JPH0349655A - 微粒子材料の多モード熱処理システム - Google Patents
微粒子材料の多モード熱処理システムInfo
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- JPH0349655A JPH0349655A JP2178477A JP17847790A JPH0349655A JP H0349655 A JPH0349655 A JP H0349655A JP 2178477 A JP2178477 A JP 2178477A JP 17847790 A JP17847790 A JP 17847790A JP H0349655 A JPH0349655 A JP H0349655A
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B17/00—Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement
- F26B17/02—Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement with movement performed by belts carrying the materials; with movement performed by belts or elements attached to endless belts or chains propelling the materials over stationary surfaces
- F26B17/04—Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement with movement performed by belts carrying the materials; with movement performed by belts or elements attached to endless belts or chains propelling the materials over stationary surfaces the belts being all horizontal or slightly inclined
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/02—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure
- F26B21/04—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure partly outside the drying enclosure
-
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- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B3/00—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat
- F26B3/02—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air
- F26B3/06—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried
- F26B3/08—Drying solid materials or objects by processes involving the application of heat by convection, i.e. heat being conveyed from a heat source to the materials or objects to be dried by a gas or vapour, e.g. air the gas or vapour flowing through the materials or objects to be dried so as to loosen them, e.g. to form a fluidised bed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/02—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity of multiple-track type; of multiple-chamber type; Combinations of furnaces
- F27B9/028—Multi-chamber type furnaces
-
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- F27B9/06—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated
- F27B9/10—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity heated without contact between combustion gases and charge; electrically heated heated by hot air or gas
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- Freezing, Cooling And Drying Of Foods (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は材料処理システム、特に、処理しようとする粒
子が処理領域を通って運ばれるとき、熱交換又はその他
の処理関係に置かれたガス状媒体を使用する流動化相互
作用により、該微粒子製品を処理するシステムに関する
。
子が処理領域を通って運ばれるとき、熱交換又はその他
の処理関係に置かれたガス状媒体を使用する流動化相互
作用により、該微粒子製品を処理するシステムに関する
。
（従来の技術及びその課題）
微粒子は物理的性質及び水分含有率の点にて著しく相違
し、幾つかの異なる熱処理段階を必要とする。微粒子製
品を流動化する性質及び程度は主として、乾燥、加熱等
される微粒子の物理的性質（即ち、流動性、水分含有率
、脆弱性）によって決まる。かかる材料は例えば透過性
の粒子層を通じて下方の流動方向にガスを流動させるこ
とによって処理することが出来る。この方法は完全米、
及びコーン系材料のような極めて水分含有率の高い予め
調理した穀物製品を予乾燥するのに一般に使用される方
法である。あるいは、微粒子製品床を通じて上方の流動
方向にガスを流動させ、支持コンベヤ上方にて製品を緩
やかに流動化又は通気させる方法（この方法は水分含有
率の低い流動可能な粒子をより強力に乾燥させるのに採
用される）、粒子がきれ目のない連続したベルトコンベ
ヤにより処理領域を通じて運ばれるとき、高速のガス流
を下方に向けて粒子に当て、該粒子を流動化させる方法
（この方法は穀類及びスナックの最終乾燥、及び加熱、
穀製品のバッフィング、ナッツ及び豆類の加熱、及び乾
燥させた粒子の冷却に使用される）がある。処理工程は
、例えば、予乾燥、加熱及び冷却段階といった２又はそ
れ以上の異なる型式の製品処理段階を包含することが望
ましいことが多い。
し、幾つかの異なる熱処理段階を必要とする。微粒子製
品を流動化する性質及び程度は主として、乾燥、加熱等
される微粒子の物理的性質（即ち、流動性、水分含有率
、脆弱性）によって決まる。かかる材料は例えば透過性
の粒子層を通じて下方の流動方向にガスを流動させるこ
とによって処理することが出来る。この方法は完全米、
及びコーン系材料のような極めて水分含有率の高い予め
調理した穀物製品を予乾燥するのに一般に使用される方
法である。あるいは、微粒子製品床を通じて上方の流動
方向にガスを流動させ、支持コンベヤ上方にて製品を緩
やかに流動化又は通気させる方法（この方法は水分含有
率の低い流動可能な粒子をより強力に乾燥させるのに採
用される）、粒子がきれ目のない連続したベルトコンベ
ヤにより処理領域を通じて運ばれるとき、高速のガス流
を下方に向けて粒子に当て、該粒子を流動化させる方法
（この方法は穀類及びスナックの最終乾燥、及び加熱、
穀製品のバッフィング、ナッツ及び豆類の加熱、及び乾
燥させた粒子の冷却に使用される）がある。処理工程は
、例えば、予乾燥、加熱及び冷却段階といった２又はそ
れ以上の異なる型式の製品処理段階を包含することが望
ましいことが多い。
（課題を解決するための手段）
本発明の一形態によると、一連の粒子処理領域を備える
多数モードの熱処理システムが提供される。熱処理する
微粒子製品を支持する有孔のコンベヤ構造体が一連の処
理領域を通って可動であるように配設されている。各処
理領域は、該処理領域の上方に配設された第１の（上方
）・分配プレナム構造体と、及びこの上方分配プレナム
から処理領域まで伸長し、調成されたガスを相当な速度
にて処理領域に運び、コンベヤ構造体により該処理領域
に運ばれる微粒子材料を熱処理する一列のノズル管と、
及び該処理領域の下方に配設され、処理領域の下側領域
を加圧し、コンベヤ構造体を通って上昇する調成された
ガス及びコンベヤ上の微粒子材料を流動させる第２の（
下方）分配プレナムとを備えている。これら上方及び下
方プレナムは調成ガス回路構造体に接続され、上方及び
下方分配プレナムを通って処理領域に対するガスの分配
及びその排出を制御する回路構造体の制御構造体が、微
粒子製品の異なる処理モードを選択的に提供する。好適
な実施例において、この処理システムは、各々２つの処
理領域を含む一連の断熱ノ＼ウジングを備えている。
多数モードの熱処理システムが提供される。熱処理する
微粒子製品を支持する有孔のコンベヤ構造体が一連の処
理領域を通って可動であるように配設されている。各処
理領域は、該処理領域の上方に配設された第１の（上方
）・分配プレナム構造体と、及びこの上方分配プレナム
から処理領域まで伸長し、調成されたガスを相当な速度
にて処理領域に運び、コンベヤ構造体により該処理領域
に運ばれる微粒子材料を熱処理する一列のノズル管と、
及び該処理領域の下方に配設され、処理領域の下側領域
を加圧し、コンベヤ構造体を通って上昇する調成された
ガス及びコンベヤ上の微粒子材料を流動させる第２の（
下方）分配プレナムとを備えている。これら上方及び下
方プレナムは調成ガス回路構造体に接続され、上方及び
下方分配プレナムを通って処理領域に対するガスの分配
及びその排出を制御する回路構造体の制御構造体が、微
粒子製品の異なる処理モードを選択的に提供する。好適
な実施例において、この処理システムは、各々２つの処
理領域を含む一連の断熱ノ＼ウジングを備えている。
本発明の別の形態によると、断熱されたハウジング構造
体と、微粒子材料の処理領域を画成するハウジング構造
体内の構造体と、熱処理する微粒子材料を支持し、処理
領域の下側境界を画成する有孔コンベヤ構造体と、処理
領域からガスを排出する手段と、処理領域の各側に設け
られ、コンベヤ構造体に隣接する細長いオリフィスを画
成する構造体を有する側壁構造体と、オリフィスを画成
する側壁構造体に結合され、オリフィスを画成する構造
体を通って処理領域までガスを流動させ、該処理領域内
に微粒子材料を封じ込める到じ込め構造体とを備える材
料処理システムが提供される。
体と、微粒子材料の処理領域を画成するハウジング構造
体内の構造体と、熱処理する微粒子材料を支持し、処理
領域の下側境界を画成する有孔コンベヤ構造体と、処理
領域からガスを排出する手段と、処理領域の各側に設け
られ、コンベヤ構造体に隣接する細長いオリフィスを画
成する構造体を有する側壁構造体と、オリフィスを画成
する側壁構造体に結合され、オリフィスを画成する構造
体を通って処理領域までガスを流動させ、該処理領域内
に微粒子材料を封じ込める到じ込め構造体とを備える材
料処理システムが提供される。
第１の分配プレナムを画成する構造体が、処理領域の上
方に配設され、一列のノズル管がこの第１のプレナム管
から下方に伸長し、コンベヤ構造体から離間させたオリ
フィス内に終端を有し、列のガスジェットにてノズル管
を通るガスをコンベヤ構造体に向けて下方に噴出するよ
うにする一方、 第２の分配プレナムを画成する構造体が、処理領域の下
方にてコンベヤの下側に配設されている。
方に配設され、一列のノズル管がこの第１のプレナム管
から下方に伸長し、コンベヤ構造体から離間させたオリ
フィス内に終端を有し、列のガスジェットにてノズル管
を通るガスをコンベヤ構造体に向けて下方に噴出するよ
うにする一方、 第２の分配プレナムを画成する構造体が、処理領域の下
方にてコンベヤの下側に配設されている。
この処理システムは次ぎの３つり処理作動モードを備え
ている。即ち、調成されたガスを分配及び到じ込めプレ
ナム構造体に流動させる導管手段が、プレナム構造体に
対する調成ガスの流量を制御し、調成ガスが処理領域及
び有孔コンベヤ構造体を通って上方分配プレナムから第
２の分配プレナムに流動しこの第２の分配プレナムから
排出されるようにする第１の作動モード、調成ガスが有
孔コンベヤ構造体を通って第２の分配プレナムから上方
に向けて処理領域まで流動し、該処理領域から排出され
るようにする第２の作動モード、及び調成ガスが第２の
分配プレナムまで流動し、ガスが相当な速度にて多数の
下向きジェットの形態で一列のノズル管を通って第１の
分配プレナムから流動すると同時に、該プレナムを正圧
伏態に維持し、処理領域内にてコンベヤ構造体上の微粒
子材料を流動化させて熱処理を行い、コンベヤ構造体か
ら上方に向けてガスが処理領域から排出されるようにす
る第３の作動モードである。
ている。即ち、調成されたガスを分配及び到じ込めプレ
ナム構造体に流動させる導管手段が、プレナム構造体に
対する調成ガスの流量を制御し、調成ガスが処理領域及
び有孔コンベヤ構造体を通って上方分配プレナムから第
２の分配プレナムに流動しこの第２の分配プレナムから
排出されるようにする第１の作動モード、調成ガスが有
孔コンベヤ構造体を通って第２の分配プレナムから上方
に向けて処理領域まで流動し、該処理領域から排出され
るようにする第２の作動モード、及び調成ガスが第２の
分配プレナムまで流動し、ガスが相当な速度にて多数の
下向きジェットの形態で一列のノズル管を通って第１の
分配プレナムから流動すると同時に、該プレナムを正圧
伏態に維持し、処理領域内にてコンベヤ構造体上の微粒
子材料を流動化させて熱処理を行い、コンベヤ構造体か
ら上方に向けてガスが処理領域から排出されるようにす
る第３の作動モードである。
穀類の粒子製品を処理する特別の熱処理システムにおい
て、有孔のコンベヤ構造体は金網搬送べルトを備え、粒
子処理領域はその両側に、垂直壁を有し、この垂直壁の
基部には、傾斜した排出オリフィス構造体が形成されて
おり、このオリフィス構造体は処理領域の長さに沿って
伸長し、搬送ベルトの上面と協働し、又、空気がこのオ
リフィス構造体を通って封じ込めチャンバ構造体から排
出される。粒子処理領域は制御弁構造体を介して排出導
管構造体に接続された排出ボート構造体を備えている。
て、有孔のコンベヤ構造体は金網搬送べルトを備え、粒
子処理領域はその両側に、垂直壁を有し、この垂直壁の
基部には、傾斜した排出オリフィス構造体が形成されて
おり、このオリフィス構造体は処理領域の長さに沿って
伸長し、搬送ベルトの上面と協働し、又、空気がこのオ
リフィス構造体を通って封じ込めチャンバ構造体から排
出される。粒子処理領域は制御弁構造体を介して排出導
管構造体に接続された排出ボート構造体を備えている。
管板構造体は垂直壁の上端にて密封されており、処理領
域の上方境界を画成し、該管板構造体は中心線上にて２
５ ｃｍ以下の間隔にて離間されかつ処理領域の長さ及
び幅に沿って伸長する一列の上記ノズル管を担持する。
域の上方境界を画成し、該管板構造体は中心線上にて２
５ ｃｍ以下の間隔にて離間されかつ処理領域の長さ及
び幅に沿って伸長する一列の上記ノズル管を担持する。
各管の下端は搬送ベルトから１０ ｃｍ離間されており
、搬送ベルトは直径０．１乃至１．０ｃｍの範囲の孔を
有している。
、搬送ベルトは直径０．１乃至１．０ｃｍの範囲の孔を
有している。
粒子処理領域に設けられた随意的選択によるバッフル板
構造体がノズル管の下端とコンベヤ構造体間にて、上昇
位置（不作動位置）と下方の減速位置との間を動くこと
が出来る。空気ブラスト構造体及び真空構造体が第２の
分配プレナムに結合されており、これらコンベヤ及び第
２の分配プレナムから塵埃を除去する。
構造体がノズル管の下端とコンベヤ構造体間にて、上昇
位置（不作動位置）と下方の減速位置との間を動くこと
が出来る。空気ブラスト構造体及び真空構造体が第２の
分配プレナムに結合されており、これらコンベヤ及び第
２の分配プレナムから塵埃を除去する。
調成ガスを加熱するバーナ手段、調成ガスを循環させる
ブロア手段、処理領域及びブロア手段間にてフイードバ
ノクループ状態に結合されたサイクロンセパレータ構造
体、及び該サイクロンセバレー夕とブロアとの間に結合
されたクーラ回路が処理システムに関係する。
ブロア手段、処理領域及びブロア手段間にてフイードバ
ノクループ状態に結合されたサイクロンセパレータ構造
体、及び該サイクロンセバレー夕とブロアとの間に結合
されたクーラ回路が処理システムに関係する。
この処理システムは、制御された環境内にて、異なる型
式の微粒子材料を調和した効率な方法にて処理する能力
を備えた連続処理型式の多機能の装置を提供するもので
ある。
式の微粒子材料を調和した効率な方法にて処理する能力
を備えた連続処理型式の多機能の装置を提供するもので
ある。
（実施例）
添付図面に関する本発明の特別の実施例に関する以下の
詳細から、本発明の他の特徴及び利点が明らかになるで
あろう。
詳細から、本発明の他の特徴及び利点が明らかになるで
あろう。
第１図乃至第３図には、各々２つの領域Ａ， Ｂを有す
る処理ユニツｌ−１０，１２及びクーラ装置３２を備え
る本発明による処理システムが図示されている。各処理
ユニット１０、１２は支持部材１４上に取り付けられ、
長さ約４、６ｍ１幅約３．７［Ｄ，高さ約４ｍの寸法を
有し、かつアクセス板１８を有する断熱されたハウジン
グ１６を備えている。
る処理ユニツｌ−１０，１２及びクーラ装置３２を備え
る本発明による処理システムが図示されている。各処理
ユニット１０、１２は支持部材１４上に取り付けられ、
長さ約４、６ｍ１幅約３．７［Ｄ，高さ約４ｍの寸法を
有し、かつアクセス板１８を有する断熱されたハウジン
グ１６を備えている。
各処理ユニットの各領域に関係するのは、バーナユニッ
ト２０、循環ファン２４を駆動する４馬力の駆動モータ
２２、及びサイクロンセパレータ２６である。各領域１
０Ａ，ＩＯＢ，１２Ａ，１２Ｂは補充吸気口２８及びサ
イクロンの排出口３０を有している。処理ユニット１２
はダンバ１４０＝より制御される直径０．６ｍのクーラ
装置４８をａする一方、サイクロン２６１３からの入口
はダンバ１４２により制御される。クーラユニット３２
は第２の処理装置１２に結合され、吸気口３４、３６、
排出口３８、及び排出口４２を有するサイクロンコレク
タ４０を備えている。
ト２０、循環ファン２４を駆動する４馬力の駆動モータ
２２、及びサイクロンセパレータ２６である。各領域１
０Ａ，ＩＯＢ，１２Ａ，１２Ｂは補充吸気口２８及びサ
イクロンの排出口３０を有している。処理ユニット１２
はダンバ１４０＝より制御される直径０．６ｍのクーラ
装置４８をａする一方、サイクロン２６１３からの入口
はダンバ１４２により制御される。クーラユニット３２
は第２の処理装置１２に結合され、吸気口３４、３６、
排出口３８、及び排出口４２を有するサイクロンコレク
タ４０を備えている。
金網ベルト４４（幅約１２０ ｃｍ）は釣合いの取れる
。コンベヤベルト４４は処理ユニット１０、１２を通っ
て伸長し、駆動機構４６により駆動されてこれら処理ユ
ニット１０、１２の下方に復帰する。真空クリーニング
システムは処理ユニット１０、１２用の継手５２、及び
サイクロン２６の継手５３を有する導管を備えている。
。コンベヤベルト４４は処理ユニット１０、１２を通っ
て伸長し、駆動機構４６により駆動されてこれら処理ユ
ニット１０、１２の下方に復帰する。真空クリーニング
システムは処理ユニット１０、１２用の継手５２、及び
サイクロン２６の継手５３を有する導管を備えている。
ターラユニット３２に対する別のコンベヤ５４が駆動モ
ータ６０により駆動され、ターラユニット３２の両端に
てローラ５６、５Ｂに沿って回転する。
ータ６０により駆動され、ターラユニット３２の両端に
てローラ５６、５Ｂに沿って回転する。
処理ユニットの領域のさらに詳細は第４図から理解する
ことが出来る。第４図に図示するように、断熱体６２が
ハウジング１６の壁に配置されており、断熱体６２の内
面はステンレス鋼板材６４にて覆われている。処理しよ
うとする微粒子材料の処理チャンバ６６がハウジング１
６内に配設されている。このチャンパ６６は高さ約４５
ｃｍ、幅約１２６ ｃｍであり、処理領域の長さに沿
って伸長している。チャンパ６６はその下面が金網搬送
ベルト４４と境を接しており、その両側部が傾斜した排
出オリフィス構造体６８をその基部に有する垂直壁６７
と境を接している。この排出オリフィス構造体６８は処
理チャンバの長さに沿って伸長しかつ搬送ベルト４４の
上面と協働する。空気はオリフィス６８を通じて封じ込
めチャンパ構造体から流動する。各側壁６７の上方部分
には、排出口構造体７１が形成されており、この排出口
構造体７１は排出導管７２及び制御ダンバ７４を介して
排出通路７５に接続されている。管板構造体７６が各側
壁６７の上端にて棚状突起７７上に着座し、処理チャン
パ６６の上方境界を画成する。管板構造体７６は中心線
上にて約１０ ｃｍの間隔で離間された一列の細長い管
７８を担持し、処理領域６６の長さ及び幅に沿って伸長
する。各管７８は約３５ｃ＋ｎの長さを有し、その下端
は据え込み加工されており、コンベヤ４４から約１０
ｃｍ離間させたその下端が約１０ ｃｍの直径に縮径さ
れている。チャンバ６６内には、第６図の上昇位置（不
作動位置）と、管７８の下端の下方に離間された下方の
減速位置（第５図）との間を動き得る随意的選択のパン
フル板７９が配設されている。
ことが出来る。第４図に図示するように、断熱体６２が
ハウジング１６の壁に配置されており、断熱体６２の内
面はステンレス鋼板材６４にて覆われている。処理しよ
うとする微粒子材料の処理チャンバ６６がハウジング１
６内に配設されている。このチャンパ６６は高さ約４５
ｃｍ、幅約１２６ ｃｍであり、処理領域の長さに沿
って伸長している。チャンパ６６はその下面が金網搬送
ベルト４４と境を接しており、その両側部が傾斜した排
出オリフィス構造体６８をその基部に有する垂直壁６７
と境を接している。この排出オリフィス構造体６８は処
理チャンバの長さに沿って伸長しかつ搬送ベルト４４の
上面と協働する。空気はオリフィス６８を通じて封じ込
めチャンパ構造体から流動する。各側壁６７の上方部分
には、排出口構造体７１が形成されており、この排出口
構造体７１は排出導管７２及び制御ダンバ７４を介して
排出通路７５に接続されている。管板構造体７６が各側
壁６７の上端にて棚状突起７７上に着座し、処理チャン
パ６６の上方境界を画成する。管板構造体７６は中心線
上にて約１０ ｃｍの間隔で離間された一列の細長い管
７８を担持し、処理領域６６の長さ及び幅に沿って伸長
する。各管７８は約３５ｃ＋ｎの長さを有し、その下端
は据え込み加工されており、コンベヤ４４から約１０
ｃｍ離間させたその下端が約１０ ｃｍの直径に縮径さ
れている。チャンバ６６内には、第６図の上昇位置（不
作動位置）と、管７８の下端の下方に離間された下方の
減速位置（第５図）との間を動き得る随意的選択のパン
フル板７９が配設されている。
管板橋造体７６は、高さ約０．５ｍ及び幅約１．６ｍの
分配プレナム８０の下方壁の一部を形成する。
分配プレナム８０の下方壁の一部を形成する。
分配プレナム８０の上方壁の矩形の入口８２（直径約０
． ４ＸＯ、９ｍ）には、モータ２２により駆動される
ブロア２４からの管状導管８４を通じて空気が供給され
る。ダンパ構造体８６Ａ，８６Ｂが分配プレナム８０内
に流動する空気量を制御する。
． ４ＸＯ、９ｍ）には、モータ２２により駆動される
ブロア２４からの管状導管８４を通じて空気が供給され
る。ダンパ構造体８６Ａ，８６Ｂが分配プレナム８０内
に流動する空気量を制御する。
バーナ２０は再加熱チャンバ９０に結合されており、チ
ャンバ．９０を通じて入口８８からブロア２４に流動す
る空気を加熱する。
ャンバ．９０を通じて入口８８からブロア２４に流動す
る空気を加熱する。
下方分配プレナム９２がコンベヤベルト４４の下方に配
設されている。プレナム９２は約０．６ｍの高さ及び約
１．６＋ｎの幅を有している。分配プレナム９２の底部
を通って伸長するのは、バイパス導管９４であり、又、
真空クリーニング導管５２に接続されたプレナム９２の
底部のボート１００まで伸長する円錐形のコレクト構造
体９８、及び空気プラストマニホルド９６が、プレナム
９２内に配設されている。ブロア２４からの空気はダン
パ１０４、１０６の制御に従い、主導管１０２を通って
分配プレナム９２及びバイパス導管９４に供給される。
設されている。プレナム９２は約０．６ｍの高さ及び約
１．６＋ｎの幅を有している。分配プレナム９２の底部
を通って伸長するのは、バイパス導管９４であり、又、
真空クリーニング導管５２に接続されたプレナム９２の
底部のボート１００まで伸長する円錐形のコレクト構造
体９８、及び空気プラストマニホルド９６が、プレナム
９２内に配設されている。ブロア２４からの空気はダン
パ１０４、１０６の制御に従い、主導管１０２を通って
分配プレナム９２及びバイパス導管９４に供給される。
供給導管８４、１０２からの導管１０８、１１０は封じ
込めチャンパ構造体７０に接続されると共に、これら封
じ込めチャンパ７０への流量を制御するダンパ１１２を
備えている。プレナム９２はダンバ１１６により制御さ
れる入口の反対側に排出口１１４を有しており、この排
出口１１４は導管１１８を介して排出口構造体１２０に
接続され、この排出口構造体１２０には、導管７２も接
続されており、排気をサイクロンコレクタ２６に流動さ
せる。
込めチャンパ構造体７０に接続されると共に、これら封
じ込めチャンパ７０への流量を制御するダンパ１１２を
備えている。プレナム９２はダンバ１１６により制御さ
れる入口の反対側に排出口１１４を有しており、この排
出口１１４は導管１１８を介して排出口構造体１２０に
接続され、この排出口構造体１２０には、導管７２も接
続されており、排気をサイクロンコレクタ２６に流動さ
せる。
第５図乃至第８図の線図には、第１図乃至第３図に示し
たシステムの処理領域の作動モードが示されている。第
５図の線図には、微粒子材料を処理する「床を通る」下
方作動モードが示され、この場合、循環プロア２４が分
配プレナム８０及び管７８を通じて加熱空気をパッフル
７９に対して処理チャンパ６６内に流動させ、その空気
はバッフル７９を通って減速された速度にて下方に流動
し、粒子床及び搬送ベルト４４を通って下方プレナム９
２に入り、排出導管１１８を通ってサイクロンセバレー
タ２６に排出される。第６図の線図には、「床を通る」
上方作動モードが示されており、この場合、加熱された
空気はブロア２４により下方プレナム９２内に流動し、
搬送ベルト４４を通って上方に流動して処理領域６６に
入り、床内の粒子を流動化させ、導管７２及び排出継手
１２０を通じてサイクロンセパレータ２６に排出される
。第７図の線図には、流動化ジェット処理モードが示さ
れており、この場合、下方プレナム９２は加圧され、ノ
ズル７８から噴出された加熱された高速の下方空気流動
柱１５０が加圧されたコンベヤ４４にぶつかり、外方上
方に偏向され、コンベヤ４４上の微粒子材料を流動化さ
せ、その後、この空気は導管７２を通じてサイクロンセ
パレータ２６に排出される。
たシステムの処理領域の作動モードが示されている。第
５図の線図には、微粒子材料を処理する「床を通る」下
方作動モードが示され、この場合、循環プロア２４が分
配プレナム８０及び管７８を通じて加熱空気をパッフル
７９に対して処理チャンパ６６内に流動させ、その空気
はバッフル７９を通って減速された速度にて下方に流動
し、粒子床及び搬送ベルト４４を通って下方プレナム９
２に入り、排出導管１１８を通ってサイクロンセバレー
タ２６に排出される。第６図の線図には、「床を通る」
上方作動モードが示されており、この場合、加熱された
空気はブロア２４により下方プレナム９２内に流動し、
搬送ベルト４４を通って上方に流動して処理領域６６に
入り、床内の粒子を流動化させ、導管７２及び排出継手
１２０を通じてサイクロンセパレータ２６に排出される
。第７図の線図には、流動化ジェット処理モードが示さ
れており、この場合、下方プレナム９２は加圧され、ノ
ズル７８から噴出された加熱された高速の下方空気流動
柱１５０が加圧されたコンベヤ４４にぶつかり、外方上
方に偏向され、コンベヤ４４上の微粒子材料を流動化さ
せ、その後、この空気は導管７２を通じてサイクロンセ
パレータ２６に排出される。
第８図の線図には、処理システムの冷却モードが示され
ており、この場合、サイクロン２６から排出された空気
はプロアファン１３０、？６却コイル１３２及びダンパ
１３４、１３６、１３８を有する補助的な冷却回路を通
じて流れ、ダンバ１４０の制御に従って大気と混合され
、ダンバ１４０の制御により、入口４８を通ってチャン
パ９０に戻り、その処理領域が流動化ジエソト冷却モー
ドにて作動し、戻り遮断ダンパ１４２は閉じられる。
ており、この場合、サイクロン２６から排出された空気
はプロアファン１３０、？６却コイル１３２及びダンパ
１３４、１３６、１３８を有する補助的な冷却回路を通
じて流れ、ダンバ１４０の制御に従って大気と混合され
、ダンバ１４０の制御により、入口４８を通ってチャン
パ９０に戻り、その処理領域が流動化ジエソト冷却モー
ドにて作動し、戻り遮断ダンパ１４２は閉じられる。
第５図を参照すると、再加熱チャンバ９０内の空気はバ
ーナ２０により加熱され、ブロア２４により循環される
。上方プレナム８０に対するダンバ弁８６が開放する。
ーナ２０により加熱され、ブロア２４により循環される
。上方プレナム８０に対するダンバ弁８６が開放する。
封じ込めチャンバの制御ダンパ弁１０４は閉している。
バイパスダンパ弁１０６は開放している。処理チャンバ
の排出ダンバ弁７４は閉じている。下方プレナム排出制
御井１１６は開放している。この「床を通って」の下方
流動モードにて図示された作動順序において、ブロア２
４は１２１°Ｃの温度に加熱された空気を分配導管８４
、１０２に対し標準的な供給ｆｆｌ （ＳＣ關）である
８４ｍ＋３／分の量にて供給する。制御ダンパ８６、１
０６は上方プレナム８０に３５ ＳＣ）ｌｉｔの流量及
びバイパス導管９４に４６ ＳＣＭＭの流量を供給し得
るように調節される。封じ込めチャンバ制御ダンパ１１
２は金網ベルト４４の端縁に隣接する各封じ込めチャン
パ７０に対して０． ８ ８ＣＭＩｉの空気量を供給し
、処理しようとする微粒子材料（例えば乾燥させた）を
チャンバ６６内に保持し得るように設定される。この作
動モードにおいて、有孔のバッフル板７９は管７８の下
方のオフセット位置に位置決めされ、管７８から噴出さ
れるジェット１５０を偏向させ、かつ搬送コンベヤベル
ト４４上の微粒子材料床にぶつかる空気流の速度を減速
させる。加熱されたガスは微粒子材料床を通って下方に
流動し、乾燥又はその他の処理相互作用を行い、次に、
下方プレナム９２内に入り、制御ダンパ１１６及び排出
導管１１８からサイクロン２６に排出される。サイクロ
ン２６からの排気は再循環されてチャンバ９０を再加熱
し、８． ５ ８ＣＭｉｌの量がダンバ弁１２１からｔ
ｊＦ出ファン１２２に排出され、４．５８ＣＭＭの量が
ダンバ弁１２４の制御により大気吸気口２８から吸引さ
れ、バーナ２０を通って戻り、再加熱を行った後に循環
ブロア２４に達する。
の排出ダンバ弁７４は閉じている。下方プレナム排出制
御井１１６は開放している。この「床を通って」の下方
流動モードにて図示された作動順序において、ブロア２
４は１２１°Ｃの温度に加熱された空気を分配導管８４
、１０２に対し標準的な供給ｆｆｌ （ＳＣ關）である
８４ｍ＋３／分の量にて供給する。制御ダンパ８６、１
０６は上方プレナム８０に３５ ＳＣ）ｌｉｔの流量及
びバイパス導管９４に４６ ＳＣＭＭの流量を供給し得
るように調節される。封じ込めチャンバ制御ダンパ１１
２は金網ベルト４４の端縁に隣接する各封じ込めチャン
パ７０に対して０． ８ ８ＣＭＩｉの空気量を供給し
、処理しようとする微粒子材料（例えば乾燥させた）を
チャンバ６６内に保持し得るように設定される。この作
動モードにおいて、有孔のバッフル板７９は管７８の下
方のオフセット位置に位置決めされ、管７８から噴出さ
れるジェット１５０を偏向させ、かつ搬送コンベヤベル
ト４４上の微粒子材料床にぶつかる空気流の速度を減速
させる。加熱されたガスは微粒子材料床を通って下方に
流動し、乾燥又はその他の処理相互作用を行い、次に、
下方プレナム９２内に入り、制御ダンパ１１６及び排出
導管１１８からサイクロン２６に排出される。サイクロ
ン２６からの排気は再循環されてチャンバ９０を再加熱
し、８． ５ ８ＣＭｉｌの量がダンバ弁１２１からｔ
ｊＦ出ファン１２２に排出され、４．５８ＣＭＭの量が
ダンバ弁１２４の制御により大気吸気口２８から吸引さ
れ、バーナ２０を通って戻り、再加熱を行った後に循環
ブロア２４に達する。
第６図に示した作動モードにおいて、上方プレナム制御
ダンパ８６は閉じられている。ダンパ１０４、１０６は
開放し、下方プレナムへの流量が３５ Ｓ（ＪＭ，バイ
パス導管９４への流量が４５ ３ＣＭｌａとなるように
調節される。到じ込めチャンパの制御ダンパ１１２は各
刺じ込めチャンパ７０への流量がＬ．７ＳＣＭＭとなる
ように設定され、処理チャンバの排出制御ダンパ７４は
サイクロンコレクタ２６の入口に対する総流量が約８４
３ＣＩｉＭとなるように設定される。ダンパ１２１、
１２４はチャンパ９０への大気の吸引、及び余剰空気の
排出ファン１２２への排出が適当に調節されるように設
定される。この作動モードにおいて、コンベヤ４４上の
粒子床を通って上方に流動する加熱空気は上方に流動す
る床形成粒子の処理を行う。
ダンパ８６は閉じられている。ダンパ１０４、１０６は
開放し、下方プレナムへの流量が３５ Ｓ（ＪＭ，バイ
パス導管９４への流量が４５ ３ＣＭｌａとなるように
調節される。到じ込めチャンパの制御ダンパ１１２は各
刺じ込めチャンパ７０への流量がＬ．７ＳＣＭＭとなる
ように設定され、処理チャンバの排出制御ダンパ７４は
サイクロンコレクタ２６の入口に対する総流量が約８４
３ＣＩｉＭとなるように設定される。ダンパ１２１、
１２４はチャンパ９０への大気の吸引、及び余剰空気の
排出ファン１２２への排出が適当に調節されるように設
定される。この作動モードにおいて、コンベヤ４４上の
粒子床を通って上方に流動する加熱空気は上方に流動す
る床形成粒子の処理を行う。
第７図に示した第３の作動モードにおいて、上方プレナ
ムチャンバダンバ弁８６はプレナム８０内への空気量が
５９ ＳＣＭＭとなるように調節される。
ムチャンバダンバ弁８６はプレナム８０内への空気量が
５９ ＳＣＭＭとなるように調節される。
封じ込めチャンパのダンパ弁１１２は各封じ込めチャン
パ７０への空気の流量が１２ ５ＣＭＭとなるように調
節される。バイパスダクト制御ダンバ１０６は閉じられ
る。下方プレナム排出ダンバ１１６も閉じられる。下方
プレナム吸込み制御ダンバ弁１０４は下方プレナム９２
を十分に加圧して、ノズル管７８からコンベヤ４４に当
たる空気ジェット１５０の力を均衡させるように調節さ
れる。処理チャンバの排出制御ダンパ７４は開放してい
る。
パ７０への空気の流量が１２ ５ＣＭＭとなるように調
節される。バイパスダクト制御ダンバ１０６は閉じられ
る。下方プレナム排出ダンバ１１６も閉じられる。下方
プレナム吸込み制御ダンバ弁１０４は下方プレナム９２
を十分に加圧して、ノズル管７８からコンベヤ４４に当
たる空気ジェット１５０の力を均衡させるように調節さ
れる。処理チャンバの排出制御ダンパ７４は開放してい
る。
この作動モードにおいて、ノズル管７８からの加熱され
た下方流動空気柱１５０は加圧された有孔コンベヤ上の
粒子に当たり、外方上方に偏向され、微粒子材料を流動
化させ、その後、空気は排出制御ダンパ７４を通じてコ
ンベヤ４４から上方に向けてサイクロンセパレータ２６
に排出される。
た下方流動空気柱１５０は加圧された有孔コンベヤ上の
粒子に当たり、外方上方に偏向され、微粒子材料を流動
化させ、その後、空気は排出制御ダンパ７４を通じてコ
ンベヤ４４から上方に向けてサイクロンセパレータ２６
に排出される。
第８図に示したシステムの作動モードは、ジェット流動
化冷却モードであり、冷却空気をクーラ１３２を通じて
供給する随意的選択の回路と共に、加圧された下方プレ
ナム９２及び単一の空気バス回路を利用するものである
。吸気口４８を通じてチャンバ９０に供給される冷却空
気及び大気の相対的な量は。ダンパ１３８、１４０によ
り制御される。
化冷却モードであり、冷却空気をクーラ１３２を通じて
供給する随意的選択の回路と共に、加圧された下方プレ
ナム９２及び単一の空気バス回路を利用するものである
。吸気口４８を通じてチャンバ９０に供給される冷却空
気及び大気の相対的な量は。ダンパ１３８、１４０によ
り制御される。
管７８からの流動化流れの適当な速度、及び下方分配プ
レナム９２内の適当なに圧力は主として、熱処理せんと
する微粒子の種類いかんにより決まる。例えば、ピーナ
ツを加熱するとき、ジェ，ト１５０の典型的な速度は３
． ６００ ｍ／ｍｉｎで、下方圧カプレナム９２内の
圧力は約１８ ｃｍ水柱（ジェソト１５０の衝撃圧力に
少なくとも等しく、処理空気が、側壁６７の上方部分の
排出通路７２を通って処理チャンパ６６からコンベヤ４
４の上方に排出されるようにする）。米のような粒状材
料を処理する場合、より低速のジェッ｝１５０ （例え
ば、３．０００ ｍ／ｆｆｉｉｎ）を採用し、これに応
じて下方分配プレナム９２内の圧力も約５インチ水柱の
値にまで低下させる。穀類フレークのようなより軽い製
品は、１． ８００乃至２，４００ ｍ／ｍｉｎ程度の
速度、約２２０°Ｃの温度のジェットにより、及び約６
．５ｃｍ水柱の下方プレナム９２内の圧力により流動化
され、加熱されよう。典型的な冷却作動モードにおいて
、製品から水分が除去されているため、微粒子材料はよ
り軽量であり、典型的な製品は、約３，０００ｍ／Ｉｌ
ｉｎのジェット速度、及び約１６ ｃｏ水柱のチャンバ
９２内の圧力により大気温度にて、良好に流動化させる
ことが可能である。
レナム９２内の適当なに圧力は主として、熱処理せんと
する微粒子の種類いかんにより決まる。例えば、ピーナ
ツを加熱するとき、ジェ，ト１５０の典型的な速度は３
． ６００ ｍ／ｍｉｎで、下方圧カプレナム９２内の
圧力は約１８ ｃｍ水柱（ジェソト１５０の衝撃圧力に
少なくとも等しく、処理空気が、側壁６７の上方部分の
排出通路７２を通って処理チャンパ６６からコンベヤ４
４の上方に排出されるようにする）。米のような粒状材
料を処理する場合、より低速のジェッ｝１５０ （例え
ば、３．０００ ｍ／ｆｆｉｉｎ）を採用し、これに応
じて下方分配プレナム９２内の圧力も約５インチ水柱の
値にまで低下させる。穀類フレークのようなより軽い製
品は、１． ８００乃至２，４００ ｍ／ｍｉｎ程度の
速度、約２２０°Ｃの温度のジェットにより、及び約６
．５ｃｍ水柱の下方プレナム９２内の圧力により流動化
され、加熱されよう。典型的な冷却作動モードにおいて
、製品から水分が除去されているため、微粒子材料はよ
り軽量であり、典型的な製品は、約３，０００ｍ／Ｉｌ
ｉｎのジェット速度、及び約１６ ｃｏ水柱のチャンバ
９２内の圧力により大気温度にて、良好に流動化させる
ことが可能である。
このようにして、該処理システムは微粒子材料の連続的
な処理を可能とし、特定の材料及び特定の用途に望まれ
るように、制御された環境内にて異なる加熱及び冷却処
理モード工程を選択的に行うことを可能にする。
な処理を可能とし、特定の材料及び特定の用途に望まれ
るように、制御された環境内にて異なる加熱及び冷却処
理モード工程を選択的に行うことを可能にする。
本発明の特定の実施例について説明したが、当業者には
幾多の変形例が明らかであろうし、故に、本発明は開示
された実施例又はその細部に限定されるものではなく、
本発明の精神及び範囲内にて変形例を採用することが可
能である。
幾多の変形例が明らかであろうし、故に、本発明は開示
された実施例又はその細部に限定されるものではなく、
本発明の精神及び範囲内にて変形例を採用することが可
能である。
第１図は本発明による処理システムの側面図、第２図は
第１図に示した処理システムの平面図、第３図は第１図
に示した処理システムの端面図、第４図は第１図の線４
−４に沿った断面図、第５図乃至第８図は第１図に示し
たシステムの処理領域の作動モードを示す線図である。 １０、１２：処理ユニット １４：支持部材 １６：ハウジング１８：アクセス
板 ２０：バーナユニット２２：駆動モータ ２４
：循環ファン２６：サイクロンセパレータ ２８・吸気口 ３０：排出口 ３２：クーラユニット ３４ ： ３６ ：吸気口 ３８、４２：排出口 ４０：サイクロンコネクタ ４４：コンベヤベルト ４６：駆動機構 ４８：吸気口 ５２、５３：継ぎ手 ５４：コンベヤ ５６、５８：ローラ ６０：駆動モータ ６２・断熱体 ６４・板材 ６６：処理チャンバ６７：壁 ６８：オリフィス構造体 ７０：チャンパ構造体 ７１：排出口構造体 ７２：排出導管 ７４：制御パンダ７５：排出通路
７６ ７７：棚状突起 ７８：ノズル管 ７９：パッフル板 ８０：分配プレナム ８２：入口 ８４：導管 ８６；ダンパ ８８：入口 ９０：チャンバ ９２：分配プレナム ９４：バイパス導管 ９６：ブラストマニホルド ９８；コレクト構造体 １００：ポート １０２：主導管１０４、１０６
：ダンパ １０８、１１０：導管 １１２：ダンパ １１４；排出口１１６：ダンパ
１１８：導管 １２０二排出口構造体 １２１、１２４：ダンバ １２２：排出ファン 管状構造体 １３０：ブロアファン １３２：コイル １３４、１３６、１３８：ダンバ １４０、１４２：ダンバ １５０：ジェット ＦＩＧ． ３ ＲＧ７ ＦＩＧ．６
第１図に示した処理システムの平面図、第３図は第１図
に示した処理システムの端面図、第４図は第１図の線４
−４に沿った断面図、第５図乃至第８図は第１図に示し
たシステムの処理領域の作動モードを示す線図である。 １０、１２：処理ユニット １４：支持部材 １６：ハウジング１８：アクセス
板 ２０：バーナユニット２２：駆動モータ ２４
：循環ファン２６：サイクロンセパレータ ２８・吸気口 ３０：排出口 ３２：クーラユニット ３４ ： ３６ ：吸気口 ３８、４２：排出口 ４０：サイクロンコネクタ ４４：コンベヤベルト ４６：駆動機構 ４８：吸気口 ５２、５３：継ぎ手 ５４：コンベヤ ５６、５８：ローラ ６０：駆動モータ ６２・断熱体 ６４・板材 ６６：処理チャンバ６７：壁 ６８：オリフィス構造体 ７０：チャンパ構造体 ７１：排出口構造体 ７２：排出導管 ７４：制御パンダ７５：排出通路
７６ ７７：棚状突起 ７８：ノズル管 ７９：パッフル板 ８０：分配プレナム ８２：入口 ８４：導管 ８６；ダンパ ８８：入口 ９０：チャンバ ９２：分配プレナム ９４：バイパス導管 ９６：ブラストマニホルド ９８；コレクト構造体 １００：ポート １０２：主導管１０４、１０６
：ダンパ １０８、１１０：導管 １１２：ダンパ １１４；排出口１１６：ダンパ
１１８：導管 １２０二排出口構造体 １２１、１２４：ダンバ １２２：排出ファン 管状構造体 １３０：ブロアファン １３２：コイル １３４、１３６、１３８：ダンバ １４０、１４２：ダンバ １５０：ジェット ＦＩＧ． ３ ＲＧ７ ＦＩＧ．６
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、微粒子処理領域を画成するハウジング構造体と、 及び前記処理領域を通って動き得るように配置された、
熱処理しようとする微粒子材料を支持する有孔コンベヤ
構造体とを備える、微粒子材料の多モード熱処理システ
ムにして、前記ハウジング構造体が、前記処理領域の上
方に配置された第１の分配プレナム及び前記第１の分配
プレナムから前記処理領域内に下方に伸長する一列のノ
ズル管を画成する構造体であって、調成されたガスを前
記相当な速度にて前記ノズル管を通って前記処理領域内
まで流動させ、前記コンベヤ構造体により前記処理領域
を通って運ばれつつある微粒子材料を熱処理する前記構
造体と、前記処理領域の下方に配置され、前記処理領域
の下側領域を加圧し、調成されたガスを前記コンベヤ構
造体を通って上方に流動させ、前記コンベヤ上の微粒子
材料を処理する第２の分配プレナムを画成する構造体と
、 前記第１及び第２の分配プレナム構造体に接続された調
成ガス回路構造体と、 前記ガスの調成ガス回路構造体内に設けられ、前記第１
及び第２の分配プレナム構造体を通るガスの分配及び該
構造体から前記処理領域内へのガスの排出を制御し、前
記処理領域内における微粒子製品の異なる処理モードを
選択的に提供する制御構造体と、を備えることを特徴と
する微粒子材料の多モード熱処理システム。 ２、請求項１記載の熱処理システムにして、前記有孔コ
ンベヤ構造体が金網搬送ベルトを備えることを特徴とす
る熱処理システム。 ３、請求項１又は２に記載の熱処理システムにして、 前記ノズル管が、中心線上にて２５ｃｍ以下の間隔に離
間されて垂直方向に配設され、かつ前記処理領域の長さ
及び幅に沿って伸長し、 前記各管の下端が前記有孔コンベヤ構造体から約１０ｃ
ｍ離間され、 前記有構造体コンベヤ構造体が、直径０．１乃至１．０
ｃｍの範囲の孔を有することを特徴とする熱処理システ
ム。 ４、請求項１乃至３の何れかに記載の熱処理システムに
して、 前記粒子処理領域を画成する構造体が、傾斜した排出オ
リフィス構造体を有する垂直壁をその両側に備え、 前記傾斜した排出オリフィス構造体が、前記垂直壁の底
部にあり、処理領域の長さに沿って伸長し、かつ前記有
孔コンベヤ構造体の上面と協働し、空気が該オリフィス
構造体を通って封じ込めチャンバ構造体から流動するよ
うにし、 前記ハウジング構造体に複数の前記粒子処理領域を画成
する構造体を備える断熱された構造体が提供されるよう
にしたことを特徴とする熱処理システム。 ５、請求項１乃至４の何れかに記載の熱処理システムに
して、 処理領域を画成する前記構造体が、制御弁構造体を介し
て排出導管構造体に接続された排出口構造体を備えるこ
とを特徴とする熱処理システム。 ６、請求項１乃至５の何れかに記載の熱処理システムに
して、 前記制御構造体により前記調成ガス回路構造体内に提供
された微粒子製品の前記異なる処理モードが、 前記調成ガスが前記第２の分配プレナムに流動され、相
当な速度による多数の下向きジェットの形態の前記一列
のノズル管を通って流動するガスの流れと協働して、前
記第２の分配プレナムを正圧に維持し、 前記処理領域内にて、前記コンベヤ構造体上の微粒子材
料を流動化させかつ熱処理し、 前記処理領域からのガスが上方向に向け前記コンベヤ構
造体から排出されるようにするような、前記領域内にお
ける処理モードを備えることを特徴とする熱処理システ
ム。 ７、請求項１乃至６の何れかに記載の熱処理システムに
して、 前記処理領域内にバッフル板構造体を設け、前記バッフ
ル板構造体が、前記ノズル管の下端及び前記コンベヤ構
造体間にて、上昇位置（不作動）と下方の減速位置との
間を可動であるようにしたことを特徴とする熱処理シス
テム。 ８、請求項１乃至７の何れかに記載の熱処理システムに
して、 空気ブラスト構造体、及び前記第２の分配プレナムに結
合された真空構造体を提供し、前記コンベヤ及び前記第
２の分配プレナムから塵埃を除去することを特徴とする
熱処理システム。 ９、請求項１乃至８の何れかに記載の熱処理システムに
して、 前記調成ガス回路構造体が、調成ガスを加熱するバーナ
手段と、前記調成ガスを循環させるブロア手段と、前記
各処理領域と前記調成ガス回路構造体との間にてフィー
ドバックループ状態に結合されたサイクロンセパレータ
構造体と、を備えることを特徴とする熱処理システム。 １０、請求項１乃至９の何れかに記載の熱処理システム
にして、 調成ガスが、前記処理領域及び前記有孔コンベヤ構造体
を通って前記第１の分配プレナムから前記第２の分配プ
レナムまで下方に向けて流動され、該分配プレナムから
排出される第１の作動モードと、 調成ガスが、前記有孔コンベヤ構造体を通って前記第２
の分配プレナムから前記処理領域内に上方に流動しかつ
該処理領域から排出される第２の作動モードと、 及び前記調成ガスが、前記第２の分配プレナム内に流動
され、相当な速度による多数の下向きのジェットの形態
にて前記一列のノズルを通って流動するガスの流れと協
働して前記第２の分配プレナムを正圧に維持すると共に
、前記処理領域内にて、前記コンベヤ構造体上の微粒子
材料を流動化させかつ熱処理し、ガスが前記処理領域か
ら上方向に前記コンベヤ構造体から排出されるようにす
る第３の処理モードと、を備えることを特徴とする熱処
理システム。
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