JPH0351353U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は第１実施例試料ホルダー概略図、第２
図は第１実施例試料ホルダー凸部断面図、第３図
は試料ホルダーとハンマー部との位置概略図、第
４図はハンマー先端刃部形状概略図、第５図は走
査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）ヘツド部概略図、
第６図は第２実施例試料ホルダー先端部概略図で
ある。 ２……試料、３……長穴、１０……段差、１１
……軟質材料、１５……試料ホルダー、２０……
ハンマー機構、２３，２３ａ，２３ｂ，２３ｃ，
２３ｄ，２３，６１……刃部。

補正 平２．２．２０ 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書第９頁第５行目の「２３，２３ａ，２３
ｂ，２３ｃ，２３ｄ，２３，６１……刃部」を「
２３，２３ａ，２３ｂ，２３ｃ，２３ｄ，２３ｅ
，６１……刃部」と訂正致します。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 真空環境内で試料をへき開する機構におい
   て、試料を配置する長穴が設けられた基板と前記
   基板に試料を保持する弾性材を用いた保持機構を
   有し先端部に段差を設けた試料ホルダーと、前記
   試料ホルダーの段差部に突出した試料に押圧をあ
   たえて試料をへき開するための真空環境外より操
   作できるハンマーとから成ることを特徴とする試
   料加工機構。 (2) 基板に設けられた前記長穴が貫通しており
   、後部より試料を押すことにより数度へき開が行
   える試料ホルダーを用いていることを特徴とする
   請求項１記載の試料加工機構。 (3) 先端部に刃部を構成したハンマーを用いて
   いることを特徴とする請求項１記載の試料加工機
   構。 (4) 軟質材料を試料の下敷として構成している
   ことを特徴とする請求項１記載の試料加工装置。 (5) 走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）装置が設
   置された真空環境内に設置されていることを特徴
   とする請求項１乃至４記載の試料加工機構。