JPH0350879A - 一時的方形パルスを有する位相共役レーザ - Google Patents
一時的方形パルスを有する位相共役レーザInfo
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- JPH0350879A JPH0350879A JP2171289A JP17128990A JPH0350879A JP H0350879 A JPH0350879 A JP H0350879A JP 2171289 A JP2171289 A JP 2171289A JP 17128990 A JP17128990 A JP 17128990A JP H0350879 A JPH0350879 A JP H0350879A
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- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 9
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000021615 conjugation Effects 0.000 abstract 5
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000003534 oscillatory effect Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
-
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/2325—Multi-pass amplifiers, e.g. regenerative amplifiers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は一般に位相共役レーザ、および特に−船釣なガ
ウス型−時的レーザパルスから導出された比較的方形の
一時的レーザパルスを提供する位相共役レーザに関する
。
ウス型−時的レーザパルスから導出された比較的方形の
一時的レーザパルスを提供する位相共役レーザに関する
。
[従来技術]
比較的方形の一時的レーザパルスの使用を必要とする、
幾つかのレーザの応用がある。典型的に、通常のレーザ
はガウス型レーザパルスをちょうど良いときに発生させ
、そこから方形パルスを発生させるための複雑なシステ
ムを生成することが必要とされる。特に、1つの普通の
方法では、方形パルスを生成するための比較的長い発振
器パルスの一部分を切取って除去する電気光学偏光スイ
ッチを使用しなければならない。
幾つかのレーザの応用がある。典型的に、通常のレーザ
はガウス型レーザパルスをちょうど良いときに発生させ
、そこから方形パルスを発生させるための複雑なシステ
ムを生成することが必要とされる。特に、1つの普通の
方法では、方形パルスを生成するための比較的長い発振
器パルスの一部分を切取って除去する電気光学偏光スイ
ッチを使用しなければならない。
[発明の解決すべき課題]
典型的に、その形態は互いに光通路に沿って直列した2
つの電気光学結晶を含む。各結晶は電子駆動回路および
2つの偏光装置を含む。このような通常のシステムは複
雑でコストが高い。このような方法はカリフォルニア・
リバーモアのローレンスリバーモア国立研究所で使用さ
れていることが知られている。したがって、比較的方形
のレーザパルスを発生させるもっと複雑でなくコストも
低いシステムを提供することは技術において改善となる
であろう。
つの電気光学結晶を含む。各結晶は電子駆動回路および
2つの偏光装置を含む。このような通常のシステムは複
雑でコストが高い。このような方法はカリフォルニア・
リバーモアのローレンスリバーモア国立研究所で使用さ
れていることが知られている。したがって、比較的方形
のレーザパルスを発生させるもっと複雑でなくコストも
低いシステムを提供することは技術において改善となる
であろう。
ε課題解決のための手段]
本発明は、比較的ガウス型のレーザパルスから導出され
た比較的方形のレーザパルスを生成するシステムおよび
方法を提供する。本発明のシステムは、レーザ発振器を
含む位相共役レーザ、およヒ供給されたレーザパルスの
予め定められた前部部分を切り捨てるように構成された
予め定められた圧力において限定される非線形媒体を有
する位相共役鏡を含む。増幅媒体は、供給されたレーザ
パルスを増幅するためにレーザ発振器と位相共役鏡との
間に配置される。プラズマスイッチは増幅器との間に配
置され、レーザ発振器と比較的方形のレーザパルスをち
ょうど良く生成するためのレーザパルスの予め定められ
た後部部分を切り捨てるように構成された予め定められ
た圧力において限定される予め定められたプラズマを有
する。
た比較的方形のレーザパルスを生成するシステムおよび
方法を提供する。本発明のシステムは、レーザ発振器を
含む位相共役レーザ、およヒ供給されたレーザパルスの
予め定められた前部部分を切り捨てるように構成された
予め定められた圧力において限定される非線形媒体を有
する位相共役鏡を含む。増幅媒体は、供給されたレーザ
パルスを増幅するためにレーザ発振器と位相共役鏡との
間に配置される。プラズマスイッチは増幅器との間に配
置され、レーザ発振器と比較的方形のレーザパルスをち
ょうど良く生成するためのレーザパルスの予め定められ
た後部部分を切り捨てるように構成された予め定められ
た圧力において限定される予め定められたプラズマを有
する。
一般に、位相共役鏡およびプラズマスイッチにおいて使
用される相対的な圧力およびガスの型式は、発振器から
位相共役鏡へ伝送され、そこから戻されるレーザパルス
の切り捨ての量を決定する。
用される相対的な圧力およびガスの型式は、発振器から
位相共役鏡へ伝送され、そこから戻されるレーザパルス
の切り捨ての量を決定する。
圧力およびガスの型式を制御することは、比較的方形を
有するレーザパルスを生成する1つの制御要因を提供す
る。さらに、光遅延線は長さを制御できるシステムにお
いて使用され得る。この遅延線の制御もまた、プラズマ
スイッチによるパルス・つ切り捨ての制御を助ける。
有するレーザパルスを生成する1つの制御要因を提供す
る。さらに、光遅延線は長さを制御できるシステムにお
いて使用され得る。この遅延線の制御もまた、プラズマ
スイッチによるパルス・つ切り捨ての制御を助ける。
本発明はまた、方形レーザパルスの形成方法を含む。レ
ーザパルスは例えば親発振器電力増幅器レーザシステム
で形成される。その方法は以下のステップを含む。レー
ザパルスは、レーザパルスを増幅するためにプラズマス
イッチおよび増幅器を通して伝播される。増幅されたレ
ーザパルスはそれから位相共役鏡から反射される。位相
共役鏡内の圧力はパルスの前部部分を切り捨てるように
調整される。プラズマスイッチ内の圧力はそのとき、レ
ーザパルスの後部部分を切り捨てるために予め定められ
た圧力に調整される。さらに増幅器と位相共役鏡との間
に配置された遅延線の相対的な長さもまた、レーザパル
スの後部部分の切り捨てを援助するために調整され得る
。
ーザパルスは例えば親発振器電力増幅器レーザシステム
で形成される。その方法は以下のステップを含む。レー
ザパルスは、レーザパルスを増幅するためにプラズマス
イッチおよび増幅器を通して伝播される。増幅されたレ
ーザパルスはそれから位相共役鏡から反射される。位相
共役鏡内の圧力はパルスの前部部分を切り捨てるように
調整される。プラズマスイッチ内の圧力はそのとき、レ
ーザパルスの後部部分を切り捨てるために予め定められ
た圧力に調整される。さらに増幅器と位相共役鏡との間
に配置された遅延線の相対的な長さもまた、レーザパル
スの後部部分の切り捨てを援助するために調整され得る
。
位相共役鏡は、メタン或いは窒素ガス、或いは他の適切
な低利得の刺激されたブリローイ散乱媒体を含み得る。
な低利得の刺激されたブリローイ散乱媒体を含み得る。
境内の圧力はしたがって、ここで使用される非線形材料
に基いて例えばメタンに対して1平方インチあたり約1
000ポンドの圧力に、窒素に対して1平方インチあた
り約2000ポンドの圧力に調整される。
に基いて例えばメタンに対して1平方インチあたり約1
000ポンドの圧力に、窒素に対して1平方インチあた
り約2000ポンドの圧力に調整される。
[実施例]
第1図を参照すると、本発明の原理にしたがったレーザ
システム10か示されている。レーザシステム10は親
発振器、電力増幅形態およびさらに位相共役レーザシス
テムとして形成される。システムIOは光通路に沿って
出力パルスを提供するために構成されるレーザ発振器1
1を含む。発振器11の出力パルスは時間的にほぼガウ
ス型である。プラズマスイッチ12は光通路に沿って配
置され、供給されたレーザパルスを伝送するように構成
されている。プラズマスイッチは一般に通常の設計であ
り、一般に圧力下のガスを含む。典型的なこのようなガ
スは例えば窒素およびアルゴンである。典型的にプラズ
マスイッチは、例えば1平方インチあたり2乃至60ポ
ンドの範囲の圧力において動作する。本発明において圧
力は制御可能であり、以下により詳細に記載されるよう
にガウス型パルスの切り捨てを行うために適用される。
システム10か示されている。レーザシステム10は親
発振器、電力増幅形態およびさらに位相共役レーザシス
テムとして形成される。システムIOは光通路に沿って
出力パルスを提供するために構成されるレーザ発振器1
1を含む。発振器11の出力パルスは時間的にほぼガウ
ス型である。プラズマスイッチ12は光通路に沿って配
置され、供給されたレーザパルスを伝送するように構成
されている。プラズマスイッチは一般に通常の設計であ
り、一般に圧力下のガスを含む。典型的なこのようなガ
スは例えば窒素およびアルゴンである。典型的にプラズ
マスイッチは、例えば1平方インチあたり2乃至60ポ
ンドの範囲の圧力において動作する。本発明において圧
力は制御可能であり、以下により詳細に記載されるよう
にガウス型パルスの切り捨てを行うために適用される。
増幅器部分は、光通路に沿って配置された偏光ビーム分
割器13、レーザ増幅器15、制御可能な遅延線16.
1/4波長板17、位相共役鏡18を含む。偏光ビーム
分割器13、レーザ増幅器15.1八波長板17は通常
の設計であり、詳細には記載されない。
割器13、レーザ増幅器15、制御可能な遅延線16.
1/4波長板17、位相共役鏡18を含む。偏光ビーム
分割器13、レーザ増幅器15.1八波長板17は通常
の設計であり、詳細には記載されない。
位相共役鏡18はガラスのような固体或いは例えばメタ
ン或いは窒素のようなガスである低利得の非線形材料で
ある。このような材料は一般に技術において良く知られ
ている。本発明によってレーザパルスの切り捨てを結果
として生じる位相共役鏡18内の圧力を制御する可能性
のため、本発明は一般にガス状の非線形媒体を使用する
。遅延線1Bは長さにおいて制御可能であり、この制御
はプラズマスイッチ12によるレーザパルスの切り捨て
を助ける。
ン或いは窒素のようなガスである低利得の非線形材料で
ある。このような材料は一般に技術において良く知られ
ている。本発明によってレーザパルスの切り捨てを結果
として生じる位相共役鏡18内の圧力を制御する可能性
のため、本発明は一般にガス状の非線形媒体を使用する
。遅延線1Bは長さにおいて制御可能であり、この制御
はプラズマスイッチ12によるレーザパルスの切り捨て
を助ける。
動作において、比較的方形の出力パルスは一般にガウス
型発振器パルスから生成される。発振器11からのガウ
ス型レーザパルスはプラズマスイッチ12を通過し、こ
のスイッチ12においてパルスの遅延され増幅された第
1の部分がフィードバックされて出て行く発振器パルス
に重畳されるときに生成されたプラズマによってその後
部部分が切り取られる。パルスはそれから、ビーム分割
器13から反射される。反射されたパルスは増幅器15
で増幅され、位相共役鏡18から反射される。ガウス型
レーザパルスの前部部分は位相共役鏡18によって切り
捨てられ或いは切り取られる。これは、非線形媒体とし
て使用されるガスの圧力を制御することによって遂行さ
れる。特に位相共役鏡18は、メタン或いは窒素、或い
は他の適切な低利得の刺激されたブリローイ散乱媒体を
有している。鏡18内の圧力はそれ故に、そこで使用さ
れる非−線形材料に基いて、例えばメタンに対して1平
方インチあたり約1000ポンドの圧力、また窒素に対
して1平方インチあたり約2000ポンドの圧力に調整
される。
型発振器パルスから生成される。発振器11からのガウ
ス型レーザパルスはプラズマスイッチ12を通過し、こ
のスイッチ12においてパルスの遅延され増幅された第
1の部分がフィードバックされて出て行く発振器パルス
に重畳されるときに生成されたプラズマによってその後
部部分が切り取られる。パルスはそれから、ビーム分割
器13から反射される。反射されたパルスは増幅器15
で増幅され、位相共役鏡18から反射される。ガウス型
レーザパルスの前部部分は位相共役鏡18によって切り
捨てられ或いは切り取られる。これは、非線形媒体とし
て使用されるガスの圧力を制御することによって遂行さ
れる。特に位相共役鏡18は、メタン或いは窒素、或い
は他の適切な低利得の刺激されたブリローイ散乱媒体を
有している。鏡18内の圧力はそれ故に、そこで使用さ
れる非−線形材料に基いて、例えばメタンに対して1平
方インチあたり約1000ポンドの圧力、また窒素に対
して1平方インチあたり約2000ポンドの圧力に調整
される。
部分的に切り捨てられたレーザパルスはそれから、そこ
を通る第2の通過中に増幅器15において再度増幅され
る。制御可能な遅延線18の長さおよびプラズマスイッ
チ12の圧力を制御することによって、切り取られたガ
ウス型パルスの後部部分はプラズマが比較的方形波のパ
ルスを生成されるために発生するときに予め定められた
時点において切り捨てられる。プラズマは、焦点内の電
界がプラズマの閾値を超過するときに発生する。電界は
、出て行く発振器パルスおよび入って来る増幅されたエ
ネルギからのフィードバックからの電界によって形成さ
れる。フィードバックはシステム10から出る全出力の
小さな部分(はぼ1%)を表す。
を通る第2の通過中に増幅器15において再度増幅され
る。制御可能な遅延線18の長さおよびプラズマスイッ
チ12の圧力を制御することによって、切り取られたガ
ウス型パルスの後部部分はプラズマが比較的方形波のパ
ルスを生成されるために発生するときに予め定められた
時点において切り捨てられる。プラズマは、焦点内の電
界がプラズマの閾値を超過するときに発生する。電界は
、出て行く発振器パルスおよび入って来る増幅されたエ
ネルギからのフィードバックからの電界によって形成さ
れる。フィードバックはシステム10から出る全出力の
小さな部分(はぼ1%)を表す。
第2a図乃至第2c図は、方形パルスを生成するための
本発明のシステム10によるガウス型パルスの切り捨て
を例示したグラフを示す。第2a図乃至第2c図は、第
1図のシステム10のテスト中に記録されたオシロスコ
ープの図形を示す。特に、第2a図は発振器11によっ
て出力される供給されたガウス型パルスを示す。第2b
図は、位相共役鏡18によるガウス型パルス前部の端の
切捨てを示す。第2c図は、プラズマスイッチ12によ
るガウス型パルスの後部部分の切捨て後の最終的な方形
パルスを示す。
本発明のシステム10によるガウス型パルスの切り捨て
を例示したグラフを示す。第2a図乃至第2c図は、第
1図のシステム10のテスト中に記録されたオシロスコ
ープの図形を示す。特に、第2a図は発振器11によっ
て出力される供給されたガウス型パルスを示す。第2b
図は、位相共役鏡18によるガウス型パルス前部の端の
切捨てを示す。第2c図は、プラズマスイッチ12によ
るガウス型パルスの後部部分の切捨て後の最終的な方形
パルスを示す。
高調波発生を含むすべての非線形処理、および振動性、
回転性ラーマン散乱は強度に依存する。
回転性ラーマン散乱は強度に依存する。
本発明によって提供された方形パルスは、通常のガウス
型パルスと比較したときにより高い変換効率を生成する
。これは、第1図のシステムによって生成された通常の
ガウス型パルスおよび方形パルスの強度に対する内部の
第2の高調波変換効率を例示したグラフである第3図に
おいて示されている。
型パルスと比較したときにより高い変換効率を生成する
。これは、第1図のシステムによって生成された通常の
ガウス型パルスおよび方形パルスの強度に対する内部の
第2の高調波変換効率を例示したグラフである第3図に
おいて示されている。
前記システム10に加えて、本発明は方形レーザパルス
の生成方法を含む。その方法は以下のステップを含む。
の生成方法を含む。その方法は以下のステップを含む。
レーザパルスは、増幅されるためにプラズマスイッチお
よび増幅器を通って伝播される。増幅されたレーザパル
スはそれから位相共役鏡から反射される。位相共役境内
の圧力は、パルスの前部部分を切捨てるために調整され
る。プラズマスイッチ内の圧力はそのとき、レーザパル
スの後部部分を切捨てるための予め定められた圧力に調
整される。さらに増幅器と位相共役鏡との間に配置され
た遅延線の相対的な長さは、レーザパルスの後部部分の
切捨てを助けるために調整されることができる。
よび増幅器を通って伝播される。増幅されたレーザパル
スはそれから位相共役鏡から反射される。位相共役境内
の圧力は、パルスの前部部分を切捨てるために調整され
る。プラズマスイッチ内の圧力はそのとき、レーザパル
スの後部部分を切捨てるための予め定められた圧力に調
整される。さらに増幅器と位相共役鏡との間に配置され
た遅延線の相対的な長さは、レーザパルスの後部部分の
切捨てを助けるために調整されることができる。
以上、比較的ガウス型のパルスから導出された比較的方
形のパルスを生成する新しくかつ改善された位相共役レ
ーザシステムおよび方法が記載されてきた。本発明のシ
ステムおよび方法は、方形レーザパルスを発生させる従
来のシステムおよび方法よりも複雑でなくコストも低い
技術上の改善を提供する。
形のパルスを生成する新しくかつ改善された位相共役レ
ーザシステムおよび方法が記載されてきた。本発明のシ
ステムおよび方法は、方形レーザパルスを発生させる従
来のシステムおよび方法よりも複雑でなくコストも低い
技術上の改善を提供する。
前記実施例は、本発明の原理に関する適応を説明する多
くの特定の実施例の幾つかを単に例示したにすぎない。
くの特定の実施例の幾つかを単に例示したにすぎない。
明らかに、多くのおよび他の装置が本発明の技術的範囲
を逸脱することなく当業者によって容易に工夫され得る
。特に、他のシステム装置が使用されても良く、例えば
プラズマスイッチおよび位相共役鏡において異なったガ
スが使用されても良い。さらに固体或いは液体の非線形
材料もまた、所望されたパルス切捨てを生成するために
制御可能であるものを適応させることによって使用され
ても良い。
を逸脱することなく当業者によって容易に工夫され得る
。特に、他のシステム装置が使用されても良く、例えば
プラズマスイッチおよび位相共役鏡において異なったガ
スが使用されても良い。さらに固体或いは液体の非線形
材料もまた、所望されたパルス切捨てを生成するために
制御可能であるものを適応させることによって使用され
ても良い。
第1図は、本発明の原理にしたがったレーザシステムを
示す。 第2a図乃至第2c図は、第1図のシステムによる方形
レーザパルスの生成を例示したグラフである。 第3図は、第1図のシステムによって生成された通常の
ガウス型パルスおよび方形パルスの強度、に対する内部
の第2高調波変換効率を例示したグラフである。 lO・・・レーザシステム、11・・・発振器、12・
・・プラズマスイッチ、13・・・偏光ビーム分割器、
15・・・レーザ増幅器、16・・・遅延線、17・・
・1/4波長板、18・・・位相共役鏡。
示す。 第2a図乃至第2c図は、第1図のシステムによる方形
レーザパルスの生成を例示したグラフである。 第3図は、第1図のシステムによって生成された通常の
ガウス型パルスおよび方形パルスの強度、に対する内部
の第2高調波変換効率を例示したグラフである。 lO・・・レーザシステム、11・・・発振器、12・
・・プラズマスイッチ、13・・・偏光ビーム分割器、
15・・・レーザ増幅器、16・・・遅延線、17・・
・1/4波長板、18・・・位相共役鏡。
Claims (13)
- (1)レーザパルスを生成するレーザ発振器と、偏光ビ
ーム分割器と、 発振通路に沿ってレーザ発振器と偏光ビーム分割器との
間に配置され、供給されたレーザパルスの予め定められ
た後部部分を切捨てるように構成された予め定められた
圧力において限定される予め定められたプラズマを有す
るプラズマスイッチと、 供給されたレーザパルスの予め定められた前部部分を切
捨てるように構成された予め定められた圧力において限
定される非線形媒体を有する位相共役鏡と、 増幅通路に沿って偏光ビーム分割器と位相共役鏡との間
に配置された増幅媒体と、 増幅通路に沿って配置された制御可能な遅延線と、 増幅通路に沿って配置され、供給されたレーザパルスの
偏光を回転させるように構成された1/4波長板とを具
備することを特徴とする位相共役レーザ。 - (2)レーザ発振器と、 供給されたレーザパルスの予め定められた前部部分を切
捨てるように構成された予め定められた圧力において限
定される非線形媒体を有する位相共役鏡と、 レーザ発振器と位相共役鏡との間に配置され、供給され
たレーザパルスを増幅する増幅媒体と、レーザ発振器と
増幅器との間に配置され、比較的方形であるレーザパル
スを生成するためにレーザパルスの予め定められた後部
部分を切捨てるように構成された予め定められた圧力に
おいて限定される予め定められたプラズマを有するプラ
ズマスイッチとを具備する位相共役レーザ。 - (3)レーザ発振器と、 供給されたレーザパルスの前部部分を切捨てるように構
成された予め定められた圧力において限定される非線形
媒体を有する位相共役鏡と、レーザ発振器と位相共役鏡
との間に配置され、供給されたレーザパルスを増幅する
増幅媒体と、レーザ発振器と増幅器との間に配置され、
比較的方形であるレーザパルスを生成するためにレーザ
パルスの予め定められた後部部分を切捨てるように構成
された予め定められた圧力において限定される予め定め
られたプラズマを有するプラズマスイッチとを具備し、 位相共役鏡およびプラズマスイッチで使用される相対的
圧力が、発振器から位相共役鏡へ伝送されおよび伝送し
戻される比較的方形であるレーザパルスを生成するレー
ザパルスの切り捨てを決定する位相共役レーザ。 - (4)レーザパルスを増幅するためにプラズマスイッチ
および増幅器を通してレーザパルスを伝播し、 位相共役鏡から増幅されたレーザパルスを反射し、 パルスの前部部分を切捨てるために位相共役鏡内の圧力
を調整し、 予め定められた時点でレーザパルスの後部部分を切捨て
るために、プラズマスイッチ内の圧力を予め定められた
圧力に調整するステップを具備する、親発振器電力増幅
器レーザシステムにおける方形レーザパルスの形成方法
。 - (5)レーザパルスの後部部分の切捨てを助けるために
、増幅器と位相共役鏡との間に配置された遅延線の相対
的な長さを調整するステップを含む請求項4記載の方法
。 - (6)位相共役鏡内の圧力を調整するステップが、 メタンを含む位相共役鏡を使用し、 位相共役鏡内の圧力を1平方インチあたり約1000ポ
ンドの圧力に調整するステップを含む請求項4記載の方
法。 - (7)位相共役鏡内の圧力を調整するステップが、 窒素を含む位相共役鏡を使用し、 位相共役鏡内の圧力を1平方インチあたり約2000ポ
ンドの圧力に調整するステップを含む請求項4記載の方
法。 - (8)比較的ガウス型であるレーザパルスをプラズマス
イッチを通して伝送し、 レーザパルスの後部部分を切捨てるためにプラズマスイ
ッチ内の圧力を予め定められた圧力に調整し、 レーザパルスを増幅するために、切捨てられたレーザパ
ルスをレーザ増幅器を通して伝送し、位相共役鏡から増
幅されたレーザパルスを反射し、 レーザパルスの前部部分を切捨てるために、位相共役鏡
内の圧力を予め定められた圧力に調整するステップを含
む、比較的ガウス型のレーザパルスからの比較的方形の
レーザパルスを形成する方法。 - (9)予め定められた時点でプラズマスイッチ内のレー
ザパルスの後部部分を切捨てることを助けるために、増
幅器と位相共役鏡との間に配置された遅延線の相対的な
長さを調整するステップを含む請求項8記載の方法。 - (10)位相共役鏡内の圧力を調整するステップが、 メタンを含む位相共役鏡を使用し、 位相共役鏡内の圧力を1平方インチあたり約1000ポ
ンドの圧力に調整するステップを含む請求項8記載の方
法。 - (11)位相共役鏡内の圧力を調整するステップが、 窒素を含む位相共役鏡を使用し、 位相共役鏡内の圧力を1平方インチあたり約2000ポ
ンドの圧力に調整するステップを含む請求項8記載の方
法。 - (12)レーザパルスを増幅するために、比較的ガウス
型の波形を有するレーザパルスをプラズマスイッチおよ
びレーザ増幅器を通して伝送し、位相共役鏡から増幅さ
れたレーザパルスを反射し、 レーザパルスの前部部分を切捨てるために、位相共役鏡
内の圧力を予め定められた圧力に調整し、プラズマスイ
ッチに切捨てられたレーザパルスを供給し、 プラズマスイッチ内でレーザパルスの後部部分を切捨て
るために、増幅器と位相共役鏡との間に配置された遅延
線の相対的な長さを調整するステップを含む、比較的ガ
ウス型のレーザパルスからの比較的方形のレーザパルス
を形成する方法。 - (13)プラズマスイッチを通して比較的ガウス型の波
形を有するレーザパルスを伝送し、 レーザパルスの後部部分を切捨てるために、スイッチ内
の圧力を予め定められた圧力に調整し、レーザパルスを
増幅するために、レーザ増幅器を通して切捨てられたレ
ーザパルスを伝送し、位相共役鏡から増幅されたレーザ
パルスを反射し、 レーザパルスの前部部分を切捨てるために、位相共役鏡
内の圧力を予め定められた圧力に調整し、プラズマスイ
ッチ内のレーザパルスの前部部分の切捨てを援助するた
めに、増幅器と位相共役鏡との間に配置された遅延線の
相対的な長さを調整するステップを含む、比較的ガウス
型のレーザパルスからの比較的方形のレーザパルスを形
成する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/372,503 US4972156A (en) | 1989-06-28 | 1989-06-28 | Phase conjugate laser with a temporal square pulse |
US372,503 | 1989-06-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0350879A true JPH0350879A (ja) | 1991-03-05 |
Family
ID=23468408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2171289A Pending JPH0350879A (ja) | 1989-06-28 | 1990-06-28 | 一時的方形パルスを有する位相共役レーザ |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4972156A (ja) |
EP (1) | EP0405195A3 (ja) |
JP (1) | JPH0350879A (ja) |
KR (1) | KR930010132B1 (ja) |
EG (1) | EG18960A (ja) |
GR (1) | GR1000945B (ja) |
IL (1) | IL94471A (ja) |
NO (1) | NO902728L (ja) |
TR (1) | TR24882A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0327027A (ja) * | 1989-06-26 | 1991-02-05 | Oki Electric Ind Co Ltd | 光増幅器 |
DE69314080T2 (de) * | 1992-04-03 | 1998-02-19 | Mitsui Petrochemical Ind | Laserpuls-Ausstrahlungsgerät für bekleidetes metallisches Material |
JP3419510B2 (ja) * | 1992-10-16 | 2003-06-23 | 富士通株式会社 | 波長分散を補償した光通信システム及び該システムに適用可能な位相共役光発生装置 |
US5260954A (en) * | 1992-10-29 | 1993-11-09 | The Unived States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Pulse compression and prepulse suppression apparatus |
DE4414585A1 (de) * | 1994-04-27 | 1995-11-02 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung kurzer Laserpulse |
US5541947A (en) * | 1995-05-10 | 1996-07-30 | The Regents Of The University Of Michigan | Selectively triggered, high contrast laser |
DE19517753A1 (de) * | 1995-05-15 | 1996-11-21 | Lambda Physik Gmbh | Schmalbandige, abstimmbare Quelle kohärenter Strahlung |
CN105024273A (zh) * | 2014-04-24 | 2015-11-04 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种利用受激布里渊散射实现腔内激光整形的方法和装置 |
US10122143B2 (en) * | 2016-09-21 | 2018-11-06 | Electronics & Telecommunications Research Institute | Pulsed laser system |
CN107014491B (zh) * | 2017-05-27 | 2018-04-10 | 西安电子科技大学 | 基于散射原理的光谱测量系统及方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4642582A (en) * | 1981-06-29 | 1987-02-10 | Hughes Aircraft Company | Nonlinear delay line encoding/decoding arrangements |
US4571954A (en) * | 1984-12-04 | 1986-02-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Waveguide phase conjugate mirror |
US4791644A (en) * | 1985-12-31 | 1988-12-13 | General Electric Company | Laser system incorporating broad band optical phase conjugation cell using stimulated brillouin scattering |
US4734911A (en) * | 1986-03-14 | 1988-03-29 | Hughes Aircraft Company | Efficient phase conjugate laser |
-
1989
- 1989-06-28 US US07/372,503 patent/US4972156A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-05-22 IL IL94471A patent/IL94471A/xx not_active IP Right Cessation
- 1990-06-06 EP EP19900110713 patent/EP0405195A3/en not_active Withdrawn
- 1990-06-19 NO NO90902728A patent/NO902728L/no unknown
- 1990-06-20 TR TR90/0595A patent/TR24882A/xx unknown
- 1990-06-26 EG EG39090A patent/EG18960A/xx active
- 1990-06-27 GR GR900100495A patent/GR1000945B/el unknown
- 1990-06-27 KR KR1019900009542A patent/KR930010132B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-06-28 JP JP2171289A patent/JPH0350879A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR930010132B1 (ko) | 1993-10-14 |
KR910002054A (ko) | 1991-01-31 |
IL94471A (en) | 1993-01-31 |
NO902728D0 (no) | 1990-06-19 |
IL94471A0 (en) | 1991-03-10 |
NO902728L (no) | 1991-01-02 |
EP0405195A3 (en) | 1991-12-27 |
GR1000945B (el) | 1993-03-16 |
EP0405195A2 (en) | 1991-01-02 |
US4972156A (en) | 1990-11-20 |
EG18960A (en) | 1994-03-30 |
GR900100495A (en) | 1991-11-15 |
TR24882A (tr) | 1992-07-01 |
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