JP2726538B2 - electronic microscope - Google Patents

electronic microscope

Info

Publication number
JP2726538B2
JP2726538B2 JP2694090A JP2694090A JP2726538B2 JP 2726538 B2 JP2726538 B2 JP 2726538B2 JP 2694090 A JP2694090 A JP 2694090A JP 2694090 A JP2694090 A JP 2694090A JP 2726538 B2 JP2726538 B2 JP 2726538B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
electron beam
scanning
alignment
generating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2694090A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03233846A (en
Inventor
久幸 津野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON DENSHI KK
Original Assignee
NIPPON DENSHI KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON DENSHI KK filed Critical NIPPON DENSHI KK
Priority to JP2694090A priority Critical patent/JP2726538B2/en
Publication of JPH03233846A publication Critical patent/JPH03233846A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2726538B2 publication Critical patent/JP2726538B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子顕微鏡のコマフリー軸及び球面収差軸
を容易に探索することのできる電子顕微鏡に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electron microscope capable of easily searching for a coma-free axis and a spherical aberration axis of the electron microscope.

[従来の技術] 従来、第5図に示すような構成の透過電子顕微鏡が知
られている。第5図において、1は電子銃、2は電子銃
から放出された電子線を試料3上に集束するための集束
レンズ、4a,4bはX及びY方向用の一対の偏向コイルよ
り成る偏向器、5は対物レンズ、6は中間レンズ、7は
投影レンズ、8は蛍光板、9は撮像装置である。10は試
料3上の一点Pに任意の傾斜角θで電子線を入射させる
ための偏向信号を発生するアライメント信号発生器、11
は偏向コイル4aによって偏向された電子線が偏向コイル
4bによって振り戻されて試料の同一点Pに入射するよう
に、両偏向コイル4a,4bに供給される信号の強度比を調
節するための平衡回路である。
[Prior Art] Conventionally, a transmission electron microscope having a configuration as shown in FIG. 5 is known. In FIG. 5, 1 is an electron gun, 2 is a focusing lens for focusing an electron beam emitted from the electron gun on a sample 3, and 4a and 4b are deflectors comprising a pair of deflection coils for X and Y directions. Reference numeral 5 denotes an objective lens, 6 denotes an intermediate lens, 7 denotes a projection lens, 8 denotes a fluorescent plate, and 9 denotes an imaging device. Reference numeral 10 denotes an alignment signal generator for generating a deflection signal for causing an electron beam to enter the point P on the sample 3 at an arbitrary tilt angle θ.
Is the electron beam deflected by the deflection coil 4a.
This is a balance circuit for adjusting the intensity ratio of the signals supplied to the two deflection coils 4a and 4b so that the deflection coils 4a and 4b are turned back by the 4b and enter the same point P of the sample.

上述したような構成による透過電子顕微鏡を用いて、
試料の高分解能写真を撮影する場合、対物レンズの有す
る収差の影響を最小に抑えるために、入射電子線とレン
ズとの軸合わせを行なうことが必要不可欠とされている
が、このような軸合わせとしては、対物レンズ5の電圧
中心を整合することにより対応が成されていた。
Using a transmission electron microscope with the configuration described above,
When taking a high-resolution photograph of a sample, it is indispensable to align the axis of the incident electron beam with the lens in order to minimize the effect of the aberration of the objective lens. Has been achieved by matching the voltage centers of the objective lens 5.

また、この電圧中心合わせは、電子銃電源12から電子
銃1に供給される高電圧(加速電圧)を微小に変動させ
て、入射電子線のエネルギーを微小に変動させることに
より、蛍光板上に結像される電子顕微鏡像の位置が変動
されることを利用して、この蛍光板の中心点を対称に前
記電子顕微鏡像が移動するように、偏向コイル4bで入射
角度を合わせて、色収差が最小の軸を見出だすものであ
る。
This voltage centering is performed by slightly changing the high voltage (acceleration voltage) supplied from the electron gun power supply 12 to the electron gun 1 to slightly change the energy of the incident electron beam, thereby forming a voltage on the fluorescent screen. Utilizing the fact that the position of the electron microscope image to be imaged is changed, the deflection coil 4b adjusts the incident angle so that the electron microscope image moves symmetrically about the center point of the fluorescent screen, and the chromatic aberration is minimized. Find the axis.

[発明が解決しようとする課題] 上述したような構成の電子顕微鏡において、対物レン
ズ5の磁極片間隔と孔径が比較的大きい場合には、該レ
ンズ内の光軸に直交する面における磁場分布(磁場勾
配)は緩慢であるため、上述したような電圧中心合わせ
を行なって色収差の影響を最小に抑えることにより、試
料の高分解能写真を得ることができた。
[Problems to be Solved by the Invention] In the electron microscope having the above-described configuration, when the distance between the pole pieces and the hole diameter of the objective lens 5 are relatively large, the magnetic field distribution on a plane perpendicular to the optical axis in the lens ( Since the magnetic field gradient is slow, a high-resolution photograph of the sample could be obtained by performing voltage centering as described above to minimize the influence of chromatic aberration.

しかし、透過電子顕微鏡の超高分解能化に伴い、対物
レンズの磁極片間隔と孔径がさらに小さくされてきたた
め、光軸に直交する面における磁場分布(磁場勾配)が
急俊になり電圧中心合わせを行なっただけではコマフリ
ー軸、球面収差軸に入射電子線を一致させることができ
ないために、僅かな軸ずれでも超高分解能電子顕微鏡像
の周辺部で十分な分解能が得られないこと、即ちコマ収
差や、球面収差による影響が表面化されてきた。そのた
め、コマフリー軸及び球面収差軸を正確に求め、該軸に
入射電子線を一致させることにより、収差による影響を
最小に抑えることが必要とされる。
However, with the ultra-high resolution of the transmission electron microscope, the gap between the magnetic pole pieces and the hole diameter of the objective lens have been further reduced, so that the magnetic field distribution (magnetic field gradient) on the plane orthogonal to the optical axis has become steep, and the voltage center alignment has become difficult. Since the incident electron beam cannot be made to coincide with the coma-free axis and the spherical aberration axis only by performing the method, sufficient resolution cannot be obtained in the periphery of the ultra-high-resolution electron microscope image even with a slight axis shift, that is, The effects of aberrations and spherical aberrations have surfaced. Therefore, it is necessary to accurately determine the coma-free axis and the spherical aberration axis, and to make the incident electron beam coincide with the axes to minimize the influence of the aberration.

本発明は、上述した問題点を考慮し、電子顕微鏡のコ
マフリー軸及び球面収差軸を容易に探索することのでき
る電子顕微鏡を提供することを目的としている。
An object of the present invention is to provide an electron microscope capable of easily searching for a coma-free axis and a spherical aberration axis of an electron microscope in consideration of the above-described problems.

[課題を解決するための手段] 本発明は、対物レンズの前段の集束レンズ系によって
集束された電子線を偏向するための2段偏向器と、試料
上の一点に任意の傾斜角で電子線を入射させるための偏
向信号を発生するためのアライメント信号発生手段と、
前記アライメント手段の発生する偏向信号によって傾斜
された電子線の軸の周りで前記電子線を円形走査するた
めの信号を発生する円形走査信号発生手段と、前記電子
線の傾斜軸を電子線の入射点を中心として螺旋状に走査
するための信号を発生する螺旋走査信号発生手段と、前
記アライメント信号に円形走査信号及び螺旋走査信号を
重畳する信号加算手段と、スイッチ手段の押下により前
記前記加算器に供給される円形走査手段の出力信号値を
零とすると共に該時点での螺旋走査信号発生手段の出力
信号値を保持して信号加算手段に供給する手段を設けた
ことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] The present invention provides a two-stage deflector for deflecting an electron beam focused by a focusing lens system in front of an objective lens, and an electron beam at one point on a sample at an arbitrary tilt angle. Alignment signal generating means for generating a deflection signal for causing
Circular scanning signal generating means for generating a signal for circularly scanning the electron beam around the axis of the electron beam tilted by the deflection signal generated by the alignment means; Helical scanning signal generating means for generating a signal for helically scanning around a point, signal adding means for superposing a circular scanning signal and a helical scanning signal on the alignment signal, and the adder by pressing switch means And a means for setting the output signal value of the circular scanning means to be supplied to 0 to zero, holding the output signal value of the spiral scanning signal generating means at that time, and supplying the output signal value to the signal adding means.

[実施例] 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
1図は本発明による電子顕微鏡の一実施例を説明するた
めの装置構成図、第2図及び第3図動作を説明するため
の図である。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing an apparatus configuration for explaining an embodiment of an electron microscope according to the present invention, and FIG. 2 and FIG.

第1図において、第4図と同一の構成要素には同一番
号を付すと共に説明を省略する。
In FIG. 1, the same components as those in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

第1図に示す実施例が従来例と異なるのは、試料3上
の点Pに任意の傾斜角θで電子線を入射させるための偏
向信号を発生するアライメント信号発生器10と、前記ア
ライメント信号発生器10の発生するアライメント信号に
よって傾斜された電子線の傾斜軸Oの周りで前記電子線
を円形走査するための信号を発生する円形走査信号発生
器13x,13yと、前記電子線の傾斜軸を電子線の入射点P
を軸(支点)として螺旋状に走査するための信号を発生
する螺旋走査信号発生器14x,14yと、前記アライメント
信号に円形走査信号及び螺旋走査信号を重畳する信号加
算回路15と、前記アライメント信号発生器10、円形走査
信号発生手段13x,13y及び螺旋走査信号発生器14x,14yを
制御するための制御手段16と、操作端末18に設けられた
スイッチの押下により前記円形走査信号発生器13x,13y
の出力信号値を零とすると共に該時点における螺旋走査
信号発生器14x,14yの出力信号を保持する信号保持回路1
7x,17yを設けた点である。
The embodiment shown in FIG. 1 is different from the conventional example in that an alignment signal generator 10 for generating a deflection signal for causing an electron beam to enter the point P on the sample 3 at an arbitrary inclination angle θ, and the alignment signal Circular scanning signal generators 13x and 13y for generating a signal for circularly scanning the electron beam around an inclination axis O of the electron beam inclined by an alignment signal generated by the generator 10, and an inclination axis of the electron beam. Is the incident point P of the electron beam.
Helical scanning signal generators 14x and 14y for generating signals for helically scanning with the axis as a fulcrum, a signal adding circuit 15 for superimposing a circular scanning signal and a helical scanning signal on the alignment signal, and the alignment signal The generator 10, the circular scanning signal generators 13x, 13y, and the control means 16 for controlling the spiral scanning signal generators 14x, 14y, and the circular scanning signal generators 13x, 13x, by pressing a switch provided on the operation terminal 18. 13y
Signal holding circuit 1 that holds the output signal values of the spiral scanning signal generators 14x and 14y at that time as zero
7x and 17y are provided.

さて、電子銃から放出され電子線は集束レンズ系によ
って集束された後、試料3に入射される。このとき、該
電子線は偏向コイル4aによって偏向されると共に、偏向
コイル4bによって振り戻されて試料3上の所望の点Pに
入射されるが、該偏向器4a、4bにはアライメント信号発
生回路10において発生されたアライメント信号(x0,
Y0)が加算回路15及び平衡回路11を介して供給される。
Now, the electron beam emitted from the electron gun is focused by the focusing lens system, and then enters the sample 3. At this time, the electron beam is deflected by the deflection coil 4a, is turned back by the deflection coil 4b and is incident on a desired point P on the sample 3, but the deflectors 4a and 4b have alignment signal generation circuits. The alignment signal (x 0 ,
Y 0 ) is supplied through the addition circuit 15 and the balance circuit 11.

上述したような試料3上の点Pに任意の傾斜角で電子
線を入射した状態においては、未だ球面収差の影響を抑
えるための軸整合は何等成されておらず、アライメント
信号発生器10において発生されたアライメント信号
(X0,Y0)のみによって、照射点Pと傾斜角θが決めら
れている。
In the state where the electron beam is incident on the point P on the sample 3 at an arbitrary tilt angle as described above, no axis alignment for suppressing the influence of the spherical aberration has been performed yet, and the alignment signal generator 10 The irradiation point P and the inclination angle θ are determined only by the generated alignment signal (X 0 , Y 0 ).

そこで本発明では、このような球面収差を抑えるため
の軸整合が成されていない状態から球面収差の軸を求め
ることを行なう場合について説明する。
Therefore, in the present invention, a case will be described in which the axis of the spherical aberration is obtained from a state where the axial alignment for suppressing such spherical aberration is not performed.

まず、電子線はアライメント信号発生器13において発
生されたアライメント信号(x0,Y0)が供給される偏向
器4a,4bにより任意の傾斜角で試料3上の点Pに入射さ
れている。ここで、制御手段16により円形走査信号発生
器13x,13yが制御されて、電子線を円形走査するための
信号(a1 Sin ω1 t,a1 Cos ω1 t)が発生され、該信
号が加算回路15に供給されて前記アライメント信号
(x0,Y0)に重畳される。これにより、試料3上に照射
される電子線は、前記加算回路15から出力されて偏向器
4a,4bに供給される偏向信号(x0+a1 Sin ω1 t,Y0+a1
Cos ω1 t)によって、第2図(a)に示すように試料
への入射点Pを保ちながらコーン状(中空円錐状)に回
転するように照射される。このとき、蛍光板8に投影さ
れる試料像の注目する箇所の像jは収差の影響を受け
て、第2図(b)に示すように楕円状に移動することに
なる。
First, the electron beam is incident on the point P on the sample 3 at an arbitrary tilt angle by the deflectors 4a and 4b to which the alignment signal (x 0 , Y 0 ) generated by the alignment signal generator 13 is supplied. Here, the circular scanning signal generators 13x and 13y are controlled by the control means 16 to generate signals (a 1 Sin ω 1 t, a 1 Cos ω 1 t) for circularly scanning the electron beam. Is supplied to the addition circuit 15 and is superimposed on the alignment signal (x 0 , Y 0 ). As a result, the electron beam irradiated onto the sample 3 is output from the addition circuit 15 and
The deflection signal (x 0 + a 1 Sin ω 1 t, Y 0 + a 1
Cos ω 1 t) is applied so as to rotate in a cone shape (hollow cone shape) while maintaining the point of incidence P on the sample as shown in FIG. 2 (a). At this time, the image j of the target portion of the sample image projected on the fluorescent screen 8 is affected by the aberration and moves in an elliptical shape as shown in FIG. 2 (b).

特に、超高分解能化に伴い、磁極片間隔と孔径が小さ
くされてきた対物レンズでは、光軸に直交する面におけ
る磁場分布(磁場勾配)が急俊になり、球面収差の影響
を最小とするための軸整合が成されていない状態では、
僅な電子線の入射角の傾斜によっても、蛍光板上に投影
された像が大きくシフトするという現象が発生するが、
この像の移動は、球面収差の軸を基準として電子線を傾
けた角度θの3乗に比例して移動するため、上述したよ
うに、像は大きく楕円状に移動することになる。
In particular, in an objective lens in which the pole piece spacing and the hole diameter have been reduced with the increase in ultra-high resolution, the magnetic field distribution (magnetic field gradient) in a plane perpendicular to the optical axis becomes steep, and the influence of spherical aberration is minimized. The axis is not aligned for
The phenomenon that the image projected on the phosphor screen is greatly shifted by the slight inclination of the incident angle of the electron beam,
This movement of the image moves in proportion to the cube of the angle θ at which the electron beam is inclined with respect to the axis of the spherical aberration, and therefore the image moves largely in an elliptical shape as described above.

ところが、第3図(a)に示すように、球面収差の軸
kを中心としてコーン状に回転する電子線が試料3に入
射された場合、蛍光板8に投影される試料像の移動は、
同図(b)に示すように略真円を描いて移動するように
なる。
However, as shown in FIG. 3 (a), when an electron beam that rotates in a cone around the axis k of spherical aberration is incident on the sample 3, the movement of the sample image projected on the fluorescent screen 8 is
As shown in FIG. 3B, the robot moves while drawing a substantially perfect circle.

そこで、前記球面収差を抑えるための軸整合が成され
る前の状態において、楕円状に移動する像を見ながら操
作者がアライメント信号を調整して、該試料像の移動が
略真円を描くように軸整合することより球面収差の軸を
探索することができる。
Therefore, in a state before the axial alignment for suppressing the spherical aberration is performed, the operator adjusts the alignment signal while watching the image moving in an elliptical shape, and the movement of the sample image draws a substantially perfect circle. The axis of spherical aberration can be searched for by performing the axial alignment as described above.

しかし、操作者が手動により電子線の入射角度と入射
方位とを種々に変えながら像の移動観察し、球面収差の
軸を探索する操作は非常に煩わしく面倒である。
However, the operation of manually moving and observing the image while changing the incident angle and the incident azimuth of the electron beam manually to search for the axis of the spherical aberration is very troublesome and troublesome.

そのため、螺旋走査信号発生器14x,14yより発生され
る、電子線の傾斜軸Oを電子線の入射点Pを支点として
螺旋状に走査するための信号(a2tSinω2t,a2tCosω
2t)が前記加算回路15に供給され、該加算回路15におい
て該螺旋操作信号が前記円形走査信号の重畳されたアラ
イメント信号に対してさらに加算重畳される。
Therefore, signals (a 2 tSinω 2 t, a 2 tCosω) generated by the spiral scanning signal generators 14x and 14y for spirally scanning the tilt axis O of the electron beam with the incident point P of the electron beam as a fulcrum.
2 t) is supplied to the adder circuit 15, the helical operation signal in the summing circuit 15 is further added superimposed on the superimposed alignment signal of the circular scan signal.

そして、該加算回路15の出力信号(x0+a1Sinω1t+a
2tSinω2t,Y0+a1Cosω1t+a2tCosω2t)が平衡回路11
を介して2段偏向器4a,4bに供給されることにより、電
子線は第4図(a)に示すように試料3への入射点Pを
保ちながらコーン状に回転する電子線の回転の中心が図
中A〜Eで示すように螺旋状に走査されるので、簡単に
電子線の入射角度と入射方位を種々の値に変えることが
できる。ここで、前記螺旋状走査信号の定数ω2は、螺
旋状走査の速度が円形走査の走査の周期よりも10倍程度
遅くなるように設定されている。
Then, the output signal (x 0 + a 1 Sinω 1 t + a) of the adding circuit 15
2 tSinω 2 t, Y 0 + a 1 Cosω 1 t + a 2 tCosω 2 t) is a balanced circuit 11
The electron beam is supplied to the two-stage deflectors 4a and 4b through the, so that the electron beam rotates in a cone shape while maintaining the incident point P on the sample 3 as shown in FIG. Since the center is spirally scanned as shown by A to E in the figure, the incident angle and incident direction of the electron beam can be easily changed to various values. Here, the constant ω 2 of the spiral scanning signal is set so that the speed of the spiral scanning is about 10 times slower than the scanning cycle of the circular scanning.

このとき、第4図(b)に示すように蛍光板に投影さ
れる試料像A′〜E′を観察しながら、該像の移動が真
円となった時点(時刻t0)で、操作端末18に設けられた
スイッチを押下すると、制御手段16によって前記円形走
査信号発生器13x,13yの出力信号値が夫々零とされて、
電子線の円形走査が停止されると共に、該時点での螺旋
走査信号発生器の出力信号(a2 t0 Sin ω2t0,a2t0Cos
ω2t0)が夫々信号保持回路17x,17yに保持され、該保持
された信号が加算回路15に供給されてアライメント信号
(X0,Y0)と加算される。そして、該加算回路15の出力
信号(X0+a2t0Sinω2t0,Y0+a2t0Cosω2t0)が平衡回
路11を介して偏向器4a,4bに供給されることにより、球
面収差軸が保持される。
At this time, while observing the sample images A ′ to E ′ projected on the fluorescent screen as shown in FIG. 4 (b), when the movement of the images becomes a perfect circle (time t 0 ), the operation terminal When a switch provided on 18 is depressed, the output signal values of the circular scanning signal generators 13x and 13y are each made zero by the control means 16,
The circular scanning of the electron beam is stopped, and the output signal (a 2 t 0 Sin ω 2 t 0 , a 2 t 0 Cos) of the spiral scanning signal generator at that time is stopped.
ω 2 t 0 ) are held in the signal holding circuits 17x and 17y, respectively, and the held signals are supplied to the addition circuit 15 and added to the alignment signals (X 0 , Y 0 ). Then, the output signal (X 0 + a 2 t 0 Sin ω 2 t 0 , Y 0 + a 2 t 0 Cos ω 2 t 0 ) of the addition circuit 15 is supplied to the deflectors 4 a and 4 b via the balance circuit 11. , The spherical aberration axis is maintained.

なお、上述した実施例は本発明の一実施例に過ぎず、
本発明は種々変形して実施することができる。例えば、
上述した実施例においては円形走査の周期に対して螺旋
状走査の周期を10倍程度遅くするように設定するように
したが、円形走査の周期は蛍光板上で移動する像の残像
(残光)により円周が形成されるような速度であれば良
く、一方の螺旋状走査のその円形走査の周期よりも十分
遅く、前記円形走査によって形成される像の移動が黙視
できる程度の速度であればよい。
Note that the above-described embodiment is merely an embodiment of the present invention,
The present invention can be implemented with various modifications. For example,
In the above-described embodiment, the period of the spiral scan is set to be about 10 times slower than the period of the circular scan, but the period of the circular scan is an afterimage (afterglow) of an image moving on the fluorescent screen. It is sufficient if the speed is such that the circumference is formed, and if the speed of the one spiral scan is sufficiently slower than the cycle of the circular scan, and the speed is such that the movement of the image formed by the circular scan can be viewed silently. Good.

また、上述した実施例においては、蛍光板上に投影さ
れた像の形状を操作者が観察しながら、その真円度を求
めたが、該蛍光板に投影された像をテレビカメラ等の撮
像手段9によって撮像された像の真円度をパターン認識
などにより自動的に判断し、該判定結果に基づいて制御
手段によって円形走査信号発生器を制御するようにして
も良い。
In the above-described embodiment, the roundness of the image projected on the fluorescent screen is obtained while the operator observes the shape of the image. However, the image projected on the fluorescent screen is captured by an imaging unit 9 such as a television camera. The circularity of the image captured by the method may be automatically determined by pattern recognition or the like, and the control unit may control the circular scanning signal generator based on the determination result.

[発明の効果] 上述した説明から明らかなように、本発明によれば、
対物レンズの前段の集束レンズ系によって集束された電
子線を偏向するための2段偏向器と、試料上の一点に任
意の傾斜角で電子線を入射させるための偏向信号を発生
するためのアライメント信号発生手段と、前記アライメ
ント手段の発生する偏向信号によって傾斜された電子線
の軸の周りで前記電子線を円形走査するための信号を発
生する円形走査信号発生手段と、前記電子線の傾斜軸を
電子線の入射点を中心として螺旋状に走査するための信
号を発生する螺旋走査信号発生手段と、前記アライメン
ト信号に円形走査信号及び螺旋走査信号を重畳する信号
加算手段と、スイッチ手段の押下により前記前記加算器
に供給される円形走査手段の出力信号値を零とすると共
に該時点での螺旋走査信号発生手段の出力信号値を保持
して信号加算手段に供給する手段を設けたこと短時間で
容易且つ正確にコマフリー軸及び球面収差軸を探索する
ことが可能となった。そのため、収差の影響の少ない超
高分解能写真を撮影することが可能となった。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention,
A two-stage deflector for deflecting the electron beam focused by the focusing lens system in front of the objective lens, and an alignment for generating a deflection signal for causing the electron beam to enter a point on the sample at an arbitrary tilt angle Signal generating means, circular scanning signal generating means for generating a signal for circularly scanning the electron beam around the axis of the electron beam tilted by the deflection signal generated by the alignment means, and tilt axis of the electron beam Scanning signal generating means for generating a signal for spirally scanning around the electron beam incident point, signal adding means for superimposing a circular scanning signal and a spiral scanning signal on the alignment signal, and pressing of a switch means The output signal value of the circular scanning means supplied to the adder is set to zero, and the output signal value of the spiral scanning signal generation means at that time is held and the signal addition means It has become possible to search easily and accurately coma-free axis and spherical aberration axis in a short time by providing the means for supplying. Therefore, it has become possible to take an ultra-high-resolution photograph with little influence of aberration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例を説明するための装置構成
図、第2図乃至第4図は動作を説明するための図、第5
図は従来例を説明するための図である。 1:電子銃 2:集束レンズ 3:試料 4a,4b:偏向器 5:対物レンズ 6:中間レンズ 7:投影レンズ 8:蛍光板 9:撮像装置 10:アライメント信号発生器 11:平衡回路 わ3x,13y:円形走査信号発生器 14x,14y:螺旋走査信号発生器 15:信号加算回路 16:制御手段 17:信号保持回路 18:操作端末
FIG. 1 is a diagram showing the configuration of an apparatus for explaining an embodiment of the present invention, FIGS. 2 to 4 are diagrams for explaining the operation, and FIGS.
The figure is a diagram for explaining a conventional example. 1: Electron gun 2: Focusing lens 3: Sample 4a, 4b: Deflector 5: Objective lens 6: Intermediate lens 7: Projection lens 8: Fluorescent plate 9: Imaging device 10: Alignment signal generator 11: Balance circuit 3x, 13y : Circular scanning signal generator 14x, 14y: Spiral scanning signal generator 15: Signal addition circuit 16: Control means 17: Signal holding circuit 18: Operation terminal

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】対物レンズの前段の集束レンズ系によって
集束された電子線を偏向するための2段偏向器と、試料
上の一点に任意の傾斜角で電子線を入射させるための偏
向信号を発生するためのアライメント信号発生手段と、
前記アライメント手段の発生する偏向信号によって傾斜
された電子線の軸の周りで前記電子線を円形走査するた
めの信号を発生する円形走査信号発生手段と、前記電子
線の傾斜軸を電子線の入射点を中心として螺旋状に走査
するための信号を発生する螺旋走査信号発生手段と、前
記アライメント信号に円形走査信号及び螺旋走査信号を
重畳する信号加算手段と、スイッチ手段の押下により前
記前記加算器に供給される円形走査手段の出力信号値を
零とすると共に該時点での螺旋走査信号発生手段の出力
信号値を保持して信号加算手段に供給する手段を設けた
ことを特徴とする電子顕微鏡。
1. A two-stage deflector for deflecting an electron beam focused by a focusing lens system in front of an objective lens, and a deflection signal for causing an electron beam to enter a point on a sample at an arbitrary tilt angle. Alignment signal generating means for generating;
Circular scanning signal generating means for generating a signal for circularly scanning the electron beam around the axis of the electron beam tilted by the deflection signal generated by the alignment means; Helical scanning signal generating means for generating a signal for helically scanning around a point, signal adding means for superposing a circular scanning signal and a helical scanning signal on the alignment signal, and the adder by pressing switch means An electron microscope provided with means for making the output signal value of the circular scanning means supplied to the device zero and for holding the output signal value of the spiral scanning signal generating means at that time and supplying it to the signal adding means. .
JP2694090A 1990-02-06 1990-02-06 electronic microscope Expired - Fee Related JP2726538B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2694090A JP2726538B2 (en) 1990-02-06 1990-02-06 electronic microscope

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2694090A JP2726538B2 (en) 1990-02-06 1990-02-06 electronic microscope

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03233846A JPH03233846A (en) 1991-10-17
JP2726538B2 true JP2726538B2 (en) 1998-03-11

Family

ID=12207150

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2694090A Expired - Fee Related JP2726538B2 (en) 1990-02-06 1990-02-06 electronic microscope

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2726538B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006114260A (en) * 2004-10-13 2006-04-27 Japan Atom Energy Res Inst Forming method and system of emitter
JP6735657B2 (en) * 2016-11-28 2020-08-05 日本電子株式会社 Alignment method and electron microscope
TWI768191B (en) * 2018-03-20 2022-06-21 美商泰斯坎坦佩公司 A method for automatically aligning a scanning transmission electron microscope for precession electron diffraction data mapping

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03233846A (en) 1991-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20070158567A1 (en) Apparatus and adjusting method for a scanning transmission electron microscope
US20110174972A1 (en) Apparatus and methods for controlling electron microscope stages
US6841775B2 (en) Electron microscope
US6965662B2 (en) Nonplanar x-ray target anode for use in a laminography imaging system
US3702398A (en) Electron beam apparatus
JP3101114B2 (en) Scanning electron microscope
US4608491A (en) Electron beam instrument
JP2726538B2 (en) electronic microscope
US6653632B2 (en) Scanning-type instrument utilizing charged-particle beam and method of controlling same
US6717144B2 (en) Scanning electron microscope system
JPS614144A (en) Diffraction pattern display method by electron microscope
US4095104A (en) Electron microscope
US5081354A (en) Method of determining the position of electron beam irradiation and device used in such method
US5258617A (en) Method and apparatus for correcting axial coma in electron microscopy
US3917946A (en) Electron-optical device for the recording of selected diffraction patterns
JP6843913B2 (en) Control method of transmission electron microscope and transmission electron microscope
US4945237A (en) Transmission electron microscope
CA1061477A (en) Electron microscope
US4221992A (en) Scanning area rotation device for an image pickup tube
JPS63216256A (en) Charged particle beam device
JP2004146192A (en) Test piece observation method by transmission electron microscope
JPH027506B2 (en)
JPS6134222B2 (en)
JPH0479101B2 (en)
JPH05325860A (en) Method for photographing image in scanning electron microscope

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081205

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091205

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees