JPH0353241A - Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment - Google Patents

Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

Info

Publication number
JPH0353241A
JPH0353241A JP18992589A JP18992589A JPH0353241A JP H0353241 A JPH0353241 A JP H0353241A JP 18992589 A JP18992589 A JP 18992589A JP 18992589 A JP18992589 A JP 18992589A JP H0353241 A JPH0353241 A JP H0353241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silver halide
antistatic layer
halide photographic
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18992589A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Haniyu
武 羽生
Yasuhiko Takamukai
保彦 高向
Taketoshi Yamada
岳俊 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP18992589A priority Critical patent/JPH0353241A/en
Publication of JPH0353241A publication Critical patent/JPH0353241A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain a photographic sensitive material having excellent adhesiveness and high stability by providing an antistatic layer consisting of a eater soluble conductive polymer which contains a specific copolymer. CONSTITUTION:The antistatic layer consisting of the reaction product of the water soluble conductive polymer, hydrophobic polymer particles and the hardener is provided. The antistatic layer in which the above-mentioned water soluble conductive polymer has the copolymer of a monomer having a sulfonic group in a residual aliphat. group and a nomomer having a reaction group having no carboxyl group is provided. The photosensitive material contains a hydrazine compd. or tetrazolium compd. consequently, the silver halide photographic sensitive material having the antistatic layer for plastic films having the high adhesiveness and the high stability is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、帯電防止層を有するハロゲン化銀写真感光材
料に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to a silver halide photographic material having an antistatic layer.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

一般にプラスチイツクフィルムは帯電性が強く、これが
使用上多くの制約を与えている例は多い。
Generally, plastic films have strong electrostatic properties, and this often imposes many restrictions on their use.

例えばハロゲン化銀写真感光材料においてはポリエチレ
ンテレ7グレートのような支持体が一般に使用されるが
、、特に冬季の如き低湿度において帯電し易い。最近の
ように高感度写真乳剤を高速度で塗布したり、高感度の
感光材料を自動プリンターを通して露光処理をする場合
、特に帯電防止対策が重要である。
For example, supports such as polyethylene Tele 7 grade are commonly used in silver halide photographic materials, but they tend to become electrically charged, especially at low humidity such as in winter. Antistatic measures are especially important when high-speed photographic emulsions are coated at high speeds or when high-sensitivity photosensitive materials are exposed to light using automatic printers, as has been the case recently.

感光材料が帯電すると、その放電によりスタチックマー
クがでたり、またはゴミ等の異物を付着し、これにより
ピンホールを発生させたりして著しく品質を劣化し、そ
の修正のため非常に作業性をおとしてしまう。このため
、一般に感光材料では帯電防止剤が使用され、最近では
、含フッ素界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面
活性剤、ポリエチレンオキサイド基を含有する界面活性
剤ないし高分子化合物、スルホン酸又はリン酸基を分子
内に有するポリマー等が用いられている。
When a photosensitive material is charged, static marks appear due to the discharge, or foreign matter such as dust adheres to it, which causes pinholes and significantly degrades the quality, making it extremely difficult to repair. I'll put it down. For this reason, antistatic agents are generally used in photosensitive materials, and recently antistatic agents have been used, such as fluorine-containing surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, surfactants or polymer compounds containing polyethylene oxide groups, sulfonic acids, Polymers having phosphoric acid groups in their molecules are used.

特にフッ素系界面活性剤による帯電列調整、あるいは導
電性ポリマーによる導電性向上が多く使用されてきてお
り、例えば特開昭49−91165号および同49−1
21523号にはボリマー主鎖中に解離基を有するイオ
ン型ボリマーを適用する例が開示されている。
In particular, adjusting the charge series using fluorine-based surfactants or improving conductivity using conductive polymers has been widely used, for example, in JP-A-49-91165 and JP-A-49-1.
No. 21523 discloses an example in which an ionic polymer having a dissociative group in the main chain of the polymer is applied.

しかしながら、これらの従来技術では、現像処理により
、帯電防止能が大幅に劣化してしまう。
However, in these conventional techniques, the antistatic ability is significantly deteriorated by the development process.

これはアルカリを用いる現像工程、酸性の定着工程、水
洗等の工程を経ることにより帯電防止能が失われるもの
と思われる。したがって印刷感光材料等のように、処理
済み7イルムをさらに用いてプリントするような場合に
、ゴミの付着によるピンホール発生等の問題を生ずる。
This is thought to be because the antistatic ability is lost through processes such as a developing process using an alkali, an acidic fixing process, and washing with water. Therefore, when the processed 7-ilm is further used for printing, such as with printing photosensitive materials, problems such as the formation of pinholes due to adhesion of dust occur.

このため例えば特開昭55−84658号、同61−1
74542号ではカルボキシル基を有する水溶性導電性
ポリマー カルボキシル基を有する疎水性ポリマー及び
多官能アジリジンからなる帯電防止層が提案されている
。この方法によれば処理後にも帯電防止能を残すことが
できるが、この帯電防止層は、この層の上に塗布される
親水性コロイド層との接着性が悪く、現像処理中に膜は
がれを生ずるという欠点があった。
For this reason, for example, JP-A Nos. 55-84658 and 61-1
No. 74542 proposes an antistatic layer comprising a water-soluble conductive polymer having a carboxyl group, a hydrophobic polymer having a carboxyl group, and a polyfunctional aziridine. Although this method allows antistatic properties to remain after processing, this antistatic layer has poor adhesion to the hydrophilic colloid layer coated on top of this layer, and the film may peel off during development. There was a drawback that it occurred.

さらにこのような帯電防止層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、ヒドラジン化合物又はテトラゾリウ
ム化合物のような超硬調化剤を使用すると、経時により
減感するという問題があっtこ 。
Furthermore, when a super high contrast agent such as a hydrazine compound or a tetrazolium compound is used in a silver halide photographic light-sensitive material having such an antistatic layer, there is a problem that the material becomes desensitized over time.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

上記のような問題に対し、本発明の目的は、現像処理等
の処理後も帯電防止能の劣化が起こらず、しかも接着性
の優れたプラスチイツクフィルム用の帯電防止層を有す
るハロゲン化銀写真感光材料提供することであり、別の
目的としては、ヒドラジン化合物又はテトラゾリウム化
合物のような超硬調化剤を使用した場合でも経時で減感
せず、かつ表面比抵抗の変化のない安定性の高いハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することである。
In order to solve the above-mentioned problems, the object of the present invention is to provide a silver halide photographic film having an antistatic layer for plastic film that does not deteriorate in antistatic ability even after processing such as development and has excellent adhesive properties. Another objective is to provide a highly stable photosensitive material that does not desensitize over time and does not change its surface resistivity even when ultrahigh contrast agents such as hydrazine compounds or tetrazolium compounds are used. An object of the present invention is to provide a silver halide photographic material.

〔発明の構威〕[Structure of invention]

本発明の上記目的は、水溶性導電性ポリマー■疎水性ポ
リマー粒子、■硬化剤の反応生或物からなる帯電防止層
を有してなるプラスチックフィルムにおいて、該水溶性
導電性ポリマーが、脂肪族残基中にスルホン酸基をもつ
モノマーとカルボキシル基を含まない反応基をもつ七ノ
マーとの共重合体を有する帯電防止層を有し、さらに該
感光祠料がヒドラジン化合物又はテトラゾリウム化合物
を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
により達成される。
The above object of the present invention is to provide a plastic film having an antistatic layer consisting of a water-soluble conductive polymer, (1) hydrophobic polymer particles, and (2) a reaction product of a curing agent, in which the water-soluble conductive polymer is aliphatic. It has an antistatic layer comprising a copolymer of a monomer having a sulfonic acid group in its residue and a heptanomer having a reactive group not containing a carboxyl group, and the photosensitive abrasive further contains a hydrazine compound or a tetrazolium compound. This is achieved by a silver halide photographic material characterized by the following.

以下、本発明の詳細について説明する。The details of the present invention will be explained below.

本発明に用いられる水溶性ボリマーは、脂肪族残基中に
スルホン酸基をもつモノマーとカルボキシル基を含まな
い反応基をもつ七ノマーとの共重合体を有するボリマー
である。
The water-soluble polymer used in the present invention is a polymer having a copolymer of a monomer having a sulfonic acid group in an aliphatic residue and a heptanomer having a reactive group not containing a carboxyl group.

以下、本発明に用いられる水溶性導電性ポリマーの化合
物例を挙げるがこれに限定されるものでA ー ■ A 2 A 4 A 5 八 一 6 A 7 C113 A 8 A 9 A l0 CH, A 11 CQ CH, A l2 CI+, CH3 A I3 CH, C11, A − 14 CH3 A l5 A  − 16 A−17 CH, A − 18 A l9 CH, A−20 CH, A−21 A−22 A−23 CH. x:y=60:40 M#1万 M=1.5万 A −24 A−25 A−26 M#lO万 A −28 尚、上記(1)〜(28)において、x,y,zはそれ
ぞれ単量体戊分のモル%を、又Mは平均分子量(本明細
書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。)を表す。
Examples of water-soluble conductive polymer compounds used in the present invention are listed below, but are not limited to these. CQ CH, A 12 CI+, CH3 A 13 CH, C11, A-14 CH3 A 15 A-16 A-17 CH, A-18 A 19 CH, A-20 CH, A-21 A-22 A-23 CH .. x:y=60:40 M#10,000M=15,000A -24 A-25 A-26 M#10,000A -28 In addition, in the above (1) to (28), x, y, z each represents the mole % of the monomer fraction, and M represents the average molecular weight (in this specification, the average molecular weight refers to the number average molecular weight).

これらのポリマーは市販又は常法によって得られる七ノ
マーを重合することにより合戊することが出来る。
These polymers can be synthesized by polymerizing heptanomers that are commercially available or obtained by conventional methods.

次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、ス
チレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アル
キルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エ
チレン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミ
ド誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリ口ニトリル等
の中から任意の組み合わせで選ばれた七ノマーを重合し
て得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレー
ト、アルキルメタクリレートが少なくとも30モル%含
有されているのが好ましい。特に50モル%以上が好ま
しい。
Next, the hydrophobic polymer particles contained in the water-soluble conductive polymer layer of the present invention are contained in a so-called latex form that is substantially insoluble in water. This hydrophobic polymer is selected from styrene, styrene derivatives, alkyl acrylates, alkyl methacrylates, olefin derivatives, halogenated ethylene derivatives, acrylamide derivatives, methacrylamide derivatives, vinyl ester derivatives, acrylonitriles, etc. in any combination. Obtained by polymerizing heptanomer. In particular, it is preferable that at least 30 mol% of styrene derivatives, alkyl acrylates, and alkyl methacrylates are contained. Particularly preferred is 50 mol% or more.

疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のボリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという2つの方法があるが粒径が細か
く、シかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。
There are two methods to make a hydrophobic polymer into a latex: emulsion polymerization, or dissolving a solid polymer in a low boiling point solvent, finely dispersing it, and then distilling off the solvent. Emulsion polymerization is preferable because it allows the production of

乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、七ノマーに対しI
O重量%以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
をくもらせる原因となる。
As the surfactant used during emulsion polymerization, it is preferable to use an anionic or nonionic surfactant.
It is preferably 0% by weight or less. A large amount of surfactant causes clouding of the conductive layer.

疎水性ポリマーの分子量は3000以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。
The molecular weight of the hydrophobic polymer may be 3000 or more,
There is almost no difference in transparency depending on molecular weight.

本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。Specific examples of the hydrophobic polymer of the present invention will be given below.

B l B 2 B 3 B 4 B 5 B 6 B 7 B 8 C]1, CH, B 9 B 10 B−11 B−12 ?113 1 イCll■cho イcH2o1h イCI12CI1カ COOCI+ , COOC,Hg − n COOH B 13 B  − 14 CH3 {Cl,Ch s    {CH2CHテnCOOC4
Hs  n   COOH B−15 本発明では尋電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を90%以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。
B l B 2 B 3 B 4 B 5 B 6 B 7 B 8 C]1, CH, B 9 B 10 B-11 B-12? 113 1 I Cll■cho I cH2o1h I CI12CI1Ka COOCI+ , COOC,Hg - n COOH B 13 B - 14 CH3 {Cl, Ch s {CH2CH ten COOC4
Hs n COOH B-15 In the present invention, a conductive layer is coated on a transparent support. Although any photographic transparent support can be used, polyethylene terephthalate or cellulose triacetate, which is made to transmit 90% or more of visible light, is preferable.

これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
戊されるものであるが、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。
These transparent supports are prepared by methods well known to those skilled in the art, but in some cases, a slight amount of dye may be added to give them a blue tint so as not to substantially inhibit light transmission. Also good.

本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層が塗設されていてもよい。コ
ロナ放電処理は、工不ルギー値として1 mW− I 
KW/m”+inが特に好ましく適用される。
The support of the present invention may be coated with a subbing layer containing a latex polymer after being subjected to a corona discharge treatment. The corona discharge treatment has a power consumption of 1 mW-I.
KW/m''+in is particularly preferably applied.

又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。
Particularly preferably, corona discharge treatment is performed again after applying the latex undercoat layer and before applying the conductive layer.

本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジンが好ましい。特に2官能、3官能で分子量が
600以下のものが好ましい。
As the compound for curing the conductive layer of the present invention, polyfunctional aziridine is preferred. Particularly preferred are those having bifunctional or trifunctional properties and a molecular weight of 600 or less.

本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。
The conductive layer of the present invention may be located closer to the support than the photosensitive layer, or may be located on the opposite side of the support to the photosensitive layer, ie, on the back surface.

好ましい添加量は架橋剤に対して、5〜200vt%で
ある。
A preferable addition amount is 5 to 200 vt% based on the crosslinking agent.

本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式C }i )で表される化合物である。
The hydrazine compound used in the present invention is preferably a compound represented by the following general formula C }i ).

一般式(H) Q,   Q,  X, 11 R,−N  −N −C−R2 式中、R1はl価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たはl価の有機残基を表し、Q1及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基ヲ有スるものも含む)、
アリールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
〔H〕で表される化合物のうち、X,が酸素原子であり
、がっR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
General formula (H) Q, Q, X, 11 R, -N -N -C-R2 In the formula, R1 represents a l-valent organic residue, R2 represents a hydrogen atom or a l-valent organic residue, Q1 and Q2 are hydrogen atoms,
Alkylsulfonyl groups (including those with substituents),
It represents an arylsulfonyl group (including one having a substituent), and Xl represents an oxygen atom or a sulfur atom. Among the compounds represented by the general formula [H], compounds in which X is an oxygen atom and R2 is a hydrogen atom are more preferred.

上記R1及びR2のl価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
The l-valent organic residues of R1 and R2 include aromatic residues, heterocyclic residues, and aliphatic residues.

芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アンル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキ/力ルポ
ニル基、シアノ基、カルポキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
ウレア基、チオウレア基など)のついたものを含む。置
換基のついたものの具体例として、例えば、4−メチル
7エニル基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチル
7エニル基、4−ドデシル7エニル基、4−カルポキシ
フェニル基、4−ジエチルアミノフヱニル基、4−オク
チルアミノフエニル基、4−べ冫ジルアミノ7エニル基
、4−アセトアミド−2−メチルフエニル基、4−(3
−エチルチオウレイド)7エニル基、4 −[2−(2
.4−ジーtert−ブチルフエノキシ)プチルアミド
]フエニル基、4 −[2 − (2’,4ジーter
L−プチルフエノキン)プチルアミド] フエニル基な
どを挙げることができる。
Aromatic residues include phenyl groups, naphthyl groups, and substituents thereof (for example, alkyl groups, alkoxy groups, anruhydrazino groups, dialkylamino groups, alkoxy/alponyl groups, cyano groups, carpoxy groups, nitro groups, alkylthio groups, Hydroxy group, sulfonyl group, carbamoyl group, halogen atom, acylamino group, sulfonamide group,
urea group, thiourea group, etc.). Specific examples of those with substituents include 4-methyl 7-enyl group, 4-ethylphenyl group, 4-oxyethyl 7-enyl group, 4-dodecyl 7-enyl group, 4-carpoxyphenyl group, 4-diethylaminophenyl group. enyl group, 4-octylaminophenyl group, 4-bendylamino 7enyl group, 4-acetamido-2-methylphenyl group, 4-(3
-ethylthioureido)7enyl group, 4-[2-(2
.. 4-tert-butylphenoxy)butylamido]phenyl group, 4-[2-(2',4-tert
L-butylphenoquine)butylamide] phenyl group, and the like.

複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する五員もしくは六員の
単環または縮金環で、これらに置換基がついてもよい。
The heterocyclic residue is a five- or six-membered monocyclic ring or fused metal ring having at least one of oxygen, nitrogen, sulfur, or selenium atoms, and a substituent may be attached thereto.

具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ペンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ペンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ペンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ペンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
Specifically, for example, pyrroline ring, pyridine ring, quinoline ring, indole ring, oxazole ring, penzoxazole ring, naphthoxazole ring, imidazole ring, penzimidazole ring, thiazoline ring, thiazole ring, penzothiazole ring, naphtho Thiazole ring, selenazole ring,
Examples include residues such as a penzoselenazole ring and a naphthoselenazole ring.

これらの複素環は、メチル基、エチル基等炭素数1〜4
のアルキル基、メトキン基、エトキシ基等炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜l8のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シ力ルポニル基、シアノ基、アミノ基等で置換されてい
てもよい。
These heterocycles have 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group or an ethyl group.
1 to 4 carbon atoms such as alkyl group, methquine group, ethoxy group, etc.
may be substituted with an alkoxy group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a halogen atom such as chloro or bromine, an alkoxy group, a cyano group, an amino group, or the like.

脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
Aliphatic residues include linear and branched alkyl groups, cycloalkyl groups, and those with substituents, as well as alkenyl groups and alkynyl groups.

直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1一オ
クチル基等である。
Straight-chain and branched alkyl groups include, for example, those having 1 to 1 carbon atoms.
18, preferably 1 to 8 alkyl groups, and specific examples include methyl, ethyl, isobutyl, and 11-octyl groups.

シクOアルキル基としては、例えば炭素数3〜IOのも
ので、具体的には例えばシクロプロビル基、シクロヘキ
ンル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ブロボキシ基、ブトキシ基
等)、アルフキシカルポニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
ンアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フエニル基、アルキル置換フエニル基
)等であり、置換されたものの具体例としては例えば3
−メトキンプ口ピル基、エトキシ力ルポニルメチル基、
4−クロロンク口ヘキシル基、ベンジル基、p−メチル
ベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げることが
できろうまた、アルケニル基としては例えばアリル(a
llyl)基、アルキニル基としては例えばプロパルギ
ル基を挙げることができる・ 本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
Examples of the cycloalkyl group include those having 3 to 10 carbon atoms, such as a cycloprobyl group, a cyclohexynyl group, and an adamantyl group. Substituents for alkyl groups and cycloalkyl groups include alkoxy groups (e.g. methoxy, ethoxy, broboxy, butoxy, etc.), alkoxycarbonyl groups, carbamoyl groups, hydroxy groups, alkylthio groups, amide groups, acyloxy groups,
ano group, sulfonyl group, halogen atom (e.g. chlorine,
bromine, fluorine, iodine, etc.), aryl groups (e.g., phenyl group, halogen-substituted phenyl group, alkyl-substituted phenyl group), etc. Specific examples of substituted groups include 3
- Metkinpyl group, ethoxylponylmethyl group,
Examples of the alkenyl group include 4-chlorohexyl group, benzyl group, p-methylbenzyl group, and p-chlorobenzyl group.Alkenyl groups include, for example, allyl (a
Examples of the llyl) group and the alkynyl group include a propargyl group. Preferred specific examples of the hydrazine compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto in any way.

H−1 H  −  2 I1 3 H 4 H 5 H 6 H ー 7 H l0 H−12 H − 13 H  − 14 ■1 −15 H l6 H 17 H l8 H − 19 H−20 ζ ■1 2l 1{ 22 H−23 H 24 H 25 CH, CH, H 26 H −30 OC+41’bs ■1 3l H 34 CH, H−35 H−38 H−39 S H −40 H 4l H−42 H−43 H−44 H−45 H −46 一般式(H)で表わされるヒドラジン化合物の添加位置
はハロゲン化銀乳剤層及び/または支持体上のハロゲン
化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは、ハ
ロゲン化銀乳剤層及び/またはその下層である。添加量
は、lO−5〜10−1モル/銀lモルが好ましく、更
に好ましくはlO−4〜lO−2モル/銀lモルである
H-1 H-2 I1 3 H 4 H 5 H 6 H -7 H l0 H-12 H - 13 H - 14 ■1 -15 H l6 H 17 H l8 H - 19 H-20 ζ ■1 2l 1{ 22 H-23 H 24 H 25 CH, CH, H 26 H -30 OC+41'bs ■1 3l H 34 CH, H-35 H-38 H-39 S H -40 H 4l H-42 H-43 H- 44 H-45 H-46 The hydrazine compound represented by the general formula (H) is added to the silver halide emulsion layer and/or the non-photosensitive layer on the silver halide emulsion layer side of the support, but preferably , the silver halide emulsion layer and/or its underlying layer. The amount added is preferably 10-5 to 10-1 mol/1 mol of silver, more preferably 10-4 to 10-2 mol/1 mol of silver.

次に本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
Next, the tetrazolium compound used in the present invention will be explained.

テトラゾリウム化合物は下記一般式で示すことができる
The tetrazolium compound can be represented by the following general formula.

一般式〔T〕 本発明において、上記一般式(T)で示されるトリフェ
ニルテトラゾリウム化合物のフエニル基の置換基Rl1
R2、R,は水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値(σP)が負又は正のものが好ましい。
General formula [T] In the present invention, substituent Rl1 of the phenyl group of the triphenyltetrazolium compound represented by the above general formula (T)
R2 and R are preferably hydrogen atoms or those having a negative or positive Hammett's sigma value (σP) indicating the degree of electron attraction.

特に負のものが好ましい。In particular, negative ones are preferred.

7エニル置換におけるハメットのシグマ値は多くの文献
、例えばジャーナル・オブ・メディカルケ ミ  ス 
 ト  リ  ー  (Journal   of  
 Medical   Chemistry)第20巻
、304頁、1977午、記載のC.ハンシュ(c.H
ansch)等の報文等に見ることが出米、とくに好ま
しい負のシグマ値を有する基としては、例えはメチル基
(σP=−0.17以下いずれもσP値)エチル基(−
0.15)、シクロプロビル基(−0.21)、n−プ
口ピル基(−0.13)、isoプロビル基(−0.1
5)、シクロブチル基(−0.15)、n−ブチルf 
(−0.16)、isO−ブチル基(−0.20)、n
−ペンチル基(−0.15)、シクロヘキシル基(−0
.22)、アミン基(−0.66)、アセチルアミノ基
(−0.15)、ヒドロキシル基(−0.37)、メト
キシ基(−0.27)、エトキシ基( −0.24)、
プロポキシ基(−0.25)、ブトキシ基(−0.32
)、ベントキン基(−0.34)等が挙げられ、これら
はいずれも本発明の一般式(T)の化合物の置換基とし
て有用である。
Hammett's sigma value for 7-enyl substitution has been reported in many publications, such as the Journal of Medical Chemistry.
Tory (Journal of
Medical Chemistry, Vol. 20, p. 304, 1977, C. Hansch (c.H.
Examples of particularly preferable groups having a negative sigma value include the methyl group (σP = -0.17 or less, all σP values) and the ethyl group (-
0.15), cycloprobyl group (-0.21), n-propyl group (-0.13), isoprobyl group (-0.1
5), cyclobutyl group (-0.15), n-butyl f
(-0.16), isO-butyl group (-0.20), n
-pentyl group (-0.15), cyclohexyl group (-0
.. 22), amine group (-0.66), acetylamino group (-0.15), hydroxyl group (-0.37), methoxy group (-0.27), ethoxy group (-0.24),
Propoxy group (-0.25), butoxy group (-0.32
), bentoquine group (-0.34), and the like, all of which are useful as substituents for the compound of general formula (T) of the present invention.

以下本発明に用いられる一般式〔T〕の化合物の具体例
を挙げるが、本発明の化合物はこれに限定されるもので
は無い。
Specific examples of the compound of the general formula [T] used in the present invention are listed below, but the compounds of the present invention are not limited thereto.

(例示化合物) 本発明に用いられるテトラゾリウム化合物は、例えばケ
ミカル・レビュー(Chemical Reviews
)第55巻、第335頁〜483頁に記載の方法に従っ
て容易に合戊することができる。
(Exemplary Compounds) The tetrazolium compounds used in the present invention are described, for example, in Chemical Reviews.
) Vol. 55, pp. 335-483.

本発明のテトラゾリウム化合物は、本発明のハロゲン化
銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル当り
約1mg以上10gまで、好ましくは約10mg以上約
2gまでの範囲で用いられるのが好ましい。
The tetrazolium compound of the present invention is preferably used in an amount of about 1 mg to about 10 g, preferably about 10 mg to about 2 g, per mole of silver halide contained in the silver halide photographic material of the present invention.

本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤には、ハロ
ゲン化銀として、臭化銀、塩化銀、沃臭化銀、塩臭化銀
、塩沃臭化銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される
任意のものを用いる事ができ、ハロゲン化銀粒子は、酸
性法、中性法及びアンモニア法のいずれで得られたもの
でもよい。
The silver halide emulsion used in the light-sensitive material of the present invention includes conventional silver halide emulsions such as silver bromide, silver chloride, silver iodobromide, silver chlorobromide, and silver chloroiodobromide. Any commonly used silver halide grains can be used, and the silver halide grains may be those obtained by any of the acid method, neutral method, and ammonia method.

ハロゲン化銀粒子は、粒子内において均一なハロゲン化
銀組戊分布を有するものでも、粒子の内部と表面層とで
ハロゲン化銀組或が異なるコア/シエル粒子であっても
よく、潜像が主として表面に形戊されるような粒子であ
っても、又主として粒子内部に形戊さ−れるような粒子
でもよい。
The silver halide grains may have a uniform silver halide composition distribution within the grain, or they may be core/shell grains in which the silver halide composition differs between the interior of the grain and the surface layer. The particles may be formed mainly on the surface or may be formed mainly inside the particle.

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米国特
許第2.444.607号、同第2,716,062号
、同第3,512,982号、西独国出願公告第1.1
89,380号、同第2.058.626号、同第2,
118,411号、特公昭43−4133号、米国特許
第3,342,596号、特公昭47−4417号、西
独国出願公告第2.149,789号、特公昭39−2
825号、特公昭49− 13566号等の各明細書又
は公報に記載されている化合物、好ましくは、例えば5
.6−トリメチレン−7−ヒドロキンン−S一トリアゾ
口 (1.5−a)ピリミジン、5,6−テトラメチレ
ン7−ヒドロキシ−s−トリアゾ口 (1.5−a)ビ
リミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−S−トリアゾ
口(l,5一a)ビリミジン、5−メチル−7−ヒドロ
キシS−トリアゾロ (1.5−a)ピリミジン、7−
ヒドロキシン−S一トリアゾロン(1.5−a)ビリミ
ジン、5−メチル−6−ブロモー7−ヒドロキシーS一
トリアゾ口(1.5−a)ピリミジン、没食子酸エステ
ル(例え1゛f没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシル
、没食子酸プロビル、没食子酸ナトリウム)、メルカブ
タン類(1−7ェニルー5−メルカプトテトラゾール、
2−メルカプトベンツチアゾール)、ペンゾトリアゾー
ル類(5−プロムペンットリアゾール、5−メチノレベ
ンットリアゾーノレ)、ペンツイミダゾール類(6−ニ
トロペンツイミダゾール)等を用いて安定化することが
できる。
The silver halide emulsion used in the present invention is, for example, US Pat. No. 2,444,607, US Pat. No. 2,716,062, US Pat.
No. 89,380, No. 2.058.626, No. 2,
No. 118,411, Japanese Patent Publication No. 43-4133, U.S. Patent No. 3,342,596, Japanese Patent Publication No. 4417-1987, West German Publication No. 2.149,789, Japanese Patent Publication No. 39-2
Compounds described in specifications or publications such as No. 825 and Japanese Patent Publication No. 49-13566, preferably, e.g.
.. 6-trimethylene-7-hydroquine-S-triazo (1.5-a) Pyrimidine, 5,6-tetramethylene 7-hydroxy-s-triazo (1.5-a) Pyrimidine, 5-methyl-7- Hydroxy-S-triazo(l,5-a)pyrimidine, 5-methyl-7-hydroxyS-triazolo(1.5-a)pyrimidine, 7-
Hydroxine-S-triazolone (1.5-a) pyrimidine, 5-methyl-6-bromo-7-hydroxy-S-triazo (1.5-a) pyrimidine, gallic acid ester (e.g. 1゛f isoamyl gallate, dodecyl gallate, probyl gallate, sodium gallate), mercaptans (1-7 phenyl-5-mercaptotetrazole,
2-mercaptobenzthiazole), penzotriazoles (5-prompenttriazole, 5-methynolebenttriazole), penzimidazoles (6-nitropentzimidazole), etc. .

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することができる。
The silver halide photographic material and/or developer according to the present invention may contain an amino compound.

又現像性を高めるために、フエニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ペンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。或いは処理液の
処理能力を上げるために、パッキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
Further, in order to improve the developability, a developing agent such as phenidone or hydroquinone, or an inhibitor such as penzotriazole can be contained in the emulsion. Alternatively, in order to increase the processing ability of the processing solution, the packing layer may contain a developing agent or an inhibitor.

本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンである。
A hydrophilic colloid used with particular advantage in the present invention is gelatin.

本発明に用いられるゼラチンは、アルカリ処理、酸処理
いずれも用いることが出来るが、オセインゼラチンを用
いる場合にはカルシウム或いは鉄分を取り除くことが好
ましい。好ましい含有量としてカルシウム分は1〜99
9ppmであるが、更に好ましくはl−500ppmで
あり、鉄分は0.01−50ppmが好ましく、更に好
ましくは0.1−10ppmである。このようにカルシ
ウム分や鉄分の量を調節する方法は、ゼラチン水溶液を
イオン交換装置に通すことにより達戊することができる
The gelatin used in the present invention can be treated with either alkali treatment or acid treatment, but when using ossein gelatin, it is preferable to remove calcium or iron. The preferred calcium content is 1-99
The iron content is preferably 9 ppm, more preferably l-500 ppm, and the iron content is preferably 0.01-50 ppm, more preferably 0.1-10 ppm. The amount of calcium and iron can be adjusted in this way by passing an aqueous gelatin solution through an ion exchange device.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としてはカテコール、ピロガロール及びそ
の誘導体ならびにアスコルビン酸、クロロハイドロキノ
ン、プロモハイドロキノン、メチルハイドロキノン、2
,3−ジブロモハイドロキノン、2.5−ジエチルハイ
ドロキノン、カテコーノレ、4−クロロカテコーノレ、
4−フエニノレーカテコーノレ、3−メトキシー力テコ
ール、4−アセチルービロガロール、アスコルビン酸ソ
ーダ等がある。
Developing agents used in the development of the silver halide photographic material according to the present invention include catechol, pyrogallol and its derivatives, ascorbic acid, chlorohydroquinone, promohydroquinone, methylhydroquinone, 2
, 3-dibromohydroquinone, 2,5-diethylhydroquinone, catechol, 4-chlorocatechol,
Examples include 4-phenylene catechol, 3-methoxyl catechol, 4-acetyl birogallol, and sodium ascorbate.

又、HO− (CH= CH).− N}I.型現像剤
としては、オルト及びバラのアミノフェノールが代表的
なもので、4−アミノフェノール、2−アミノー6−フ
ェニルフェノール、2−アミノー4−クロロー6−フエ
ニルフェノール、N−メチルーp−アミノフエニール等
がある。
Also, HO- (CH=CH). -N}I. Typical mold developers include ortho and rose aminophenols, including 4-aminophenol, 2-amino-6-phenylphenol, 2-amino-4-chloro-6-phenylphenol, and N-methyl-p-aminophenol. There are Fenyl, etc.

更に、82N  (CH= CH),  NH!型現像
剤としては例えば4−アミノー2−メチルーN,N−ジ
エチルアニリン、2,4−ジアミノーN,N−ジエチル
アニリン、N一(4−アミノー3−メチルフエニル)一
七ルホリン、p−7二二レンジアミン等がある。
Furthermore, 82N (CH=CH), NH! Examples of mold developers include 4-amino-2-methyl-N,N-diethylaniline, 2,4-diamino-N,N-diethylaniline, N1(4-amino-3-methylphenyl)17ruforine, and p-722. There are diamines, etc.

ヘテロ環型現像剤としては、l−7エニルー3−ビラゾ
リドン、■−フエニルー4,4−ジメチル−3−ビラゾ
リドン、1−7エニルー4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ビラゾリドンのような3−ビラゾリドン類、
lフエニルー4−アミノー5−ピラゾロン、5−アミノ
ラウシル等を挙げることができる。
Examples of the heterocyclic developer include 3-virazolidone such as l-7enyl-3-virazolidone, ■-phenyl-4,4-dimethyl-3-virazolidone, and 1-7enyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-virazolidone. vilazolidones,
Examples include phenyl-4-amino-5-pyrazolone and 5-aminolaucil.

T.H.ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ・ホトグ
ラフインク・プロセス第4版 (The Theory o( Photograph
ic Process FourthEdition)
第291〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリ
カン・ケミカル・ソサエティ(Journal oft
he American Chemical Soci
ety)第73巻、第3,100頁( 1951)に記
載されているごとき現像剤が本発明に有効に使用し得る
ものである。これらの現像剤は単独で使用しても2種以
上組み合わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用い
る方が好ましい。又本発明にかかる感光材料の現像に使
用する現像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、
亜硫酸カリ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が
損なわれることはない。又保恒剤としてヒドロキシルア
ミン、ヒドラジド化合物を用いることができ、この場合
その使用量は現像液IQ当たり5〜500gが好ましく
、より好ましくは20〜200gである。
T. H. The Theory of the Photographic Process, 4th Edition, by James James.
ic Process Fourth Edition)
pp. 291-334 and Journal of the American Chemical Society.
he American Chemical Society
Ety) Vol. 73, p. 3, 100 (1951) can be effectively used in the present invention. These developers may be used alone or in combination of two or more types, but it is preferable to use two or more types in combination. In addition, the developer used for developing the photosensitive material according to the present invention may contain preservatives such as sodium sulfite,
Even if sulfites such as potassium sulfite are used, the effects of the present invention will not be impaired. Further, hydroxylamine or a hydrazide compound can be used as a preservative, and in this case, the amount used is preferably 5 to 500 g, more preferably 20 to 200 g, per developer IQ.

又現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させて
もよく、そのようなグリコール類としてはエチレングリ
コール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール
、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール、
l,5−ペンタンジオール等があるが、ジエチレングリ
コールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコール
類の好ましい使用量は現像液IQ当たり5〜500gで
、より好ましくは20〜200gである。これらの有機
溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
Further, the developer may contain glycols as an organic solvent, and such glycols include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, triethylene glycol, 1,4-butanediol,
Examples include 1,5-pentanediol, and diethylene glycol is preferably used. The amount of these glycols used is preferably 5 to 500 g, more preferably 20 to 200 g, per developer IQ. These organic solvents can be used alone or in combination.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記のごと
き現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理すること
により極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることが
できる。
The silver halide photographic light-sensitive material according to the present invention can be developed with a developer containing the above-mentioned development inhibitor to obtain a light-sensitive material with extremely excellent storage stability.

上記の組戊になる現像液のpH値は好ましくは9〜l3
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜l
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
The pH value of the above-described developing solution is preferably 9 to 13
However, from the viewpoint of preservation and photographic properties, the pH value is 10 to 1
A range of 2 is more preferred. Regarding cations in the developer, it is preferable that the ratio of potassium ions is higher than that of sodium because the activity of the developer can be increased.

本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50゜C以下が好ましく、特に25゜C〜4 0 ’
C!前後が好ましく、又現像時間は2分以内に終了する
ことが一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒
が好効果をもたらすことが多い。又現像以外の処理工程
、例えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前
硬膜、中和等の工程を採用することは任意であり、これ
らは適宜省略することもできる。更に又、これらの処理
は皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラ
ー現像、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
The silver halide photographic material according to the present invention can be processed under various conditions. The processing temperature, for example, the development temperature is preferably 50°C or lower, particularly 25°C to 40°C.
C! It is preferable that the development time is around 2 minutes, and the development time is generally completed within 2 minutes, but it is particularly preferable that the development time is 10 seconds to 50 seconds, which often brings about good effects. Furthermore, it is optional to employ processing steps other than development, such as washing with water, stopping, stabilizing, fixing, and if necessary, prehardening and neutralization, and these steps can be omitted as appropriate. Furthermore, these treatments may be so-called manual development such as plate development or frame development, or mechanical development such as roller development or hanger development.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 EXAMPLES The present invention will be specifically explained below with reference to Examples.

尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
It should be noted that, as a matter of course, the present invention is not limited to the embodiments described below.

実施例−1 下引き処理したポリエチレンテレフタレートニコロナ放
電した後下記構或の帯電防止液を、下記の付量になる様
に33m/minの速さでロールフィットコーティング
パン及びエアーナイフを使用して塗布した。
Example-1 Undercoated polyethylene terephthalate After di-corona discharge, an antistatic liquid with the following composition was applied at a speed of 33 m/min using a roll-fit coating pan and an air knife so that the amount was applied as shown below. Coated.

本発明の水溶性導電性ボリマー( A ) 0.6g/
m2ラテックス ( B )     0.4g/m”
硬膜剤(H) 0.1g/m” 0 90℃、2分間乾燥し140℃、90秒間熱処理した。
Water-soluble conductive polymer of the present invention (A) 0.6g/
m2 latex (B) 0.4g/m”
Hardener (H) 0.1 g/m'' 0 It was dried at 90°C for 2 minutes and heat treated at 140°C for 90 seconds.

この帯電防止層の上にゼラチンを2.0g/m”になる
様に塗布し接着力試験を行った。ゼラチンの硬膜剤とし
ては、ホルマリン、2.4−ジクロロー6−ヒドロキシ
s−トリアジンナトリウムを用いた。結果を表一■に示
す。
Gelatin was coated on this antistatic layer at a concentration of 2.0 g/m'' and an adhesion test was conducted.As a hardening agent for gelatin, formalin, 2,4-dichloro-6-hydroxys-s-triazine sodium The results are shown in Table 1.

(1)接着力試験 く乾燥膜付試験〉 試料の乳剤面に、カミソリで浅傷を基盤の目状につけ、
その上にセロハン接着テープを圧着したのち該テープを
急激に剥離したときの、セロハンテープの接着面積に対
する乳剤膜の残存率を百分率で示した。
(1) Adhesion test/dry film test> Make shallow scratches on the emulsion surface of the sample with a razor in the shape of the substrate.
The remaining rate of the emulsion film relative to the adhesive area of the cellophane tape when the cellophane adhesive tape was pressure-bonded thereon and then rapidly peeled off was expressed as a percentage.

〈処理膜付試験〉 処理浴中で試料の乳剤面にキリ状の鋭利な先端で基盤の
巨状に傷をつけて、 その面をこすり、 乳 剤膜の残存率を百分率で示した。
<Test with processed film> A large scratch was made on the emulsion surface of the sample in the processing bath using a sharp tip of a drill, and the surface was rubbed to indicate the remaining rate of the emulsion film as a percentage.

実用上、 この百 分率が80%以上であれば支障ない。Practically, this hundred There is no problem if the fraction is 80% or more.

表 l (a)特開昭55−84658記載 Mw= 5000 SO,Na 表1の結果から本発明の試料は接着性に優れていること
がわかる。
Table 1 (a) Mw as described in JP-A-55-84658 Mw = 5000 SO, Na From the results in Table 1, it can be seen that the samples of the present invention have excellent adhesive properties.

実施例−2 (乳剤の調製) pH 3.0の酸性雰囲気下でコントロールドダブルジ
ェット法によりロジウム塩を、銀1モル当たり10−’
モル含有する平均粒経0.11μm1ハロゲン化銀組成
単分散度l5、臭化銀を5モル%含む塩臭化銀粒子を作
威した。粒子の戊長は、ペンジルアデニンを1%のゼラ
チン水溶液IQ当たり30mg含有する系で行った。銀
とハライドの混合後、6−メチル−4−ヒドロキシ−1
.3.3a,7テトラザインデンをハロゲン化銀1モル
当たり600mg加え、その後水洗、脱塩した。
Example 2 (Preparation of emulsion) A rhodium salt was prepared by a controlled double jet method in an acidic atmosphere of pH 3.0 at a concentration of 10-' per mole of silver.
Silver chlorobromide grains containing 5 mol % of silver bromide and having an average grain size of 0.11 μm and a monodispersity of silver halide composition of 15 were prepared. Particle extrusion was carried out in a system containing 30 mg of penzyladenine per 1% gelatin aqueous solution IQ. After mixing silver and halide, 6-methyl-4-hydroxy-1
.. 600 mg of 3.3a,7tetrazaindene per mole of silver halide was added, followed by washing with water and desalting.

次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6メチル
−4−ヒドロキシ−1.3.3a.7−テトラザインデ
ンを加えた後、ハロゲン化銀1モル当たり15111g
のチオ硫酸ナトリウムを加え、60°Cでイオウ増感を
した。イオウ増感後安定剤として6−メチル−4−ヒド
ロキシ−1.3.3a.7−テトラザインデンをハロゲ
ン化銀1モル当たり600mg加えた。
Then 60 mg of 6-methyl-4-hydroxy-1.3.3a per mole of silver halide. After addition of 7-tetrazaindene, 15111 g per mole of silver halide
of sodium thiosulfate was added and sulfur sensitized at 60°C. 6-Methyl-4-hydroxy-1.3.3a. as a stabilizer after sulfur sensitization. 600 mg of 7-tetrazaindene was added per mole of silver halide.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、特開昭59−19941号の実施例−1によりラ
テックス下引処理した厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレート支持体上Iこ塗布した。
Additives were added to the resulting emulsion in the amounts shown below, and coated on a 100 μm thick polyethylene terephthalate support that had been latex subbed according to Example 1 of JP-A-59-19941. did.

ラテックスポリマー:スチレンーブチルアクリレートー
アクリル酸3元共重合 ボリマー         1.0 g/m2テトラフ
ェニルホスホニウムクロライド30  mg/m” サポニン           200  mg/m2
ポリエチレングリコール    100  mg/m2
ハイドロキノン         200  rag/
tn”スチレンーマレイン酸共重合体 20  mg/
m2ヒドラジン化合物(表−2に示す) 50  mg
/m25−メチルベンゾトリアゾール  30  mg
/m2減感色素(M)           20  
B/m2アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.5
 g/m2ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル1
5  mg/m” 銀量 2.8  gem” (乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製し、乳
剤とともに同時重層塗布した。
Latex polymer: Styrene-butyl acrylate acrylic acid ternary copolymer polymer 1.0 g/m2 Tetraphenylphosphonium chloride 30 mg/m" Saponin 200 mg/m2
Polyethylene glycol 100 mg/m2
Hydroquinone 200 rag/
tn” styrene-maleic acid copolymer 20 mg/
m2 hydrazine compound (shown in Table-2) 50 mg
/m25-methylbenzotriazole 30 mg
/m2 desensitizing dye (M) 20
B/m2 alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.5
g/m2 bis(vinylsulfonylmethyl)ether 1
5 mg/m" Silver amount 2.8 gem" (Emulsion layer protective film) An emulsion layer protective film was prepared in the following amount and coated simultaneously with the emulsion in a multilayer manner.

弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル200mg/
+n” トテシルベンゼンスノレホン酸ナトリウムl00IIl
g/II12 マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5μ
m)             100  11g/m
”硝酸リチウム塩         30  n+g/
m”没食子酸プロビルエステル   300  mg/
trr”2−)Lカプトベンツイミダゾールー5−スル
ホン酸ナトリウム          30  Llg
/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9) 1.3
 g/a”コロイダルシリ力        30  
mg/+m”スチレンーマレイン酸共重合体 100 
 B/1ビス(ビニルスルホニルメチル)エーテル15
  rag/m” つぎに、乳剤層と反対側の支持体上に、あらかじめ30
W/m”旧nのパワーでコロナ放電した後、ポリ(スチ
レンープチルアクリレートーグリシジルメタクリレート
)ラテックスポリマーをヘキサメチレンアジりジン硬膜
剤の存在下で塗布し、さらに帯電防止層を実施例−1と
同様に塗布し、ついで下記組戊のパッキング層を添加剤
が下記付量になるように調製し、塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate ester 200mg/
+n” Sodium totecylbenzenesnolephonate 100IIl
g/II12 Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 3.5μ
m) 100 11g/m
“Lithium nitrate salt 30 n+g/
m” gallic acid probyl ester 300 mg/
trr"2-) Sodium L-captobenzimidazole-5-sulfonate 30 Llg
/m” Alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) 1.3
g/a” Colloidal Siri force 30
mg/+m” styrene-maleic acid copolymer 100
B/1 bis(vinylsulfonylmethyl)ether 15
rag/m” Next, on the support opposite to the emulsion layer, 30
After corona discharge with a power of W/m'' old n, poly(styrene-butyl acrylate glycidyl methacrylate) latex polymer was applied in the presence of hexamethyleneaziridine hardener and an antistatic layer was applied in Example- Coating was carried out in the same manner as in Example 1, and then a packing layer of the following composition was prepared and coated so that the additives were added in the amounts shown below.

(パッキング層) ラテックスポリマー:プチルアクリレートースチレン共
重合体      0.5 g/m”スチレンーマレイ
ン酸共重合体 100  mg/m2クエン酸(塗布後
pH5.4に調製) 40  rag/aa2サボニン
           200  mg/+”硝酸リチ
ウム塩         30  mg/m’ハツ キン グ染料 (a) CH2So,H (b) So,K So3K (c) SO3Na アルカリ処理ゼラチン 2.0g/m2 ビス (ビニルスルホニルメチル) エーテル l5Illg/lI12 (パッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製し、 グ層上部に同時重層塗布した。
(Packing layer) Latex polymer: Butyl acrylate styrene copolymer 0.5 g/m" Styrene-maleic acid copolymer 100 mg/m2 Citric acid (adjusted to pH 5.4 after application) 40 rag/aa2 Savonin 200 mg /+"Lithium nitrate salt 30 mg/m' Hacking dye (a) CH2So,H (b) So,K So3K (c) SO3Na Alkali-treated gelatin 2.0g/m2 Bis(vinylsulfonylmethyl) ether l5Illg/lI12 (Packing Layer protective film) Additives were prepared in the amounts shown below and were simultaneously coated on top of the layer.

ジオクチルスルホコハク酸エステル パッキン 200  mg/m” マット剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径4.0μm)         50  m
g/m2アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)1.O
K/m” 弗素化トテシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム           50I,lg/.l
l2ビス(ビニルスルホニルメチル) エーテル             20 mg/m”
なお、上記塗布液のpi{はあらかじめ5.4に調製し
てから塗布した。
Dioctylsulfosuccinate ester packing 200 mg/m” Matting agent: Polymethyl methacrylate (average particle size 4.0 μm) 50 m
g/m2 alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9)1. O
K/m” Fluorinated Sodium Totecylbenzenesulfonate 50I, lg/.l
l2bis(vinylsulfonylmethyl) ether 20 mg/m”
Incidentally, the pi{ of the above coating liquid was adjusted in advance to 5.4 before coating.

以上のようにして得られた試料をそれぞれ2つに分け、
一方は23°C相対湿度55%で3日間保存した。残り
の一方は23゜C相対湿度55%で3時間調湿し後、重
ねた状態で防湿袋に封入し、55°Cで3日間保存して
強制劣化させ経時代用試料を作成した。
Divide each sample obtained as above into two,
One was stored for 3 days at 23°C and 55% relative humidity. The remaining one was conditioned for 3 hours at 23°C and 55% relative humidity, then sealed in a moisture-proof bag in a stacked state, and stored at 55°C for 3 days to undergo forced deterioration to create an aging sample.

両方の試料を、ステップウェソジを通して露光後、下記
に示す現像液、定着液を使用して現像処理した後、感度
及び表面比抵抗を求めた。なお感度は光学濃度で1.0
になる露光量とし、相対感度で表した。結果を表2に示
した。
Both samples were exposed to light through a step microscope and developed using the developer and fixer shown below, and then the sensitivity and surface resistivity were determined. The sensitivity is 1.0 in terms of optical density.
The exposure amount is expressed as relative sensitivity. The results are shown in Table 2.

現像処理条件 工程    温度    時間 現@34°0      15秒 定着     32゜C     10秒水洗    
常温    10秒 現像液処方 ハイドロキノン          25  gl−7
エニルー41ジメチル−3− ビラゾリドン           0.4 g臭化ナ
トリウム          3g5−メチルベンゾト
リアゾール   0,3g5−ニトロインダゾール  
    0.05gジエチルアミンプロパン−1,2−
ジオール10  g 亜硫酸カリウム 90 g 5−スルホサリチル酸ナ ト リウム 75 g エチレンジアミン四酢酸ナトリウム 水でlQに仕上げた。
Development processing conditions Process Temperature Time Development@34°C 15 seconds fixing 32°C 10 seconds washing
Room temperature 10 seconds developer formulation Hydroquinone 25 gl-7
Enyl-41 dimethyl-3-virazolidone 0.4 g Sodium bromide 3 g 5-methylbenzotriazole 0,3 g 5-nitroindazole
0.05g diethylamine propane-1,2-
Diol 10 g Potassium sulfite 90 g Sodium 5-sulfosalicylate 75 g Sodium ethylenediaminetetraacetate Finished to 1Q with aqueous solution.

pHは、苛性ンーダで11.5と 定着液処方 (組成A) チオ硫酸アンモニウム(72.5v% し tこ 。The pH is 11.5 with caustic powder. Fixer formulation (Composition A) Ammonium thiosulfate (72.5v% Shitko.

水溶液) 240  m(1 17  g 6.5g 6g 2g 13.6mQ 亜硫酸ナトリウム 酢酸ナトリウム・3水塩 硼酸 クエン酸ナトリウム・2水塩 酢酸(90w%水溶液) (組或B) 純水(イオン交換水) 硫酸(50w%の水溶液) 硫酸アルミニウム (Al22On換算含量が8.1v
%の水溶液) 2 g 17   mQ 4.7g 26.5g 定着液の使用時に水500m12中に上記組戊A1組 戊Bの順に溶かし、 l Qに仕上げて用いた。
Aqueous solution) 240 m (1 17 g 6.5 g 6 g 2 g 13.6 mQ Sodium sulfite Sodium acetate, trihydrate Borate Sodium citrate, Dihydrate acetic acid (90w% aqueous solution) (Composition B) Pure water (ion exchange water) Sulfuric acid (50w% aqueous solution) Aluminum sulfate (Al22On equivalent content is 8.1v)
% aqueous solution) 2 g 17 mQ 4.7 g 26.5 g When using a fixer, the above-mentioned A1 and B were dissolved in 500 ml of water in the order of 1 Q and used.

この 表2の結果から本発明の試料は、経時保存による感度低
下が少なく、また処理後の帯電防止能の劣化も少ないこ
とが分かる。
From the results in Table 2, it can be seen that the samples of the present invention show little decrease in sensitivity due to storage over time, and little deterioration in antistatic ability after processing.

実施例−3 実施例−2と同様にして、ロジウム塩を銀lモル当たり
10−6モルを含有し、平均粒径0.20IIm,単分
散度20の臭化銀を2モル%含む塩臭化銀粒子を作成し
た。これを実施例−2と同様に処理、水洗、脱塩後イオ
ウ増感を施した。
Example-3 In the same manner as in Example-2, a salt odor containing 10-6 mol of rhodium salt per mol of silver, 2 mol% of silver bromide with an average particle size of 0.20 IIm and a monodispersity of 20 was prepared. Silver oxide particles were created. This was treated in the same manner as in Example 2, washed with water, desalted, and then sulfur sensitized.

得られた乳剤に添加剤を下記の付量になるように調製添
加し、実施例−■で用いた下引加工済ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
Additives were added to the resulting emulsion in the amounts shown below, and the mixture was coated on the undercoated polyethylene terephthalate support used in Example 2.

ラテックスポリマー: スチレンープチルアクリレートアクリル酸3元共重合ボ
リマー        LOg/m”フェノール   
          I種g /va 2サポニン  
           200mg/m”ドデシルベン
ゼン スノレホン酸ナトリウム       50mg7m”
テトラゾリウム化合物(表−3に示す) 50mg/I
II″化合物(N) 化合物(0) スチレンーマレイン酸共重合体 アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)銀量 ホルマリン 40mg/m” 50 m g / m x 20mg/m” 2.0g/m” 3.5g/rn2 10Illg/m” 化合物(0) 尚、塗布液はあらかじめ水酸化ナトリウムpH6.5に
調整したのち塗布した。乳剤保護膜として、添加剤を下
記の付量になるように調製し、乳剤塗布液とともに同時
重層塗布した。
Latex polymer: Styrene-butyl acrylate acrylic acid ternary copolymer polymer LOg/m”phenol
Type I g/va 2 saponin
200mg/m"Sodium dodecylbenzenesnolephonate 50mg7m"
Tetrazolium compound (shown in Table 3) 50mg/I
II'' Compound (N) Compound (0) Styrene-maleic acid copolymer alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9) Silver content Formalin 40 mg/m" 50 mg/m x 20 mg/m" 2.0 g/m "3.5g/rn2 10Illg/m" Compound (0) The coating solution was coated after adjusting the pH of sodium hydroxide to 6.5 in advance.As an emulsion protective film, additives were prepared in the amounts shown below. Then, simultaneous multilayer coating was carried out together with the emulsion coating solution.

弗素化ジオクチル スルホコハク酸エステル     100mg/m2ジ
オクチルスルホコハク酸エステル 100mg/m2マ
ノト剤:不定型シリカ       501g/m”化
合物(0 )             30mg/m
”5−メチルベンゾトリアゾール     20mg/
m’化合物(P )             500
mg/m”没食子酸ブロビルエステル     300
Ilg/+”スチレンーマレイン酸共重合体    1
00mg/m”アルカリ処理ゼラチン(等電点4.9)
   1.0g/m”ホルマリン          
   10ffig/IIl2尚、あらかじめクエン酸
でpH 5.4に調整したのち塗布した。
Fluorinated dioctyl sulfosuccinate 100 mg/m2 Dioctyl sulfosuccinate 100 mg/m2 Manoto agent: Amorphous silica 501 g/m" Compound (0) 30 mg/m
“5-Methylbenzotriazole 20mg/
m' compound (P) 500
mg/m” gallic acid brobyl ester 300
Ilg/+” styrene-maleic acid copolymer 1
00mg/m” alkali-treated gelatin (isoelectric point 4.9)
1.0g/m” formalin
10ffig/III12 The pH was adjusted to 5.4 with citric acid before coating.

化合物(P) 次に乳剤層とは、反対側の支持体上に、実施例2と全く
同様にして帯電防止層、パッキング層を設けた。ただし
この時のパッキング層の硬膜剤はホルマリンを使用した
Compound (P) Next, an antistatic layer and a packing layer were provided on the support opposite to the emulsion layer in exactly the same manner as in Example 2. However, formalin was used as the hardening agent for the packing layer at this time.

実施例2と同様に処理し、評価した。It was treated and evaluated in the same manner as in Example 2.

ただし、現像液は下記のものを用いた。得られた結果を
表−3に示す。
However, the following developer was used. The results obtained are shown in Table 3.

(組戊A) 純水(イオン交換水)         150n+(
2エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2gジエチ
レングリコール         50g亜硫酸カリウ
ム(55%v/v水溶液)    l00mQ炭酸カリ
ウム             50gハイドロキノン
           25gl−フェニル−5−メル
カプトテトラゾール 30n+g水酸化カリウム  使
用液のpHを10.4にする量臭化カリウム     
        4.5g(組戊B) 純水(イオン交換水)          3mgジエ
チレングリコーノし         50gエチレン
ジアミン四酢酸二 ナトリウム塩            25mg酢酸(
90%水溶液)          0.3tml1−
フエニル−3−ピラゾリドン 500+ng 現像液の使用時に水500mQ中に上記組FRA,組戒 表3の結果からも実施例2のヒドラジン化合物の場合と
同様に本発明の試料は経時保存による感度低下が少なく
、処理後の帯電防止能の劣化も少ない。
(Group A) Pure water (ion exchange water) 150n+(
2 ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 2 g diethylene glycol 50 g potassium sulfite (55% v/v aqueous solution) 100 mQ potassium carbonate 50 g hydroquinone 25 g l-phenyl-5-mercaptotetrazole 30 n+g potassium hydroxide Bromine in an amount to bring the pH of the working solution to 10.4 potassium
4.5g (Assembly B) Pure water (ion-exchanged water) 3mg diethylene glycol 50g ethylenediaminetetraacetic acid disodium salt 25mg acetic acid (
90% aqueous solution) 0.3tml1-
Phenyl-3-pyrazolidone 500+ng When using the developer, add 500 mQ of water to the above group FRA, and from the results in Table 3, the sample of the present invention shows little sensitivity loss due to storage over time, similar to the case of the hydrazine compound of Example 2. , there is little deterioration in antistatic ability after treatment.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明により接着性に優れた帯電防止層を有し、テトラ
ゾリウム化合物またはヒドラジン化合物のような超硬調
化剤を使用しても経時で表面比抵抗の劣化が少なく、か
つ減感せず、安定性の高いハロゲン化銀写真感光材料を
提供することができた。
The present invention has an antistatic layer with excellent adhesive properties, and even when ultrahigh contrast agents such as tetrazolium compounds or hydrazine compounds are used, there is little deterioration in surface resistivity over time, and there is no desensitization and stability. It was possible to provide a silver halide photographic light-sensitive material with high silver halide content.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)[1]水溶性導電性ポリマー、[2]疎水性ポリ
マー粒子、[3]硬化剤の反応生成物からなる帯電防止
層を有してなるプラスチックフィルムにおいて、該水溶
性導電性ポリマーが、脂肪族残基中にスルホン酸基をも
つモノマーとカルボキシル基を含まない反応基をもつモ
ノマーとの共重合体を有する帯電防止層を有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
(1) In a plastic film comprising an antistatic layer comprising a reaction product of [1] a water-soluble conductive polymer, [2] hydrophobic polymer particles, and [3] a curing agent, the water-soluble conductive polymer A silver halide photographic light-sensitive material comprising an antistatic layer comprising a copolymer of a monomer having a sulfonic acid group in an aliphatic residue and a monomer having a reactive group not containing a carboxyl group.
(2)請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料がヒド
ラジン化合物又はテトラゾリウム化合物を含有すること
を特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
(2) The silver halide photographic material according to claim 1, which contains a hydrazine compound or a tetrazolium compound.
JP18992589A 1989-07-20 1989-07-20 Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment Pending JPH0353241A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18992589A JPH0353241A (en) 1989-07-20 1989-07-20 Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18992589A JPH0353241A (en) 1989-07-20 1989-07-20 Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0353241A true JPH0353241A (en) 1991-03-07

Family

ID=16249506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18992589A Pending JPH0353241A (en) 1989-07-20 1989-07-20 Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0353241A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8439853B2 (en) 2009-03-09 2013-05-14 Kabushiki Kaisha S.F.C. Electric moxibustion device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8439853B2 (en) 2009-03-09 2013-05-14 Kabushiki Kaisha S.F.C. Electric moxibustion device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02266933A (en) Antistatic layer
JPH0353241A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359553A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0367249A (en) Antistatic layer
JPH0359642A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359647A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359645A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JP2796845B2 (en) Silver halide photographic material with antistatic treatment
JPH0359554A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359644A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359646A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JP2838552B2 (en) Silver halide photographic material
JPH0359640A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359641A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359652A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JP2829634B2 (en) Silver halide photographic material with antistatic treatment
JPH02266934A (en) Antistatic layer
JPH0359650A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH0359643A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH02291551A (en) Antistatic layer
JPH03293656A (en) Packaged silver halide photographic sensitive material and production thereof
JPH0310243A (en) Antistatic layer
JPH0359649A (en) Silver halide photographic sensitive material subjected to antistatic treatment
JPH037934A (en) Antistatic layer
JPH03243684A (en) Antistatic layer