JPH0359645A - Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

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JPH0359645A
JPH0359645A JP19718489A JP19718489A JPH0359645A JP H0359645 A JPH0359645 A JP H0359645A JP 19718489 A JP19718489 A JP 19718489A JP 19718489 A JP19718489 A JP 19718489A JP H0359645 A JPH0359645 A JP H0359645A
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JP
Japan
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group
silver halide
groups
antistatic layer
halide photographic
Prior art date
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Pending
Application number
JP19718489A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Haniyu
武 羽生
Yasuhiko Takamukai
保彦 高向
Taketoshi Yamada
岳俊 山田
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Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a silver halide photographic sensitive material which has a hazeless antistatic layer having excellent transparency by dispersing and stabilizing hydrophobic polymer particles as a cyano group-contg. latex into the antistatic layer. CONSTITUTION:The hydrophobic polymer particles are dispersed and stabilized as the cyano group-contg. latex in the antictatic layer of a plastic film supporting body formed by having the antistatic layer consisting of the reaction product of a water soluble conductive polymer, the hydrophobic polymer particles and a hardener. Thus, the silver halide photographic sensitive material which has the hazeless antistatic layer having the excellent transparency, is less deteriorated in surface specific resistance and is not desensitized with the lapse of time in spite of using a super high-contrast agent, such as tetrazolium comped. or hydrazine compd., and has high stability is obtd..

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラスチックフィルム支持体用の帯電防止層
に関し、特に帯電防止能の優れたハロゲン化銀写真感光
材料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an antistatic layer for a plastic film support, and more particularly to a silver halide photographic material with excellent antistatic ability.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

一般にプラスチイックフィルム支持体は、帯電性が強く
、これが使用上多くの制約を与えている例は多い。例え
ばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレンテ
レフタレートのような支持体が一般に使用されるが、 
特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近のよう
に高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の感光
材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合、特
に帯電防止対策が重要である。
Generally, plastic film supports have strong electrostatic properties, and this often imposes many restrictions on their use. For example, supports such as polyethylene terephthalate are generally used in silver halide photographic materials;
It is easy to be charged especially in low humidity such as winter. Antistatic measures are especially important when high-speed photographic emulsions are coated at high speeds or when high-sensitivity photosensitive materials are exposed to light using automatic printers, as has been the case recently.

感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フツ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
When a photosensitive material is charged, static marks appear due to the discharge, or foreign matter such as dust adheres to it, which causes pinholes and significantly degrades the quality, making it extremely difficult to repair. I'll put it down. For this reason, antistatic agents are generally used in photosensitive materials, and recently, fluorine-containing surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, surfactants or polymer compounds containing polyethylene oxide groups, and sulfonic acid Alternatively, a polymer having a phosphoric acid group in the molecule is used.

特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはポリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ポリマーを適用する例が開示されている。
In particular, adjusting the charge series using fluorine-based surfactants or improving conductivity using conductive polymers has been widely used, for example, in JP-A-49-91165 and JP-A-49-1.
No. 21523 discloses an example in which an ionic polymer having a dissociative group in the polymer main chain is applied.

しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
However, in these conventional techniques, the antistatic ability is significantly deteriorated by the development process.

これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済みフィルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
This is thought to be because the antistatic ability is lost through processes such as a developing process using an alkali, an acidic fixing process, and washing with water. Therefore, when a processed film is further used for printing, such as with printing photosensitive materials, problems such as pinholes occur due to adhesion of dust.

このため例えば特開昭55−84658号、同61−1
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、尚透明性の面では不充分である。
For this reason, for example, JP-A Nos. 55-84658 and 61-1
No. 74542 proposes an antistatic layer comprising a water-soluble conductive polymer having a carboxyl group, a hydrophobic polymer having a carboxyl group, and a polyfunctional aziridine. Although this method allows antistatic properties to remain after treatment, it is still insufficient in terms of transparency.

さらに、この帯電防止層を有するプラスチックフィルム
支持体に、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合
物を使った超硬調化乳剤を適用した場合、経時保存で減
感する欠点を有することが分かつt;。
Furthermore, when an ultra-high contrast emulsion using a tetrazolium compound or a hydrazine compound is applied to a plastic film support having an antistatic layer, it has been found that the emulsion becomes desensitized during storage over time.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

上記のような問題に対し、本発明の目的は透明性に優れ
たヘーズの無い帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を提供することであり、さらに別の目的はテトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物を使用した場合
でも帯電防止能に優れ、経時で減感せず安定性の高いハ
ロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a silver halide photographic material having an antistatic layer with excellent transparency and no haze.A further object of the present invention is to provide a silver halide photographic material having an antistatic layer with excellent transparency and no haze. It is an object of the present invention to provide a silver halide photographic light-sensitive material which has excellent antistatic ability even when used and is highly stable without desensitization over time.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明の上記目的は、■水溶性導電性ポリマー■疎水性
ポリマー粒子、■硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がシアノ基含有のラテックスとし
て帯電防止層中に分散安定化されていることを特徴とす
る帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料により
達成される。
The above object of the present invention is to provide a plastic film support having an antistatic layer consisting of a reaction product of (1) a water-soluble conductive polymer, (2) hydrophobic polymer particles, and (2) a curing agent.
This is achieved by a silver halide photographic material having an antistatic layer characterized in that the hydrophobic polymer particles are dispersed and stabilized in the antistatic layer as a cyano group-containing latex.

尚、本発明の感光性乳剤層中に、テトラゾリウム化合物
またはヒドラジン化合物を含有することが望ましい。
Incidentally, it is desirable that the photosensitive emulsion layer of the present invention contains a tetrazolium compound or a hydrazine compound.

以下、本発明の詳細について説明する。The details of the present invention will be explained below.

本発明の水溶性導電性ポリマーは、単独で使用すること
によっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件の
ブレによって層のひび割れを引き起こしてしまう。本発
明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマー
粒子を含有しているが、その効果は大きい。
Although the water-soluble conductive polymer of the present invention can form a transparent layer when used alone, a slight fluctuation in drying conditions may cause cracks in the layer. The structure of the present invention contains hydrophobic polymer particles to prevent cracking, and the effect is significant.

本発明の請求項1記載の水溶性導電性ポリマーについて
は、スルホン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム
塩、3級アンモニウム塩、カルボキシル基、ポリエチレ
ンオキシド基から選ばれる少なくとも1つの導電性基を
有するポリマーが挙げられる。これらの基のうちスルホ
ン酸基、硫酸エステル基、4級アンモニウム塩基が好ま
しい。
The water-soluble conductive polymer according to claim 1 of the present invention has at least one conductive group selected from a sulfonic acid group, a sulfuric acid ester group, a quaternary ammonium salt, a tertiary ammonium salt, a carboxyl group, and a polyethylene oxide group. Examples include polymers with Among these groups, sulfonic acid groups, sulfuric acid ester groups, and quaternary ammonium bases are preferred.

導電性基はポリマー1分子当たり5重量%以上を必要と
する。水溶性の導電性ポリマー中に含まれるカルボキシ
基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン
基、活性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、
ビニルスルホン基のうち、カルボキシ基、ヒドロキシ基
、アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、アルデヒド基
が好ましい。
The amount of conductive groups required is 5% by weight or more per polymer molecule. Carboxy groups, hydroxy groups, amino groups, epoxy groups, aziridine groups, active methylene groups, sulfinic acid groups, aldehyde groups contained in water-soluble conductive polymers,
Among vinyl sulfone groups, carboxy groups, hydroxy groups, amino groups, epoxy groups, aziridine groups, and aldehyde groups are preferred.

これらの基はポリマー1分子当たり5重量%以上必要と
する。ポリマーの分子量は、3000〜100000で
あり、好ましくは3500〜50000である。
These groups are required in an amount of 5% by weight or more per polymer molecule. The molecular weight of the polymer is 3,000 to 100,000, preferably 3,500 to 50,000.

以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものではない。
Examples of water-soluble conductive polymer compounds used in the present invention are listed below, but the present invention is not limited thereto.

A−1ホモポリマー −2 ホモポリマー コLJ、Na 3 −5 03Na −6 SO,Na −7 SO,Na −8 −9 −10 CH。A-1 homopolymer -2 homopolymer KoLJ, Na 3 -5 03Na -6 SO, Na -7 SO, Na -8 -9 -10 CH.

1 a 03Na 2 3 CH3 −14 C1120SO3Na −15 −17 19 0 −21 −22 Na1万 M’+1.5万 3 デキスト ラ ンサル7エイ ト 置換度 2.0 M −10万 −24 −25 6 SO,Na 7− OINa 9 0 −31 2 −33  −34 SO.Na 35 −36 八−37 8 −39 −40 −41 2 I3 M崎1万 −43 4 5 x:y:z:w−40:30:20:10−47 8 −49 −50 M#5万 尚、上記(1)〜(50)において、x、y、zはそれ
ぞれ単量体成分のモル%を、又Mは平均分子量(本明細
書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
1 a 03Na 2 3 CH3 -14 C1120SO3Na -15 -17 19 0 -21 -22 Na10,000 M'+15,0003 Dextran sal 7-eight substitution degree 2.0 M -100,000-24 -25 6 SO, Na 7 - OINa 9 0 -31 2 -33 -34 SO. Na 35 -36 8-37 8 -39 -40 -41 2 I3 M#10,000-43 4 5 x:y:z:w-40:30:20:10-47 8 -49 -50 M#50,000 In addition, in the above (1) to (50), x, y, and z each represent the mol% of the monomer component, and M represents the average molecular weight (in this specification, the average molecular weight refers to the number average molecular weight). represents.

これらのポリマーは市販又は常法によって得られる七ツ
マ−を重合することにより合成することが出来る。これ
らの化合物の添加量は0.01g” log/−が好ま
しく、特に好ましくはO,1g〜5g/m”である。
These polymers can be synthesized by polymerizing heptamers that are commercially available or obtained by conventional methods. The amount of these compounds added is preferably 0.01 g"log/-, particularly preferably 0.1 g/m to 5 g/m".

次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、シ
アノ基含有のスチレン、スチレン誘導体、アルキルアク
リレート、アルキルメタクリレート。特にシアノ基含有
のスチレン誘導体、アルキルアクリレート、アルキルメ
タクリレートが少なくとも30モル%含有されているの
が好ましい。特に50モル%以上が好ましい。
Next, the hydrophobic polymer particles contained in the water-soluble conductive polymer layer of the present invention are contained in a so-called latex form that is substantially insoluble in water. These hydrophobic polymers include cyano group-containing styrene, styrene derivatives, alkyl acrylates, and alkyl methacrylates. In particular, it is preferable that at least 30 mol% of a cyano group-containing styrene derivative, alkyl acrylate, or alkyl methacrylate is contained. Particularly preferred is 50 mol% or more.

疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、シかもそろっt;ものができるという点で乳化重合
することが好ましい。
There are two methods to make a latex from a hydrophobic polymer: emulsion polymerization, or dissolving a solid polymer in a low boiling point solvent and finely dispersing it, followed by distilling off the solvent. t: Emulsion polymerization is preferred in terms of the ability to produce products.

乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、モノマーに対し1
0重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導を柱層
をくもらせる原因となる。
As the surfactant used during emulsion polymerization, it is preferable to use an anionic or nonionic surfactant.
It is preferably 0% by weight or less. A large amount of surfactant causes clouding of the conductive columnar layer.

疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良木発
明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。
If the molecular weight of the hydrophobic polymer is 3000 or more, specific examples of the hydrophobic polymer of Yoshiki's invention will be given.

−6 B−11 本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のものを全て使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
-6 B-11 In the present invention, a conductive layer is coated on a transparent support. Although any photographic transparent support can be used, polyethylene terephthalate or cellulose triacetate, which is made to transmit 90% or more of visible light, is preferable.

これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
These transparent supports are prepared by methods well known to those skilled in the art, but in some cases, a slight amount of dye may be added to give them a blue tint so as not to substantially inhibit light transmission. good.

本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、二不ルギー値としてIn+W〜l k
W/mzmrnが特に好ましく適用される。
The support of the present invention may be coated with a subbing layer containing a latex polymer after being subjected to a corona discharge treatment. In the corona discharge treatment, In+W~l k
W/mzmrn is particularly preferably applied.

又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電柱層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
Particularly preferably, corona discharge treatment is performed again after coating the latex undercoat layer and before coating the conductive column layer.

本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
As the compound for curing the conductive layer of the present invention, polyfunctional aziridine is preferred. Particularly preferred are those having bifunctional or trifunctional properties and a molecular weight of 600 or less.

本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、 感光層に対し支持体の反対側、 いわ 本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式〔H〕で表される化合物である。
The conductive layer of the present invention may be located on the side of the support from the photosensitive layer, or on the opposite side of the support with respect to the photosensitive layer.The hydrazine compound used in the present invention is preferably represented by the following general formula [H]. It is a compound that is

一般弐(H) QI Q! Xl I R,−N −N −C−R2 式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
(H)で表される化合物のうち、X、が酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
General 2 (H) QI Q! Xl I R, -N -N -C-R2 In the formula, R1 represents a monovalent organic residue, R2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic residue, Q and Q2 are a hydrogen atom,
Alkylsulfonyl group (including those with substituents),
It represents an arylsulfonyl group (including one having a substituent), and Xl represents an oxygen atom or a sulfur atom. Among the compounds represented by the general formula (H), compounds in which X is an oxygen atom and R2 is a hydrogen atom are more preferred.

上記R8及びR3の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
The monovalent organic residues for R8 and R3 include aromatic residues, heterocyclic residues, and aliphatic residues.

芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアン基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
フェニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
フェニル基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシ
フェニル基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オク
チルアミノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフェニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)フェニル基、4−[2−(2,
4−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド1
フエニル基、4−[2−(2,4ジーtert−ブチル
フェノキシ)ブチルアミド1フエニル基などを挙げるこ
とができる。
Aromatic residues include phenyl groups, naphthyl groups, and substituents thereof (for example, alkyl groups, alkoxy groups, acylhydrazino groups, dialkylamino groups, alkoxycarbonyl groups, cyan groups, carboxy groups, nitro groups, alkylthio groups, and hydroxy groups). , sulfonyl group, carbamoyl group, halogen atom, acylamino group, sulfonamide group,
urea group, thiourea group, etc.). Specific examples of those with substituents include 4-methylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 4-oxyethylphenyl group, 4-dodecylphenyl group, 4-carboxyphenyl group, 4-diethylaminophenyl group, -octylaminophenyl group, 4-benzylaminophenyl group, 4-acetamido-2-methylphenyl group, 4-(3
-ethylthioureido)phenyl group, 4-[2-(2,
4-tert-butylphenoxy)butyramide 1
Examples include phenyl group, 4-[2-(2,4-di-tert-butylphenoxy)butyramide 1 phenyl group, and the like.

複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する工員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
The heterocyclic residue is a membered or six-membered monocyclic or condensed ring having at least one of oxygen, nitrogen, sulfur, or selenium atoms, and a substituent may be attached thereto.

具体的には例えば、ビロリン環、ピリジン環、ギノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
Specifically, for example, biroline ring, pyridine ring, gynoline ring, indole ring, oxazole ring, benzoxazole ring, naphthoxazole ring, imidazole ring, benzimidazole ring, thiazoline ring, thiazole ring, benzothiazole ring, naphthothiazole ring, selenazole ring,
Examples include residues such as a benzoselenazole ring and a naphthoselenazole ring.

これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニルMeの炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
These heterocycles have 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group.
Alkyl group, methoxy group, ethoxy group, etc. having 1 to 4 carbon atoms
may be substituted with an alkoxy group of phenyl Me, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a halogen atom such as chloro or bromine, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, an amino group, or the like.

脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
Aliphatic residues include linear and branched alkyl groups, cycloalkyl groups, and those with substituents, as well as alkenyl groups and alkynyl groups.

直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
Straight-chain and branched alkyl groups include, for example, those having 1 to 1 carbon atoms.
18, preferably an alkyl group of 1 to 8, and specific examples include a methyl group, ethyl group, isobutyl group, l-octyl group, and the like.

シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜lOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキシプロピル基、エトキンカルボニルメチル基、
4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できる。また、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl) 基、アルキニル基としては例えばプロパル
ギル基を挙げることができる。
Examples of the cycloalkyl group include those having 3 to 10 carbon atoms, such as cyclopropyl, cyclohexyl, adamantyl, and the like. Substituents for alkyl groups and cycloalkyl groups include alkoxy groups (e.g. methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, hydroxy groups, alkylthio groups, amide groups, acyloxy groups,
Cyano group, sulfonyl group, halogen atom (e.g. chlorine,
bromine, fluorine, iodine, etc.), aryl groups (e.g., phenyl group, halogen-substituted phenyl group, alkyl-substituted phenyl group), etc. Specific examples of substituted groups include 3
-methoxypropyl group, etquin carbonylmethyl group,
Examples include 4-chlorocyclohexyl group, benzyl group, p-methylbenzyl group, and p-chlorobenzyl group. In addition, examples of alkenyl groups include allyl (a
Examples of the alkynyl group and the alkynyl group include a propargyl group.

本発明のヒ ドラジン化合物の好ましい具体例を 以下に示すが、 本発明は何等これによって限定さ れるものではない。The present invention Preferred specific examples of dorazine compounds As shown below, The invention is in no way limited thereby. It's not something you can do.

 − −3 − 6 1 −10 −13 4 6− 8  −19 0 1  −22 3 4 −25 Cl(。− -3 − 6 1 -10 -13 4 6- 8 −19 0 1 −22 3 4 -25 Cl(.

H3 H−26 H−30 −31 −34 −35 −38 −39 0 −41 −42 −43 H−44 H−45 −46 一般式()f)で表わされるヒドラジン化合物の添加位
置はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲ
ン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、
ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加
量は、10−’〜10−’モル/銀1モルが好ましく、
更に好ましくは1o−4〜1゜−2モル/銀Iモルであ
る。
H3 H-26 H-30 -31 -34 -35 -38 -39 0 -41 -42 -43 H-44 H-45 -46 The addition position of the hydrazine compound represented by general formula ()f) is silver halide The emulsion layer and/or the non-photosensitive layer on the side of the silver halide emulsion layer on the support, preferably,
The silver halide emulsion layer and/or its lower layer. The amount added is preferably 10-' to 10-' mol/silver 1 mol,
More preferably, it is 10-4 to 1°-2 mole/I mole of silver.

次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
Next, the tetrazolium compound used in the present invention will be explained.

テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができる
The tetrazolium compound can be represented by the following general formula.

一般式(T) 本発明において、上記一般式(T)で示されるトリフェ
ニルテトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基R1、
R2、R3は水素原子もしくは電子吸引仕度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
General formula (T) In the present invention, substituent R1 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the above general formula (T),
R2 and R3 are preferably hydrogen atoms or those having a negative or positive Hammett's sigma value (σP) indicating the ability to attract electrons.

特に負のものが好ましい。In particular, negative ones are preferred.

フェニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ  ミ  ス
  ト  リ  −  (Journal   of 
  Medical   Chemistry)第20
巻、304頁、1977年、記載のC,ハンクス(C。
Hammett's sigma values for phenyl substitution have been reported in many publications, such as the Journal of Medical Chemistry.
Medical Chemistry) No. 20
Vol. 304, 1977, as described by C. Hanks (C.

Hansch)等の轍叉等に見ることが出来、とくに好
ましい負のシグマ値を有する基としては、例えばメチル
基(σP−−0.17以下いずれもaP値)エチル基(
−0,15)、シクロプロピル基(−0,21)、n−
グロピル基(−0,13)、isoプロピル基(−0,
15)、シクロブチル基(−0,15)、n−ブチル基
(−0,16)、1sO−ブチル基(−0,20)、n
−ペンチル基(−0,15)、シクロヘキシル基(−0
,22)、アミノ基(−0,66)、アセチルアミノ基
(−0,15)、ヒドロキシル基(−0,37)、メト
キシ基(−0,27)、エトキシ基(−0,24)、プ
ロポキシ基(−0,25)、ブトキシ基(−0,32)
、ペントキシ基(−0,34)等が挙げられ、これらは
いずれも本発明の一般式(T)の化合物のIt置換基し
て有用である。
Particularly preferred groups having negative sigma values include, for example, the methyl group (σP--0.17 or less, all aP values), the ethyl group (
-0,15), cyclopropyl group (-0,21), n-
Glopyl group (-0,13), isopropyl group (-0,
15), cyclobutyl group (-0,15), n-butyl group (-0,16), 1sO-butyl group (-0,20), n
-pentyl group (-0,15), cyclohexyl group (-0
, 22), amino group (-0,66), acetylamino group (-0,15), hydroxyl group (-0,37), methoxy group (-0,27), ethoxy group (-0,24), Propoxy group (-0,25), butoxy group (-0,32)
, pentoxy group (-0,34), etc., and these are all useful as It substituents in the compound of general formula (T) of the present invention.

以下本発明に用いられる一般式(T)の化合物の具体例
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
Specific examples of the compound of general formula (T) used in the present invention are listed below, but the compound of the present invention is not limited thereto.

本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビュー (Chemical Review
s)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に従
って容易に合皮することができる。
The tetrazolium compound used in the present invention is described in, for example, Chemical Review (Chemical Review).
s) It can be easily made into synthetic leather according to the method described in Vol. 55, pp. 335-483.

本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲ〉′
化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当
り約1mg以上logまで、好ましくは約1mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
The tetrazolium compound of the present invention is a halogen compound of the present invention.
It is preferably used in an amount of about 1 mg or more, preferably about 1 mg or more, up to about 2 g per mole of silver halide contained in the silver photographic material.

本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
The silver halide emulsion used in the light-sensitive material of the present invention includes conventional silver halide emulsions such as silver bromide, silver chloride, silver iodobromide, silver chlorobromide, and silver chloroiodobromide. Any commonly used silver halide grains can be used, and the silver halide grains may be those obtained by any of the acid method, neutral method, and ammonia method.

ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組成分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組成が異なるコア/シェル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形成されるような粒子であ
っても、父上として粒子内部に形成されるような粒子で
もよい。
Silver halide grains may have a uniform silver halide composition distribution within the grain, or may be core/shell grains in which the silver halide composition differs between the inside and surface layer of the grain, and the latent image is mainly on the surface. It may be a particle that is formed inside the particle, or it may be a particle that is formed inside the particle.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2,444.607号、同第2,716.062号
、同第3.512,982号、西独国出願公告第1.1
89,380号、同第2,058,626号、同第2,
118.411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3.342,596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2.149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49−13566号等の各明細書又は
公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5゜
6−ドリメチレンー7−ヒドロキシンーS−トリアゾロ
 (1,5−a)ピリミジン、5.6−テトラメチレン
7−ヒドロキシーs−トリアゾロ (1,5−a)ピリ
ミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−5−1リアゾロ
(1,5−a)ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキ
シ−5−トリアゾロ (1,5−a)ピリミジン、7−
ヒドロキシン−3−)リアゾロン(1,5−a)ピリミ
ジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシーs−
トリアゾロ(1,5−a)ピリミジン、没食子酸エステ
ル(@えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没
食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカプタン
類(l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、2−
メルカプトベンツチアゾール)、ベンゾトリアゾール類
(5−ブロムベンツトリアゾール、5−メチルベンツト
リアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニドロペン
ツイミダゾール)等を用いて安定化することができる。
The silver halide emulsion used in the present invention is, for example, US Pat. No. 2,444.607, US Pat. No. 2,716.062, US Pat.
No. 89,380, No. 2,058,626, No. 2,
118.411, Japanese Patent Publication No. 43-4133, U.S. Patent No. 3,342,596, Japanese Patent Publication No. 4417-1987, West German Application Publication No. 2,149,789, Japanese Patent Publication No. 39-2
Compounds described in specifications or publications such as No. 825 and Japanese Patent Publication No. 49-13566, preferably, for example, 5°6-drimethylene-7-hydroxyne-S-triazolo (1,5-a)pyrimidine, 5. 6-tetramethylene 7-hydroxy-s-triazolo(1,5-a)pyrimidine, 5-methyl-7-hydroxy-5-1lyazolo(1,5-a)pyrimidine, 5-methyl-7-hydroxy-5- Triazolo (1,5-a)pyrimidine, 7-
Hydroxine-3-) Riazolone (1,5-a) Pyrimidine, 5-methyl-6-bromo-hydroxy-s-
Triazolo(1,5-a)pyrimidine, gallic acid esters (e.g. isoamyl gallate, dodecyl gallate, propyl gallate, sodium gallate), mercaptans (l-phenyl-5-mercaptotetrazole, 2-
It can be stabilized using mercaptobenzthiazole), benzotriazoles (5-bromobenztriazole, 5-methylbenztriazole), benzimidazoles (6-nidropenzimidazole), and the like.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
The silver halide photographic material and/or developer according to the present invention may contain an amino compound.

又現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、バッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
Further, in order to improve the developability, a developing agent such as phenidone or hydroquinone or an inhibitor such as benzotriazole may be contained in the emulsion. Alternatively, in order to increase the processing ability of the processing solution, the backing layer may contain a developing agent or an inhibitor.

本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
A hydrophilic colloid used with particular advantage in the present invention is gelatin.

本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくは11−500ppで
あり、鉄分は0.001−50ppが好ましく、更に好
ましくは00−1−1Oppである。このようにカルシ
ウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液を
イオン交換装置に通すことにより遠戚することができる
The gelatin used in the present invention can be treated with either alkali treatment or acid treatment, but when using ossein gelatin, it is preferable to remove calcium or iron. The preferred calcium content is 1-99
The iron content is preferably 9 ppm, more preferably 11-500 ppm, and the iron content is preferably 0.001-50 ppm, still more preferably 00-1-1 Opp. The method of adjusting the amounts of calcium and iron in this way can be distantly related by passing an aqueous gelatin solution through an ion exchange device.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、ブロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコール、4−りOロカテコール、4−
フェニル−カテコール、3−メトキシ−カテコール、4
−アセチル−ピロガロール、アスコルビン酸ソーダ等が
ある。
Developing agents used in developing the silver halide photographic material according to the present invention include catechol, pyrogallol and its derivatives, ascorbic acid, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, methylhydroquinone, 2
, 3-dibromohydroquinone, 2.5-diethylhydroquinone, catechol, 4-riO-locatechol, 4-
Phenyl-catechol, 3-methoxy-catechol, 4
-Acetyl-pyrogallol, sodium ascorbic acid, etc.

又、HO−(CH−CH)、 −NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールが代表的なもの
で、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−フェニル
フェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フェニルフ
ェノール、N−メチル−p−アミノフェニール等カある
In addition, as HO-(CH-CH), -NH, type developers, ortho and rose aminophenols are typical, and 4-aminophenol, 2-amino-6-phenylphenol, 2-amino- Examples include 4-chloro-6-phenylphenol and N-methyl-p-aminophenyl.

更に、82N−(CH−CH)、−NH,型現像剤とし
ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチル
アニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニリ
ン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モルホ
リン、p−フェニレンジアミン等がある。
Furthermore, examples of 82N-(CH-CH), -NH, type developers include 4-amino-2-methyl-N, N-diethylaniline, 2,4-diamino-N, N-diethylaniline, N-( Examples include 4-amino-3-methylphenyl)-morpholine and p-phenylenediamine.

ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1〜フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウンル等を挙げることができる。
Examples of the heterocyclic developer include 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, and 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone. -pyrazolidones,
Examples include l-phenyl-4-amino-5-pyrazolone and 5-aminoraunol.

T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホトグ
ラフィック・プロセス第4版 (The Theory of Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical 5oci
ety)第73巻、第3.100頁(1951)に記載
されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るも
のである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上
組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる
方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使用
する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜
硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損
なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルアミ
ン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合そ
の使用量は現像液1Q当たり5〜500gが好ましく、
より好ましくは20〜200gである。
The Theory of the Photographic Process, 4th Edition, by T. H. James.
ic Process Fourth Edition)
pp. 291-334 and Journal of the American Chemical Society.
he American Chemical
Ety) Vol. 73, p. 3.100 (1951) can be effectively used in the present invention. These developers may be used alone or in combination of two or more types, but it is preferable to use two or more types in combination. Further, even if a sulfite salt such as sodium sulfite or potassium sulfite is used as a preservative in the developer used for developing the photosensitive material according to the invention, the effects of the invention will not be impaired. In addition, hydroxylamine and hydrazide compounds can be used as preservatives, and in this case, the amount used is preferably 5 to 500 g per 1Q of developer.
More preferably, it is 20 to 200 g.

又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、l、4−フ゛タンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11+当たり5〜500
gで、より好ましくは20〜200gである。これらの
有機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
Further, the developer may contain glycols as an organic solvent, and such glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-bentanediol, etc. However, diethylene glycol is preferably used. The preferred amount of these glycols used is 5 to 500 per developer 11+.
g, more preferably 20 to 200 g. These organic solvents can be used alone or in combination.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention can be developed with a developer containing the above-mentioned development inhibitor to obtain a light-sensitive material with extremely excellent storage stability.

上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値はlO〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
The pH value of the developer having the above composition is preferably 9 to 13.
However, from the viewpoint of storage stability and photographic properties, the pH value is 1O~1
A range of 2 is more preferred. Regarding cations in the developer, it is preferable that the ratio of potassium ions is higher than that of sodium because the activity of the developer can be increased.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50°C以下が好ましく、特に25℃〜40°C前後
が好ましく、又現像時間は2分以内に終了することが一
般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果
をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更に又、これらの処理は皿現像
、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、
ハンガー現像など機械現像であってもよい。
The silver halide photographic material according to the present invention can be processed under various conditions. As for the processing temperature, for example, the development temperature is preferably 50°C or less, particularly preferably around 25°C to 40°C, and the developing time is generally completed within 2 minutes, particularly preferably 10 seconds to 40°C. 50 seconds often produces good results. Furthermore, it is optional to employ processing steps other than development, such as washing with water, stopping, stabilizing, fixing, and if necessary, prehardening and neutralization, and these steps can be omitted as appropriate. Furthermore, these processes can be carried out using so-called manual development processes such as plate development and frame development, roller development,
Mechanical development such as hanger development may be used.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 EXAMPLES The present invention will be specifically explained below with reference to Examples.

尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
It should be noted that, as a matter of course, the present invention is not limited to the embodiments described below.

実施例! 下引き処理したポリエチレンテレフタレートに8 w/
m”minのエネルギーでコロナ放電した後下記構成の
帯電防止液を、下記の付量になる様に30m/n+in
の速さでロールフィツトコーティングパン及びエアーナ
イフを使用して塗布した。
Example! 8 w/ to subbed polyethylene terephthalate
After corona discharge with energy of m”min, apply antistatic liquid with the following composition at 30m/n+in in the amount shown below.
The coating was applied using a roll-fit coating pan and an air knife at a speed of .

水溶性導電性ポリマー (A )     0.6g/
m”本発明の疎水性ポリマー粒子(B )   0.4
g/m2硬膜剤(H) 90°C12分間乾燥し140°0190秒間熱処理し
た。
Water-soluble conductive polymer (A) 0.6g/
m” Hydrophobic polymer particles of the present invention (B) 0.4
g/m2 Hardener (H) Dry at 90°C for 12 minutes and heat treated at 140°C for 190 seconds.

この帯電防止層の上にゼラチンを2゜Og/+n”にな
る様に塗布しヘーズ試験を行った。ゼラチンの硬膜剤と
しては、ホルマリン、2,4−ジクロロ−6−ビトロキ
シ−S−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表1に
示す。
Gelatin was coated on this antistatic layer at a concentration of 2°Og/+n" and a haze test was conducted. As a hardening agent for gelatin, formalin, 2,4-dichloro-6-bitroxy-S-triazine, Sodium was used. The results are shown in Table 1.

(ヘーズ試験) 東京電色株式会社製濁度計Model T−260OD
Aを用いフィルム支持体を測定してヘーズを百分率で示
表 特開昭 55−84658号記載 表 の結果から本発明の試料はへ−ズに優れていることがわ
かる。
(Haze test) Turbidity meter Model T-260OD manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.
From the results in the table described in JP-A No. 55-84658, it can be seen that the samples of the present invention are excellent in haze.

実施例2 (乳剤の調製) pH3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10−’モ
ル含有する平均粒径0.llpm、 /’ロゲン化銀組
組成分散度15、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を
作成した。粒子の成長は、ベンジルアデニンを1%のゼ
ラチン水溶液lQ当Iこり30mg含有する系で行った
。銀とハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ
−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲン化銀1
モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
Example 2 (Preparation of an emulsion) A rhodium salt containing 10-' mol per mol of silver and having an average grain size of 0.05 mm was prepared by the Chondrold double-jet method in an acidic atmosphere at pH 3.0. llpm, /' Silver chlorobromide grains having a silver halide set composition dispersity of 15 and containing 5 mol % of silver bromide were prepared. The growth of particles was carried out in a system containing 30 mg of benzyladenine per 1 Q of a 1% aqueous gelatin solution. After mixing silver and halide, 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7tetrazaindene was added to silver halide 1
600 mg per mole was added, and then washed with water and desalted.

次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−テトラザイン
デンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当Iこり15Bの
チオ硫酸ナトリウムを加え、60℃でイオウ増感をした
。イオウ増感後安定剤として6−メチル−4−ヒドロキ
シ−1,3,3a、7−テトラザインデンをハロゲン化
銀1モル当たり600mg加えた。
Then, after adding 60 mg of 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetrazaindene per mole of silver halide, 15 B of sodium thiosulfate per mole of silver halide was added, Sulfur sensitization was performed at 60°C. After sulfur sensitization, 600 mg of 6-methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetrazaindene was added per mole of silver halide as a stabilizer.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、特開昭59−19941号の実施例1によりラテ
ックス下引処理した厚さ1100pのポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
Additives were added to the obtained emulsion in the amounts shown below, and the mixture was coated on a polyethylene terephthalate support having a thickness of 1100 p that had been subjected to latex subbing treatment according to Example 1 of JP-A-59-19941.

ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー         1.0 g/m”テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30  mg/11” サポニン           200  mg/m”
ポリエチレングリコール    100  mg/m”
ハイドロキノン         200  mg/+
”スチレン−マレイン酸共重合体 20  mg/m”
ヒドラジン化合物(表2に示す)  50  mg/m
25−メチルベンゾトリアゾール  30  mg/m
2減感色素(M)           20  mg
/m2アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5 
 g/m’ ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15  mg
/m” 銀量             2.8 g/m”(乳
剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
Latex polymer: styrene-butyl acrylate
Acrylic acid ternary copolymer 1.0 g/m"Tetraphenylphosphonium chloride 30 mg/11"Saponin 200 mg/m"
Polyethylene glycol 100 mg/m”
Hydroquinone 200 mg/+
"Styrene-maleic acid copolymer 20 mg/m"
Hydrazine compound (shown in Table 2) 50 mg/m
25-methylbenzotriazole 30 mg/m
2 Desensitizing dye (M) 20 mg
/m2 Alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.5
g/m' bis(vinylsulfonylmethyl)ether 15 mg
/m'' Silver amount: 2.8 g/m'' (emulsion layer protective film) An emulsion layer protective film was prepared in the amount shown below and coated simultaneously with the emulsion in a multilayer manner.

弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200mg/
m’ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100B/m’ マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3゜5μ
m)            100  B/a”硝酸
リチウム塩         30  □/−没食子酸
−プロピルエステル   300  mg/m22−メ
ルカグトベンツィミダゾール−5−スルホン酸ナトリウ
ム          30  mg/m”アルカリ処
理ゼラチン(等電点4.9) 1.3 g/m”コロイ
ダルシリカ        30  n+g/m”スグ
ーレンーマレインH共I! 合体100  n+g/m
”ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15  m
g/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/s”minのパワーでコロナ放電した後、ポリ(ス
チレン−ブチルアクリレート−グリシジルメタクリレー
ト)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジリジン硬
膜剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例1と
同様に塗布し、ついで下記組成のバッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate ester 200mg/
m' Sodium dodecylbenzenesulfonate 100B/m' Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 3° 5μ
m) 100 B/a" lithium nitrate salt 30 □/- gallic acid-propyl ester 300 mg/m2-mercagutobenzimidazole-5-sodium sulfonate 30 mg/m" alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9 ) 1.3 g/m" Colloidal Silica 30 n+g/m" Suguruen-Malein H both I! Combined 100 n+g/m
”Bis(vinylsulfonylmethyl)ether 15 m
g/m” Next, on the support opposite to the emulsion layer, 30 g/m”
After corona discharge with a power of W/s”min, poly(styrene-butyl acrylate-glycidyl methacrylate) latex polymer was applied in the presence of hexamethylene aziridine hardener and an antistatic layer was applied as in Example 1. Then, a backing layer having the following composition was prepared and applied so that the amount of additives was as shown below.

(バッキング層) ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体      0.5 g/m”スチレン−マレイ
ン酸共重合体 100  mg/m”クエン酸(塗布後
pH5,4に調製) 40  mg7m2サポニン  
         200  mg/m”キング染料 (a) (b) (c) アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m” ビス (ビニルスルホニルメチル) エーテル t5mg/+” (バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
(Backing layer) Latex polymer: Butyl acrylate-styrene copolymer 0.5 g/m" Styrene-maleic acid copolymer 100 mg/m" Citric acid (adjusted to pH 5.4 after coating) 40 mg 7m2 Saponin
200 mg/m" King dye (a) (b) (c) Alkali-treated gelatin 2.0 g/m" Bis(vinylsulfonylmethyl) ether t5 mg/+" (Backing layer protective film) Add the following amounts of additives: It was prepared in the same manner and applied in a multilayer manner on top of the green layer.

ジオクチルスルホコハク酸エステル パツキン 200  mg/m” マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径4.0μff1)         50 
 mg/m’アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1
.0g/m” 弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム           50  mg/m’
ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル             20 mg/m”
なお、上記塗布液のpHはあらかじめ5.4に調製して
から塗布した。
Dioctylsulfosuccinate ester packaging 200 mg/m” Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 4.0 μff1) 50
mg/m'alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1
.. 0g/m' Sodium fluorinated dodecylbenzenesulfonate 50 mg/m'
Bis(vinylsulfonylmethyl) ether 20 mg/m”
Note that the pH of the coating solution was adjusted to 5.4 in advance before coating.

以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分け、
一方は23°C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23℃相対湿度55%で3時間調湿後、重ねた
状態で防湿袋に封入し、55℃で3日間保存して強制劣
化させ経時代用試料を作成した。
Divide each sample obtained as above into two,
One was stored for 3 days at 23°C and 55% relative humidity. The remaining one was conditioned for 3 hours at 23° C. with relative humidity of 55%, sealed in a moisture-proof bag in a stacked state, and stored at 55° C. for 3 days to undergo forced deterioration to create an aging sample.

両方の試料を、ステップウェッジを通して露光後、下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
After both samples were exposed through a step wedge and developed using the developer and fixer shown below, sensitivity and surface resistivity were determined. The sensitivity is 1.0 in terms of optical density.
The exposure amount is expressed as relative sensitivity. The results are shown in Table 2.

現像処理条件 工程    温度    時間 現像    34°O15秒 定着    32°0    10秒 水洗    常温    10秒 現像液処方 ハイドロキノン          25  gl−7
エニルー4.4ジメチル−3 ピラゾリドン           0.4 g臭化ナ
トリウム          3g5−メチルベンゾト
リアゾール   0.3g5−ニトロインダゾール  
    0.05gジエチルアミノプロパン−1,2−
ジオール0  g 亜硫酸カリウム 0 5−スルホサリチル酸ナトリウム 5 エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水で112に仕上げた。
Development processing conditions Process Temperature Time Development 34°O 15 seconds fixation 32°0 10 seconds water washing Room temperature 10 seconds Developer formulation Hydroquinone 25 gl-7
enyl 4.4 dimethyl-3 pyrazolidone 0.4 g sodium bromide 3 g 5-methylbenzotriazole 0.3 g 5-nitroindazole
0.05g diethylaminopropane-1,2-
Diol 0 g Potassium sulfite 0 Sodium 5-sulfosalicylate 5 Sodium ethylenediaminetetraacetate Finished to 112 with water.

pHは、苛性ソーダで11.5と 定着液処方 (組fRA) チオ硫酸アンモニウム(72,5w% し Iこ 。The pH is 11.5 with caustic soda. Fixer formulation (Group fRA) Ammonium thiosulfate (72.5w% Shi Iko .

水溶液) 240  mo 7  g 6.5g g g 13 、6m(2 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) 11成り) 純水(イオン交換水) 硫酸(50W%の水溶液) 硫酸アルミニウム(Aff、O,換算含量が8.1w%
の水溶液) 17fflI2 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500m(2中に上記組成A1組 成りの順に溶かし、 Qに仕上げて用いた。
aqueous solution) 240 mo 7 g 6.5 g g g 13 , 6 m (2 Sodium sulfite sodium acetate, trihydrate boric acid, sodium citrate, dihydrate acetic acid (90w% aqueous solution) 11) Pure water (ion exchange water) Sulfuric acid ( 50W% aqueous solution) Aluminum sulfate (Aff, O, converted content is 8.1w%)
Aqueous solution of 17fflI2 4.7g 26.5g When using a fixer, the above composition A1 was dissolved in 500ml of water (2) in the order of composition A1 and finished as Q.

この 表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度低
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
From the results in Table 2, it can be seen that the samples of the present invention show little decrease in sensitivity due to storage over time, and little deterioration in antistatic ability after processing.

実施例3 実施例2と同様にして、ロジウム塩を銀1モル当たりl
o−5モルを含有し、平均粒径0.20μm、単分散度
20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成した。
Example 3 In the same manner as in Example 2, rhodium salt was added in l/mol of silver.
Silver chlorobromide particles containing 2 mol % of silver bromide with an average particle diameter of 0.20 μm and a monodispersity of 20 were prepared.

これを実施例2と同様に脱塩後イオウ増感を施した。This was desalted and sulfur sensitized in the same manner as in Example 2.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、実施例1で用いた下引加工済ポリエチレンテレフ
タレート支持体上に塗布した。
Additives were added to the obtained emulsion in the amounts shown below, and the mixture was coated on the undercoated polyethylene terephthalate support used in Example 1.

ラテックスポリマー: スチレン−ブチルアクリレートアクリル酸3元共重合ポ
リマー        1.0g/m”フェノール  
            l mg/m”サポニン  
           200mg/m”ドデシルベン
ゼン スルホン酸ナトリウム       50mg/m”テ
トラゾリウム化合物(表3に示す)  50mg/m’
化合物(N) 化合物(0) スチレン−マレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/m” 50mg/□2 20mg/m2 2.0g/m” 3.5g/m2 10mg/m’ 化合物(O) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6,5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
Latex polymer: Styrene-butyl acrylate acrylic acid ternary copolymer polymer 1.0g/m”phenol
l mg/m”saponin
200mg/m" Sodium dodecylbenzenesulfonate 50mg/m" Tetrazolium compound (shown in Table 3) 50mg/m'
Compound (N) Compound (0) Styrene-maleic acid copolymer alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) Silver amount Formalin 40 mg/m" 50 mg/□2 20 mg/m2 2.0 g/m" 3.5 g/ m2 10 mg/m' Compound (O) The coating solution was coated after adjusting the pH to 6.5 with sodium hydroxide in advance. As an emulsion protective film, additives were prepared in the amounts shown below and were coated simultaneously with the emulsion coating solution.

弗素化ジオクチル スルホコハク酸エステル     100mg/m”ジ
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m”マ
ット剤:不定型シリカ       50mg/m”化
合物(0)             30mg/m”
5−メチルベンゾトリアゾール     20mg/m
’化合物(P)500mg/m” 没食子酸プロピルエステル     30On+g/m
”スチレン−マレイン酸共重合体    100mg/
m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)   1.
Og/m”ホルマリン             lo
mg/m2ポリアクリルアミド        500
mg/m”尚、あらかじめクエン酸でpH5,4に調整
したのち塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate 100mg/m"Dioctyl sulfosuccinate 100mg/m"Matting agent: Amorphous silica 50mg/m"Compound (0) 30mg/m"
5-methylbenzotriazole 20mg/m
'Compound (P) 500mg/m'' Gallic acid propyl ester 30On+g/m
"Styrene-maleic acid copolymer 100mg/
m” alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.
Og/m” formalin lo
mg/m2 polyacrylamide 500
The pH was adjusted to 5.4 with citric acid before coating.

化合物(P) 次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全く
同様にして帯電防止層、バッキング層を設けた。ただし
この時のバッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
Compound (P) Next, an antistatic layer and a backing layer were provided on the support opposite to the emulsion layer in exactly the same manner as in Example 2. However, formalin was used as the hardening agent for the backing layer at this time.

実施例2と同様に処理し、評価した。It was treated and evaluated in the same manner as in Example 2.

ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果を
表3に示す。
However, the following developer was used. The results obtained are shown in Table 3.

(組成A) 純水(イオン交換水)         l 50mf
fエチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチ
レングリコール         50g亜硫酸カリウ
ム(55%w/v水溶液)    100m12炭酸カ
リウム             50gハイドロキノ
ン             15g1−フェニル−3
−ピラゾリドン       0.5g1−フェニル−
5−メルカプトテトラゾール 30mg水酸化カリウム
  使用液のpHを10.4にする量臭化カリウム  
           4.5g(組成B) 純水(イオン交換水)          3mgジエ
チレングリコール         50gエチレンジ
アミン四酢酸二 ナ ト リ ラム塩 5mg 酢酸(90% 水溶液) 0.3m2 現像液の使用時に水500mI2中に上記組J*A。
(Composition A) Pure water (ion exchange water) l 50mf
f Ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 2g diethylene glycol 50g potassium sulfite (55% w/v aqueous solution) 100ml 12 Potassium carbonate 50g hydroquinone 15g 1-phenyl-3
-Pyrazolidone 0.5g1-phenyl-
5-Mercaptotetrazole 30mg Potassium hydroxide Amount to bring the pH of the working solution to 10.4 Potassium bromide
4.5 g (Composition B) Pure water (ion-exchanged water) 3 mg Diethylene glycol 50 g Ethylenediaminetetraacetic acid dinatrilam salt 5 mg Acetic acid (90% aqueous solution) 0.3 m2 When using a developer, add the above group J*A in 500 mI2 of water.

組 表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合と
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
The results in Table 3 also show that, as in the case of the hydrazine compound of Example 2, the samples of the present invention show little decrease in sensitivity due to storage over time, and little deterioration in antistatic ability after treatment.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によりヘーズのない透明性に優れた帯電防止層を
有し、テトラゾリウム化合物またはヒドラジン化合物の
ような超硬調化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化
が少なく、かつ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写
真感光材料を提供することができた。
The present invention has an antistatic layer with excellent transparency without haze, and even when ultrahigh contrast agents such as tetrazolium compounds or hydrazine compounds are used, there is little deterioration in surface resistivity over time and there is no desensitization. , it was possible to provide a highly stable silver halide photographic material.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)[1]水溶性導電性ポリマー、[2]疎水性ポリ
マー粒子、[3]硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルム支持体において、
該疎水性ポリマー粒子がシアノ基含有のラテックスとし
て帯電防止層中に分散安定化されていることを特徴とす
る帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材料。
(1) A plastic film support comprising an antistatic layer comprising a reaction product of [1] a water-soluble conductive polymer, [2] hydrophobic polymer particles, and [3] a curing agent,
1. A silver halide photographic material having an antistatic layer, wherein the hydrophobic polymer particles are stabilized as a cyano group-containing latex dispersed in the antistatic layer.
(2)請求項1記載の感光性乳剤層中に、テトラゾリウ
ム化合物またはヒドラジン化合物を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
(2) A silver halide photographic light-sensitive material, characterized in that the light-sensitive emulsion layer according to claim 1 contains a tetrazolium compound or a hydrazine compound.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008311399A (en) * 2007-06-14 2008-12-25 Ibaraki Univ Heat sink

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