, each output signal. By detecting the logic state of the sub-arrays 30-- and 30-- that have defective memory cells,
Judgments from 1 to 30-n can be made. Therefore, for subarrays 30-1 to 30-n having defective memory cells, defective addresses are detected using a memory tester or the like, and redundant memory cells in the redundant circuit 34 corresponding to the defective addresses are detected using a laser beam or the like. If the defective memory cell is replaced with a redundant memory cell, the test time and test cost can be reduced.

半導体記憶装置の製造終了後において良否判定を行う場
合、テスト信号TS2を“H″レベルしてスイッチ回路
70を一致/不一致検出回路60側へ切換える。そして
、入出力回路35−1〜35−nを介して全サブアレイ
30−1〜30−nへ書込んだデータを、データ出力n
x(Dt〜Dffi〉の形で読出す。すると、一致/不
一致検出回路60が、全データ出力Hx(Dt〜D、)
間の一致/不一致を検出する。この検出結果は、スイッ
チ回&670及び出力バッファ80−nを介して、出力
信号Donの形て゛出力される。従って、出力信号Do
nの論理状態を検出することにより、簡単、かつ的確に
製品の良否を判定できる。
When performing a pass/fail determination after the completion of manufacturing of a semiconductor memory device, the test signal TS2 is set to "H" level and the switch circuit 70 is switched to the match/mismatch detection circuit 60 side. Data output n
x(Dt~Dffi>). Then, the match/mismatch detection circuit 60 outputs all data Hx(Dt~D,)
Detect matches/mismatches between This detection result is output in the form of an output signal Don via the switch &670 and the output buffer 80-n. Therefore, the output signal Do
By detecting the logical state of n, it is possible to easily and accurately determine the quality of the product.

また、通常の読出し動作の場合、テスト信号TS1とT
S2を“′L′°レベルにしてスイッチ回路70をデコ
ーダ36側へ切換える。すると、全入出力回路35−1
〜35−nがらの読出しデータ出力n X (D 1〜
D□)中の−っが、デコーダ36により選択され、スイ
ッチ7o及び出力バッファ80−nを介して外部へ出力
される。
In addition, in the case of normal read operation, test signals TS1 and T
S2 is set to "'L'° level and the switch circuit 70 is switched to the decoder 36 side. Then, all input/output circuits 35-1
~35-n read data output nX (D1~
- in D□) is selected by the decoder 36 and output to the outside via the switch 7o and the output buffer 80-n.

以上のように、本実施例では、テスト回路4゜に、製品
完成後の良否判定のテスト機能に加えて、冗長回路34
単位でオンチップテスト可能なテスト機能を付加したの
で、ブロービング時の不良アドレス判定時にも、オンチ
ップテスト機能を使用でき、それによってテスト時間の
短縮化と、テストコストの低減化が図れる。さらに、一
致/不一致検出回路50−1〜50−n等を付加するだ
けであるから、回路構成がそれほど複雑化せず、しかも
チップサイズもそれほど増大することなく、オンチップ
テスト可能な半導体記憶装置を提供できる。
As described above, in this embodiment, the test circuit 4 has a redundant circuit 34 in addition to the test function for determining the quality of the product after it is completed.
Since a test function that allows on-chip testing in units has been added, the on-chip test function can be used even when determining a defective address during probing, thereby shortening test time and reducing test cost. Furthermore, since it is only necessary to add match/mismatch detection circuits 50-1 to 50-n, etc., the semiconductor memory device can be tested on-chip without complicating the circuit configuration or increasing the chip size. can be provided.

なお、本発明は図示の実施例に限定されず、種々の変形
が可能である。その変形例としては、例えば次のような
ものがある。
Note that the present invention is not limited to the illustrated embodiment, and various modifications are possible. Examples of such modifications include the following.

(a)  上記実施例では、出力手段を、スイッチ回路
70及び出力バッファ80−1〜80−nで構成してい
るが、例えばテスト信号TSIの“°Hパレベル時のみ
、出力バッファ80−l〜8O−(n−1>を活性化さ
せる構成にすることにより、消費電力の低減化を図るこ
とも可能である。同様に、テスト信号TSI、TS2に
応じて一致/不一致検出回路50−■〜50−n、60
を活性化する構成にすることにより、低消費電力化の向
上が図れる。
(a) In the above embodiment, the output means is composed of the switch circuit 70 and the output buffers 80-1 to 80-n. It is also possible to reduce power consumption by activating 8O-(n-1>.Similarly, the match/mismatch detection circuit 50-■~ 50-n, 60
By activating the configuration, it is possible to improve lower power consumption.

(b)  一致/不一致検出回路50−1〜50−n、
60は、エクスクル−シブ・オア(Ex・OR)等の他
の回路で構成したり、あるいはスイッチ回路70を、ゲ
ート回路等の他の回路で構成してもよい。
(b) Match/mismatch detection circuits 50-1 to 50-n,
60 may be constructed from other circuits such as an exclusive OR (Ex.OR), or the switch circuit 70 may be constructed from other circuits such as a gate circuit.

(C)  上記の半導体記憶装置は、スタティックRA
M等の他の半導体メモリにも適用できる。
(C) The above semiconductor memory device has a static RA
It can also be applied to other semiconductor memories such as M.

(発明の効果) 以上詳細に説明したように、本発明によれば、テスト回
路に、第1の一致/不一致検出回路を設けたので、回路
構成を複雑化することなく、しかもチップサイズをそれ
ほど大型化することなく、プロービング時の不良アドレ
ス判定時にも、オンチップテスト機能を使用でき、それ
によってテスト時間の短縮化や、テストコストの低減化
等が可能となる。
(Effects of the Invention) As described above in detail, according to the present invention, the test circuit is provided with the first match/mismatch detection circuit, so the circuit configuration is not complicated, and the chip size can be significantly reduced. The on-chip test function can be used even when determining a defective address during probing without increasing the size, thereby making it possible to shorten test time and reduce test cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の実施例を示す半導体記憶装置の概略の
構成ブロック図、第2図は従来の半導体記憶装置の概略
の構成ブロック図、第3図は第工図の部分回路図である
。 30・・・・・・メモリアレイ、30−1〜30−n・
・・・・・サブアレイ、31・・・・・・メモリセルア
レイ、34・・・・・・冗長回路、40・・・・・・テ
スト回路、50−1〜50−n、60・・・・・・一致
/不一致検出回路、7゜・・・・・・スイッチ回路、8
0−工〜80−n・・回出力バッファ。
FIG. 1 is a schematic structural block diagram of a semiconductor memory device showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic structural block diagram of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 3 is a partial circuit diagram of the construction drawing. . 30... Memory array, 30-1 to 30-n.
...Sub array, 31...Memory cell array, 34...Redundant circuit, 40...Test circuit, 50-1 to 50-n, 60... ... Match/mismatch detection circuit, 7゜...Switch circuit, 8
0-t~80-n... times output buffer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 不良メモリセル救済用の冗長回路及びm(複数)本のデ
ータ出力をそれぞれ有するn(複数)個のサブアレイよ
り構成されたメモリアレイと、前記メモリアレイに書込
んだ複数のデータを読出してそれらのデータ間の一致/
不一致を検出するテスト回路とを、備えた半導体記憶装
置において、前記テスト回路は、 前記各サブアレイに書込んだm個のデータを読出してそ
のm個のデータ間の一致/不一致をそれぞれ検出するn
個の第1の一致/不一致検出回路と、 前記全サブアレイに書込んだn×m個のデータを読出し
てそのn×m個のデータ間の一致/不一致を検出する1
個の第2の一致/不一致検出回路と、 前記メモリアレイの出力データ、前記n個の第1の一致
/不一致検出回路の出力、及び前記第2の一致/不一致
検出回路の出力のいずれか一つを選択的に出力する出力
手段とを、 備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
[Claims] A memory array consisting of n (plural) subarrays each having a redundant circuit for relieving defective memory cells and m (plural) data outputs, and Read the data and match/match the data
and a test circuit for detecting a mismatch, the test circuit reading the m pieces of data written in each of the subarrays and detecting a match/mismatch between the m pieces of data, respectively.
a first match/mismatch detection circuit; and a first match/mismatch detection circuit that reads out the n×m data written to all the subarrays and detects match/mismatch between the n×m data.
one of the output data of the memory array, the output of the n first match/mismatch detection circuits, and the output of the second match/mismatch detection circuit; What is claimed is: 1. A semiconductor memory device comprising: output means for selectively outputting one of the two.
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