JPH035019B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH035019B2
JPH035019B2 JP59099378A JP9937884A JPH035019B2 JP H035019 B2 JPH035019 B2 JP H035019B2 JP 59099378 A JP59099378 A JP 59099378A JP 9937884 A JP9937884 A JP 9937884A JP H035019 B2 JPH035019 B2 JP H035019B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scanning
electron beam
objective lens
supplied
dynamic focus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59099378A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS60243951A (en
Inventor
Seiichi Nakagawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Priority to JP9937884A priority Critical patent/JPS60243951A/en
Publication of JPS60243951A publication Critical patent/JPS60243951A/en
Publication of JPH035019B2 publication Critical patent/JPH035019B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はエレクトロンチヤンネリングパターン
を表示することのできる電子線装置における軸合
せ方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for aligning an axis in an electron beam device capable of displaying an electron channeling pattern.

[従来技術] 第1図に示すように、試料Sに対する電子線の
照射点を入射点Pに固定した状態において、入射
電子線をθx,θyの2方向に順次角度走査すれば、
ブラツグ条件を満す角度の軌跡として表示画面上
に結晶面と平行な2本の線が表示される。尚、
OLは対物レンズを示している。このような2本
の線の集合から成る像はエレクトロンチヤンネリ
ングパターンと呼ばれており、このエレクトロン
チヤンネリングパターンを解析することにより結
晶の面癖、結晶粒界や異相間の結晶方位関係等を
知ることができるため、近時、このパターンの観
察が広く行なわれるようになつた。前述したよう
に、このエレクトロンチヤンネリングパターンを
得るためには角度走査が必要であるが、電子線に
より対物レンズの前焦点面上を走査させることに
より角度走査を行なうようにした装置において
は、焦点距離Fが対物レンズの球面収差のため身
かけ上 ΔF∝Cs(Xi2+Yi2) ……(1) だけずれてしまう。但し第(1)式においてXi、Yi
は電子線をロツキングするための偏向コイルに流
れている水平及び垂直走査信号であり、Csは対
物レンズの球面収差係数である。そのため、微小
領域のエレクトロンチヤンネリングパターンを得
ようとする場合には、対物レンズの近傍にダイナ
ミツクフオーカスレンズを設けて(1)式で与えられ
る量だけ焦点距離を電子線の走査に同期させてシ
フトさせているが、このダイナミツクフオーカス
レンズによる補正の効果を最大に発揮させるため
には、対物レンズとダイナミツクフオーカスレン
ズの軸合せが必要である。この軸合せは、従来ダ
イナミツクフオーカスレンズを機械的に移動させ
ることによつて行なつている。ところで、対物レ
ンズの励磁強度を変化させた際には、レンズによ
る偏向磁場の強度が変化するため、再度この軸合
せが必要となるが、前述したように従来において
は機械的に軸合せを行なつていたため、その都度
鏡体を分解して軸合せを行なわなければならず、
極めて面倒であつた。
[Prior Art] As shown in FIG. 1, if the incident electron beam is angularly scanned in two directions θx and θy in a state where the irradiation point of the electron beam on the sample S is fixed at the incident point P,
Two lines parallel to the crystal plane are displayed on the display screen as loci of angles that satisfy the bragg condition. still,
OL indicates the objective lens. An image consisting of a set of two lines like this is called an electron channeling pattern, and by analyzing this electron channeling pattern, we can understand the crystal surface habit, grain boundaries, and crystal orientation relationships between different phases. Observation of this pattern has recently become widespread because it allows us to know the following. As mentioned above, angular scanning is necessary to obtain this electron channeling pattern, but in an apparatus that performs angular scanning by scanning the front focal plane of the objective lens with an electron beam, Due to the spherical aberration of the objective lens, the focal length F deviates by ΔF∝Cs(Xi 2 +Yi 2 )...(1). However, in equation (1), Xi, Yi
are the horizontal and vertical scanning signals flowing to the deflection coil for rocking the electron beam, and Cs is the spherical aberration coefficient of the objective lens. Therefore, when trying to obtain an electron channeling pattern in a minute area, a dynamic focus lens is provided near the objective lens, and the focal length is synchronized with the scanning of the electron beam by the amount given by equation (1). However, in order to maximize the correction effect of this dynamic focus lens, it is necessary to align the axes of the objective lens and the dynamic focus lens. Conventionally, this alignment is performed by mechanically moving a dynamic focus lens. By the way, when the excitation intensity of the objective lens is changed, the intensity of the deflection magnetic field by the lens changes, so alignment is required again, but as mentioned above, in the past, alignment was not done mechanically. Because it was getting old, the mirror had to be disassembled and aligned each time.
It was extremely troublesome.

本発明はこのような従来の欠点を解決して、簡
単且つ高精度に対物レンズとダイナミツクフオー
カスレンズの軸合せを行なうことのできる電子線
装置における軸合せ方法を提供することを目的と
している。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve these conventional drawbacks and provide an alignment method for an electron beam apparatus that can easily and accurately align an objective lens and a dynamic focus lens. .

[発明の構成] 本発明はX方向及びY方向走査信号を各々Xi,
Yiとするとき、X及びY方向偏向器にXi,Yiを
供給して対物レンズの前焦点面を電子線によつて
走査すると共に該対物レンズの近傍に配置された
ダイナミツクフオーカスレンズにXi2+Yi2に比
例した信号を供給することにより試料に対する電
子線の照射位置を固定して電子線を角度走査し、
該角度走査に伴う検出信号を表示手段に導いてエ
レクトロチヤンネリングパターンを得る方法にお
いて、エレクトロンチヤンネリングパターンを得
るのに先立ち、前記X及びY方向偏向器に各々走
査信号Xi及びYiを供給し試料上で細く集束させ
た電子線を二次元的に走査すると共に、nを2以
上の数とするとき該ダイナミツクフオーカスレン
ズにXin+Yinなる信号を供給し、該二次元走査
に伴う検出信号に基づいて表示手段に表示された
画像を観察してボケの無い画像領域が該表示手段
の中央に位置するように該対物レンズの前段に配
置されたアライメントコイルの偏向電流を調節す
るようにしたことを特徴としている。
[Configuration of the Invention] The present invention provides X-direction and Y-direction scanning signals Xi,
When Yi is supplied, Xi and Yi are supplied to the X and Y direction deflectors to scan the front focal plane of the objective lens with an electron beam, and the dynamic focus lens placed near the objective lens is supplied with Xi and Yi. By supplying a signal proportional to 2 +Yi 2 , the electron beam irradiation position on the sample is fixed and the electron beam is angularly scanned.
In the method for obtaining an electrochanneling pattern by guiding a detection signal accompanying the angular scanning to a display means, prior to obtaining the electron channeling pattern, scanning signals Xi and Yi are supplied to the X and Y direction deflectors, respectively. Then, a finely focused electron beam is scanned two-dimensionally on the sample, and a signal Xi n +Yi n is supplied to the dynamic focus lens, where n is a number of 2 or more, to perform the two-dimensional scanning. Observe the image displayed on the display means based on the accompanying detection signal, and adjust the deflection current of an alignment coil disposed in front of the objective lens so that an unblurred image area is located at the center of the display means. It is characterized by the fact that

[実施例] 以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述す
る。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第2図は本発明を実施するための装置を示すた
めのことで、図中1は電子銃であり、この電子銃
1よりの電子線EBは集束レンズ2,3により集
束された後、対物絞り4を通過して偏向系に入射
する。偏向系はX(水平)及びY(垂直)方向走査
用の第1段の走査コイル5ax,5ayと第2段の
X及び方向走査用の走査コイル5bx,5by及び
走査コイル5ax,5ayのすぐ外側に配置された
第1段のアライメント用コイル6ax,6ay及び
走査コイル5bx,5byのすぐ外側に配置された
アライメント用コイル6ax,6byより成つてい
る。これらアライメントコイル6ax,6ay,6
bx,6byには、偏向電源7ax,7ay,7bx,7
byよりの偏向電流が供給できるようになつてい
る。各走査コイル及びアライメントコイルによつ
て偏向された電子線EBはダイナミツクフオーカ
スレンズ8及び対物レンズ9を経て試料10上に
照射される。11Xは第3図aに示す如きX方向
の走査信号を発生する走査信号発生回路であり、
この走査信号発生回路11Xよりの走査信号は平
衡回路12Xを介して走査コイル5ax及び5bx
に供給されている。11Yは第3図bに示す如き
Y方向の走査信号を発生する走査信号発生回路で
あり、この走査信号発生回路11Yよりの走査信
号は平衡回路12Yを介して走査コイル5ay及
び5byに供給されている。この走査信号発生回
路11X,11YよりのX及びY方向走査信号は
陰極線管13の走査コイル13x,13yにも供
給されており、陰極線管13は電子線EBの走査
に同期して走査されるようになつている。又、走
査信号発生回路11X,11Yよりの走査信号は
各々スイツチSx,Syを介して2乗回路14X,
14Yに供給されている。2乗回路14X,14
Yの出力信号は加算回路15に供給されており、
加算回路15の出力信号は増幅率可変増幅器16
を介して前記ダイナミツクフオーカスレンズ8に
供給されている。17は対物レンズ9の励磁電源
であり、この励磁電源17よりの出力信号は加算
回路18を介して対物レンズ9に供給される。こ
の加算回路18にはウオーブラ電源19よりの第
3図cに示す如き電流がスイツチ20を介して供
給できるようになつている。21は二次電子検出
器であり、この検出器21よりの出力信号は増幅
器22及び加算回路23を介して陰極線管13の
グリツド13Gに供給されている。24Xは比較回
路であり、この比較回路24XにはX方向走査信号
発生回路11XよりのX方向走査信号とポテンシ
ヨメーター25Xよりの信号が供給されており、
両信号が一致した際に一致パルスを発生する。従
つて、ポテンシヨメーター25Xよりの出力信号
に応じて陰極線管13の画面上には像と重畳して
第4図aに示す如き輝線Lxが表示される。同様
に24Yも比較回路であり、この比較回路24Yに
はY方向走査信号及びポレンシヨメーター25Yよ
りの信号が供給されており、両信号が一致した際
に一致パルスを発生する。従つて、陰極線管11
の画面上には第4図aにおいてLyで示す如き輝
線が像に重畳して表示される。
FIG. 2 is for showing an apparatus for carrying out the present invention. In the figure, 1 is an electron gun. After the electron beam EB from this electron gun 1 is focused by focusing lenses 2 and 3, it is passed through an objective lens. The light passes through the aperture 4 and enters the deflection system. The deflection system consists of the first stage scanning coils 5ax, 5ay for X (horizontal) and Y (vertical) direction scanning, the second stage scanning coils 5bx, 5by for X and direction scanning, and just outside the scanning coils 5ax, 5ay. The alignment coils 6ax, 6by are arranged immediately outside the first-stage alignment coils 6ax, 6ay and the scanning coils 5bx, 5by. These alignment coils 6ax, 6ay, 6
bx, 6by, deflection power supply 7ax, 7ay, 7bx, 7
It is designed to be able to supply a deflection current of more than by. The electron beam EB deflected by each scanning coil and alignment coil is irradiated onto a sample 10 through a dynamic focus lens 8 and an objective lens 9. 11X is a scanning signal generation circuit that generates a scanning signal in the X direction as shown in FIG. 3a;
The scanning signal from this scanning signal generation circuit 11X is sent to scanning coils 5ax and 5bx via a balance circuit 12X.
is supplied to. 11Y is a scanning signal generating circuit that generates a scanning signal in the Y direction as shown in FIG. There is. The X and Y direction scanning signals from the scanning signal generation circuits 11X and 11Y are also supplied to the scanning coils 13x and 13y of the cathode ray tube 13, so that the cathode ray tube 13 is scanned in synchronization with the scanning of the electron beam EB. It's getting old. Further, the scanning signals from the scanning signal generation circuits 11X and 11Y are sent to the squaring circuits 14X and 14X via switches Sx and Sy, respectively.
14Y is supplied. Square circuit 14X, 14
The output signal of Y is supplied to the adder circuit 15,
The output signal of the adder circuit 15 is sent to a variable amplification factor amplifier 16.
The light is supplied to the dynamic focus lens 8 via. Reference numeral 17 denotes an excitation power source for the objective lens 9, and an output signal from the excitation power source 17 is supplied to the objective lens 9 via an adder circuit 18. A current as shown in FIG. 3c can be supplied to this adder circuit 18 from a wobbler power supply 19 via a switch 20. 21 is a secondary electron detector, and the output signal from this detector 21 is supplied to the grid 13G of the cathode ray tube 13 via an amplifier 22 and an adder circuit 23. 24X is a comparison circuit, and this comparison circuit 24X is supplied with the X-direction scanning signal from the X-direction scanning signal generation circuit 11X and the signal from the potentiometer 25X.
A match pulse is generated when both signals match. Therefore, in response to the output signal from the potentiometer 25X, a bright line Lx as shown in FIG. 4a is displayed on the screen of the cathode ray tube 13, superimposed on the image. Similarly, 24Y is a comparison circuit, and this comparison circuit 24Y is supplied with the Y-direction scanning signal and the signal from the pollenciometer 25Y, and generates a matching pulse when both signals match. Therefore, the cathode ray tube 11
On the screen, a bright line as shown by Ly in FIG. 4a is displayed superimposed on the image.

このような構成において、まず、集束レンズ3
の励磁を強励磁にした後、更に平衡回路12X,
12Yを操作して、第2図において点線で示すよ
うに、電子線EBが対物レンズ9の中心を偏向支
店として偏向され、それにより試料が二次元的に
走査されて通常の走査像が得られるようにする。
この走査に伴つて得られた検出器21よりの出力
信号を増幅器22を介して陰極線管13に供給す
れば、陰極線管13には試料10の二次電子像が
表示される。そこで、対物レンズ9の焦点合せを
行ないシヤープな像が表示されるようにする。次
に、ポテンシヨメーター25X,25Yを操作し
て第4図bに示すように陰極線管11に表示され
る輝線Lx,Lyの交点Uが陰極線管11の画面中
央に位置するようにした後、試料10を移動させて
試料表面に付着したゴミ等の目標物の像Dを交点
Uに一致させる。そこで、ウオーブラ電源19よ
り第3図cに示す如きウオーブラ電流を発生させ
て対物レンズ9の焦点距離を周期的に変化させ
る。その結果、目標物の像Dの位置が交点Uを中
心として回転する如き動きをする。そこで対物絞
り4の位置を調節して目標物の像Dの位置が動か
ないようにすれば、対物レンズ9の軸を画面の中
心に対応した位置に設定することができる。次に
対物レンズ9の軸とダイナミツクフオーカスレン
ズ8の軸合せを行なう。いま、例えば、対物レン
ズ9を軸Coに対してダイナミツクフオーカスレ
ンズ8の軸Cdが、第5図a及びbに示すように
距離dだけずれていたとする。そこで、まずスイ
ツチ20をオフにしてウオーブラ電源19よりの
ウオーブラ電流の供給を断ち、対物レンズ9に励
磁電源17よりの定常な励磁信号が供給されるよ
うにした後、スイツチSx,Syを閉じて2乗回路
14X,14YにX及びY方向走査信号を供給す
る。その結果、X及びY方向走査信号を各々Xi,
Yiとするとき、加算回路15よりダイナミツク
フオーカスレンズ8にはXi2+Yi2に比例した励
磁電流が供給される。さて、いま簡単のためYi
=0の場合を考えれば、アライメントコイル6
ax,6ay,6bx,6byによりアライメントがさ
れていない場合には、電子線EBは第5図aに示
すように、試料10上を矢印Eの位置(陰極線管
画面の中央に対応している)を中心にX方向に走
査するが、電子線EBのX方向の走査に伴つてダ
イナミツクフオーカスレンズ8にはXi2に比例し
て焦点距離を変化させるため、両レンズに基づく
電子線EBの集束点は、対物レンズ9の中心とダ
イナミツクフオーカスレンズ8の中心を結んだ第
5図aにおいて二点鎖線で示す軸Cを中心にして
二次曲線Rで示すように変化する。そのため、陰
極線管13の画面には、第4図cに示すように画
面の端の領域Fのみシヤープで他の部分はボケて
おり、シヤープな部分Fを中心としてボケた部分
が振動的に回転する画像が表示される。第4図c
においてD′,D″は振動的に回転する目標物の像
を示している。そこで、増幅率可変増幅器16の
増幅率を上げていくと、第4図dに示すようにこ
のシヤープな領域Fの大きさは狭まつて行き場所
的にはつきり特定できるようになると共に、目標
物Dの動きは更に激しくなる。そので、試料10
を機械的に移動させて、目標物の像Dを領域F内
に移動する。従つて、目標物の像Dは回転無くシ
ヤープに表示される。そこで、偏向電源7ax,
7ay,7b,7byを操作して、アライメントコ
イル6ax,6ay,6bx,6byに供給する電流を
調節することにより、第4図eに示すように、こ
の領域Fが陰極線管13の前記交点Uに一致する
ようにする。この状態では、ダイナミツクフオー
カスレンズ8と対物レンズ9に基づく電子線EB
の集束点は電子線EBのX走査に伴つて第5図b
において二次曲線R′で示すようになるため、画
面中心に対応した試料上の位置(矢印Eで示され
ている)は前記軸Cの上にあることになる。その
ため、電子線EBはアライメントコイル6ax,6
ay,6bx,6byにより前記軸Cに沿つて対物レ
ンズ9に入射することになり、対物レンズ9の軸
とダイナミツクフオーカスレンズ8の軸を一致さ
せることができる。そこで、集束レンズ3を弱励
磁にした後、平衡回路12X及び12Yを調節し
て、第2図において細線で示すように、電子線
EBの集束点が対物レンズ9の前焦点面S上に位
置するようにする。そこで、ダイナミツクフオー
カスレンズ8にXi2+Yi2に比例した信号を供給
した状態において、各走査コイルに走査信号Xi,
Yiを供給すれば、ダイナミツクフオーカスレン
ズ8と対物レンズ9の軸が合されているため、対
物レンズの球面収差に基づく電子線照射点の広が
りはダイナミツクフオーカスレンズにより高精度
に補正され、極めて微小な領域にのみ電子線を照
射して、エレクトロンチヤンネリングパターンを
表示することができる。
In such a configuration, first, the focusing lens 3
After the excitation is made strong, the balanced circuit 12X,
12Y, the electron beam EB is deflected using the center of the objective lens 9 as a deflection branch, as shown by the dotted line in FIG. 2, thereby scanning the sample two-dimensionally to obtain a normal scanning image. Do it like this.
When the output signal from the detector 21 obtained in conjunction with this scanning is supplied to the cathode ray tube 13 via the amplifier 22, a secondary electron image of the sample 10 is displayed on the cathode ray tube 13. Therefore, the objective lens 9 is focused to display a sharp image. Next, after operating the potentiometers 25X and 25Y so that the intersection U of the bright lines Lx and Ly displayed on the cathode ray tube 11 is located at the center of the screen of the cathode ray tube 11 as shown in FIG. 4b, The sample 10 is moved to align the image D of a target object such as dust attached to the sample surface with the intersection U. Therefore, a wobbler current as shown in FIG. 3c is generated from the wobbler power source 19 to periodically change the focal length of the objective lens 9. As a result, the position of the image D of the target object rotates around the intersection U. Therefore, by adjusting the position of the objective diaphragm 4 so that the position of the target image D does not move, the axis of the objective lens 9 can be set at a position corresponding to the center of the screen. Next, the axis of the objective lens 9 and the dynamic focus lens 8 are aligned. For example, suppose that the axis Cd of the dynamic focus lens 8 is deviated from the axis Co of the objective lens 9 by a distance d as shown in FIGS. 5a and 5b. Therefore, first, turn off the switch 20 to cut off the supply of wobbler current from the wobbler power supply 19, so that the objective lens 9 is supplied with a steady excitation signal from the excitation power supply 17, and then close the switches Sx and Sy. X and Y direction scanning signals are supplied to square circuits 14X and 14Y. As a result, the X and Y direction scanning signals are Xi,
When Yi, the adder circuit 15 supplies the dynamic focus lens 8 with an excitation current proportional to Xi 2 +Yi 2 . Now, for simplicity, Yi
= 0, alignment coil 6
If alignment is not done by ax, 6ay, 6bx, and 6by, the electron beam EB moves on the sample 10 at the position indicated by the arrow E (corresponding to the center of the cathode ray tube screen), as shown in Figure 5a. However, as the electron beam EB scans in the X direction, the focal length of the dynamic focus lens 8 is changed in proportion to Xi 2 , so the electron beam EB based on both lenses is scanned in the X direction. The focal point changes as shown by a quadratic curve R around an axis C shown by a two-dot chain line in FIG. 5a connecting the center of the objective lens 9 and the center of the dynamic focus lens 8. Therefore, on the screen of the cathode ray tube 13, only the area F at the edge of the screen is sharp and the other parts are blurred, as shown in FIG. The image will be displayed. Figure 4c
, D' and D'' indicate images of the target object that rotate vibrationally. Therefore, as the amplification factor of the variable amplification factor amplifier 16 is increased, this sharp region F as shown in FIG. The size of the target object D becomes narrower and it becomes possible to pinpoint the target object D in terms of location, and the movement of the target object D becomes even more rapid.
is moved mechanically to move the image D of the target object into the area F. Therefore, the image D of the target object is displayed sharply without rotation. Therefore, the deflection power supply 7ax,
7ay, 7b, and 7by to adjust the current supplied to the alignment coils 6ax, 6ay, 6bx, and 6by, as shown in FIG. make it match. In this state, the electron beam EB based on the dynamic focus lens 8 and objective lens 9 is
The focal point of the electron beam EB is
As shown by a quadratic curve R', the position on the sample corresponding to the center of the screen (indicated by arrow E) is on the axis C. Therefore, the electron beam EB has alignment coils 6ax, 6
ay, 6bx, and 6by cause the light to enter the objective lens 9 along the axis C, so that the axis of the objective lens 9 and the axis of the dynamic focus lens 8 can be made to coincide. Therefore, after the focusing lens 3 is weakly excited, the balance circuits 12X and 12Y are adjusted so that the electron beam
The focal point of EB is positioned on the front focal plane S of the objective lens 9. Therefore, when a signal proportional to Xi 2 +Yi 2 is supplied to the dynamic focus lens 8, each scanning coil receives a scanning signal Xi,
If Yi is supplied, the axes of the dynamic focus lens 8 and the objective lens 9 are aligned, so the spread of the electron beam irradiation point due to the spherical aberration of the objective lens can be corrected with high precision by the dynamic focus lens. , it is possible to display an electron channeling pattern by irradiating only an extremely small area with an electron beam.

尚、上述した実施例においては、ダイナミツク
フオーカスレンズと対物レンズの軸を合せる際
に、ダイナミツクフオーカスレンズに供給する信
号として、エレクトロンチヤンネリングパターン
を得る際にダイナミツクフオーカスレンズに供給
する信号を用いたが、例えばX及びY方向の走査
信号を3乗した信号を加算して供給するようにし
ても良く、更に一般的には、nを2以上の数とす
るとき、Xin+Yinなる信号を供給することがで
きる。
In the above-described embodiment, when the axes of the dynamic focus lens and the objective lens are aligned, the signal supplied to the dynamic focus lens is used as a signal to be supplied to the dynamic focus lens when obtaining an electron channeling pattern. Although the signal to be supplied is used, for example, a signal obtained by adding the cube of the scanning signals in the X and Y directions may be added and supplied.More generally, when n is a number of 2 or more, Xi A signal of n +Yi n can be supplied.

又、上述した実施例においては、画面上の位置
を示すためのマークとして2本の輝線の交点を使
用したが、輝点でも良いし、他の画像部分と識別
し得るような色を有した点等でも良い。
Furthermore, in the above embodiment, the intersection of two bright lines was used as a mark to indicate the position on the screen, but it may also be a bright spot or a mark with a color that allows it to be distinguished from other image parts. Points etc. are also acceptable.

[効果] 上述した説明から明らかなように、本発明に基
づく方法においては、対物レンズの軸とダイナミ
ツクフオーカスレンズの軸を簡単且つ正確に合せ
ることができるため、電子線の角度走査時におけ
る対物レンズの球面収差に基づく電子線照射点の
広がりをダイナミツクフオーカスレンズを用いて
補正する際に、充分その効果を発揮させることが
できる。そのため、極めて微小な領域にのみ電子
線を照射した状態において電子線を角度走査して
エレクトロンチヤンネリングパターンを表示する
ことができる。
[Effect] As is clear from the above explanation, in the method based on the present invention, the axis of the objective lens and the axis of the dynamic focus lens can be easily and accurately aligned, so that When a dynamic focus lens is used to correct the spread of the electron beam irradiation point due to the spherical aberration of the objective lens, its effect can be fully demonstrated. Therefore, an electron channeling pattern can be displayed by scanning the angle of the electron beam while irradiating only an extremely small area with the electron beam.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はエレクトロンチヤンネリングパターン
を得るための電子線の走査を説明するための図、
第2図は本発明を実施するための装置の一例を示
すための図、第3図は第2図に示した一実施例装
置の各回路素子の出力信号を例示するための図、
第4図は対物レンズとダイナミツクフオーカスレ
ンズの軸合せ作業伴う陰極線管の表示画面の変化
を示すための図、第5図は本発明の効果を説明す
るための光学図である。 1:電子銃、2,3:集束レンズ、4:絞り、
5ax,5ay,5bx,5by:走査コイル、6ax,
6ay,6bx,6by:アライメントコイル、7
ax,7ay,7bx,7by:偏向電源、8:ダイナ
ミツクフオーカスレンズ、9:対物レンズ、1
0:試料、11X,11Y:走査信号発生回路、
12X,12Y:平衡回路、13:陰極線管、1
4X,14Y:二乗回路、15,18,23:加
算回路、16:増幅率可変増幅器、17:励磁電
源、19:ウオーブラ電源、20:スイツチ、2
1:二次電子検出器、22:増幅器、24X,2
4Y:比較回路、25X,25Y:ポテンシヨメ
ーター、C:対物レンズとダイナミツクフオーカ
スレンズの合成軸、EB:電子線、Lx,Ly:輝
線、U:輝線の交点、D,D′,D″:目標物の像、
E:矢印、S:前焦点面。
Figure 1 is a diagram for explaining scanning of an electron beam to obtain an electron channeling pattern.
2 is a diagram illustrating an example of a device for implementing the present invention, FIG. 3 is a diagram illustrating output signals of each circuit element of the embodiment device shown in FIG. 2,
FIG. 4 is a diagram showing changes in the display screen of the cathode ray tube due to alignment work of the objective lens and dynamic focus lens, and FIG. 5 is an optical diagram for explaining the effects of the present invention. 1: Electron gun, 2, 3: Focusing lens, 4: Aperture,
5ax, 5ay, 5bx, 5by: scanning coil, 6ax,
6ay, 6bx, 6by: alignment coil, 7
ax, 7ay, 7bx, 7by: Deflection power supply, 8: Dynamic focus lens, 9: Objective lens, 1
0: Sample, 11X, 11Y: Scanning signal generation circuit,
12X, 12Y: Balanced circuit, 13: Cathode ray tube, 1
4X, 14Y: Square circuit, 15, 18, 23: Adder circuit, 16: Variable gain amplifier, 17: Excitation power supply, 19: Wobbler power supply, 20: Switch, 2
1: Secondary electron detector, 22: Amplifier, 24X, 2
4Y: comparison circuit, 25X, 25Y: potentiometer, C: composite axis of objective lens and dynamic focus lens, EB: electron beam, Lx, Ly: bright line, U: intersection of bright lines, D, D', D ″: Image of target object,
E: Arrow, S: Front focal plane.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 X方向及びY方向走査信号を各々Xi,Yiと
するとき、X及びY方向偏向器にXi,Yiを供給
して対物レンズの前焦点面を電子線によつて走査
すると共に該対物レンズの近傍に配置されたダイ
ナミツクフオーカスレンズにXi2+Yi2に比例し
た信号を供給することにより試料に対する電子線
の照射位置を固定して電子線を角度走査し、該角
度走査に伴う検出信号を表示手段に導いてエレク
トロンチヤンネリングパターンを得る方法におい
て、エレクトロンチヤンネリングパターンを得る
のに先立ち、前記X及びY方向偏向器に各々走査
信号Xi及びYiを供給し試料上で細く集束させた
電子線を二次元的に走査すると共に、nを2以上
の数とするとき該ダイナミツクフオーカスレンズ
にXin+Yinなる信号を供給し、該二次元走査に
伴う検出信号に基づいて表示手段に表示された画
像を観察してボケの無い画像領域が該表示手段の
中央に位置するように該対物レンズの前段に配置
されたアライメントコイルの偏向電流を調節する
ようにしたことを特徴とする電子線装置における
軸合わせ方法。
1 When the X-direction and Y-direction scanning signals are Xi and Yi, respectively, Xi and Yi are supplied to the X- and Y-direction deflectors to scan the front focal plane of the objective lens with the electron beam and to scan the front focal plane of the objective lens. By supplying a signal proportional to Xi 2 + Yi 2 to a dynamic focus lens placed nearby, the irradiation position of the electron beam on the sample is fixed, the electron beam is angularly scanned, and the detection signal accompanying the angular scanning is In the method of obtaining an electron channeling pattern by guiding the electrons to a display means, prior to obtaining the electron channeling pattern, scanning signals Xi and Yi are respectively supplied to the X and Y direction deflectors and focused narrowly on the sample. Scanning the electron beam two-dimensionally and supplying a signal Xi n +Yi n to the dynamic focus lens when n is a number of 2 or more, and displaying means based on the detection signal accompanying the two-dimensional scanning. A deflection current of an alignment coil disposed in front of the objective lens is adjusted so that an image displayed on the display means is observed and an unblurred image area is located at the center of the display means. Axis alignment method in electron beam equipment.
JP9937884A 1984-05-17 1984-05-17 Method of adjusting axis of electron ray device Granted JPS60243951A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9937884A JPS60243951A (en) 1984-05-17 1984-05-17 Method of adjusting axis of electron ray device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9937884A JPS60243951A (en) 1984-05-17 1984-05-17 Method of adjusting axis of electron ray device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60243951A JPS60243951A (en) 1985-12-03
JPH035019B2 true JPH035019B2 (en) 1991-01-24

Family

ID=14245860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9937884A Granted JPS60243951A (en) 1984-05-17 1984-05-17 Method of adjusting axis of electron ray device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60243951A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5144469A (en) * 1974-10-14 1976-04-16 Hitachi Ltd SOSADENSHIKENBIKYO

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5144469A (en) * 1974-10-14 1976-04-16 Hitachi Ltd SOSADENSHIKENBIKYO

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60243951A (en) 1985-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4983832A (en) Scanning electron microscope
US4608491A (en) Electron beam instrument
JP3101114B2 (en) Scanning electron microscope
JPH0122705B2 (en)
JPH0235419B2 (en)
JPH035019B2 (en)
JPH07302564A (en) Scanning electron microscope
JPH1092355A (en) Charged particle microscope
JPH035020B2 (en)
JPH035022B2 (en)
JP2020166939A (en) Method for controlling transmission electron microscope and transmission electron microscope
JP2726538B2 (en) electronic microscope
JP2964873B2 (en) Electron beam alignment system
EP0257679A1 (en) Method of beam centring
US4221992A (en) Scanning area rotation device for an image pickup tube
JPH027506B2 (en)
JPS6134222B2 (en)
JPH05325860A (en) Method for photographing image in scanning electron microscope
JPS63123000A (en) Alignment of x ray optical system
JPH0542102B2 (en)
JPWO2019234787A1 (en) Electron beam device
JPH0238367Y2 (en)
JPS5914222B2 (en) Magnification control device for scanning electron microscopes, etc.
JPS6332220B2 (en)
JPH07120414A (en) Electron beam diffraction device