JPH0354709A - Method and device for manufacturing thin film magnetic head - Google Patents

Method and device for manufacturing thin film magnetic head

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JPH0354709A
JPH0354709A JP19006189A JP19006189A JPH0354709A JP H0354709 A JPH0354709 A JP H0354709A JP 19006189 A JP19006189 A JP 19006189A JP 19006189 A JP19006189 A JP 19006189A JP H0354709 A JPH0354709 A JP H0354709A
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JP
Japan
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magnetic
heat treatment
thin film
film
magnetic field
Prior art date
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Pending
Application number
JP19006189A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumiomi Ueda
文臣 上田
Tetsuo Kobayashi
哲夫 小林
Toshihiro Yoshida
吉田 敏博
Hajime Akimoto
秋元 一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0354709A publication Critical patent/JPH0354709A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent the degradation of characteristics caused by the history of heat and to enlarge the margin degree of temperature control at the time of heat treatment by executing the heat treatment on plural stages composed of the first and second heat treatment, etc., for which the impressing direction of a magnetostatic field is different. CONSTITUTION:A non-crystalline magnetic film is formed to be a magnetic core constituting a magnetic path. Next, the first heat treatment is executed at a Curie point lower than a crystallizing temperature in a non-magnetic field or in the magnetostatic field in the same direction as the magnetic path. Further, the second heat treatment is executed at the Curie point lower than the crystallizing temperature in the magnetostatic field in the direction rectangular to the magnetic path. Thus, in the second heat treatment to be executed while impressing the magnetostatic field in the direction orthogonal to the magnetic path of the magnetic core, a rapid change is suppressed in anisotropic energy and the margin degree is enlarged in the temperature control of the heat treatment. Further, it is possible to suppress the degradation caused by the history of heat for the characteristics such as relative magnetic permeability, etc., in the magnetic core.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、薄膜磁気ヘッドの製造技術に関し、特に、非
品質の合金膜などによって磁気コアを形成する技術に適
用して有効な技術に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a technology for manufacturing a thin film magnetic head, and in particular to a technology that is effective when applied to a technology for forming a magnetic core using a poor quality alloy film or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

たとえば、磁気ディスクや磁気テープなどの磁性面記録
媒体に対する情報の記録密度の向上の要請に呼応して、
記録媒体を構成する磁性体材科における保磁力の増強な
どの改良とともに、情報の記録領域であるトラック間隔
の一層の狭小化によるトラック数の増大が図られている
For example, in response to the demand for improved information recording density on magnetic surface recording media such as magnetic disks and magnetic tapes,
In addition to improvements such as increasing the coercive force of the magnetic materials constituting the recording medium, efforts are being made to increase the number of tracks by further narrowing the track interval, which is the information recording area.

このため、トラック間隔の狭小な磁気記録媒体に対して
情報の記録再生を行う磁気ヘッドとして、従来のバルク
型磁気ヘッドに代わって、周知のフォトIJソグラフイ
技術などによって微細Iエ寸法のヘッド構造を実現する
ことが可能であるとともに、記録/再生信号の高周波特
性の良好な薄膜磁気ヘッドが用いられるに至っている。
For this reason, as a magnetic head for recording and reproducing information on a magnetic recording medium with a narrow track interval, instead of the conventional bulk type magnetic head, a head structure with fine IJ dimensions has been developed using well-known photo IJ lithography technology. Thin-film magnetic heads that can be realized and have good high-frequency characteristics of recording/reproducing signals have come to be used.

ところで、このような薄膜磁気ヘッドにおいて磁気回路
を構或する磁気コアの材料としては、当初には主として
N r  F e系(ノイーマロイ)結晶質合金などが
用いられていたが、記録媒体の高保磁力を有効に活用す
べ《、飽和磁束密度のより大きなCo系非晶質合金や、
Fe系結晶質などが用いられるようになってきた。
By the way, the material of the magnetic core constituting the magnetic circuit in such a thin-film magnetic head was initially mainly a NrFe-based (neu-malloy) crystalline alloy, but due to the high coercive force of the recording medium, Co-based amorphous alloys with higher saturation magnetic flux density,
Fe-based crystals and the like have come to be used.

しかし、Co系非品質合金では、飽和磁東密度ではパー
マロイを上回るものの、磁気異方性エネルギが大きく比
通磁率が低いという欠点があり、この欠点を解消すべく
、たとえば非晶質合金模の形成時に磁場を印加して意図
的に磁気異方性を付与し、さらに磁性膜を磁場中で熱処
理することが行われていた。一方、こうして!!造され
た非品質磁性膜を用いた薄膜磁気ヘッドでは、磁気異方
性エネルギが小さく記録/再生信号に対する応答性は良
好であるものの、再生出力の経時劣化が大きいという問
題があり、その対策として、たとえば特開昭63〜80
9号公報に開示される技術がある。
However, although Co-based non-quality alloys exceed permalloy in terms of saturation magnetic east density, they have the drawback of large magnetic anisotropy energy and low relative magnetic permeability. At the time of formation, a magnetic field was applied to intentionally impart magnetic anisotropy, and the magnetic film was further heat-treated in the magnetic field. On the other hand, like this! ! Thin-film magnetic heads using manufactured non-quality magnetic films have small magnetic anisotropy energy and good responsiveness to recording/reproduction signals, but there is a problem in that the reproduction output deteriorates significantly over time. , for example, Japanese Patent Application Publication No. 1983-1980
There is a technique disclosed in Publication No. 9.

すなわち、戊膜時に磁気異方性が付与された磁性薄膜の
磁気コアへの加工に際して、磁性薄膜の容易磁化方向を
磁路方向に一致させておき、磁路と直角方向の静磁場を
印加しながら、キュリー点および結晶化温度以下での熱
処理を施すことにより、或膜時の磁気異方性の方向を最
初の状態から90度回転させ、磁化容易方向と直交する
平面内にある高周波特性の良好な磁化困難方向を磁路の
方向に一致させることで、再生出力の経時劣化を抑止し
ようとするものである。
That is, when processing a magnetic thin film that has been given magnetic anisotropy during film formation into a magnetic core, the direction of easy magnetization of the magnetic thin film is aligned with the magnetic path direction, and a static magnetic field is applied in a direction perpendicular to the magnetic path. However, by performing heat treatment below the Curie point and crystallization temperature, the direction of magnetic anisotropy in a certain film can be rotated 90 degrees from the initial state, and the high-frequency characteristics in the plane orthogonal to the easy magnetization direction can be changed. By aligning the good direction of difficult magnetization with the direction of the magnetic path, it is attempted to suppress deterioration of the reproduced output over time.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところが、上記の従来技術のように単に一段階の熱処理
を行う技術では、所望の磁気異方性工不ルギを得た後に
磁性薄膜が熱履歴を受けると、折角設定された磁気異方
性エネルギが変化し、再び比透磁率が劣化してしまうと
いう不都合がある。
However, in a technology that simply performs a one-step heat treatment like the above-mentioned conventional technology, when the magnetic thin film is subjected to thermal history after obtaining the desired magnetic anisotropy energy, the magnetic anisotropy energy that has been carefully set is lost. There is an inconvenience that the relative magnetic permeability deteriorates again.

これを回避するためには、キコリー点および結晶化温度
以下の可能なかぎり高い温度で磁化容易軸を回転させる
ための熱処理を遂行する必要があるが、熱処理の温度を
高くするほど磁気異方性エネルギの変化が急峻となり、
実際の製造時での温度制御におけるマージン(余裕度)
が小さくなるという問題があった。
In order to avoid this, it is necessary to perform heat treatment to rotate the axis of easy magnetization at a temperature as high as possible below the Kikory point and crystallization temperature, but the higher the heat treatment temperature, the more the magnetic anisotropy increases. Changes in energy become steeper,
Margin in temperature control during actual manufacturing
The problem was that it became smaller.

そこで、本発明の目的は、熱filffによる特性の劣
化を防止するとともに熱処理時における温度制御の余裕
度を大きくして、的確な熱処理結果を得ることが可能な
薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head that can prevent the characteristics from deteriorating due to heat filff, increase the margin of temperature control during heat treatment, and obtain accurate heat treatment results. There is a particular thing.

本発明の他の目的は、磁場の印加方向の異なる複数段階
の熱処理を効率良く遂行することが可能な薄膜磁気ヘッ
ドの製造装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an apparatus for manufacturing a thin-film magnetic head that can efficiently carry out heat treatment in multiple stages in which magnetic fields are applied in different directions.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造方法は、
磁路を構成する磁気コアとなる非晶質の磁性膜を形成す
る第1の段階と、無磁場中もしくは磁路と同一方向の静
磁場中においてキュリー点および結晶化温度以下の第1
熱処理を行う第2の段階と、磁路と直角方向の静磁場中
においてキュリー点および結晶化温度以下の第2pA処
理を行う第3の段階とを経るようにしたものである。
That is, the method for manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention is as follows:
The first step is to form an amorphous magnetic film that becomes the magnetic core constituting the magnetic path, and the first step is to form an amorphous magnetic film that becomes the magnetic core constituting the magnetic path.
The second step is a heat treatment, and the third step is a second pA treatment at a temperature below the Curie point and crystallization temperature in a static magnetic field perpendicular to the magnetic path.

また、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造装置は、静磁
場を形成する磁場形成手段と、静磁場に軸が直交するよ
うに配置された加熱炉と、被処理物を保持して加熱炉の
内部に挿入される保持治具と、この保持治具に接続され
、被処理物を静磁場の方向に対して所望の方向に所望の
角度だけ回動させる回動機構とで構威したものである。
Further, the thin film magnetic head manufacturing apparatus according to the present invention includes a magnetic field forming means for forming a static magnetic field, a heating furnace arranged with an axis perpendicular to the static magnetic field, and a heating furnace for holding a workpiece. It consists of a holding jig that is inserted inside and a rotation mechanism that is connected to this holding jig and rotates the object to be processed in a desired direction and at a desired angle with respect to the direction of the static magnetic field. be.

〔作用〕[Effect]

上記した本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
後述のように、たとえば第1熱処理を経ることで、磁気
コアの磁路と直交する方向の静磁場を印加しながら行わ
れる第2熱処理における異方性エネルギの急激な変化が
抑制され、熱処理の温度制御などにおける余裕度が大き
くなるとともに、磁気コアにおける比透磁率などの特性
の熱履歴による劣化を抑止することができる。
According to the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention described above,
As will be described later, for example, by going through the first heat treatment, rapid changes in the anisotropic energy during the second heat treatment, which is performed while applying a static magnetic field in a direction perpendicular to the magnetic path of the magnetic core, are suppressed, and the heat treatment It is possible to increase margin in temperature control and the like, and to suppress deterioration of characteristics such as relative magnetic permeability in the magnetic core due to thermal history.

これにより、第2熱処理における加熱温度の制御を容易
かつ的確に行うことが可能となり、たとえば第2熱処理
における磁化容易軸の90度回転などによる磁気異方性
エネルギの制御を正確に行うことができる結果、再生特
性の経時劣化の小さい薄膜磁気ヘッドを得ることができ
る。
This makes it possible to easily and accurately control the heating temperature in the second heat treatment, and for example, to accurately control the magnetic anisotropy energy by rotating the axis of easy magnetization by 90 degrees in the second heat treatment. As a result, it is possible to obtain a thin film magnetic head whose reproduction characteristics are less degraded over time.

また、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造装置によれば
、加熱炉から薄膜磁気ヘッドが形成される基板などの被
処理物を取り出すことなく、静磁場の印加方向の異なる
第1および第2熱処理などからなる複数段階の熱処理を
連続して行うことができるので、熱処理作業における所
要時間の短縮や所要工数の削減が可能となり、静磁場の
印加方向の異なる複数段階の熱処理を効率良く遂行する
ことができ、たとえば薄膜磁気ヘッドの製造工程での生
産性を向上させることができる。
Further, according to the thin film magnetic head manufacturing apparatus of the present invention, the first and second heat treatments in which the static magnetic field is applied in different directions can be performed without taking out the object to be processed, such as the substrate on which the thin film magnetic head is formed, from the heating furnace. Since multiple stages of heat treatment can be performed continuously, it is possible to shorten the time required for heat treatment work and reduce the required man-hours, and it is possible to efficiently perform multiple stages of heat treatment in which static magnetic fields are applied in different directions. For example, productivity in the manufacturing process of thin film magnetic heads can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例である薄膜磁気ヘッドの製造方
法および装置の一例を図面を参照しながら詳細に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An example of a method and apparatus for manufacturing a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例である薄膜磁気ヘッドの製
造方法の一例を説明する線図であり、第2図は、それを
実施する薄膜磁気ヘッドの製造装置の構造の一例を示す
一部破断斜視図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a method for manufacturing a thin film magnetic head, which is an embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows an example of the structure of an apparatus for manufacturing a thin film magnetic head that implements the method. It is a partially cutaway perspective view.

まず、第2図などを参照しながら、本実施例における薄
膜磁気ヘッドの製造装置の構造を説明する。
First, the structure of the thin film magnetic head manufacturing apparatus in this embodiment will be explained with reference to FIG. 2 and the like.

架台1の上には、軸をほぼ水平にした姿勢で筒状の加熱
炉2が載置されており、壁面内などに設けられた図示し
ない発熱体などによって、当該加熱炉2の内部が所望の
温度に加熱可能になっている。
A cylindrical heating furnace 2 is placed on top of the pedestal 1 with its axis substantially horizontal. It can be heated to a temperature of

加熱炉2を上下方向から挟む位置には、電磁石3および
電磁石4が配置されており、両者の間に位置する加熱炉
2の内部に、当該加熱炉2の軸方向に直交する方向に所
望の強さの静磁場Hが形成される構造となっている。
An electromagnet 3 and an electromagnet 4 are arranged at positions sandwiching the heating furnace 2 from above and below, and a desired direction is placed inside the heating furnace 2 located between them in a direction orthogonal to the axial direction of the heating furnace 2. The structure is such that a strong static magnetic field H is generated.

筒状の加熱炉2の密閉された一端には、図示しない真空
ポンプなどの排気機構に接続される排気管2aが設けら
れており、当該加熱炉2の内部を所望の真空度に排気す
ることが可能となっている。
An exhaust pipe 2a connected to an exhaust mechanism such as a vacuum pump (not shown) is provided at one sealed end of the cylindrical heating furnace 2, and the inside of the heating furnace 2 can be evacuated to a desired degree of vacuum. is possible.

この場合、加熱炉2の他端部は、たとえば、着脱自在に
接続されたステップモー夕などからなる回動機構5によ
って閉止されており、この回動機構5の駆動軸5aには
、加熱炉2の内部軸方向に延設された耐熱性材料からな
る回劾軸6を介して保持治具7が支持されている。
In this case, the other end of the heating furnace 2 is closed by a rotating mechanism 5 consisting of, for example, a removably connected step motor. A holding jig 7 is supported via a rotating shaft 6 made of a heat-resistant material and extending in the internal axial direction of the holding jig 2 .

この保持治具7には、複数枚の基板8が、後述の薄膜磁
気ヘッドMが形成される平面を当該加熱炉2の軸に直交
させる姿勢で安定に保持されている。そして、随時、外
部からの指令によって回動機構5における駆動軸5aの
回動角度を制御することにより、保持治具7に保持され
ている基板8の平面の静磁場Hとなす角度が所望の値に
設定されるものである。
A plurality of substrates 8 are stably held in this holding jig 7 in an attitude in which a plane on which a thin film magnetic head M (described later) is formed is orthogonal to the axis of the heating furnace 2 . By controlling the rotation angle of the drive shaft 5a in the rotation mechanism 5 according to commands from the outside at any time, the angle between the flat surface of the substrate 8 held by the holding jig 7 and the static magnetic field H is adjusted to a desired value. It is set to the value.

回助機構5の動作、および加熱炉2における昇温および
降温揉作などは、図示しない制御計算機によって、所定
のプログラムに基づいて統轄して制御されるようになっ
ている。
The operation of the support mechanism 5 and the temperature raising and lowering operations in the heating furnace 2 are controlled by a control computer (not shown) based on a predetermined program.

そして、後述のような一連の作業によって、基板8の平
面には、たとえば第6図に示されるような断面構造の複
数個の薄膜磁気へッドMが一括して形戒される。
Then, by a series of operations as described below, a plurality of thin film magnetic heads M having a cross-sectional structure as shown in FIG. 6, for example, are collectively formed on the plane of the substrate 8.

すなわち、本実施例における薄膜磁気ヘッドMは、第6
図に示されるように、非磁性体からなる基板8の上に被
着された下部磁気コア8aと、端がこの下部磁気コア8
aに接続され、他端部が目的のギャップGの寸法に相当
する厚さのギャップ層8Cを介して重なり合う上部磁気
コア8bとを備えている。
That is, the thin film magnetic head M in this embodiment has the sixth
As shown in the figure, a lower magnetic core 8a is deposited on a substrate 8 made of a non-magnetic material, and an end of the lower magnetic core 8a is
a and an upper magnetic core 8b whose other end overlaps with a gap layer 8C having a thickness corresponding to the size of the target gap G.

第7図は、下部磁気コア8aおよび上部磁気コア8bを
取り出して示す略平面図であり、同図に示されるように
、下部磁気コア8aおよび上部磁気コア8bは接続端側
からギャップGの側へと幅寸法が漸減する形状を呈して
いるとともに、その方向が磁路方向9となっている。
FIG. 7 is a schematic plan view showing the lower magnetic core 8a and the upper magnetic core 8b taken out, and as shown in the figure, the lower magnetic core 8a and the upper magnetic core 8b are arranged from the connecting end side to the gap G side. It has a shape in which the width dimension gradually decreases, and the direction thereof is the magnetic path direction 9.

さらに、基板8には、一端が相互に接続された状態にあ
る下部磁気コア8aと上部磁気コア8bとで構成される
磁路に鎮交するように、たとえば螺線状に成形された導
体コイルパターン8dが配置されている。
Further, on the substrate 8, a conductor coil formed in a spiral shape, for example, is provided so as to intersect with a magnetic path constituted by a lower magnetic core 8a and an upper magnetic core 8b whose ends are connected to each other. A pattern 8d is arranged.

また、導体コイルパターン8dと上部磁気コア8bとの
間には層間膜8eが介設されている。
Furthermore, an interlayer film 8e is interposed between the conductive coil pattern 8d and the upper magnetic core 8b.

以下、上述のような構造の薄摸磁気ヘッドMの本実施例
における製造方法の一例を説明する。
An example of a manufacturing method in this embodiment of the thin-print magnetic head M having the structure as described above will be described below.

まず、非磁性体からなる基板8の上に、たとえばC 0
92T a4  Z r.などの磁性材料からなり、下
部磁気コア8aとなる磁性薄膜をスパッタリングなどの
方法によって被着させる。
First, for example, C 0
92T a4 Z r. A magnetic thin film, which will become the lower magnetic core 8a, is deposited by a method such as sputtering.

このスパッタリングの過程では、たとえば、第7図に示
されるように、@路方向9と同じ方向(最終磁化困難方
向11〉に所定の強さの磁場を印加し、形成される磁性
薄膜に一軸異方性をもたせる。
In this sputtering process, for example, as shown in FIG. 7, a magnetic field of a predetermined strength is applied in the same direction as the direction 9 (final direction of difficult magnetization 11), and the formed magnetic thin film is uniaxially different. Give direction.

次に、こうして形成された磁性薄膜(下部磁気コア8a
)が彼着された状態の基板8を保持治具7に装着して、
第2図に示されるように加熱炉2の内部に装填する。
Next, the magnetic thin film thus formed (lower magnetic core 8a
) is attached to the holding jig 7, and
It is loaded into the heating furnace 2 as shown in FIG.

そして、回動機構5を適宜回動させ、第1図に示される
ように、まず、電磁石3および4によって形成される静
磁場Hの方向が磁性薄膜(下部磁気コア8a)における
磁路方向9(すなわち最終磁化困難方向11〉と同じに
なるように基板8の姿勢を設定し、その状態で、所定の
雰囲気のもとで、静磁場Hを印加しながら、たとえば4
00℃で所定の時間t1゛(たとえば1時間)だけ安定
化熱処理(第1熱処理)を行う。
Then, the rotation mechanism 5 is rotated as appropriate, and as shown in FIG. (That is, the orientation of the substrate 8 is set to be the same as the final difficult magnetization direction 11), and in that state, in a predetermined atmosphere, while applying a static magnetic field H, for example,
Stabilization heat treatment (first heat treatment) is performed at 00° C. for a predetermined time t1 (for example, 1 hour).

その後、加熱φ2における加熱温度を350℃にすると
ともに、回動機構5を作動させることによって、保持治
具7に保持されている基板8を現在の姿勢から90度だ
け回勤させ、静磁場Hの方向が磁路方向9に対して直交
するように、すなわち滋路方向9に対して第7図に示さ
れる最終磁化容易方向10となるように設定し、その状
態で所定の時間t2だけ特性改善熱処理(第2熱処理)
を行う。
Thereafter, the heating temperature in heating φ2 is set to 350° C., and the rotation mechanism 5 is operated to rotate the substrate 8 held by the holding jig 7 by 90 degrees from the current posture, and the static magnetic field H The direction is set so that the direction is orthogonal to the magnetic path direction 9, that is, the final easy magnetization direction 10 shown in FIG. Improvement heat treatment (second heat treatment)
I do.

この特性改善熱処理の処理時間t2と、磁気異方性エネ
ルギHkの変化の測定結果の一例を示すものが第3図で
ある。
FIG. 3 shows an example of the measurement results of the processing time t2 of this characteristic improving heat treatment and the change in magnetic anisotropy energy Hk.

同図において、線aは本実施例のような安定化熱処理を
実施しない場合の磁気異方性エネルギHkの変化を示し
ており、線bは安定化熱処理を実施した場合を示してい
る。
In the figure, line a shows the change in magnetic anisotropy energy Hk when the stabilizing heat treatment as in this example is not performed, and line b shows the change when the stabilizing heat treatment is performed.

また、同図の縦軸は、下側に最終磁化困難方向11にお
ける磁気異方性エネルギHkを示し、上側に最終磁化容
易方向10における磁気異方性エネルギHkを示してあ
る。すなわち、同図に示されるように、特性改善熱処理
においては、処理の過程で磁化困難方向が磁路方向9に
対して90度回転し、当初には磁路方向に直交するよう
に意図的に設定されていた磁化困難方向は最林的に最終
磁化困難方向11に一致することになる。
Further, the vertical axis of the figure shows the magnetic anisotropy energy Hk in the final hard magnetization direction 11 at the bottom and the magnetic anisotropy energy Hk in the final easy magnetization direction 10 at the top. That is, as shown in the figure, in the characteristic improvement heat treatment, the direction of difficult magnetization is rotated by 90 degrees with respect to the magnetic path direction 9 during the treatment process, and is intentionally set to be perpendicular to the magnetic path direction at the beginning. The set direction of difficult magnetization most likely coincides with the final direction of difficult magnetization 11.

そして、同図から、安定化鵠処理を行わない線aの傾斜
が、安定化も処理を行った線bのそれよりも急峻である
ことが知られる。
From the figure, it is known that the slope of line a, which is not subjected to stabilization processing, is steeper than that of line b, which is also subjected to stabilization processing.

すなわち、たとえば下部磁気コア8aの比透磁率を10
00以上にすべく、磁気異方性エネルギHkが7以下に
なるように特性改善熱処理を行う場合を考えると、本実
施例のように当該特性改善熱処理に先立って安定化熱処
理を施すほうが、磁気異方性エネルギHkの変化が緩や
かになり、特性改善熱処理の温度制御などにおける時間
的余裕が大きくなるので、基板8の昇温揉作の過程で磁
気異方性エネルギHkの値が目標の範囲を逸脱してしま
うなどの懸念がなくなる。
That is, for example, the relative magnetic permeability of the lower magnetic core 8a is set to 10.
Considering the case where a property improvement heat treatment is performed so that the magnetic anisotropy energy Hk becomes 7 or less in order to make it 00 or more, it is better to perform a stabilization heat treatment before the property improvement heat treatment as in this example. Changes in the anisotropy energy Hk become gradual, and the time margin for temperature control during property improvement heat treatment becomes larger, so that the value of the magnetic anisotropy energy Hk is within the target range during the temperature raising process of the substrate 8. There is no need to worry about deviating from the standard.

これにより、磁性薄膜(下部磁気コア8a)に対して目
的とする的確な熱処理結果を得ることができる。
This makes it possible to obtain the desired and accurate heat treatment result for the magnetic thin film (lower magnetic core 8a).

こうして、特性改善熱処理を終えた基板8は、加熱炉2
から取り出され、被着されている磁性薄膜に対してイオ
ンミリングなどの加工を施すことにより、目的の形状に
下mwt気コア8aが成形される。
In this way, the substrate 8 that has undergone the characteristic improvement heat treatment is transferred to the heating furnace 2.
The lower mwt core 8a is formed into the desired shape by performing a process such as ion milling on the magnetic thin film taken out from the magnetic thin film and coated thereon.

その後、下部磁気コア8aの上部などにギャップ層3c
,導体コイルパターン8dさらには層間膜8eなどを形
成し、前述の下部磁気コア8aと同様の磁性材料よび手
順で、上部磁気コア8bとなる磁性薄膜を形成する。
After that, a gap layer 3c is formed on the upper part of the lower magnetic core 8a, etc.
, a conductor coil pattern 8d, an interlayer film 8e, etc. are formed, and a magnetic thin film that will become the upper magnetic core 8b is formed using the same magnetic material and procedure as the lower magnetic core 8a described above.

次に、こうして上部磁気コア8bとなるべき磁性薄膜が
形威された基板8を保持治具7に装着して加熱炉2の内
部に装填する。
Next, the substrate 8 on which the magnetic thin film that is to become the upper magnetic core 8b is formed is mounted on the holding jig 7 and loaded into the heating furnace 2.

そして、ます回動機構5を適宜制御して、第1図に示さ
れるように、上部磁気コア8bとなるべき磁性薄膜の磁
路方向9が静磁場Hの方向と同じになるように、基板8
の回動姿勢を設定する。
Then, by appropriately controlling the rotating mechanism 5, as shown in FIG. 8
Set the rotation posture of.

その後、所定の高真空度および静磁場Hの印加の下で、
前述の下部磁気コア8aの場合よりも低い温度250℃
程度で所定の時間t3(たとえば1時間)だけ加熱する
安定化熱処理(第1熱処理)を行う。
Then, under a predetermined high degree of vacuum and application of a static magnetic field H,
Temperature 250°C lower than that of the lower magnetic core 8a described above
A stabilizing heat treatment (first heat treatment) is performed in which the substrate is heated for a predetermined time t3 (for example, one hour).

さらに、基板8を現在の姿勢から90度だけ回劾させ、
静磁場Hの方向に対して、上部磁気コア8bとなるべき
磁性薄膜の磁路方向9が直交するようにして、同じ25
0℃で所定の時間t4だけ特性改善熱処理(第2熱処理
〉を実施する。
Furthermore, the board 8 is rotated by 90 degrees from the current posture,
The same 25
Characteristic improvement heat treatment (second heat treatment) is performed at 0° C. for a predetermined time t4.

ここで、第4図は、所望の比透磁率(たとえば1000
以上)にされている磁性薄膜に対して、下部磁気コア8
aが被る熱履歴と同等の熱処理を施した場合の比透磁率
の変化を、250℃,300℃,350℃と加熱温度を
変えて測定した結果を示している。
Here, FIG. 4 shows the desired relative magnetic permeability (for example, 1000
The lower magnetic core 8
It shows the results of measuring changes in relative magnetic permeability when heat treatment equivalent to the thermal history experienced by a was performed at different heating temperatures of 250°C, 300°C, and 350°C.

同図から、加熱温度が高いほど比透磁率の低下が著しい
ことが知られ、下部磁気コア8aよりも後に形成される
上部磁気コア8bの熱処理において、本実施例のように
加熱温度をより低く設定することが、すでに形成されて
いる下部磁気コア8aの比透磁率の劣化を防止する観点
からきわめて有効であることが判る。
From the same figure, it is known that the higher the heating temperature is, the more remarkable the decrease in relative magnetic permeability is.In the heat treatment of the upper magnetic core 8b formed after the lower magnetic core 8a, the heating temperature is lowered as in this example. It can be seen that this setting is extremely effective from the viewpoint of preventing deterioration of the relative magnetic permeability of the lower magnetic core 8a that has already been formed.

さらに、第5図は、上述の本実施例における薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法と従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法とに
おける相対再生出力の経時変化を対照して示す線図であ
る。
Further, FIG. 5 is a diagram comparing and showing changes in relative reproduction output over time in the method for manufacturing the thin film magnetic head in this embodiment described above and the method for manufacturing the conventional thin film magnetic head.

すなわち、同図において線fおよび線hは、磁性薄膜形
成時に磁化容易軸を磁路方向9 (最終磁化困難方向1
1)と同じに作り、後に熱処理によって磁気異方性を9
0度回転させることによって得られた磁気コアを用いた
場合であり、さらに線fは本実施例のように特性改善熱
処理に先立って安定化熱処理を行い、線hは安定化熱処
理を実施しない従来の場合を示している。
That is, in the same figure, lines f and h line the axis of easy magnetization during formation of the magnetic thin film in the magnetic path direction 9 (the final direction of difficult magnetization 1
1), and then heat-treated to increase the magnetic anisotropy to 9.
This is the case where a magnetic core obtained by rotating the core by 0 degrees is used, and the line f is the case where stabilization heat treatment is performed before the property improvement heat treatment as in this example, and the line h is the conventional case where the stabilization heat treatment is not performed. The case is shown below.

また、同図の線gおよび線jは、磁性薄膜の磁化容易軸
を磁気コアの磁路方向9に直交する方向(最終磁化容易
方向10)に作り、後の特性改善熱処理を短時間だけ行
い、磁気異方性の向きを変化させずに磁気異方性エネル
ギを単に小さくしただけのものである。このうち線gは
本実施例のような安定化熱処理を行った場合であり、線
Jは安定化熱処理を行わなかった場合を示している。
In addition, lines g and j in the same figure indicate that the easy magnetization axis of the magnetic thin film is made in a direction perpendicular to the magnetic path direction 9 of the magnetic core (final easy magnetization direction 10), and the subsequent characteristic improvement heat treatment is performed for only a short time. , the magnetic anisotropy energy is simply reduced without changing the direction of the magnetic anisotropy. Among these, line g shows the case where the stabilizing heat treatment as in this example was performed, and line J shows the case where the stabilizing heat treatment was not performed.

すなわち、同図から明らかなように、本実施例のように
磁性薄膜形威時に磁化容易軸を磁路方向9(最終磁化困
難方向11)と同じに作り、安定化熱処理と特性改善熱
処理とによって磁気異方性を90度回転させて最林磁化
困難方向11を磁路方向9に一致させるようにした場合
が、薄膜磁気ヘッドMにおける再生出力の経時劣化が最
も小さく、再生出力の経時劣化の防止に極めて有効であ
ることが判る。
That is, as is clear from the figure, when forming a magnetic thin film as in this example, the axis of easy magnetization is made to be the same as the magnetic path direction 9 (final direction of difficult magnetization 11), and by stabilizing heat treatment and property improving heat treatment, When the magnetic anisotropy is rotated by 90 degrees so that the most difficult direction of magnetization 11 coincides with the magnetic path direction 9, the deterioration over time of the reproduction output of the thin film magnetic head M is the smallest, and the deterioration over time of the reproduction output is minimized. It turns out that it is extremely effective in prevention.

また、熱処理によって磁気異方性の方向を回転させない
場合でも、本実施例のように特性改善熱処理に先立って
安定化熱処理を施すことが、再生出力の経時劣化の防止
に有効であることが知られる。
Furthermore, even if the direction of magnetic anisotropy is not rotated by heat treatment, it is known that performing stabilization heat treatment prior to characteristic improvement heat treatment as in this example is effective in preventing deterioration of the reproduced output over time. It will be done.

さらに、前述のような本実施例のような薄膜磁気ヘッド
の製造装置によれば、印加される静磁場Hの方向の異な
る安定化熱処理および特性改善熱処理を、その都度、加
熱炉2から基板8を取り出すことなく連続して遂行でき
るので、熱処理工程の所要時間および工数が削減され、
薄膜磁気ヘッドの製造工程における生産性が向上する。
Further, according to the thin film magnetic head manufacturing apparatus of the present embodiment described above, stabilization heat treatment and characteristic improvement heat treatment in different directions of the applied static magnetic field H are performed on the substrate 8 from the heating furnace 2 each time. Since it can be carried out continuously without taking out the heat treatment process, the time and man-hours required for the heat treatment process are reduced.
Productivity in the manufacturing process of thin film magnetic heads is improved.

また、重量の大きな電磁石に対して、はるかに軽量な基
板8の側を回動させるので、回勤機構5が簡略化され、
製造装置の原価低減を図ることができる。
In addition, since the much lighter side of the board 8 is rotated relative to the heavier electromagnet, the rotation mechanism 5 is simplified.
It is possible to reduce the cost of manufacturing equipment.

なお、上記の実施例の説明では、処理の一例として最初
の磁性薄膜の形成過程で静磁場を印加して磁気異方性を
付与した場合について説明しているが、これに限らず、
形成直後の磁性薄膜に充分な磁気異方性が付与されてい
ない場合でも、安定化熱処理の過程で磁路方向9と同じ
方向に静磁場Hを印加することで、同様の効果を得るこ
とができる。
In addition, in the description of the above embodiment, as an example of the process, a case is described in which a static magnetic field is applied in the process of forming the first magnetic thin film to impart magnetic anisotropy, but the present invention is not limited to this.
Even if sufficient magnetic anisotropy is not imparted to the magnetic thin film immediately after formation, the same effect can be obtained by applying a static magnetic field H in the same direction as the magnetic path direction 9 during the stabilization heat treatment process. can.

また、第1熱処理を行う時期としては、磁性薄膜に対す
る磁気コアの成形工程の後であってもよい。
Further, the first heat treatment may be performed after the step of forming the magnetic core on the magnetic thin film.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor.

たとえば、安定化熱処理および特性改善熱処理における
温度および加熱時間は前記実施例に例示したものに限定
されない。
For example, the temperature and heating time in the stabilization heat treatment and property improvement heat treatment are not limited to those exemplified in the above embodiments.

さらに、上部磁気コアおよび下部磁気コアを構成する磁
性1としては前記実施例中に例示したものに限らず、他
の組或の非晶質合金であってもよいことは言うまでもな
い。
Furthermore, it goes without saying that the magnetic material 1 constituting the upper magnetic core and the lower magnetic core is not limited to those exemplified in the above embodiments, but may be other types of amorphous alloys.

また、最終的に得られる薄膜磁気ヘッドの構造は前記実
施例中に例示したものに限定されない。
Further, the structure of the thin film magnetic head finally obtained is not limited to that exemplified in the above embodiments.

C発明の効果〕 本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりで
ある。
C Effects of the Invention Among the inventions disclosed in this application, effects obtained by typical inventions are briefly explained below.

すなわち、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製造方法によ
れば、磁路を構或する磁気コアとなる非品質の磁性膜を
形成する第1の段階と、無磁場中もしくは前記磁路と同
一方向の静磁場中においてヰユリー点および結晶化温度
以下の第1熱処理を行う第2の段階と、前記磁路と直角
方向の静磁場中においてキュリー点および結晶化温度以
下の第2熱処理を行う第3の段階とからなるので、たと
えば第1熱処理を経ることで、磁気コアの磁路と直交す
る方向の静磁場を印加しながら行われる第2鳩処理にお
ける異方性エネルギの急激な変化が抑制され、熱処理の
温度制御などにお;ナる余裕度が大きくなるとともに、
磁気コアにおける比透磁率などの特性の熱履歴による劣
化を抑止することができる。
That is, according to the method of manufacturing a thin-film magnetic head according to the present invention, the first step is to form a poor quality magnetic film that becomes a magnetic core constituting a magnetic path, and the first step is to form a magnetic film of poor quality, which becomes a magnetic core constituting a magnetic path, and a step of forming a magnetic film in the absence of a magnetic field or in the same direction as the magnetic path. a second step of performing a first heat treatment at a temperature below the Curie point and the crystallization temperature in a static magnetic field; and a third step of performing a second heat treatment at a temperature below the Curie point and the crystallization temperature in a static magnetic field perpendicular to the magnetic path. For example, by going through the first heat treatment, a sudden change in anisotropic energy during the second pigeon treatment, which is performed while applying a static magnetic field in a direction perpendicular to the magnetic path of the magnetic core, is suppressed. In addition to increasing the margin for temperature control during heat treatment,
Deterioration of characteristics such as relative magnetic permeability in the magnetic core due to thermal history can be suppressed.

これにより、第2熱処理における加熱温度の制御を容易
かつ的確に行うことが可能となり、たとえば第2熱処理
における磁化容易軸の90度回転などによる磁気異方性
エネルギの制御を正確に行うことができる結果、再生特
性の経時劣化の小さい薄膜磁気ヘッドを得ることができ
る。
This makes it possible to easily and accurately control the heating temperature in the second heat treatment, and for example, to accurately control the magnetic anisotropy energy by rotating the axis of easy magnetization by 90 degrees in the second heat treatment. As a result, it is possible to obtain a thin film magnetic head whose reproduction characteristics are less degraded over time.

また、本発明になる薄膜磁気ヘッドの製a装置によれば
、静磁場を形成する磁場形成手段と、前記静磁場に軸が
直交するように配置された加熱炉と、被処理物を保持し
て前記加熱炉の内部;ご挿入される保持治具と、この保
持治具に接続され、前記被処理物を前記静磁場の方向に
対して所望の方向に所望の角度だけ回勤させる回動機構
とからなるので、加熱炉から薄膜磁気ヘッドが形成され
る基板などの被処理物を取り出すことフヨ<、静磁場の
印加方向の異なる第1および第2都処理などからなる複
数段階の熱処理を連続して行うことができ、熱処理作業
における所要時間の短縮や所要工数が削減がされ、静磁
場の印加方向の異なる複数段階の熱処理を効率良く遂行
することができる。
Further, according to the thin film magnetic head manufacturing apparatus of the present invention, a magnetic field forming means for forming a static magnetic field, a heating furnace disposed with an axis perpendicular to the static magnetic field, and a workpiece to be processed are held. inside the heating furnace; a holding jig that is inserted; and a rotation that is connected to this holding jig and rotates the workpiece in a desired direction and at a desired angle with respect to the direction of the static magnetic field; It consists of a mechanism that allows for multiple stages of heat treatment, including first and second processes in which a static magnetic field is applied in different directions, to take out the workpiece, such as a substrate on which a thin film magnetic head is formed, from the heating furnace. It can be performed continuously, reducing the time and man-hours required for heat treatment work, and efficiently performing heat treatment in multiple stages in which the static magnetic field is applied in different directions.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の一実施例である薄膜磁気ヘッドの製
造方法の一例を説明する線図、第2図は、それを実施す
る薄膜磁気ヘッドの製造装置の構造の一例を示す一部破
断斜視図、第3図は、特性改善熱処理における磁気異方
性エネルギの変化を本発明の一実施例である薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法と従来技術の場合とを対比して示す線図
、   ゛ 第4図は、熱履歴による磁気コアの比透磁率の劣化を種
々の加熱温度の場合について対照して示す線図、 第5図は、薄膜磁気ヘッドにおける再生出力の経時変化
を本発明の場合と従来技術の場合とを比較して示す線図
、 第6図は、薄膜磁気ヘッドの構造の一例を示す略断面図
、 第7図は、磁路方向と最終磁化容易方向および最終磁化
困難方向との関係を示す説明図である。 1・・・架台、2・・・加熱炉、2a・・・排気管、3
.4・・・電磁石、5・・・回動機構、5a・・・駆動
軸、6・・・回動軸、7・・・保持治具、H・・・静磁
場、8・・・基板、8a・・・下部磁気コア、8b・・
・上部磁気コア、8C・・・ギャップ層、8d・・・導
体コイルパターン、8e・・・層間膜、G・・・ギャッ
プ、M・・・薄膜磁気ヘッド、9・・・磁路方向、10
・・・最終磁化容易方向、11・・・最終磁化困難方向
、Hk・・・磁気異方性エネルギ、t1・・・下8磁気
コアに対する第1熱処理の時間、t2・・・下部磁気コ
アに対する第2熱処理の時間、t3・・・上部磁気コア
に対する第1熱処理の時間、t4・・・上部磁気コアに
対する第2熱処理の時間。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a method for manufacturing a thin film magnetic head, which is an embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 3 is a diagram showing the change in magnetic anisotropy energy during characteristic improvement heat treatment, comparing the manufacturing method of a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention with that of the prior art. FIG. 4 is a graph showing the deterioration of the relative magnetic permeability of the magnetic core due to thermal history in the case of various heating temperatures. FIG. Fig. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of the structure of a thin film magnetic head; Fig. 7 is a diagram showing the magnetic path direction, the final easy magnetization direction, and the final magnetization difficult direction. FIG. 1... Frame, 2... Heating furnace, 2a... Exhaust pipe, 3
.. 4... Electromagnet, 5... Rotating mechanism, 5a... Drive shaft, 6... Rotating shaft, 7... Holding jig, H... Static magnetic field, 8... Substrate, 8a...lower magnetic core, 8b...
- Upper magnetic core, 8C... gap layer, 8d... conductor coil pattern, 8e... interlayer film, G... gap, M... thin film magnetic head, 9... magnetic path direction, 10
... Final easy magnetization direction, 11... Final difficult magnetization direction, Hk... Magnetic anisotropy energy, t1... Time of first heat treatment for the lower 8 magnetic cores, t2... For the lower magnetic core Time for second heat treatment, t3... Time for first heat treatment on the upper magnetic core, t4... Time for second heat treatment on the upper magnetic core.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、磁路を構成する磁気コアとなる非晶質の磁性膜を形
成する第1の段階と、無磁場中もしくは前記磁路と同一
方向の静磁場中においてキュリー点および結晶化温度以
下の第1熱処理を行う第2の段階と、前記磁路と直角方
向の静磁場中においてキュリー点および結晶化温度以下
の第2熱処理を行う第3の段階とからなることを特徴と
する薄膜磁気ヘッドの製造方法。 2、前記第1の段階における前記磁性膜の形成に際して
は、後に前記磁気コアに成形した時の前記磁路と同一の
方向に磁化容易軸を付与するようにしたことを特徴とす
る請求項1記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。 3、導体コイルパターンの形成工程の前後に、下側の前
記磁性膜と上側の前記磁性膜をそれぞれ形成することで
、前記導体コイルパターンに鎖交する前記磁気コアを形
成する場合に、上側の前記磁性膜に対する前記第1およ
び第2熱処理の温度を下側の前記磁性膜に対する第1お
よび第2熱処理の温度よりも低くするようにしたことを
特徴とする請求項1または2記載の薄膜磁気ヘッドの製
造方法。 4、静磁場を形成する磁場形成手段と、前記静磁場に軸
が直交するように配置された加熱炉と、被処理物を保持
して前記加熱炉の内部に挿入される保持治具と、この保
持治具に接続され、前記被処理物を前記静磁場の方向に
対して所望の方向に所望の角度だけ回動させる回動機構
とからなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造装置
[Claims] 1. A first step of forming an amorphous magnetic film that becomes a magnetic core constituting a magnetic path, and a step of forming an amorphous magnetic film at the Curie point and the magnetic core in the absence of a magnetic field or in a static magnetic field in the same direction as the magnetic path. A second step of performing a first heat treatment at a temperature below the crystallization temperature, and a third step of performing a second heat treatment at a temperature below the Curie point and the crystallization temperature in a static magnetic field perpendicular to the magnetic path. A method for manufacturing a thin film magnetic head. 2. When forming the magnetic film in the first step, an axis of easy magnetization is provided in the same direction as the magnetic path when later formed into the magnetic core. A method of manufacturing the thin film magnetic head described above. 3. By forming the lower magnetic film and the upper magnetic film before and after the conductor coil pattern formation step, when forming the magnetic core that interlinks with the conductor coil pattern, the upper magnetic film is formed. 3. The thin film magnetism according to claim 1, wherein the temperature of the first and second heat treatments on the magnetic film is lower than the temperature of the first and second heat treatments on the lower magnetic film. Head manufacturing method. 4. a magnetic field forming means for forming a static magnetic field; a heating furnace disposed with an axis perpendicular to the static magnetic field; and a holding jig inserted into the heating furnace while holding a workpiece; An apparatus for manufacturing a thin film magnetic head, comprising a rotation mechanism connected to the holding jig and rotating the object to be processed in a desired direction and at a desired angle with respect to the direction of the static magnetic field.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008179422A (en) * 2008-04-18 2008-08-07 Dainippon Printing Co Ltd Heat insulating container

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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