JPH0353158Y2 - - Google Patents
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- JPH0353158Y2 JPH0353158Y2 JP1984167302U JP16730284U JPH0353158Y2 JP H0353158 Y2 JPH0353158 Y2 JP H0353158Y2 JP 1984167302 U JP1984167302 U JP 1984167302U JP 16730284 U JP16730284 U JP 16730284U JP H0353158 Y2 JPH0353158 Y2 JP H0353158Y2
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Description
【考案の詳細な説明】
(イ) 産業上の利用分野
本考案は比表面積測定装置に関し、更に詳しく
は、BET1点法の原理で流動法を採用した比表面
積測定装置に関する。[Detailed description of the invention] (a) Industrial application field The present invention relates to a specific surface area measuring device, and more specifically, to a specific surface area measuring device that employs a flow method based on the principle of the BET one-point method.
(ロ) 従来技術
BET1点法に基づく流動法による比表面積測定
装置においては、一般に、測定用ガスとして、正
確な混合比のもとに吸着ガスとキヤリアガスを混
合してなる混合ガスが用いられる。従つて、この
ような装置では、混合ボンベを測定流路に接続す
る。ところが、装置のキヤリブレーシヨンを行う
為には、吸着ガスの純ガスが必要である。このキ
ヤリブレーシヨンでは、どれだけの吸着ガス分子
量を正確に測定できるかによつてその精度が決ま
ることから、このようなキヤリブレーシヨンは、
マイクロシリンジを用いて、その容量で規定され
る一定体積の吸着ガスを測定流路内に注入するこ
とが最も信頼性が高い。また、このようなシリン
ジを用いて吸着ガスを測定流路内に注入する方法
では、シリンジ容量を変えるだけでワイドレンジ
のキヤリブレーシヨンが可能となる利点もある。
従つて、通常、測定流路にキヤリブレーシヨン用
ガスの注入口たる注入セプタムを設けておき、外
部から採取した純吸着ガスをシリンジ等によつて
注入する。この場合、測定装置とは別に純ガスボ
ンベおよび流路を用意する必要がある。吸着ガス
として窒素ガスを用いる場合には、測定装置のコ
ールドトラツプ部等に用いられる液体窒素から採
取することができる。しかし、この採取に当つ
て、液体窒素の液面から数cm上方においてシリン
ジで採取する場合には、水蒸気や空気等の不純物
が混入してしまう虞れがある。また、シリンジの
針先を液面に浸した状態で採取する場合には、吸
引時にシリンジが破裂してしまう虞れがある。更
に、いずれかの方法で窒素ガスをシリンジ内に吸
引しても、ガスが室温に達するまで放置しておく
必要がある、等の問題があり、作業性および測定
の信頼性の点で難があつた。(B) Prior Art In a specific surface area measuring device using a flow method based on the BET one-point method, a mixed gas obtained by mixing an adsorbed gas and a carrier gas at a precise mixing ratio is generally used as the measuring gas. In such devices, therefore, the mixing cylinder is connected to the measuring channel. However, in order to calibrate the device, pure adsorbed gas is required. The accuracy of this calibration is determined by how much molecular weight of the adsorbed gas can be accurately measured.
The most reliable method is to use a microsyringe to inject a fixed volume of adsorbed gas defined by its capacity into the measurement channel. Furthermore, the method of injecting adsorbed gas into the measurement channel using such a syringe has the advantage that calibration can be performed over a wide range simply by changing the syringe capacity.
Therefore, an injection septum serving as a calibration gas injection port is usually provided in the measurement flow path, and pure adsorbed gas collected from the outside is injected using a syringe or the like. In this case, it is necessary to prepare a pure gas cylinder and a flow path separately from the measuring device. When nitrogen gas is used as the adsorption gas, it can be collected from liquid nitrogen used in the cold trap section of the measuring device. However, when collecting with a syringe several centimeters above the liquid nitrogen level, there is a risk that impurities such as water vapor and air may be mixed in. Further, when collecting the sample with the needle tip of the syringe submerged in the liquid surface, there is a risk that the syringe may burst during suction. Furthermore, even if nitrogen gas is sucked into the syringe using either method, there are problems such as the need to leave the gas until it reaches room temperature, which poses difficulties in terms of workability and measurement reliability. It was hot.
更に従来のこの種の測定装置の問題点として、
脱ガスの問題がある。脱ガス処理は、測定に先立
つ前処理として、試料に付着している水分等の不
純物を除去する為に必須の処理である。この処理
を行う為に、従来装置においては、測定ステージ
の下流に脱ガスステージを設けて、測定ステージ
を経た混合ガスを、次の測定を待つ試料に加熱し
ながら流すことが行われている。ところが、完全
な脱ガス処理を施すのに要する時間が、測定時間
を上まわる場合が往々にしてあり、例えば実際の
測定時間が10分未満であるのに対し、脱ガス時間
が数10分ないしは数時間もかかることが普通であ
り、流動式比表面積測定法の特徴である迅速性を
損ねてしまつているのが実情である。 Furthermore, there are problems with conventional measuring devices of this type.
There is a problem with degassing. Degassing treatment is an essential pretreatment process prior to measurement in order to remove impurities such as moisture adhering to the sample. In order to perform this process, in conventional devices, a degassing stage is provided downstream of the measurement stage, and the mixed gas that has passed through the measurement stage is passed through the sample awaiting the next measurement while being heated. However, the time required to perform complete degassing treatment often exceeds the measurement time; for example, while the actual measurement time is less than 10 minutes, the degassing time is several tens of minutes or more. The reality is that it usually takes several hours, which impairs the rapidity that characterizes the flow specific surface area measurement method.
(ハ) 目的
本考案は簡単な構成のもとに、上記の従来装置
における問題点を一挙に解決すべくなされたもの
で、不純物の混入の虞れのないキヤリブレーシヨ
ン用純ガスを、随時容易に採取可能とするととも
に、測定流路内における脱ガス処理時間も短縮す
ることのできる比表面積測定装置の提供を目的と
している。(C) Purpose The present invention has a simple structure and was developed to solve all of the above-mentioned problems with conventional devices at once. It is an object of the present invention to provide a specific surface area measuring device that allows easy collection and shortens the degassing treatment time in the measurement channel.
(ニ) 構成
本考案の特徴とするところは、内部に吸着ガス
を流すための少なくとも1本のガス流路を、測定
流路とは別に独立的に設け、このガス流路上に
は、当該流路内のガスを採取するためのセプタム
と、その下流側に試料セルの接続が可能な予備脱
ガスステージが設けることにより、キヤリブレー
シヨン用純ガスの随時採取を可能とし、同時に、
予備ガスステージを利用して測定流路内での脱ガ
スに先立つ予備脱ガスを可能とした点にある。(D) Structure The feature of the present invention is that at least one gas flow path for flowing the adsorbed gas is provided independently from the measurement flow path, and the gas flow path has a By installing a septum for collecting gas in the channel and a preliminary degassing stage that can connect a sample cell on the downstream side, it is possible to collect pure gas for calibration at any time, and at the same time,
The advantage is that a preliminary gas stage is used to perform preliminary degassing prior to degassing within the measurement channel.
(ホ) 実施例
本考案の実施例を、以下、図面に基づいて説明
する。(e) Examples Examples of the present invention will be described below based on the drawings.
第1図は本考案実施例の構成を示す配管概略図
である。 FIG. 1 is a schematic piping diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention.
配管は、測定流路Wmとキヤリブレーシヨンガ
ス流路Wcの2系統から成つている。 The piping consists of two systems: a measurement flow path Wm and a calibration gas flow path Wc.
測定流路Wmは公知の構成であつて、測定用の
混合ガス、例えば吸着ガスたる窒素ガスとキヤリ
アガスたるヘリウムガスとを3:7の割合で混合
したガスを、混合ガス入口1から流入させる。混
合ガス入口1から下流へと向かつて、流量制御弁
2、コールドトラツプ3、キヤリブレーシヨンガ
ス注入用セプタム4、測定ステージ5、フイルタ
6、セレクタバルブ7、流量計8、脱ガスステー
ジ9が連接され、混合ガス出口10に連つてい
る。 The measurement flow path Wm has a known configuration, and allows a mixed gas for measurement, such as a mixture of nitrogen gas as an adsorption gas and helium gas as a carrier gas at a ratio of 3:7, to flow in from the mixed gas inlet 1. Going downstream from the mixed gas inlet 1, there are a flow control valve 2, a cold trap 3, a septum 4 for calibration gas injection, a measurement stage 5, a filter 6, a selector valve 7, a flow meter 8, and a degassing stage 9. It is connected to the mixed gas outlet 10.
上述の如き混合比に正確に混合された混合ガス
を測定流路Wmに導入する為に、混合ガス入口1
は混合ボンベに接続される。測定ステージ5およ
び脱ガスステージ9には、それぞれセル着脱用コ
ネクタ5aおよび9aが設けられており、試料を
収容した試料セルSを、測定流路Wmに気密に接
続することができる。 In order to introduce the mixed gas accurately mixed at the above-mentioned mixing ratio into the measurement flow path Wm, the mixed gas inlet 1 is
is connected to the mixing cylinder. The measurement stage 5 and the degassing stage 9 are provided with cell attachment/detachment connectors 5a and 9a, respectively, so that the sample cell S containing the sample can be airtightly connected to the measurement channel Wm.
熱伝導度検出器(T.C.D)11は、測定ステー
ジ5の上・下流において測定流路Wm内のガスの
熱伝導度を検出することにより、測定ステージ5
の試料セルS内に導入される混合ガスと、その試
料セルSから排出される混合ガス中の吸着ガス濃
度差を求め、これにより試料セルS内の試料によ
るガス吸着量を得て、試料の比表面積が算出され
る。なお、この測定ステージ5の試料セルS、お
よびコールドトラツプ3は測定中において液体窒
素等の冷媒内に浸される。熱伝導度検出器11出
力をキヤリブレーシヨンする為には、測定に使用
される混合ガス中の吸着ガスの純ガスが必要であ
つて、この純ガスはキヤリブレーシヨンガス注入
用セプタム4からシリンジを用いて注入される。
キヤリブレーシヨンガス注入用セプタム4の構造
を示せば、例えば第2図に断面図で示す如くであ
る。すなわち、41はシリンジ針を誘導する為の
ガイド、42は測定流路Wmに連接する流路、4
3は円柱状ゴム栓、44はシーリングキヤプであ
り、キヤリブレーシヨンガスを吸引したシリンジ
の針をゴム栓43に挿入して注入することによ
り、外部と気密を保つた状態で測定流路Wm内に
キヤリブレーシヨンガスを導入することができ
る。 The thermal conductivity detector (TCD) 11 detects the thermal conductivity of the gas in the measurement flow path Wm upstream and downstream of the measurement stage 5.
The adsorbed gas concentration difference between the mixed gas introduced into the sample cell S and the mixed gas discharged from the sample cell S is determined, and the amount of gas adsorbed by the sample in the sample cell S is obtained. The specific surface area is calculated. The sample cell S of the measurement stage 5 and the cold trap 3 are immersed in a coolant such as liquid nitrogen during the measurement. In order to calibrate the output of the thermal conductivity detector 11, pure gas of the adsorbed gas in the mixed gas used for measurement is required, and this pure gas is injected into the syringe from the septum 4 for injecting the calibration gas. is injected using
The structure of the septum 4 for injecting calibration gas is shown, for example, in a sectional view in FIG. That is, 41 is a guide for guiding the syringe needle, 42 is a flow path connected to the measurement flow path Wm, and 4
3 is a cylindrical rubber stopper, and 44 is a sealing cap. By inserting the needle of a syringe that has sucked calibration gas into the rubber stopper 43 and injecting it, the measuring flow path Wm is kept airtight with the outside. Calibration gas can be introduced into the chamber.
脱ガスステージ9に装着される試料セルS内に
は、測定前の試料が封入される。そしてこの試料
セルSをマントルヒータ9bで加熱しつつ、混合
ガスを通過させることにより、試料に含有される
水分等の不純物が除去される。ここで測定前の試
料に混合ガス中の吸着ガスが物理吸着しないよ
う、試料を加熱するわけである。 A sample cell S attached to the degassing stage 9 is filled with a sample before measurement. By passing the mixed gas through the sample cell S while heating it with the mantle heater 9b, impurities such as moisture contained in the sample are removed. Here, the sample is heated to prevent the adsorbed gas in the mixed gas from being physically adsorbed onto the sample before measurement.
キヤリブレーシヨンガス流路Wcは、測定流路
Wmとは完全に独立しており、キヤリブレーシヨ
ンガス入口21、キヤリブレーシヨンガス採取用
セプタム22、予備脱ガスステージ23を経てキ
ヤリブレーシヨンガス出口24に至る流路で構成
されている。キヤリブレーシヨンガス入口21
は、測定に使用する混合ガス中の吸着ガスと同じ
純ガスのボンベが接続される。 The calibration gas flow path Wc is the measurement flow path
It is completely independent from Wm, and consists of a flow path leading to a calibration gas outlet 24 via a calibration gas inlet 21, a septum 22 for sampling calibration gas, and a preliminary degassing stage 23. Calibration gas inlet 21
is connected to a cylinder of the same pure gas as the adsorbed gas in the gas mixture used for measurement.
予備脱ガスステージ23には、セル着脱用コネ
クタ23aが設けられており、試料を収容した試
料セルSを、キヤリブレーシヨンガス流路Wcに
気密に接続することができる。この予備脱ガスス
テージ23に装着される試料セルS内には、脱ガ
スステージ9による脱ガス処理前の試料が封入さ
れ、マントルヒータ23bで加熱しつつキヤリブ
レーシヨンガスを通過させることにより、試料に
含まれる不純物を予備的に除去することができ
る。 The preliminary degassing stage 23 is provided with a cell attachment/detachment connector 23a, and the sample cell S containing the sample can be airtightly connected to the calibration gas flow path Wc. A sample before being degassed by the degassing stage 9 is sealed in the sample cell S attached to the preliminary degassing stage 23, and the sample is heated by the mantle heater 23b while passing the calibration gas. It is possible to preliminarily remove impurities contained in the
キヤリブレーシヨンガス採取用セプタム22
は、前述のキヤリブレーシヨンガス注入用セプタ
ム4と同様の構造となつており、シリンジによつ
てキヤリブレーシヨンガス流路Wc内のガスを採
取することができる。 Calibration gas sampling septum 22
has the same structure as the above-mentioned septum 4 for injecting calibration gas, and the gas in the calibration gas flow path Wc can be sampled with a syringe.
以上の本考案実施例を使用するとき、キヤリブ
レーシヨンガス流路Wcには常時少量のキヤリブ
レーシヨンガスを流しておく。これにより、予備
脱ガスステージ23において試料の予備的な脱ガ
ス処理を行うことができる。また、キヤリブレー
シヨンガス採取用セプタム22から随時キヤリブ
レーシヨンガスを採取して、キヤリブレーシヨン
ガス注入用セプタム4から測定流路Wm内に導入
することができる。キヤリブレーシヨンガス注入
用セプタム4と、キヤリブレーシヨンガス採取用
セプタム22とが近接するよう各配管系統のレイ
アウトを考慮すれば、シリンジによるキヤリブレ
ーシヨンガスの採取から注入までの一連の動作が
簡略化されて好都合である。 When using the above-described embodiment of the present invention, a small amount of calibration gas is always allowed to flow through the calibration gas flow path Wc. Thereby, preliminary degassing treatment of the sample can be performed in the preliminary degassing stage 23. Furthermore, calibration gas can be sampled from the calibration gas sampling septum 22 at any time and introduced into the measurement channel Wm from the calibration gas injection septum 4. If the layout of each piping system is considered so that the septum 4 for injecting the calibration gas and the septum 22 for sampling the calibration gas are arranged close to each other, the series of operations from sampling the calibration gas with a syringe to injection can be simplified. It is convenient to be
なお、以上の実施例では、キヤリブレーシヨン
ガス流路Wcを1本だけ設けた場合について説明
したが、同様な流路をそれぞれ独立して並列に設
け、各流路を例えば窒素ガスやアルゴンガス等の
純ガスの固有の流路とすることにより、キヤリブ
レーシヨンガスの種類を頻繁に変更する必要のあ
る測定作業に有効となる。 In the above embodiment, the case where only one calibration gas flow path Wc was provided was explained, but similar flow paths may be provided independently and in parallel, and each flow path may be filled with nitrogen gas or argon gas, for example. By creating a unique flow path for pure gas such as, it is effective for measurement work that requires frequent changes in the type of calibration gas.
更に、第3図に本考案の他の実施例のキヤリブ
レーシヨンガス流路を示す如く、キヤリブレーシ
ヨンガス採取用セプタム22の下流に予備脱ガス
ステージ23を直列に複数個設けると、より能率
的に予備脱ガス処理を行うことができる。 Furthermore, as shown in FIG. 3, which shows the calibration gas flow path of another embodiment of the present invention, if a plurality of preliminary degassing stages 23 are provided in series downstream of the septum 22 for sampling calibration gas, efficiency can be improved. Preliminary degassing treatment can be performed.
第4図のように並列して予備脱ガスステージを
複数個設けても同様のことが言える。 The same thing can be said even if a plurality of preliminary degassing stages are provided in parallel as shown in FIG.
(ヘ) 効果
以上説明したように、本考案によれば、吸着ガ
スと非吸着ガスとが一定の比率で混合された混合
ガスを、混合ガスボンベから測定流路内に導入す
ることによつて試料の比表面積を測定する装置に
おいて、測定流路とは別に、吸着ガスを流すため
の流路を設け、この流路には、内部のガスを採取
するためのセプタムと、その下流側に試料セルを
着脱自在の予備ガスステージを設けたので、キヤ
リブレーシヨン用の吸着ガスを随時に、かつ、容
易に、しかも不純物の混入の恐れなくシリンジに
採取することが可能となつて、シリンジを用いた
高精度のキヤリブレーシヨンを行うことができる
とともに、試料の予備脱ガスをも同時に行うこと
が可能となり、測定流路内での脱ガス時間が大幅
に短縮される。(f) Effects As explained above, according to the present invention, a sample can be measured by introducing a mixed gas in which adsorbed gas and non-adsorbed gas are mixed at a fixed ratio into the measurement channel from a mixed gas cylinder. In an apparatus for measuring the specific surface area of Since a detachable spare gas stage is provided, adsorbed gas for calibration can be collected into a syringe at any time, easily, and without fear of contamination with impurities. High-precision calibration can be performed, and preliminary degassing of the sample can also be performed at the same time, greatly shortening the degassing time in the measurement channel.
以上の結果、本考案では、簡単な構成のもとに
測定の信頼性が向上するばかりでなく、流動式非
表面積測定法の特徴である測定の迅速性をも同時
に達成できる。 As a result of the above, the present invention not only improves the reliability of measurement based on a simple configuration, but also simultaneously achieves the rapidity of measurement, which is a characteristic of the flow type non-surface area measurement method.
第1図は本考案実施例の構成を示す配管概略
図、第2図はそのキヤリブレーシヨンガス注入用
セプタムの構造を示す断面図、第3図および第4
図はそれぞれ本考案の他の実施例のキヤリブレー
シヨンガス流路の構成を示す配管概略図である。
1……混合ガス入口、4……キヤリブレーシヨ
ン注入用セプタム、5……測定ステージ、9……
脱ガスステージ、10……混合ガス出口、21…
…キヤリブレーシヨンガス入口、22……キヤリ
ブレーシヨンガス採取用セプタム、23……予備
脱ガスステージ、24……キヤリブレーシヨンガ
ス出口、5a,9a,23a……セル着脱用コネ
クタ、9b,23b……マントルヒータ、S……
試料セル、Wm……測定流路、Wc……キヤリブ
レーシヨンガス流路。
Fig. 1 is a schematic piping diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a sectional view showing the structure of the septum for injecting calibration gas, and Figs.
Each figure is a piping schematic diagram showing the configuration of a calibration gas flow path in other embodiments of the present invention. 1... Mixed gas inlet, 4... Calibration injection septum, 5... Measurement stage, 9...
Degassing stage, 10...Mixed gas outlet, 21...
... Calibration gas inlet, 22... Calibration gas collection septum, 23... Preliminary degassing stage, 24... Calibration gas outlet, 5a, 9a, 23a... Cell attachment/detachment connector, 9b, 23b ...Mantle heater, S...
Sample cell, Wm...Measurement channel, Wc...Calibration gas channel.
Claims (1)
ジを備えた測定流路に、吸着ガスと非吸着ガスと
を混合してなる混合ガスを混合ガスボンベから流
入せしめ、上記測定ステージにて当該測定流路に
接続された試料セルの上・下流部で、上記混合ガ
スの混合比の変化を検出してその試料セル内の試
料による吸着ガスの吸着量を計測することによ
り、その試料の比表面積を測定するとともに、上
記脱ガスステージにて当該測定流路に接続された
試料セル内の試料の脱ガス処理を行い得るよう構
成された装置において、内部に上記吸着ガスを流
すための少なくとも1本のガス流路が上記測定流
路に対して独立して設けられているとともに、こ
のガス流路上には、当該流路内のガスを採取する
ためのセプタムと、その下流側に試料セルの接続
が可能な予備脱ガスステージが設けられているこ
とを特徴とする比表面積測定装置。 A mixed gas consisting of an adsorbed gas and a non-adsorbed gas is caused to flow from a mixed gas cylinder into a measurement channel equipped with a measurement stage and a degassing stage downstream thereof, and connected to the measurement channel at the measurement stage. By detecting changes in the mixing ratio of the above-mentioned mixed gas in the upper and downstream parts of the sample cell and measuring the amount of adsorbed gas adsorbed by the sample in the sample cell, the specific surface area of the sample can be measured. , in an apparatus configured to degas a sample in a sample cell connected to the measurement channel in the degassing stage, at least one gas channel for flowing the adsorbed gas therein; is provided independently of the measurement flow path, and on this gas flow path, there is a septum for sampling the gas in the flow path, and a spare to which a sample cell can be connected downstream. A specific surface area measuring device characterized by being equipped with a degassing stage.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP1984167302U JPH0353158Y2 (en) | 1984-11-02 | 1984-11-02 |
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JPS6182250U JPS6182250U (en) | 1986-05-31 |
JPH0353158Y2 true JPH0353158Y2 (en) | 1991-11-20 |
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JP1984167302U Expired JPH0353158Y2 (en) | 1984-11-02 | 1984-11-02 |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH0353158Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
JPH0726905B2 (en) * | 1986-08-29 | 1995-03-29 | 株式会社島津製作所 | Surface area measuring device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834342A (en) * | 1981-08-26 | 1983-02-28 | Toshiba Corp | Measuring apparatus of specific surface area |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP1984167302U patent/JPH0353158Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5834342A (en) * | 1981-08-26 | 1983-02-28 | Toshiba Corp | Measuring apparatus of specific surface area |
Also Published As
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JPS6182250U (en) | 1986-05-31 |
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