JPH0355408B2 - - Google Patents

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JPH0355408B2
JPH0355408B2 JP16089286A JP16089286A JPH0355408B2 JP H0355408 B2 JPH0355408 B2 JP H0355408B2 JP 16089286 A JP16089286 A JP 16089286A JP 16089286 A JP16089286 A JP 16089286A JP H0355408 B2 JPH0355408 B2 JP H0355408B2
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JP
Japan
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catalyst
reaction
tetrachlorosilane
silica
trichlorosilane
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Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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  • Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は、テトラクロロシランの脱塩素水素化
反応によるトリクロロシランの製造方法に関す
る。 半導体工業においては高純度ケイ素が大量に用
いられており、それを製造するためには、一般に
粗シリコンを塩化水素と反応させてトリクロロシ
ランを作り、これを蒸溜精製し高純度トリクロロ
シランとした後、1000〜1300℃の高温下で水素還
元分解して半導体用高純度シリコンを製造してい
る。前記の粗シリコンを塩化水素と反応させる際
にはかなりの量のテトラクロロシランが副生す
る。このテトラクロロシランを水素還元しても高
純度シリコンを製造することはできるが、反応速
度が遅く、しかも反応率が低いことから、この方
法は工業的にはほとんど採用されていない。さら
に、トリクロロシランはシリコーン樹脂工業にお
ける原料物質として広く使用されているので、テ
トラクロロシランよりもトリクロロシランの形の
方が有用である。以上の背景から、テトラクロロ
シランよりトリクロロシランを製造する方法が各
種試みられている。 (従来技術とその問題点) 先行するテトラクロロシランよりトリクロロシ
ランを製造する技術としては、銅または塩化銅を
触媒として、水素存在下でテトラクロロシランを
トリクロロシランに水素化する技術(特開昭58−
161915、特開昭56−73617、特開昭59−45919な
ど)がある。また、白金族金属を含む触媒を用い
て、水素気流中、450℃〜1100℃の温度範囲にお
いて、水素とのモル比1〜1/40の範囲でテトラ
クロロシランを前記触媒との接触時間1〜300秒
の範囲で通過させてトリクロロシランを製造する
技術(特公昭55−10532)がある。しかしながら、
塩化銅を触媒に用いた場合はもちろん、銅を触媒
に用いた場合においても反応過程で塩化銅が生成
し、これらの塩化銅が反応条件下で揮発性である
ためにトリクロロシランに混入して製品純度を下
げ、しかも触媒を消耗することになるので、銅ま
たは塩化銅の触媒を使用する反応では長期の操業
を行うことができない。一方、白金族金属を含む
触媒を使用する技術においては、その触媒が白金
族金属を活性炭、アルミナ、シリカに担持したも
のとして使用されているが、そこで使用されてい
る担体は多孔質である活性炭を使用し、またアル
ミナとしてγ−アルミナを使用していて、シリカ
も通常用いられる多孔質のシリカゲルなどを使用
するものとみられる。ところで、この触媒の場
合、触媒成分の白金族金属は銅などのようには消
耗しないが、担体が消耗し、活性が低下するの
で、長期の操業を行うことができない。 (問題点を解決するための手段) 工業生産の場合、連続的にしかも長期間一定品
質の製品を取得することは極めて重要なポイント
である。本発明者らは白金族金属を触媒とするト
リクロロシランの製造技術の優秀性に着目し、工
業化の観点から長期使用に耐える触媒とそれを使
用する反応の条件についての研究開発を永年に亘
つて進めてきたが、非多孔質のシリカ担体に白金
族金属および白金族金属ケイ化物からなる群より
選ばれた少くとも一つを担持した触媒を用いて、
反応温度500〜1100℃、水素/テトラクロロシラ
ンのモル比0.5〜40で長期間しかも連続的にトリ
クロロシランを製造する方法を発明するに至つ
た。 (作用) 反応に使用する触媒においては、表面積が大き
いもの程触媒活性が大きいという関係にあるた
め、担体にも表面積の大きいものを使用するのが
技術常識であるところ、本発明はこの常識に反す
る手段を取るものであるが、これはテトラクロロ
シランの脱ハロゲン水素化反応においては担体に
高表面積のシリカを用いた場合シリカが反応性に
富み侵され易く、著しく消耗して触媒成分の担持
作用が十分でなくなり、短時間に触媒の活性を失
うことを見い出したことによるものである。例え
ば、表面積250m2/gのパラジウム担持シリカゲ
ルを触媒として用いて反応を行わせると、反応開
始後約100時間で触媒のほとんどがテトラクロロ
シランおよび水素と反応して消失してしまい、触
媒活性が失われる。この理由は、シリカ表面にお
いてパラジウムは微細な粒子状で均一に分散担持
されているので、その触媒による脱ハロゲン水素
化のさいに活性化された多量のシリカ表面が短時
間で反応するためであつて、そのような欠点をな
くし、長寿命の触媒をつくるためには担体である
シリカの表面積を減少させることが必要である。
例えば、シリカ担体として表面積が1〜10m2/g
のシリカレンガを用いた場合には反応後100時間
では触媒活性の低下はほとんどないが、レンガの
バインダーとして用いられるシリカが反応消失す
る為強度が低下し、ついには粉化するので使用に
耐えない。それに対し、本発明のごとく非多孔質
のシリカ担体を用いて反応を行う場合には、触媒
活性の低下はほとんどなく、またシリカの反応消
失も実質上無視しえる量になるから、担体強度の
低下も実質上ほとんどないので、長期間の操業を
行うことができる。 本発明に使用する触媒の担体に用いられる非多
孔質シリカは、担体のバルク構造に細孔構造がな
いのものであつて、この「非多孔質」とは、
BET表面積測定装置によつて測定したBET表面
積(N2)が1.0m2/g以下のものをいう。非多孔
質のシリカの具内例は、ガラス状の溶融シリカ固
化体であるが、前記した表面積の条件下であつて
も、その範囲内でも活性を増しておくという意味
で、また触媒成分の担持を容易にするという意味
で許容される範囲で表面積を大きくしておく方が
よく、そのために好ましくはガラス状の溶融シリ
カ固化体をフツ化水素酸で少くとも0.1μ以上エツ
チングしたシリカ担体、ガラス状の溶融シリカ固
化体表面をシリコンカーバイドなどの研摩材を用
いて少くとも0.1μ以上研摩したシリカ担体、又は
ガラス状の溶融シリカ固化体表面を高温の水素と
クロロシラン類とを接触させ処理したシリカ担体
が用いられる。また、表面積が150〜300m2/g、
好ましくは180〜250m2/gのシリカゲルを高温下
で結晶化させたシリカ担体を用いてよい。 フツ化水素酸による処理の方法は、エツチング
をすればよく、かならずしも0.1μ以上エツチング
しなくてもよいが、0.1μ以上にすることが好まし
く、0.1μ以上の程度については何ら限定するもの
ではなく、例えばガラス状の溶融シリカ固化体の
シリカ担体1重量部を、50%HFの水溶液0.5重量
部〜5重量部に常温で1〜10時間浸漬することに
より行うことができる。このときシリカ担体の重
量は5〜36wt%減少し、表面に凹凸を生じ色が
白くなる。 また、研摩による処理の方法は、研摩をすれば
よく、かならずしも0.1μ以上研摩しなくてもよい
が、0.1μ以上にすることが好ましく、0.1μ以上の
程度については何ら限定するものではなく、例え
ば通常のくもりガラスの製造に用いられるような
カーボランダムなどの研摩剤を常温で空気で吹き
つけることにより行える。この際表面は微細な凹
凸が生じ白くなる。 更に、高温の水素とクロロシラン類とを用いる
場合は、例えば600〜800℃で水素及びテトラクロ
ロシランの混合ガスをシリカ担体に少くとも100
時間以上接触させることで表面に微細な凹凸を生
じさせることができる。また、クロロシラン類の
水素化反応を行うさいに反応器に触媒とともに熱
媒体として溶融シリカ固化体を充填する場合は、
操業の1サイクルが終了したときに溶融シリカ固
化体を取出して使用すれば、この固化体は前記の
反応中に前述の表面処理が行われているので、シ
リカ担体として効率的である。 触媒成分としては白金族金属および白金族金属
の少くとも一種が用いられる。即ち白金、パラジ
ウム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、オス
ミウムおよびそれらのケイ化物が用いられるが、
触媒活性が高く、触媒価格が安いという点で好ま
しくはパラジウム、ルテニウムおよびそれらのケ
イ化物からなる群より選ばれる少くとも1つ、よ
り好ましくはパラジウムおよびパラジウムシリサ
イドからなる群より選ばれる少くとも1つが用い
られる。ここで、パラジウムシリサイドとしては
Pd2Siの結晶構造をもつものが好ましく用いられ
る。又これらの触媒成分は、二種以上の組合せで
用いてもよい。例えばパラジウムとルテニウムの
組合せである。 触媒成分としてパラジウムを用いる場合、その
担持量は触媒全重量に対して約0.01〜5.0wt%、
好ましくは約0.1〜1.5wt%であることが必要であ
る。パラジウム担持量が約0.01wt%以下の場合は
触媒活性が十分発揮されず大きな接触時間が必要
となるので好ましくなく、担持量が約5.0wt%を
越えるとコストが高くなるのみでなく、パラジウ
ムのシリカ担体との結合力が弱くなるので、反応
中に触媒成分の剥離を生ずる場合があり、好まし
くない。更に、パラジウムの好ましい担持量は前
述したように約0.1〜0.5wt%であるが、この量を
シリカ担体に担持するときにはパラジウム粒子の
大きさ、分散の程度が適度であり、触媒活性が十
分発揮され、しかもパラジウムとシリカ面の結合
が強固となり、安定な触媒が得られる。触媒成分
としてパラジウム以外のものを使用した場合、そ
の担持量はその成分により多少異なるが、大体パ
ラジウムと同程度の量を使用すればよい。又、二
以上の触媒成分を用いる場合には、全触媒成分と
して上記担持量を満足すればよい。その組合せ及
び担持量比は反応条件等に応じ適宜選択すればよ
い。 本発明で使用する触媒を製造するさいには、シ
リカ担体に触媒成分を均一に担持させるために以
下の方法によることが好ましい。即ち、所定濃度
の白金族金属の塩化物あるいは硝酸塩、またはそ
れらのアンモニア錯塩などの水溶液をシリカ担体
に含浸した後、担体表面上に保持されなかつた水
溶液を除去してそのまま乾燥し、その後還元する
方法によらなければならない。余分の水溶液の除
去は傾斜により除いてもよいが、より好ましくは
減圧濾過や遠心濾過などの方法が用いられる。 この方法を用いないで、過剰な溶液を表面に存
在させたまま触媒をドライアツプすると担持金属
などがむらになつて担持され、しかも金属などの
担体への結合力が弱い部分ができるので、反応中
にその部分が剥離し、好ましない。触媒成分担持
量は以上のような理由から、担持に用いる金属塩
の水溶液濃度によつて決り、所望する担持量によ
つて水溶液の金属塩濃度を選択使用する。触媒成
分担持量が約5wt%を越えた場合反応中の触媒成
分の剥離の原因になり、好ましくない。白金族金
属のケイ化物を担持した触媒は白金族金属が担持
された触媒を四塩化ケイ素などのハロゲン化ケイ
素と水素に400℃〜800℃で接触させることにより
製造することができる。 本発明の方法を実施する反応方式は、触媒形状
などを適当に選択することにより、固体床などの
通常の流通式反応方式で行うことが可能である。
触媒粒子の形状は特に限定されることはないが、
例えば3〜30mmの溶融シリカ、石英破砕体を用い
るのが経済的である。 本発明の反応条件に関しては、反応温度500〜
1100℃、好ましくは700〜900℃、水素圧1〜
20atm、好ましくは1〜10atm、接触時間0.01〜
20秒、好ましくは0.1〜3秒であり、1秒以下で
行うこともできる。また水素/テトラクロロシラ
ンのモル比は0.5〜40、好ましくは2.0〜10を用い
るとよい。 反応温度500℃以下ではトリクロロシランの生
成収率が非常に低く非効率的であり、一方1100℃
以上にするとトリクロロシラン及びテトラクロロ
シランが水素化分解してシリコンが析出し目的を
達成できない。水素圧を上げることによりトリク
ロロシラン生成収率は大きく向上しないので高圧
下での反応は不利である。ただし、加圧すること
により反応器をコンパクトにまとめることができ
るので1〜20atmとするのが好ましい。 接触時間は、0.01秒以下ではトリクロロシラン
への反応率は不十分であるが、反応は20秒以内に
ほとんど完結するので20秒以上の接触時間をとる
と工業的に不利になる。更に有利な接触時間は
0.1〜3秒であり、より好ましくは0.2〜1秒であ
る。水素とテトラクロロシランとのモル比は0.5
以上あることが反応収率向上のために必要である
が、これが40以上になるとテトラクロロシラン及
び生成するトリクロロシランの濃度が希薄になり
過ぎ、反応器当りの収量が低くなるばかりでな
く、冷却による水素とテトラクロロシラン、トリ
クロロシランの分解効率が低下して非効率的であ
る。 以上述べたように、本発明はテトラクロロシラ
ンよりトリクロロシランを長期間収率よく工業的
に得ることができる。本発明では反応途中で触媒
が消耗しないので反応を長期間に亘つて継続する
ことができ、また適切な反応条件の選定によつて
反応を効率よく行うことができる。 (実施例) 次に、本発明の内容をより明瞭に理解しうるよ
う実施例に基づいて説明するが、本発明はこれら
の実施例によつて限定されるものでない。 なお、下記の実施例及び比較例において、表面
積は柴田科学器械工業(株)製「迅速表面測定装置
SA−100」で測定した。実施例1〜5及び実施例
9で用いた担体の表面積は、いずれも上記装置で
測定して測定限界以下を示した。この測定限界以
下とは0.2m2/g以下であることを意味する。 実施例 1 組成が表1に示される溶融シリカ破砕体をJIS
目開き4.76〜9.52mmメツシユの範囲となるようふ
るい分けた。塩化パラジウムを塩酸酸性下で加熱
溶解して塩化パラジウム濃度100g/の水溶液
の含浸液を調製した。この含浸液を上記のふるい
分けたシリカ担体に含浸させ、シリカ表面に保持
されない余分の含浸液はこう配をつけて除去し、
乾燥後常温の水素を通じ還元した。この時パラジ
ウムの担持量を分析で求めると0.31wt%であつ
た。 このようにして作られた触媒Aを石英反応管に
充填し、固定床流通式反応装置を構成して試験し
た。テトラクロロシランと水素とのモル比1:3
の混合ガスを反応温度800℃、接触時間0.3秒で通
じ、反応ガスをオンラインガスクロマトグラフイ
により分析した。反応開始初期におけるガス分析
値はテトラクロロシラン23.0%、トリクロロシラ
ン2.0%、塩化水素2.0%(この%は容量%であつ
て、以下同じ)で、テトラクロロシランよりトリ
クロロシランへの転化率は8%であつた。時間の
経過に伴つてトリクロロシランの収率は徐々に上
昇し、100時間後テトラクロロシラン21.87%、ト
リクロロシラン3.13%、塩化水素3.13%の分析値
が得られ、転化率は12.5%となつた。その後転化
率はほとんど一定であり、4000時間連続的に反応
を続けたが、触媒活性は低下せず、一定の転化率
が得られた。また、使用済の触媒を抜き出した
が、触媒強度の低下は実質的にみられなかつた。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a method for producing trichlorosilane by dechlorination hydrogenation reaction of tetrachlorosilane. High-purity silicon is used in large quantities in the semiconductor industry, and in order to manufacture it, crude silicon is generally reacted with hydrogen chloride to create trichlorosilane, which is purified by distillation to create high-purity trichlorosilane. , produces high-purity silicon for semiconductors through hydrogen reduction and decomposition at high temperatures of 1,000 to 1,300 degrees Celsius. When the crude silicon is reacted with hydrogen chloride, a considerable amount of tetrachlorosilane is produced as a by-product. High-purity silicon can be produced by reducing tetrachlorosilane with hydrogen, but this method is rarely used industrially because the reaction rate is slow and the reaction rate is low. Additionally, the trichlorosilane form is more useful than tetrachlorosilane since trichlorosilane is widely used as a raw material in the silicone resin industry. From the above background, various methods of producing trichlorosilane from tetrachlorosilane have been attempted. (Prior art and its problems) As a previous technology for producing trichlorosilane from tetrachlorosilane, there is a technology for hydrogenating tetrachlorosilane to trichlorosilane in the presence of hydrogen using copper or copper chloride as a catalyst (Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 1983-1998-
161915, JP-A-56-73617, JP-A-59-45919, etc.). In addition, using a catalyst containing a platinum group metal, tetrachlorosilane is added at a molar ratio of 1 to 1/40 to hydrogen in a hydrogen stream at a temperature range of 450 to 1100 C for a contact time of 1 to 1/40 with the catalyst. There is a technology (Japanese Patent Publication No. 55-10532) that produces trichlorosilane by passing it for 300 seconds. however,
Not only when copper chloride is used as a catalyst, but also when copper is used as a catalyst, copper chloride is generated during the reaction process, and since these copper chlorides are volatile under the reaction conditions, they may be mixed into trichlorosilane. Reactions using copper or copper chloride catalysts cannot be operated for long periods of time because they reduce product purity and consume the catalyst. On the other hand, in technologies that use catalysts containing platinum group metals, the platinum group metals are supported on activated carbon, alumina, or silica, but the carrier used there is porous activated carbon. In addition, γ-alumina is used as the alumina, and the silica appears to be porous silica gel, which is commonly used. Incidentally, in the case of this catalyst, although the platinum group metal as a catalyst component is not consumed like copper or the like, the carrier is consumed and the activity decreases, making it impossible to operate for a long period of time. (Means for solving the problem) In the case of industrial production, it is extremely important to continuously obtain products of constant quality over a long period of time. The present inventors have focused on the excellence of the production technology of trichlorosilane using platinum group metal as a catalyst, and from the viewpoint of industrialization, have spent many years researching and developing catalysts that can withstand long-term use and reaction conditions using them. However, using a catalyst in which at least one selected from the group consisting of platinum group metals and platinum group metal silicides is supported on a non-porous silica carrier,
A method for producing trichlorosilane continuously over a long period of time at a reaction temperature of 500 to 1100 DEG C. and a hydrogen/tetrachlorosilane molar ratio of 0.5 to 40 has been invented. (Function) Regarding catalysts used in reactions, the larger the surface area, the greater the catalytic activity. Therefore, it is common general technical knowledge to use a carrier with a large surface area, but the present invention is based on this common sense. However, in the dehalogenation hydrogenation reaction of tetrachlorosilane, when silica with a high surface area is used as a carrier, the silica is highly reactive and easily attacked, and it is significantly consumed and the supporting effect of the catalyst component is impaired. This is due to the discovery that the catalyst loses its activity in a short period of time due to insufficient catalytic activity. For example, when a reaction is carried out using palladium-supported silica gel with a surface area of 250 m 2 /g as a catalyst, most of the catalyst reacts with tetrachlorosilane and hydrogen and disappears approximately 100 hours after the start of the reaction, resulting in loss of catalytic activity. be exposed. The reason for this is that since palladium is uniformly dispersed and supported in the form of fine particles on the silica surface, a large amount of the silica surface activated during dehalogenation and hydrogenation by the catalyst reacts in a short time. Therefore, in order to eliminate such drawbacks and create a long-life catalyst, it is necessary to reduce the surface area of the silica support.
For example, a silica carrier with a surface area of 1 to 10 m 2 /g
When using silica bricks, there is almost no decrease in catalytic activity 100 hours after the reaction, but the silica used as a binder for the bricks disappears in the reaction, resulting in a decrease in strength and eventually turning into powder, making it unusable. . On the other hand, when the reaction is carried out using a non-porous silica carrier as in the present invention, there is almost no decrease in catalytic activity and the amount of silica lost in the reaction is virtually negligible, so the strength of the carrier is reduced. Since there is virtually no deterioration, long-term operation can be carried out. The non-porous silica used as the carrier for the catalyst used in the present invention has no pore structure in the bulk structure of the carrier, and "non-porous" means:
The BET surface area (N 2 ) measured by a BET surface area measurement device is 1.0 m 2 /g or less. An example of non-porous silica is a solidified glass-like fused silica, which has the advantage of increasing activity even under the above surface area conditions and within that range. It is better to increase the surface area within an allowable range in order to facilitate the support, and for this purpose it is preferable to use a silica carrier prepared by etching a glass-like solidified fused silica with hydrofluoric acid by at least 0.1μ or more. A silica carrier whose glass-like solidified fused silica surface has been polished by at least 0.1μ using an abrasive such as silicon carbide, or a glass-like solidified fused silica surface which has been treated by contacting high-temperature hydrogen with chlorosilanes. A silica support is used. In addition, the surface area is 150 to 300 m 2 /g,
Preferably, a silica carrier obtained by crystallizing 180 to 250 m 2 /g of silica gel at high temperature may be used. The method of treatment with hydrofluoric acid may be etching, and it is not necessarily necessary to etch more than 0.1μ, but it is preferable that the etching is 0.1μ or more, and there is no limitation on the degree of etching of 0.1μ or more. This can be carried out, for example, by immersing 1 part by weight of a silica carrier, which is a glassy solidified fused silica, in 0.5 parts by weight to 5 parts by weight of a 50% HF aqueous solution at room temperature for 1 to 10 hours. At this time, the weight of the silica carrier decreases by 5 to 36 wt%, the surface becomes uneven and the color becomes white. In addition, as for the method of polishing, it is sufficient to perform polishing, and it is not necessarily necessary to polish more than 0.1μ, but it is preferable to polish to 0.1μ or more, and there is no limitation on the degree of polishing of 0.1μ or more. For example, this can be done by blowing an abrasive such as carborundum, which is used in the production of ordinary frosted glass, with air at room temperature. At this time, the surface becomes white due to minute irregularities. Furthermore, when using high temperature hydrogen and chlorosilanes, for example, at 600 to 800°C, a mixed gas of hydrogen and tetrachlorosilane is applied to a silica carrier at least 100%
By contacting for more than a period of time, fine irregularities can be generated on the surface. In addition, when filling a reactor with a catalyst and solidified fused silica as a heat medium when performing a hydrogenation reaction of chlorosilanes,
If the solidified fused silica is taken out and used when one cycle of operation is completed, this solidified body is efficient as a silica carrier because it has been subjected to the above-mentioned surface treatment during the reaction. As the catalyst component, a platinum group metal and at least one type of platinum group metal are used. That is, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, iridium, osmium and their silicides are used,
At least one member selected from the group consisting of palladium, ruthenium and silicides thereof is preferable in terms of high catalytic activity and low catalyst cost, and more preferably at least one member selected from the group consisting of palladium and palladium silicide. used. Here, as palladium silicide,
A material having a Pd 2 Si crystal structure is preferably used. Moreover, these catalyst components may be used in combination of two or more types. For example, a combination of palladium and ruthenium. When palladium is used as a catalyst component, its supported amount is approximately 0.01 to 5.0 wt% based on the total weight of the catalyst.
It is preferably about 0.1 to 1.5 wt%. If the supported amount of palladium is less than about 0.01 wt%, the catalyst activity will not be sufficiently exhibited and a long contact time will be required, which is undesirable. If the supported amount exceeds about 5.0 wt%, not only will the cost increase, but the palladium Since the bonding force with the silica carrier becomes weak, the catalyst component may peel off during the reaction, which is not preferable. Furthermore, as mentioned above, the preferred supported amount of palladium is approximately 0.1 to 0.5 wt%, but when this amount is supported on a silica carrier, the size and degree of dispersion of the palladium particles are appropriate, and the catalytic activity is sufficiently exerted. Moreover, the bond between the palladium and silica surfaces becomes strong, resulting in a stable catalyst. If something other than palladium is used as a catalyst component, the supported amount will vary somewhat depending on the component, but it should be approximately the same amount as palladium. Further, when two or more catalyst components are used, the above supported amount may be satisfied for all catalyst components. The combination and the supported amount ratio may be appropriately selected depending on the reaction conditions and the like. When producing the catalyst used in the present invention, the following method is preferably used in order to uniformly support the catalyst components on the silica carrier. That is, after a silica carrier is impregnated with an aqueous solution of a platinum group metal chloride or nitrate or their ammonia complex salt at a predetermined concentration, the aqueous solution that is not retained on the carrier surface is removed, dried as it is, and then reduced. It must be done in a certain way. Although the excess aqueous solution may be removed by declination, methods such as vacuum filtration and centrifugal filtration are more preferably used. If you do not use this method and dry up the catalyst with an excess solution present on the surface, the supported metals will be unevenly supported, and there will be areas where the bonding strength of the metals etc. to the support is weak, which may cause problems during the reaction. That part peels off, which I don't like. For the reasons mentioned above, the amount of the catalyst component supported is determined by the concentration of the aqueous solution of the metal salt used for the support, and the concentration of the metal salt in the aqueous solution is selected depending on the desired amount of support. If the supported amount of the catalyst component exceeds about 5 wt%, it may cause peeling of the catalyst component during the reaction, which is not preferable. A catalyst carrying a silicide of a platinum group metal can be produced by contacting a catalyst carrying a platinum group metal with a silicon halide such as silicon tetrachloride and hydrogen at 400°C to 800°C. The reaction system for carrying out the method of the present invention can be carried out by a normal flow reaction system such as a solid bed by appropriately selecting the catalyst shape and the like.
Although the shape of the catalyst particles is not particularly limited,
For example, it is economical to use 3 to 30 mm fused silica or crushed quartz. Regarding the reaction conditions of the present invention, the reaction temperature is 500~
1100℃, preferably 700~900℃, hydrogen pressure 1~
20atm, preferably 1~10atm, contact time 0.01~
It is 20 seconds, preferably 0.1 to 3 seconds, and can also be carried out in 1 second or less. Further, the hydrogen/tetrachlorosilane molar ratio is preferably 0.5 to 40, preferably 2.0 to 10. When the reaction temperature is below 500℃, the yield of trichlorosilane is very low and inefficient;
If this is done above, trichlorosilane and tetrachlorosilane will be hydrogenolyzed and silicon will precipitate, making it impossible to achieve the purpose. The reaction under high pressure is disadvantageous because the yield of trichlorosilane production does not improve significantly by increasing the hydrogen pressure. However, since the reactor can be made compact by pressurizing, it is preferable to set the pressure to 1 to 20 atm. If the contact time is 0.01 seconds or less, the reaction rate to trichlorosilane will be insufficient, but since the reaction will be almost completed within 20 seconds, a contact time of 20 seconds or more will be industrially disadvantageous. A more advantageous contact time is
It is 0.1 to 3 seconds, more preferably 0.2 to 1 second. The molar ratio of hydrogen and tetrachlorosilane is 0.5
The above conditions are necessary to improve the reaction yield, but if it exceeds 40, the concentration of tetrachlorosilane and trichlorosilane produced becomes too dilute, which not only lowers the yield per reactor, but also reduces the cooling The decomposition efficiency of hydrogen, tetrachlorosilane, and trichlorosilane decreases, making it inefficient. As described above, the present invention makes it possible to industrially obtain trichlorosilane with good yield over a long period of time from tetrachlorosilane. In the present invention, the catalyst is not consumed during the reaction, so the reaction can be continued for a long period of time, and the reaction can be carried out efficiently by selecting appropriate reaction conditions. (Examples) Next, the present invention will be explained based on examples so that the content of the present invention can be understood more clearly, but the present invention is not limited to these examples. In addition, in the following Examples and Comparative Examples, the surface area is measured using the "Rapid Surface Measuring Device" manufactured by Shibata Scientific Instruments Co., Ltd.
SA-100". The surface areas of the carriers used in Examples 1 to 5 and Example 9 were all measured with the above device and were below the measurement limit. Below this measurement limit means below 0.2 m 2 /g. Example 1 A crushed fused silica body whose composition is shown in Table 1 was
It was sieved so that the mesh size ranged from 4.76 to 9.52 mm. Palladium chloride was heated and dissolved under acidic conditions with hydrochloric acid to prepare an impregnating solution of an aqueous solution having a concentration of palladium chloride of 100 g. This impregnating liquid is impregnated into the sieved silica carrier, and the excess impregnating liquid that is not retained on the silica surface is removed by applying a gradient.
After drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.31 wt%. Catalyst A thus produced was packed into a quartz reaction tube to construct a fixed bed flow reactor and tested. Molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen 1:3
A mixed gas was passed through the reaction mixture at a reaction temperature of 800°C and a contact time of 0.3 seconds, and the reaction gas was analyzed by online gas chromatography. Gas analysis values at the beginning of the reaction were 23.0% tetrachlorosilane, 2.0% trichlorosilane, and 2.0% hydrogen chloride (this percentage is volume %, the same applies hereinafter), and the conversion rate from tetrachlorosilane to trichlorosilane was 8%. It was hot. The yield of trichlorosilane gradually increased over time, and after 100 hours, analytical values of 21.87% tetrachlorosilane, 3.13% trichlorosilane, and 3.13% hydrogen chloride were obtained, and the conversion rate was 12.5%. After that, the conversion rate remained almost constant, and even though the reaction continued for 4000 hours, the catalyst activity did not decrease and a constant conversion rate was obtained. In addition, when the used catalyst was extracted, there was virtually no decrease in catalyst strength.

【表】 実施例 2 組成が表1に示される溶融シリカ破砕体をJIS
目開き4.76〜9.52mmメツシユの範囲となるようふ
るい分けた。このふるい分けた溶融シリカ破砕体
1重量部を常温で50%フツ化水素酸水溶液2重量
部に4時間浸漬してエツチングを行つた。この際
エツチングによる重量減は23%であつた。エツチ
ング終了後シリカ担体は多量の水で洗浄の後、乾
燥した。次に塩化パラジウムを塩酸酸性下で加熱
溶解して塩化パラジウム100g/の水溶液の含
浸液を調製した。この含浸液を上記のシリカ担体
に含浸させ、シリカ表面に保持されない余分の含
浸液はこう配をつけて除去し、乾燥後常温の水素
を通じ還元した。この時パラジウムの担持量を分
析で求めると、0.42wt%であつた。 このようにして作られた触媒Bを石英反応管に
充填し、固定床流通式反応装置を用いて試験し
た。テトラクロルシランと水素とのモル比1:3
の混合ガスを反応温度800℃、接触時間0.45秒に
通じ、反応ガスをオンラインガスクロマトグラフ
イーにより分析した。反応開始初期におけるガス
分析値は、テトラクロロシラン22.5%、トリクロ
ロシラン2.5%、塩化水素2.5%でテトラクロロシ
ランよりトリクロロシランへの転化率は10%であ
つた。時間経過に伴つてトリクロロシラン収率は
徐々に上昇し、100時間後にはテトラクロロシラ
ン21.2%、トリクロロシラン3.8%、塩化水素3.8
%の分析値が得られ、転化率は15%となつた。そ
の後転化率はほとんど一定であり、4000時間連続
的に反応を続けたが、触媒活性は低下せず一定の
転化率を示した。また、使用済の触媒を抜き出し
たが、触媒強度の低下は実質的にみられなかつ
た。 また、上記のシリカ担体100gを用い、塩化パ
ラジウム濃度100g/の含浸液の120c.c.を含浸
し、加熱ドライアツプすることにより6%パラジ
ウムが担持されている触媒を調製した。この触媒
を用いて上と同じ条件で反応テストを行つた。テ
トラクロロシランのトリクロロシランへの転化率
は15%であつたが、使用後の触媒を抜き出してみ
ると、触媒に担持したパラジウムの90%は剥離し
たので、この加熱ドライアツプの手段は触媒の製
造にはあまり適しない。 実施例 3 実施例2と全く同一の触媒Bを用いて反応試験
を行つた。ただし、反応に先立つてトリクロロシ
ランと水素との混合ガスを700℃で通じて、触媒
に担持されているパラジウムを予めパラジウムシ
リサイドに転換した後、実施例2と全く同一条件
で反応を行つたところ反応開始初期よりテトラク
ロロシランのトリクロロシランへの転化率は15%
であり、4000時間反応は一定の転化率を示した。
使用済触媒はX線回析により分析したところ、
Pd2Siの結晶構造をもつパラジウムシリサイドに
相当するピークが得られた。 実施例 4 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体をカーボラン
ダムを空気で吹きつけることにより研摩してシリ
カ担体を調製した。次に含浸液として塩化パラジ
ウム濃度65g/の塩酸酸性水溶液を調製した。
この含浸液を上記のシリカ担体に含浸させ、シリ
カ表面に保持されない余分の含浸液を容器を傾け
ることによつて除去し、乾燥後常温の水素を通じ
還元した。この時パラジウムの担持量を分析で求
めると0.33wt%であつた。 このようにして得た触媒Cを実施例2と同一反
応装置を用いてテストした。テトラクロロシラン
と水素のモル比1:5の混合ゴスを反応温度700
℃、接触時間0.2秒で通じた。定常活性となつた
後の反応ガスはテトラクロロシラン14.7%、トリ
クロロシラン2.3%、塩化水素2.3%であり、転化
率は13.8%であり、4000時間まで活性低下するこ
となく連続運転が可能であつた。 実施例 5 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体に800℃でテ
トラクロロシラン及び水素の混合ガスを連続的に
300時間通じて表面処理して、シリカ担体を調製
した。塩化パラジウム濃度100g/の塩酸酸性
含浸溶液をこのシリカ担体に含浸し、表面に保持
されない余剰液を除去し、乾燥後常温の水素を通
じ還元し、触媒Dを調製した。パラジウム担持量
は1.0wt%であつた。この触媒Dを実施例2と同
じ反応装置を用いてテストした。テトラクロロシ
ランと水素とのモル比1:7、反応温度600℃、
接触時間0.5秒で反応を行つたところ、定常活性
となつた後の反応ガスの組成はテトラクロロシラ
ン11.1%、トリクロロシラン1.4%、HCl1.4%で
あり、転化率は11.2%であつた。触媒Dを使用し
た場合も活性低下することなく4000時間の連続運
転が行えた。 比較例 1 表2に示す物性をもつ石英レンガの4.76〜9.52
mmの破砕体を担体に用いて塩化パラジウム濃度50
g/の含浸液を用いて、1%パラジウム担持石
英レンガ触媒(触媒E)を調製した。実施例2と
同じ条件で反応テストを行つた。テトラクロロシ
ランのトリクロロシランへの転化率は、初期には
15%であつたが、反応経過に従つて徐々に低下
し、50時間後に13%、100時間後には12%まで低
下した。100時間経過後の触媒強度は完全に失わ
れており、触媒をとり出そうとする際に粉化して
しまつた。
[Table] Example 2 The fused silica crushed body whose composition is shown in Table 1 was
It was sieved so that the mesh size ranged from 4.76 to 9.52 mm. Etching was performed by immersing 1 part by weight of the sieved crushed fused silica in 2 parts by weight of a 50% hydrofluoric acid aqueous solution at room temperature for 4 hours. At this time, the weight reduction due to etching was 23%. After etching, the silica carrier was washed with a large amount of water and then dried. Next, palladium chloride was heated and dissolved under acidic conditions with hydrochloric acid to prepare an impregnating solution containing 100 g of palladium chloride/aqueous solution. The above silica carrier was impregnated with this impregnating liquid, and the excess impregnating liquid not retained on the silica surface was removed with a gradient, and after drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.42 wt%. Catalyst B thus prepared was packed into a quartz reaction tube and tested using a fixed bed flow reactor. Molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen 1:3
A mixed gas was passed through the mixture at a reaction temperature of 800°C and a contact time of 0.45 seconds, and the reaction gas was analyzed by online gas chromatography. Gas analysis values at the beginning of the reaction showed that tetrachlorosilane was 22.5%, trichlorosilane was 2.5%, and hydrogen chloride was 2.5%, and the conversion rate from tetrachlorosilane to trichlorosilane was 10%. The trichlorosilane yield gradually increased over time, and after 100 hours, the yield was 21.2% for tetrachlorosilane, 3.8% for trichlorosilane, and 3.8% for hydrogen chloride.
% analysis was obtained, and the conversion rate was 15%. After that, the conversion rate remained almost constant, and even though the reaction continued for 4000 hours, the catalyst activity did not decrease and the conversion rate remained constant. Furthermore, when the used catalyst was extracted, there was virtually no decrease in catalyst strength. Further, using 100 g of the above silica carrier, a catalyst having 6% palladium supported was prepared by impregnating 120 c.c. of an impregnating solution with a palladium chloride concentration of 100 g/diluted and heating and drying it. A reaction test was conducted using this catalyst under the same conditions as above. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 15%, but when the used catalyst was taken out, 90% of the palladium supported on the catalyst had peeled off, so this heating dry-up method was not suitable for catalyst production. is not very suitable. Example 3 A reaction test was conducted using Catalyst B, which was exactly the same as in Example 2. However, prior to the reaction, a mixed gas of trichlorosilane and hydrogen was passed at 700°C to convert the palladium supported on the catalyst into palladium silicide, and then the reaction was carried out under exactly the same conditions as in Example 2. From the beginning of the reaction, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 15%.
The reaction for 4000 hours showed a constant conversion rate.
When the spent catalyst was analyzed by X-ray diffraction,
A peak corresponding to palladium silicide with a Pd 2 Si crystal structure was obtained. Example 4 A silica carrier was prepared by polishing a 4.76-9.52 mm fused silica crushed body by blowing carborundum with air. Next, an acidic aqueous solution of hydrochloric acid having a palladium chloride concentration of 65 g was prepared as an impregnating solution.
The above silica carrier was impregnated with this impregnating liquid, and the excess impregnating liquid not retained on the silica surface was removed by tilting the container, and after drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.33 wt%. Catalyst C thus obtained was tested using the same reactor as in Example 2. A mixture of tetrachlorosilane and hydrogen with a molar ratio of 1:5 was reacted at a reaction temperature of 700°C.
℃, contact time was 0.2 seconds. After reaching steady activity, the reaction gases were 14.7% tetrachlorosilane, 2.3% trichlorosilane, and 2.3% hydrogen chloride, the conversion rate was 13.8%, and continuous operation was possible for up to 4000 hours without a decrease in activity. . Example 5 A mixed gas of tetrachlorosilane and hydrogen was continuously applied to a fused silica crushed body of 4.76 to 9.52 mm at 800°C.
A silica support was prepared by surface treatment for 300 hours. This silica support was impregnated with an acidic impregnating solution of hydrochloric acid having a palladium chloride concentration of 100 g/min, the excess liquid not retained on the surface was removed, and after drying, the carrier was reduced by passing hydrogen at room temperature to prepare catalyst D. The amount of palladium supported was 1.0 wt%. This Catalyst D was tested using the same reactor as Example 2. Molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen 1:7, reaction temperature 600°C,
When the reaction was carried out for a contact time of 0.5 seconds, the composition of the reaction gas after steady activity was achieved was 11.1% tetrachlorosilane, 1.4% trichlorosilane, and 1.4% HCl, and the conversion rate was 11.2%. Even when Catalyst D was used, continuous operation for 4000 hours was possible without any decrease in activity. Comparative example 1 4.76 to 9.52 of quartz brick with physical properties shown in Table 2
Palladium chloride concentration is 50 using crushed body of mm as a carrier.
A 1% palladium-supported quartz brick catalyst (catalyst E) was prepared using an impregnating solution of 1% palladium (catalyst E). A reaction test was conducted under the same conditions as in Example 2. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane is initially
It was 15%, but gradually decreased as the reaction progressed, dropping to 13% after 50 hours and 12% after 100 hours. After 100 hours, the catalyst had completely lost its strength, and when trying to remove the catalyst, it turned into powder.

【表】 比較例 2 表3に示すシリカゲルにパラジウムを1%担持
した触媒Fを用いて実施例2と同じ条件で反応テ
ストを行つた。テトラクロロシランのトリクロロ
シランへの転化率は初期には15%であつたが、反
応経過に従つて低下し、30時間後には8%、50時
間後には6.5%、100時間後には4%まで低下し
た。100時間後触媒をとり出したところ、触媒は
形状をとどめずほとんど粉化しており、また触媒
重量の93.8wt%が減少消失していた。
[Table] Comparative Example 2 A reaction test was conducted under the same conditions as in Example 2 using Catalyst F in which 1% palladium was supported on silica gel shown in Table 3. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was initially 15%, but decreased as the reaction progressed, dropping to 8% after 30 hours, 6.5% after 50 hours, and 4% after 100 hours. did. When the catalyst was taken out after 100 hours, it was found that the catalyst did not retain its shape and was almost powdered, and 93.8 wt% of the catalyst weight had decreased and disappeared.

【表】 実施例 6 表4に示すシリカゲルを950℃で3時間加熱処
理したところ表5に示す結晶化シリカゲルが得ら
れた。X線回析法で分析すると、アモルフアスの
シリカがクリスバライトとトリジマイトの混合物
になつたことが確認された。この結晶化シリカゲ
ルにパラジウムを1%担持した触媒Gを用いてテ
トラクロロシランの脱塩素水素化テストを実施例
2と同じ装置を用いて行つた。H2/テトラクロ
ロシランのモル比=7.0、反応温度800℃、接触時
間0.5秒で行つたところ、テトラクロロシランの
トリクロロシランへの転化率は20%であり、1000
時間連続テストを行つたが転化率の低下は全く見
られなかつた。
[Table] Example 6 When the silica gel shown in Table 4 was heat-treated at 950°C for 3 hours, the crystallized silica gel shown in Table 5 was obtained. Analysis by X-ray diffraction confirmed that the amorphous silica had become a mixture of crisbalite and tridymite. Using Catalyst G in which 1% palladium was supported on this crystallized silica gel, a dechlorination hydrogenation test of tetrachlorosilane was conducted using the same apparatus as in Example 2. When the molar ratio of H 2 /tetrachlorosilane = 7.0, the reaction temperature was 800°C, and the contact time was 0.5 seconds, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 20%, and 1000
A continuous time test was conducted, but no decrease in conversion rate was observed.

【表】【table】

【表】 比較例 3 表6に示すシリカゲルを用いて950℃で3時間
熱処理したところ結晶化は起らなかつた。表7に
示すシリカゲルを用いて950℃で3時間熱処理し
たところ結晶化は起らなかつた。
[Table] Comparative Example 3 When the silica gel shown in Table 6 was heat-treated at 950°C for 3 hours, no crystallization occurred. When the silica gel shown in Table 7 was heat-treated at 950°C for 3 hours, no crystallization occurred.

【表】【table】

【表】 実施例 7 実施例2と同様にフツ化水素酸処理をしたシリ
カ担体を用いて0.4%ルテニウムを担持した触媒
Hを調製した。触媒Hを実施例2と全く同一条件
でテストしたところテトラクロロシランのトリク
ロロシランへの転化率は10%であり、1000時間連
続テストを行つたが、転化率の低下は見られなか
つた。 実施例 8 実施例2と同様にフツ化水素酸処理をしたシリ
カ担体を用いて0.4%白金を担持した触媒を調
製した。触媒を実施例2と全く同一条件でテス
トしたところ、テトラクロロシランのトリクロロ
シランへの転化率は4%であり、1000時間連続テ
ストを行つたが、転化率の低下は見られなかつ
た。 実施例 9 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体に塩化パラジ
ウム100g/及び塩化ルテニウム100g/の
1:1混合含浸液を用いて含浸し、シリカ表面に
保持されない余分の含浸液を除去したのちに乾燥
し、水素還元することにより0.3wt%パラジウム
−0.3wt%ルテニウムの担持触媒Jを調製した。
この触媒を用いてテトラクロロシランと水素との
モル比1:5の混合ガスを反応温度750℃、接触
時間0.25秒で通じた。定常活性となつた後の反応
ガスはテトラクロロシラン14.1%トリクロロシラ
ン2.6%、塩化水素2.6%となり、転化率15.6%で
あり、1000時間連続テストを行つたが、活性の低
下は見られなかつた。
[Table] Example 7 Catalyst H on which 0.4% ruthenium was supported was prepared using a silica carrier treated with hydrofluoric acid in the same manner as in Example 2. When Catalyst H was tested under exactly the same conditions as in Example 2, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 10%, and even though the test was conducted continuously for 1000 hours, no decrease in the conversion rate was observed. Example 8 A catalyst supporting 0.4% platinum was prepared using a silica carrier treated with hydrofluoric acid in the same manner as in Example 2. When the catalyst was tested under exactly the same conditions as in Example 2, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 4%, and no decrease in the conversion rate was observed after 1000 hours of continuous testing. Example 9 A fused silica crushed body of 4.76 to 9.52 mm was impregnated with a 1:1 mixed impregnating liquid of 100 g of palladium chloride and 100 g of ruthenium chloride, and after removing the excess impregnating liquid that was not retained on the silica surface, it was dried. 0.3 wt% palladium-0.3 wt% ruthenium supported catalyst J was prepared by hydrogen reduction.
Using this catalyst, a mixed gas of tetrachlorosilane and hydrogen at a molar ratio of 1:5 was passed at a reaction temperature of 750°C and a contact time of 0.25 seconds. After reaching steady activity, the reaction gas was 14.1% tetrachlorosilane, 2.6% trichlorosilane, and 2.6% hydrogen chloride, with a conversion rate of 15.6%, and no decrease in activity was observed after 1000 hours of continuous testing.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 テトラクロロシラン及び水素を含むガスから
接触水素化によりトリクロロシランを製造する方
法において、 (a) 非多孔質シリカに白金族金属および白金族金
属のケイ化物からなる群より選ばれた少くとも
1つを担持した触媒の存在下、 (b) 反応温度 500〜1100℃ (c) 水素/テトラクロロシランのモル比 0.5〜
40 で反応を行うことを特徴とするトリクロロシラン
の製造方法。
[Claims] 1. A method for producing trichlorosilane by catalytic hydrogenation from a gas containing tetrachlorosilane and hydrogen, comprising: (a) non-porous silica containing a metal selected from the group consisting of a platinum group metal and a silicide of a platinum group metal; (b) reaction temperature 500 to 1100°C (c) hydrogen/tetrachlorosilane molar ratio 0.5 to
A method for producing trichlorosilane, characterized in that the reaction is carried out at 40 °C.
JP16089286A 1986-07-10 1986-07-10 Production of trichlorosilane Granted JPS6325211A (en)

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DE8787109942T DE3782213T2 (en) 1986-07-10 1987-07-09 METHOD FOR THE DEHALOGENATION OF A HALOGENID AND CATALYST THEREFOR.
EP87109942A EP0255877B1 (en) 1986-07-10 1987-07-09 Method for dehalogenation of a halide and catalyst used therefor
US07/071,964 US4956326A (en) 1986-07-10 1987-07-10 Method for dehalogenation of a halide and catalyst used therefor

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