JPH035915A - Substrate for magnetic recording medium and its production - Google Patents

Substrate for magnetic recording medium and its production

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JPH035915A
JPH035915A JP14017689A JP14017689A JPH035915A JP H035915 A JPH035915 A JP H035915A JP 14017689 A JP14017689 A JP 14017689A JP 14017689 A JP14017689 A JP 14017689A JP H035915 A JPH035915 A JP H035915A
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JP
Japan
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substrate
synthetic resin
magnetic recording
recording medium
metal
Prior art date
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Application number
JP14017689A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichi Kubo
晃一 久保
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a cheap substrate for magnetic recording medium comprising synthetic resin with high surface hardness and having excellent heat resistance and adhesion property by forming a metal ion implantation layer by implanting metal ions in the surface area of the synthetic resin substrate and then forming an aluminum anodizing film on the metal ion injection layer. CONSTITUTION:Metal ions are implanted in a synthetic resin substrate 1 on which an alumite film 3 is formed by anodizing an Al layer formed on the substrate 1. By this method, the alumite film 3 can be formed with good adhesion on the substrate 1. Surface hardness of the alumite film 3 can be further improved by filling fine pores in the film 3 with nonmagnetic metal 4. Thus, the obtd. medium is light and has excellent reliability and good productivity.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、磁気記録媒体用基板に関し、より詳細には、
合成樹脂基板の表面にアルミニウムの陽極酸化被膜を形
成してなる磁気記録媒体用基板に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a substrate for magnetic recording media, and more specifically,
The present invention relates to a magnetic recording medium substrate formed by forming an aluminum anodic oxide film on the surface of a synthetic resin substrate.

[従来の技術] 近年、磁気記録媒体用基板として、合成樹脂基板を使用
する検討がなされている。合成樹脂基板は、アルミニウ
ム合金基板よりも軽量で、衝撃に強く、かつ、加工が容
易であるという特徴を有する。また、合成樹脂基板にお
いては、基板表面の硬度を向上させて十分なCSS特性
や耐擦傷性を得るため、基板の表面に高硬度の被膜を形
成する試みがなされている。従来、表面に高硬度の被膜
を形成した合成樹脂基板としては、例えば、以下のよう
なものが知られていた。
[Prior Art] In recent years, studies have been made to use synthetic resin substrates as substrates for magnetic recording media. Synthetic resin substrates are lighter than aluminum alloy substrates, more resistant to impact, and easier to process. Furthermore, in the case of synthetic resin substrates, attempts have been made to form a highly hard coating on the surface of the substrate in order to improve the hardness of the substrate surface and obtain sufficient CSS characteristics and scratch resistance. Conventionally, the following types of synthetic resin substrates having a highly hard coating formed on their surfaces have been known, for example.

■特開昭59−213025号公報に開示された技術 これは、基板を形成する合成樹脂としてABS樹脂およ
び/またはMBS樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組
成物を用い、N1−Pを主成分とする合金被膜を湿式メ
ツキ法により該合成樹脂基板上に形成したものである。
■Technology disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-213025 This uses a mixed composition of ABS resin and/or MBS resin and polycarbonate resin as the synthetic resin forming the substrate, and an alloy containing N1-P as the main component. A film is formed on the synthetic resin substrate by a wet plating method.

すなわち、基板を形成する合成樹脂としてABS樹脂等
とポリカーボネート樹脂の混合組成物を用いることによ
り、アルミ合金性基板の表面硬度を向上させるための被
膜として以前より知られていたN1−P合金被膜を表面
被膜として使用することを可能としたものである。
That is, by using a mixed composition of ABS resin or the like and polycarbonate resin as the synthetic resin that forms the substrate, the N1-P alloy coating, which has been known for a long time as a coating for improving the surface hardness of aluminum alloy substrates, can be used. This makes it possible to use it as a surface coating.

N1−Pを主成分とする合金被膜は、高硬度かつ非磁性
であることや、量産性に優れた湿式メツキが可能である
こと等の特徴を有している。
The alloy film containing N1-P as a main component has characteristics such as being highly hard and non-magnetic, and being wet-plated with excellent mass productivity.

■特開昭61−187117号公報に開示された技術 これは、TiもしくはTi化合物の被膜をイオンブレー
ティング法を用いて合成樹脂基板の表面に形成するもの
である。このような方法によっても、基板表面の硬度お
よび粗度を向上させることができる。
(2) Technique disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 187117/1983 This technique forms a film of Ti or a Ti compound on the surface of a synthetic resin substrate using an ion blasting method. Such a method can also improve the hardness and roughness of the substrate surface.

[発明が解決しようとする課題] しかし、上述のごとき従来の磁気記録媒体用基板には、
以下のような課題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the conventional magnetic recording medium substrates described above have the following problems:
The following issues were encountered.

■特開昭59−213025号公報に開示された技術に
は、基板の形成に使用する樹脂が、ABS樹脂および/
またはMBS樹脂とポリカーボネート樹脂の混合組成物
に限定されるため、より成形性に優れた樹脂や耐熱性に
優れた樹脂の使用が制限されてしまうという課題があっ
た。
■The technology disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-213025 has a technique in which the resin used for forming the substrate is ABS resin and/or
Alternatively, since the composition is limited to a mixed composition of MBS resin and polycarbonate resin, there is a problem in that the use of resins with better moldability or resins with better heat resistance is restricted.

また、基板原料としてABS樹脂を混合させると基板の
耐熱性を低下させるため、記録膜の形成に際して、スパ
ッタ法等の耐熱性を要求される方法を使用することが困
難であるという課題もあった。
In addition, when ABS resin is mixed as a substrate raw material, the heat resistance of the substrate decreases, so there is a problem that it is difficult to use a method that requires heat resistance such as sputtering when forming a recording film. .

さらに、この磁気記録媒体用基板はメツキ層形成中に基
体表面が粗面化されることによって基体とメツキ層の密
着性を向上させているが、このような方法で得られる密
着力では磁気記録媒体として実使用に供するに充分とは
いえず、i理性の向上が望まれていた。
Furthermore, in this magnetic recording medium substrate, the surface of the substrate is roughened during the formation of the plating layer to improve the adhesion between the substrate and the plating layer, but the adhesion obtained by this method is insufficient for magnetic recording. It could not be said that it was sufficient for practical use as a medium, and improvements in its rationality were desired.

■特開昭61−187117に示される技術では、磁気
記録媒体として使用される際に必要な硬度を得るには数
μm程度のTiもしくはTi化合物の被膜を形成する必
要があるが、このような被膜をイオンブレーティング法
で形成するためには非常な長時間を必要とするため、コ
スト高の原因となるという課題を有していた。また、被
膜形成時に樹脂製磁気記録用基板が被る熱的障害も多大
であり、基板の変形等の原因となるという課題もあった
■The technology shown in JP-A No. 61-187117 requires the formation of a Ti or Ti compound coating of several micrometers in order to obtain the necessary hardness when used as a magnetic recording medium. Forming a film using the ion blasting method requires a very long time, which poses a problem in that it causes high costs. Furthermore, there is also a problem in that the resin magnetic recording substrate suffers from a great deal of thermal damage during film formation, which causes deformation of the substrate.

本発明は、以上のような課題に鑑みてなされたものであ
り、耐熱性や密着性に優れ、表面硬度の高い合成樹脂製
の磁気記録媒体用基板を安価に提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a synthetic resin substrate for a magnetic recording medium that is excellent in heat resistance and adhesion and has high surface hardness at a low cost.

[課題を解決するための手段] 本発明の第1の要旨は、合成樹脂製基板上に少なくとも
アルミニウムの陽極酸化被膜を形成してなる磁気記録媒
体用基板であって、当該合成樹脂製基板の表面近傍に少
なくとも1種類以上の金属イオンが注入されて金属イオ
ン注入層が形成され、当該金属イオン注入層上に前記ア
ルミニウムの陽極酸化被膜が形成されたことを特徴とす
る磁気記録媒体用基板に存在する。
[Means for Solving the Problems] A first aspect of the present invention is a substrate for a magnetic recording medium comprising at least an anodic oxide film of aluminum formed on a synthetic resin substrate, the substrate being made of a synthetic resin. A substrate for a magnetic recording medium, characterized in that a metal ion implantation layer is formed by implanting at least one type of metal ion near the surface, and the anodic oxide film of aluminum is formed on the metal ion implantation layer. exist.

本発明の第2の要旨は、合成樹脂製基板上に少なくとも
アルミニウムの陽極酸化被膜を形成してなる6n気記録
媒体用基板であって、当該合成樹脂製基板の表面近傍に
少なくとも1種類以上の金属イオンが注入されて金属イ
オン注入層が形成され、当該金属イオン注入層上に表面
に多数の微細孔を有する前記アルミニウムの陽極酸化被
膜が形成され、当該微細孔中に非磁性の金属もしくは合
金が充填されたことを特徴とする磁気記録媒体用基板に
存在する。
A second aspect of the present invention is a substrate for a 6N recording medium, which is formed by forming at least an anodic oxide film of aluminum on a synthetic resin substrate, the synthetic resin substrate having at least one type of substrate near the surface thereof. Metal ions are implanted to form a metal ion implanted layer, and on the metal ion implanted layer, the aluminum anodic oxide film having a large number of micropores is formed on the surface, and a nonmagnetic metal or alloy is formed in the micropores. exists in a magnetic recording medium substrate characterized by being filled with.

以下、本発明の構成について、詳細に説明する。Hereinafter, the configuration of the present invention will be explained in detail.

(合成樹脂基板) 本発明に使用される合成樹脂基板としては、例えば、ア
クリル系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、エポキ
シ系などの1種もしくは2種以上の混合樹脂により形成
されたものが使用可能である。また、ガラス繊維、アル
ミナ粒子などの充填剤を含んでもよい。
(Synthetic resin substrate) As the synthetic resin substrate used in the present invention, for example, one formed of one or a mixture of two or more resins such as acrylic, polycarbonate, polyimide, and epoxy resins can be used. be. It may also contain fillers such as glass fibers and alumina particles.

(金属イオンの注入) 本発明では、上記合成樹脂基板にイオン注入を行なう。(Injection of metal ions) In the present invention, ions are implanted into the synthetic resin substrate.

イオン注入は、I X 10−5Torr〜I X 1
0−’Torr程度の真空下で行うことが望ましい。
Ion implantation is performed at I x 10-5 Torr to I x 1
It is preferable to perform this under a vacuum of about 0-' Torr.

注入されるイオン種は、イオン化可能な金属であれば何
でもよいが、非磁性金属を用いることが好ましい。これ
は、本発明の磁気記録媒体用基板を用いて形成した磁気
記録媒体を実使用する際の磁気記録再生特性を損なわな
いためである。さらに、後述する工程によりアルマイト
層を形成する際に陽極酸化法を用いるため、浴を汚染す
ることの少ないイオン種を注入することが好ましい。
The ion species to be implanted may be any metal as long as it can be ionized, but it is preferable to use a nonmagnetic metal. This is to avoid impairing the magnetic recording and reproducing characteristics when a magnetic recording medium formed using the magnetic recording medium substrate of the present invention is actually used. Furthermore, since an anodic oxidation method is used when forming the alumite layer in the process described below, it is preferable to implant ionic species that are less likely to contaminate the bath.

浴を汚染することの少ないイオン種としては、AJ!、
Cuなどが挙げられる。
AJ! is an ionic species that rarely pollutes the bath. ,
Examples include Cu.

イオン注入の際の加速電圧は10kV〜IOMVの範囲
内にすることが好ましい。なぜなら、10kV以下であ
るとイオンに与えられるエネルギーが小さすぎて充分な
イオン注入を行うことができず、また、IOMV以上で
はイオン注入した表面が脆弱となってアルマイト被膜と
の密着性が低下するからである。このような条件下での
イオン注入量は1()13個/cm2〜1o20個/C
m2の範囲内であることが好ましい。
The acceleration voltage during ion implantation is preferably within the range of 10 kV to IOMV. This is because if it is less than 10 kV, the energy given to the ions is too small to perform sufficient ion implantation, and if it is more than IOMV, the ion implanted surface becomes brittle and the adhesion with the alumite coating decreases. It is from. The ion implantation amount under these conditions is 1()13 ions/cm2 to 1o20 ions/C
It is preferably within the range of m2.

イオン注入により形成されるイオン注入層の厚みは、5
00〜10000人の範囲内であることが好ましい。な
ぜなら、500人未満では所望の性能(表面硬度、CS
S特性等)が発揮されず、また、toooo人を超えて
もそれ以上性能は向上しないばかりか却って生産性が悪
化するからである。
The thickness of the ion implantation layer formed by ion implantation is 5
The number is preferably within the range of 00 to 10,000 people. This is because the desired performance (surface hardness, CS
S characteristics, etc.) are not exhibited, and even if the performance is exceeded by too many people, not only will the performance not improve any further, but on the contrary, productivity will deteriorate.

(アルミニウムの陽性酸化III) 次に、本発明では、イオン注入をした合成樹脂基板上に
アルミニウムの陽性酸化11i(アルマイト被膜)を形
成する。アルマイト被膜は、真空蒸着法などにより形成
されたA2層を陽極酸化することによって得られる。
(Positive Oxidation of Aluminum III) Next, in the present invention, positive oxidation of aluminum 11i (alumite film) is formed on the synthetic resin substrate into which ions have been implanted. The alumite coating is obtained by anodizing the A2 layer formed by vacuum evaporation or the like.

アルマイト被膜の厚みは2μm〜20μmであることが
好ましい。なぜなら、2μm未満では所望の性能(表面
硬度、CSS特性、アルマイト被膜との密着性等)が発
揮されず、20μmを超えてもそれ以上性能は向上しな
いばかりか却って生産性が悪化するからである。
The thickness of the alumite coating is preferably 2 μm to 20 μm. This is because if the thickness is less than 2 μm, the desired performance (surface hardness, CSS properties, adhesion with alumite film, etc.) cannot be achieved, and if it exceeds 20 μm, not only will the performance not improve any further, but productivity will actually deteriorate. .

真空蒸着法などにより形成されたA1層を陽極酸化する
ことによってアルマイト被膜を形成すると、アルマイト
被膜中には、膜面に垂直な微細孔が得られる。この微細
孔の中に、Zn、Ti。
When an alumite film is formed by anodizing the A1 layer formed by a vacuum evaporation method or the like, fine pores perpendicular to the film surface are obtained in the alumite film. Zn and Ti are contained in these micropores.

Ni−Cu合金などの非磁性で高硬度の金属を電界析出
することにより、さらに強固な被膜を得ることが可能で
ある。
An even stronger coating can be obtained by electrolytically depositing a non-magnetic, highly hard metal such as a Ni--Cu alloy.

さらに、非磁性で高硬度の金属を電界析出したアルマイ
ト被膜のアルマイトの部分のみを、50人〜1000人
の範囲内で酸を用いて選択エツチングすることにより、
当該アルマイト被膜の表面に微細な凹凸を設けることが
できる。これにより、アルマイト被膜の表面を適度に粗
面化することができ、耐C5S性に優れ磁気ヘッドとの
吸着を生じにくい磁気記録媒体用基板を得ることができ
る。エツチング量を50人〜1000人の範囲内とした
のは、50Å以下では磁気ヘットの吸着を防ぐ効果が得
られず、1000Å以上では記録性能に悪影響をおよぼ
すからである。
Furthermore, by selectively etching only the alumite part of the alumite coating, which is made by electrolytically depositing a non-magnetic and highly hard metal, using an acid within the range of 50 to 1000 people.
Fine irregularities can be provided on the surface of the alumite coating. As a result, the surface of the alumite coating can be appropriately roughened, and a substrate for a magnetic recording medium that is excellent in C5S resistance and is less likely to be attracted to a magnetic head can be obtained. The reason why the etching amount is set in the range of 50 to 1000 is that if it is less than 50 Å, no effect of preventing magnetic head adsorption can be obtained, and if it is more than 100 Å, the recording performance will be adversely affected.

[作用] 本発明によれば、合成樹脂により形成した基板の表面に
金属イオンを注入したので、当該基板の表面にアルナイ
ト被膜を密着性よく形成することができる。すなわち、
密着性に優れた高硬度の表面被膜を有する磁気記録媒体
用基板を得ることが可能となる。また、イオン注入では
過大な熱が発生しないので、合成樹脂基板の熱変形等の
障害は発生しない。
[Function] According to the present invention, since metal ions are implanted into the surface of the substrate formed of synthetic resin, an alunite film can be formed with good adhesion on the surface of the substrate. That is,
It becomes possible to obtain a magnetic recording medium substrate having a highly hard surface coating with excellent adhesion. Furthermore, since excessive heat is not generated during ion implantation, problems such as thermal deformation of the synthetic resin substrate do not occur.

また、アルマイト被膜中の微細孔に非磁性の金属を充填
することにより、アルマイト被膜の表面硬度をざらに向
上させることができる。
Furthermore, by filling the micropores in the alumite film with a nonmagnetic metal, the surface hardness of the alumite film can be roughly improved.

さらに、選択エツチングによって微細な凹凸を設けるこ
とにより、アルマイト被膜の表面を適度に粗面化するこ
とができるので、耐C3S性に優れ、磁気ヘッドとの吸
着を生じにくい磁気記録媒体用基板を提供することが可
能となる。
Furthermore, by providing fine irregularities through selective etching, the surface of the alumite coating can be appropriately roughened, providing a substrate for magnetic recording media that has excellent C3S resistance and is less prone to adsorption with magnetic heads. It becomes possible to do so.

以下、本発明について、より詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in more detail.

本発明者は、耐熱性や密着性に優れ、表面硬度の高い合
成樹脂製の磁気記録媒体用基板を得るため、N1−Pを
主成分とする合金薄膜を合成樹脂基板上に形成する方法
にかえて、従来アルミ合金製の磁気記録媒体用基板の表
面硬度を向上させるために用いられていた他の方法を合
成樹脂基板に適用する方法について、検討を行なった。
The present inventor developed a method of forming an alloy thin film containing N1-P as the main component on a synthetic resin substrate in order to obtain a synthetic resin magnetic recording medium substrate with excellent heat resistance and adhesion and high surface hardness. Instead, we investigated how to apply another method, which has been conventionally used to improve the surface hardness of aluminum alloy substrates for magnetic recording media, to synthetic resin substrates.

従来、アルミ合金製基板の表面硬度を向上させるための
方法としては、N1−Pを主成分とする合金薄膜を基板
の表面に形成する方法の他、基板の表面をアルマイト化
する試みや、さらには、当該基板の表面のアルマイト化
に際して形成される多数の微細孔に非磁性の金属を充填
する試みがなされている。これらの方法は、上述のN1
−P合金被膜よりも、さらに表面硬度が高く、かつ、平
滑性に優れるという特徴を持っている。
Conventionally, methods for improving the surface hardness of aluminum alloy substrates include forming an alloy thin film containing N1-P as the main component on the surface of the substrate, as well as attempts to alumite the surface of the substrate, and An attempt has been made to fill a large number of micropores formed when the surface of the substrate is alumitized with a nonmagnetic metal. These methods are based on the N1
-It has the characteristics of higher surface hardness and superior smoothness than the P alloy coating.

′そこで、本発明者は、これらの技術を合成樹脂基板に
適用する方法について鋭意検討した結果、合成樹脂基板
上にアルミ薄膜を形成し、このアルミ薄膜をアルマイト
化したり、このアルマイト化した部分に多数の微細孔を
設けてこの微細孔に非磁性の金属を充填することにより
、上記技術を合成樹脂基板に適用できるのではないかと
の着想を得るに至った。
'Therefore, as a result of intensive study on how to apply these techniques to synthetic resin substrates, the inventor of the present invention formed a thin aluminum film on a synthetic resin substrate, anodized this aluminum thin film, or applied it to the alumitized portion. We came up with the idea that the above technology could be applied to synthetic resin substrates by providing a large number of micropores and filling these micropores with nonmagnetic metal.

しかし、本発明者がこのような磁気記録媒体用基板を試
したところ、N1−Pを主成分とする合金薄膜の場合と
同様、アルマイト被膜と合成樹脂基板との密着性が悪く
、実使用に耐え得るものではなかった。
However, when the present inventor tried such a substrate for magnetic recording media, the adhesion between the alumite coating and the synthetic resin substrate was poor, as was the case with the alloy thin film containing N1-P as the main component, making it impractical for actual use. It was unbearable.

そこで、本発明者は、アルマイト被膜と合成樹脂基板と
の密着性を向上させる方法についてさらなる検討を行な
った結果、合成樹脂により形成した基板の表面に、あら
かじめ金属イオンを注入し、その後、この合成樹脂基板
上にアルミ薄膜を形成し、このアルミ薄膜をアルマイト
化することにより、合成樹脂基板とアルマイト被膜との
密着類を向上させることができるとの知見を得るに至り
、本発明に至ったものである。
Therefore, the inventor of the present invention conducted further studies on a method for improving the adhesion between the alumite coating and the synthetic resin substrate, and as a result, the inventor injected metal ions in advance into the surface of the substrate formed of synthetic resin, and then It was discovered that by forming an aluminum thin film on a resin substrate and anodizing this aluminum thin film, it is possible to improve the adhesion between the synthetic resin substrate and the alumite coating, which led to the present invention. It is.

[実施例] 以下、本発明の1実施例について説明する。なお、本実
施例においては、磁気記録媒体用基板の一例として、6
11気デイスク用基板の場合について説明する。
[Example] Hereinafter, one example of the present invention will be described. In this example, as an example of a magnetic recording medium substrate, 6
The case of the 11-speed disk substrate will be explained.

第1図は、本実施例に係る磁気ディスク用基板を示す模
式的断面図である。図において、1は合成樹脂基板とし
てのポリエーテルイミド製基板、2は合成樹脂基板の金
属イオン注入層(金属イオンとしてはAj2イオンを用
いた)、3はアルマイト被膜、4は非磁性金属としての
Snである。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a magnetic disk substrate according to this embodiment. In the figure, 1 is a polyetherimide substrate as a synthetic resin substrate, 2 is a metal ion implantation layer of the synthetic resin substrate (Aj2 ions were used as metal ions), 3 is an alumite coating, and 4 is a nonmagnetic metal. It is Sn.

本実施例に係わる磁気ディスク用基板は、以下のように
して作製した。
The magnetic disk substrate according to this example was manufactured as follows.

■ポリエーテルイミド製基板を、射出成形法により作製
した。
■A polyetherimide substrate was produced by injection molding.

■この基板に、イオン注入装置を用いて、A℃イオンを
注入し、厚さ5000人のイオン注入層を形成した。
(2) A.degree. C. ions were implanted into this substrate using an ion implantation device to form an ion implantation layer with a thickness of 5,000 layers.

A1イオンの注入は、1×10″”Torrの真空:囲
気下で、加速電圧800kVで行ない、注入量は101
51個/cm’ とした。
The implantation of A1 ions was carried out under a vacuum of 1×10'' Torr and an accelerating voltage of 800 kV, and the implantation amount was 101
51 pieces/cm'.

■この基板に厚さ110A1のAj2被膜を、真空蒸着
法を用いて形成した。
(2) An Aj2 film having a thickness of 110A1 was formed on this substrate using a vacuum evaporation method.

■続いて、基板上のAfl?r1.gについて、シュウ
酸3wt%溶液中で、電解電圧50vti、温25℃の
条件にて、II!極酸化処理を行った。
■Next, Afl on the board? r1. Regarding II!g, in a 3 wt% oxalic acid solution under conditions of an electrolytic voltage of 50 vti and a temperature of 25°C, II! Polar oxidation treatment was performed.

■最後に、この基板にSnの硫酸塩溶液中液温50℃で
電解析出を行い、陽極酸化処理中に生じた微細孔にSn
を充填した。
■Finally, electrolytic deposition of Sn was performed on this substrate in a sulfate solution at a temperature of 50°C, and Sn was deposited in the micropores created during the anodizing process.
filled with.

以上の工程によって、本実施例に係る磁気ディスク基板
を得た。
Through the above steps, a magnetic disk substrate according to this example was obtained.

このようにして得られた磁気ディスク基板の表面硬度を
マイクロビッカース法により測定した結果、荷重25g
において800であった。
As a result of measuring the surface hardness of the thus obtained magnetic disk substrate by the micro-Vickers method, it was found that the load was 25 g.
It was 800.

次に、JIS  H8504けい線試験方法および引き
はがし試験方法(テープ試験方法−一辺2mmの条痕付
ぎ)により、本実施例に係る磁気ディスク基板のアルマ
イト被膜の密着強度の評価を行なった。なお、比較のた
めに、イオン注入をおこなわずにアルマイト被膜を形成
した磁気ディスク基板(すなわち、上記工程■を経ずに
作成し、他の条件はすべて同じとした磁気ディスク基板
)についても同様の評価を行なった。これらの結果を第
1表に示す。
Next, the adhesion strength of the alumite coating of the magnetic disk substrate according to this example was evaluated using the JIS H8504 crease line test method and peel test method (tape test method - 2 mm stripes on each side). For comparison, the same procedure was also applied to a magnetic disk substrate on which an alumite film was formed without ion implantation (i.e., a magnetic disk substrate created without going through the above step ①, with all other conditions being the same). We conducted an evaluation. These results are shown in Table 1.

第1表より明らかなように、本実施例の磁気記録媒体用
基板はアルマイト被膜の剥離が全く生じず、その密着強
度は非常に優れていることがわかった、 第1表 以上、本発明に係る磁気記録媒体用基板として磁気ディ
スク用基板の場合を例にとって説明したが、他の磁気記
録媒体に用いる基板においても同様の結果を得た。
As is clear from Table 1, the alumite coating of the magnetic recording medium substrate of this example did not peel off at all, and its adhesion strength was found to be extremely excellent. Although the case of a magnetic disk substrate has been explained as an example of such a magnetic recording medium substrate, similar results were obtained with substrates used for other magnetic recording media.

〔発明の効果コ 以上説明したように、本発明によれば、合成樹脂基体の
表面に密着性に優れた高硬度のアルマイト被膜を形成す
ることができるので、軽量で信頼性に優れ、量産性の良
い磁気記録媒体用基板を提供することが可能となる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, it is possible to form a highly hard alumite film with excellent adhesion on the surface of a synthetic resin substrate, which is lightweight, highly reliable, and easy to mass produce. It becomes possible to provide a magnetic recording medium substrate with good quality.

また、選択エツチングによって微細な凹凸を設けること
により耐C8S性に優れ、1ifi気ヘツドとの吸着を
生じにくい磁気記録媒体用基板を提供することが可能と
なる。
Further, by providing fine irregularities by selective etching, it is possible to provide a substrate for a magnetic recording medium that has excellent C8S resistance and is less likely to be attracted to a 1IF air head.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本実施例に係る磁気ディスク用基板を示す模
式的断面図である。 第1図 1・・・合成樹脂基板としてのポリエーテルイミド製基
板、2・・・合成樹脂基板の金属イオン注入層、3・・
・アルマイト被膜、4・・・非磁性金属としてのSn。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a magnetic disk substrate according to this embodiment. Fig. 1 1... Polyetherimide substrate as a synthetic resin substrate, 2... Metal ion implantation layer of synthetic resin substrate, 3...
- Alumite coating, 4...Sn as a nonmagnetic metal.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)合成樹脂製基板上に少なくともアルミニウムの陽
極酸化被膜を形成してなる磁気記録媒体用基板であって
、当該合成樹脂製基板の表面近傍に少なくとも1種類以
上の金属イオンが注入されて金属イオン注入層が形成さ
れ、当該金属イオン注入層上に前記アルミニウムの陽極
酸化被膜が形成されていることを特徴とする磁気記録媒
体用基板。
(1) A magnetic recording medium substrate formed by forming at least an anodic oxide film of aluminum on a synthetic resin substrate, wherein at least one or more metal ions are implanted near the surface of the synthetic resin substrate to form a metal 1. A substrate for a magnetic recording medium, characterized in that an ion implantation layer is formed, and the aluminum anodic oxide film is formed on the metal ion implantation layer.
(2)合成樹脂製基板上に少なくともアルミニウムの陽
極酸化被膜を形成してなる磁気記録媒体用基板であって
、当該合成樹脂製基板の表面近傍に少なくとも1種類以
上の金属イオンが注入されて金属イオン注入層が形成さ
れ、当該金属イオン注入層上に表面に多数の微細孔を有
する前記アルミニウムの陽極酸化被膜が形成され、当該
微細孔中に非磁性の金属もしくは合金が充填されたこと
を特徴とする磁気記録媒体用基板。
(2) A magnetic recording medium substrate formed by forming at least an anodic oxide film of aluminum on a synthetic resin substrate, wherein at least one or more metal ions are implanted near the surface of the synthetic resin substrate to form a metal An ion-implanted layer is formed, the aluminum anodic oxide film having a large number of micropores on the surface is formed on the metal ion-implanted layer, and the micropores are filled with a non-magnetic metal or alloy. A substrate for magnetic recording media.
(3)前記微細孔中に充填された前記非磁性の金属もし
くは合金が、前記アルミニウムの陽極酸化被膜の表面か
ら突出していることを特徴とする請求項2に記載の磁気
記録媒体用基板。
(3) The magnetic recording medium substrate according to claim 2, wherein the nonmagnetic metal or alloy filled in the micropores protrudes from the surface of the aluminum anodic oxide film.
(4)前記アルミニウムの陽極酸化被膜の前記微細孔中
に金属または合金を充填させた後に、当該アルミニウム
の陽極酸化被膜のみを選択的にエッチングすることによ
り、前記アルミニウムの陽極酸化膜からの前記非磁性の
金属または合金の突出を形成することを特徴とする請求
項3に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
(4) After filling the fine pores of the anodic oxide film of aluminum with a metal or alloy, selectively etching only the anodic oxide film of aluminum allows the anodic oxide film to be removed from the anodic oxide film of aluminum. 4. The method of manufacturing a magnetic recording medium substrate according to claim 3, further comprising forming protrusions of magnetic metal or alloy.
(5)前記合成樹脂製基板に注入する金属イオンが非磁
性金属のイオンであることを特徴とする請求項1または
2に記載の磁気記録媒体用基板。
(5) The magnetic recording medium substrate according to claim 1 or 2, wherein the metal ions injected into the synthetic resin substrate are nonmagnetic metal ions.
JP14017689A 1989-05-31 1989-05-31 Substrate for magnetic recording medium and its production Pending JPH035915A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5870162A (en) * 1994-02-23 1999-02-09 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and a method of fabricating the device using transparent-electrodes as a photomask

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