JPH0348849A - Photosensitive material developing processor - Google Patents

Photosensitive material developing processor

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Publication number
JPH0348849A
JPH0348849A JP18437989A JP18437989A JPH0348849A JP H0348849 A JPH0348849 A JP H0348849A JP 18437989 A JP18437989 A JP 18437989A JP 18437989 A JP18437989 A JP 18437989A JP H0348849 A JPH0348849 A JP H0348849A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
photosensitive material
plate
supplied
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18437989A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoaki Takekoshi
友昭 竹越
Hisao Oba
大場 久男
Sho Nakao
中尾 捷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP18437989A priority Critical patent/JPH0348849A/en
Publication of JPH0348849A publication Critical patent/JPH0348849A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To apply developer to the under surface of a photosensitive material and to prevent the generation of irregularlines by supplying developer to a wire bar, arranged so as to touch at least the under surface of a photosensitive material, and rotatably applying developer controlling its quantity. CONSTITUTION:The photosensitive material such as a lithographic printing plate, which has a printed image on top and under surfaces is carried to a developer-applying part; developer in a container 30 is supplied to the wire bar 28, which is disposed below a carrying path so that the bar 28 touches the photosensitive material; the under surface of the photosensitive material is applies with developer while the bar 28 is rotated. Then, the top surface of the photosensitive material is similarly applied with the developer by the bar 28 disposed on the upper side of the carrying path. Development progresses during the carry, excessive and residual developer is squeezed out in a develop ing part, and the residual developer is removed by rinse in a rinsing part.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、画像が焼付けられた感光材料の表面へ現像液
を塗布して現像処理する感光材料現像処理装置に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a photosensitive material development processing apparatus that performs development processing by applying a developer to the surface of a photosensitive material on which an image has been printed.

[従来の技術] 画像が焼付けられた例えば感光性平版印刷版等の感光材
料は感光材料現像処理装置内で搬送されながら現像液が
版面上へ供給されて現像処理される。
[Prior Art] A photosensitive material, such as a photosensitive lithographic printing plate, on which an image has been printed is conveyed within a photosensitive material development processing device, and a developer is supplied onto the plate surface for development processing.

感光材料へ現像液を供給する供給方法として、現像液を
版面上へ供給した後に計量手段で所定量に計量して現像
処理し、使用後の現像液を廃棄する現像液塗布方式、い
わゆるメータリング方式が特開昭62−59957号、
特開昭62−238564号で提案されている。
As a supply method for supplying developer to photosensitive materials, there is a developer application method, so-called metering, in which the developer is supplied onto the plate surface, then measured to a predetermined amount using a metering device for development processing, and the developer is discarded after use. The method is JP-A No. 62-59957,
This is proposed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-238564.

また感光材料へ現像液を供給する供給方法として、スプ
レーパイプによって上下両面の版面上へ現像液を噴霧し
て供給する方法も提案されている。
Furthermore, as a method of supplying the developer to the photosensitive material, a method has also been proposed in which the developer is sprayed onto both the upper and lower plate surfaces using a spray pipe.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記従来の現像液塗布方式では、搬送さ
れる感光材料の上面へ現像液を供給することは出来るが
、感光材料の下面側に現像液を供給しても現像液の自重
で下方へ落下してしまい、下面へ現像液を供給すること
が出来なかった。したがっていわゆるメータリング方式
の現像方式では下面側へ現像液を供給することが出来な
かったので、両面または下面側に画像が焼付けられた感
光材料は現像することが出来なかった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional developer application method described above, although it is possible to supply the developer to the upper surface of the photosensitive material being transported, it is not possible to supply the developer to the lower surface of the photosensitive material. The developer also fell downward due to its own weight, making it impossible to supply the developer to the bottom surface. Therefore, in the so-called metering development method, it was not possible to supply a developer to the lower surface, and therefore a photosensitive material with images printed on both sides or the lower surface could not be developed.

さらに上記スプレー式の場合には、現像液を感光材料の
版面上へ均一に噴霧することが出来ないので、感光材料
の裏面側版面上へ均一に現像液を供給することが出来な
いという問題がある。感光材料の版面上へ現像液を均一
に供給することが出来ない場合には、感光材料の版面上
にいわゆるすじむらが生じる。
Furthermore, in the case of the above-mentioned spray type, since the developer cannot be sprayed uniformly onto the plate surface of the photosensitive material, there is a problem that the developer cannot be uniformly supplied onto the back side plate surface of the photosensitive material. be. If the developer cannot be uniformly supplied onto the plate surface of the photosensitive material, so-called uneven streaks occur on the plate surface of the photosensitive material.

本発明は上記事実を考慮し、感光材料の少なくとも下面
側へ所定量の現像液を供給することが出来る感光材料現
像処理装置を提供することが目的である。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned facts, it is an object of the present invention to provide a photosensitive material development processing apparatus that can supply a predetermined amount of developer to at least the lower surface of a photosensitive material.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、画像が焼付けられ
た感光材料を搬送しながら現像液を塗布して現像処理す
る感光材料現像処理装置であって、現像液を供給する現
像液供給手段と、現像液供給手段によって供給された現
像液を一時貯留する現像液貯留手段と、感光材料の少な
くとも下面側に当接配置すると共に現像液貯留手段から
供給された現像液を計量しながら前記感光材料へ塗布す
る計量回転塗布手段と、を有することを特徴としている
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a photosensitive material development processing apparatus that applies a developer to the photosensitive material while conveying the photosensitive material on which an image has been printed, and processes the photosensitive material by applying a developer. a developer supply means for supplying a developer; a developer storage means for temporarily storing the developer supplied by the developer supply means; and a developer disposed in contact with at least the lower surface side of the photosensitive material and supplied from the developer storage means. The present invention is characterized by comprising a metering rotation coating means for applying the liquid onto the photosensitive material while measuring the liquid.

[作用] 上記構成の本発明では、現像液供給手段によって現像液
が現像液貯留部へ供給された後にこの現像液貯留部から
計量回転塗布手段へ供給される。
[Function] In the present invention having the above configuration, the developer is supplied to the developer reservoir by the developer supply means and then supplied from the developer reservoir to the metering rotary coating means.

計量回転塗布手段は搬送される感光材料へ当接配置され
ているので、現像液を計量しながら感光材料の表面へ現
像液を塗布する。この場合感光材料の下面側へは、現像
液が計量回転塗布手段によって塗布されるので、現像液
が自重で下方へ落下することがない。
Since the metering rotary coating means is disposed in contact with the photosensitive material being transported, it applies the developer onto the surface of the photosensitive material while metering the developer. In this case, since the developer is applied to the lower surface of the photosensitive material by the metered rotation coating means, the developer does not fall downward under its own weight.

ここで、現像液貯留部から計量回転塗布手段へ現像液を
供給する場合、現像液貯留部から現像液がオーバーフロ
ーして計量回転塗布手段へ供給される。
Here, when the developer is supplied from the developer reservoir to the metered rotary coating means, the developer overflows from the developer reservoir and is supplied to the metered rotary coater.

また現像液貯留部から計量回転塗布手段へ現像液を供給
する場合、現像液貯留部へ貯留された現像液盛り上がっ
た表面の近傍へ回転塗布手段を配置することによって現
像液が計量回転塗布手段へ引っ張られ、現像液が現像液
貯留部から計量回転塗布手段へ供給され、感光材料へ現
像液が供給される。
When the developer is supplied from the developer reservoir to the metered rotary coating means, the rotary coater is disposed near the raised surface of the developer stored in the developer reservoir so that the developer is supplied to the metered rotary coater. The developer is supplied from the developer reservoir to the metering rotary coating means, and the developer is supplied to the photosensitive material.

[実施例コ 第1図には本発明に係る感光材料現像処理装置10の実
施例が示されている。
[Embodiment] FIG. 1 shows an embodiment of a photosensitive material processing apparatus 10 according to the present invention.

感光材料処理装置1−0には図示しない焼付装置で、上
下両面へ画像が焼付けられた感光材料である感光性平版
印刷版(以下「28版」という)12へ現像液を塗布す
る現像液塗布部14と、搬送中にPS版12が塗布され
た現像液で現像処理される現像部16と、現像後のPS
版12を水洗するための水洗部18と、PS版12ヘフ
イニツシング液を塗布するためのフイニツシング部20
とを備えている。これらの現像液塗布部14、現像部1
6、水洗部18、フイニツシング部20は感光材料現像
処理装置10内に順に設けられており、一対の搬送ロー
ラ対22から感光材料現像処理装置10内へ挿入された
PS版12は第1図略水平方向(矢印六方向)へ搬送さ
れて順次処理される。
The photosensitive material processing apparatus 1-0 uses a printing device (not shown) to apply a developer to a photosensitive planographic printing plate (hereinafter referred to as "28th plate") 12, which is a photosensitive material with images printed on both upper and lower surfaces. 14, a developing section 16 where the PS plate 12 is developed with a developer applied during transportation, and a PS plate 12 after development.
A washing section 18 for washing the plate 12 with water, and a finishing section 20 for applying finishing liquid to the PS plate 12.
It is equipped with These developer application section 14 and development section 1
6. A water washing section 18 and a finishing section 20 are provided in order in the photosensitive material development processing apparatus 10, and the PS plate 12 inserted into the photosensitive material development processing apparatus 10 from a pair of transport rollers 22 is shown in the first illustration (omitted). They are transported horizontally (in the six directions of arrows) and processed one after another.

現像液塗布部14には現像排液槽24が配設されている
。この現像排液槽24は上方が開口され、底部中央部が
下方に向けて突出された略逆山形状となっている。
A developer drainage tank 24 is provided in the developer application section 14 . The developer drain tank 24 is open at the top and has a substantially inverted mountain shape with the bottom center portion protruding downward.

現像排液槽24の上方でPS版12の搬送路の上流側に
は一対の搬送ローラ対26が配置されている。この搬送
ローラ対26間には搬送ローラ対22から送り出された
PS版12が挿入され、現像排液槽24上へPS版12
を送り出す。
A pair of transport rollers 26 is arranged above the developer drain tank 24 and on the upstream side of the transport path for the PS plate 12 . The PS plate 12 sent out from the transport roller pair 22 is inserted between the transport roller pair 26, and the PS plate 12 is transferred onto the developer drainage tank 24.
send out.

PS版12の搬送路の下方には現像液回転塗布手段であ
るワイヤパー28と、桶30が配置されている。さらに
搬送方向下流側には搬送路の上部のワイヤパー28と桶
32が配置されている。
A wire parser 28 and a tub 30 are arranged below the conveyance path of the PS plate 12, which is a developer rotation coating means. Further, on the downstream side in the conveyance direction, a wire parser 28 and a tub 32 are arranged at the upper part of the conveyance path.

PS版12の搬送路の下部に配設されるワイヤパー28
は第3図に示されるように、シャフト34の外周へワイ
ヤ35が螺旋状に巻き付けられて形成されている。この
ワイヤパー28は第2図に示されるようにモータ27の
駆動軸とベルト29を介して連結されており、モータ2
7の駆動力が伝達されて時計方向へ回転する。
Wire par 28 arranged at the bottom of the conveyance path of the PS plate 12
As shown in FIG. 3, a wire 35 is spirally wound around the outer periphery of a shaft 34. This wire par 28 is connected to the drive shaft of a motor 27 via a belt 29 as shown in FIG.
7 is transmitted and rotates clockwise.

現像液貯留手段である桶30は第2図に示されるように
断面形状が略し字状で長手方向両端部に壁30Aが設け
られた箱状に形成されている。この桶30は水平に対し
コーナ一部が下方に位置するように傾斜して配置されて
おり、コーナ一部分に現像液貯留部30Bが形成されて
現像液が貯留されている。桶30の先端部はワイヤパー
28の外周面と近接しており、現像液貯留部30B内へ
収容された現像液が先端部からオーバーフローしワイヤ
パー28上へ供給される。
As shown in FIG. 2, the tub 30 serving as a developer storage means is formed into a box-like shape with an abbreviated cross-sectional shape and walls 30A provided at both ends in the longitudinal direction. This tub 30 is arranged so as to be inclined with respect to the horizontal so that a part of the corner is located below, and a developer storage part 30B is formed in a part of the corner to store the developer. The tip of the tub 30 is close to the outer peripheral surface of the wire par 28, and the developer stored in the developer reservoir 30B overflows from the tip and is supplied onto the wire par 28.

また現像液貯留部30B内からワイヤパー28へ現像液
を供給する際に、現像液貯留部30B内の現像液の表面
に近接してワイヤパー28を配置することによって、現
像液の表面がワイヤパー28へ引っ張られてワイヤパー
へ現像液を供給しても良い。
Furthermore, when supplying the developer from inside the developer storage section 30B to the wire par 28, by arranging the wire par 28 close to the surface of the developer in the developer storage section 30B, the surface of the developer can be transferred to the wire par 28. The developer may be supplied to the wire par by being pulled.

また桶30の先端部とワイヤパー28との間隙0.1〜
2.0闘が好ましい。
Also, the gap between the tip of the tub 30 and the wire par 28 is 0.1~
2.0 fight is preferred.

ワイヤパー28上へ供給された現像液はモータ27の駆
動力による第2図時計方向への回転で搬送されているP
S版12へ塗布される。この塗布量はワイヤ35の径に
よって設定され、ワイヤ35の径が大きければ、ワイヤ
35間へ付着する現像液の量も多いので塗布量も多い。
The developer supplied onto the wire par 28 is rotated clockwise in FIG.
It is applied to the S plate 12. The amount of application is determined by the diameter of the wire 35, and the larger the diameter of the wire 35, the larger the amount of developer that adheres between the wires 35, and therefore the amount of application.

またワイヤ35の径が小さければ、塗布量は少ない。ワ
イヤパー28の回転速度すなわちモータ27の回転速度
を変えることによって現像液の塗布量を調節することが
できる。さらに回転方向を逆転し、また同時に回転速度
を変えて塗布量を調節することも可能である。
Moreover, if the diameter of the wire 35 is small, the amount of coating is small. By changing the rotational speed of the wire par 28, that is, the rotational speed of the motor 27, the amount of developer applied can be adjusted. Furthermore, it is also possible to adjust the coating amount by reversing the direction of rotation and changing the rotation speed at the same time.

桶30とPS版12の搬送路との間にはスプレーバイブ
36が配置されている。スプレーバイブ36は軸方向に
沿って複数の吐出口36Aが桶30のコーナ一部に向か
って、等間隔に開口している。スプレーバイブ36には
管路40が連通されている。この管路40は管路゛42
から分岐されている。管路42は現像液タンク44の底
部と連通されており、途中に現像液供給ポンプ46が配
置されている。この現像液供給ポンプ46の作動によっ
て現像液タンク44内の現像液がスプレーバイブ36へ
供給される。
A spray vibrator 36 is arranged between the tub 30 and the transport path for the PS plate 12. The spray vibrator 36 has a plurality of discharge ports 36A opening toward a part of the corner of the tub 30 at equal intervals along the axial direction. A pipe line 40 is connected to the spray vibe 36 . This conduit 40 is a conduit '42
It is branched from. The pipe line 42 communicates with the bottom of the developer tank 44, and a developer supply pump 46 is disposed in the middle. The developer in the developer tank 44 is supplied to the spray vibe 36 by the operation of the developer supply pump 46 .

ワイヤパー28の搬送方向下流側で搬送路の上方に配置
された桶32も桶30と同構成となっており、同構成の
ワイヤパー28の外周表面へ先端部が近接して配置され
ている。桶32のコーナー部の上方にもスプレーバイブ
48が対向して配置されている。このスプレーバイブ4
8は管路42と連通されている。スプレーバイブ48へ
供給された現像液は桶32の現像液貯留部32B内へ供
給されてワイヤパー28へ、供給されPS版12上へ塗
布される。
A tub 32 disposed above the conveyance path on the downstream side in the conveyance direction of the wire par 28 also has the same configuration as the tub 30, and its tip portion is disposed close to the outer peripheral surface of the wire par 28 having the same configuration. A spray vibrator 48 is also arranged above the corner of the tub 32 to face each other. This spray vibe 4
8 is in communication with the conduit 42. The developer supplied to the spray vibe 48 is supplied into the developer reservoir 32B of the tub 32, and then to the wire par 28, where it is applied onto the PS plate 12.

また現像液タンク44とは別に、現像原液ストックタン
ク44Aおよび希釈水タンク44Bが設けられており、
現像原液および希釈水は各々ポンプ46A、46Bによ
り管路42A、42Bを通ってミキシング装置45に入
り混合されるようになっている。現像原液と希釈水は各
々必要に応じポンプ46A、46Bによってミキシング
装置45へ供給され、混合されることにより必要な現像
液が得られる。さらにミキシング装置45は、管路47
によって現像液タンク44と連通されており、ミキシン
グ装置45の現像液が現像液タンク44へ供給される。
In addition to the developer tank 44, a developer stock tank 44A and a dilution water tank 44B are provided.
The developer stock solution and dilution water enter a mixing device 45 through pipes 42A and 42B and are mixed therein by pumps 46A and 46B, respectively. The developer stock solution and dilution water are each supplied to the mixing device 45 by pumps 46A and 46B as needed, and mixed to obtain a necessary developer. Further, the mixing device 45 includes a conduit 47
The developer tank 44 is connected to the developer tank 44 by the developer tank 44, and the developer from the mixing device 45 is supplied to the developer tank 44.

また現像排液槽24の底部には管路58の一端が連通さ
れている。この管路58の途中にはバルブ60が配置さ
れている。このバルブ60の開放によって現像排液槽2
4内の現像液が廃液タンク62へ排出される。
Further, one end of a conduit 58 is communicated with the bottom of the developer drainage tank 24 . A valve 60 is disposed in the middle of this conduit 58. By opening this valve 60, the developer drain tank 2
4 is discharged to a waste liquid tank 62.

現像部16には花型ローラ64.66が配置されている
。この花型ローラ64.66はPS版12を下側から支
持して現像部16内の出口側に配設された搬送ローラ対
67へ案内する。花型ローラ64.66の案内される途
中で、現像液が塗布されたPS版12は現像が進行し、
現像液によって感光層が膨潤または溶解する。
Flower-shaped rollers 64 and 66 are arranged in the developing section 16. These flower-shaped rollers 64 and 66 support the PS plate 12 from below and guide it to a pair of transport rollers 67 disposed on the exit side of the developing section 16. While being guided by the flower-shaped rollers 64 and 66, the development of the PS plate 12 coated with the developer progresses.
The photosensitive layer is swollen or dissolved by the developer.

また現像部16には排液槽61が配設されており、この
排液槽61の底部には管路63の一端が連通されている
。この管路63の途中にはバルブ65が配置されている
。このバルブ65の開放によって現像排液槽61内に溜
まった現像液が廃液タンク59へ排出される。
Further, a drain tank 61 is provided in the developing section 16, and one end of a pipe line 63 is communicated with the bottom of the drain tank 61. A valve 65 is arranged in the middle of this conduit 63. By opening the valve 65, the developer accumulated in the developer drain tank 61 is discharged to the waste liquid tank 59.

水洗部18には水洗p!70が備えられている。The water washing section 18 has a water washing p! 70 are provided.

この水洗槽70の上方には23版12の搬送路の上流側
に搬送ローラ対72、後流側には搬送ローラ対90が配
置されている。これらの搬送ローラ対72.90は図示
しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転し23版12
を搬送ローラ対72から搬送ローラ対90へと搬送する
Above this washing tank 70, a pair of conveyance rollers 72 is arranged on the upstream side of the conveyance path for the 23rd plate 12, and a pair of conveyance rollers 90 is arranged on the downstream side. These conveying roller pairs 72 and 90 are rotated by the driving force of a driving means (not shown), and the 23rd plate 12 is rotated.
is transported from the transport roller pair 72 to the transport roller pair 90.

搬送ローラ対72と搬送ローラ対90の間には23版1
2の搬送路の上方にスプレーパイプ74が配設され、搬
送路の下方にスプレーバイブ76が配置されている。こ
れらのスプレーバイブ74.76は軸方向にそって等間
隔に吐出口が設けられており、供給された水洗水を23
版12の版面上へ吐出する。
Between the pair of conveying rollers 72 and the pair of conveying rollers 90 are 23 plates 1.
A spray pipe 74 is disposed above the conveyance path No. 2, and a spray vibrator 76 is disposed below the conveyance path. These spray vibes 74 and 76 are provided with discharge ports at equal intervals along the axial direction, and the supplied washing water is
It is discharged onto the plate surface of the plate 12.

スプレーパイプ74.76は一端が水洗槽70の底部と
連通された管路78と連通されている。
The spray pipes 74 , 76 communicate at one end with a conduit 78 that communicates with the bottom of the washing tank 70 .

この管路78の途中には水洗水供給ポンプ80が配置さ
れており、水洗水供給ポンプ80の作動によって、水洗
槽70の底部に収容された水洗水がスプレーパイプ74
.76へ供給される。
A wash water supply pump 80 is disposed in the middle of this pipe 78, and when the wash water supply pump 80 operates, the wash water stored at the bottom of the wash tank 70 is supplied to the spray pipe 74.
.. 76.

また水洗槽70の底部には管路84の一端が連通されて
いる。この管路84の途中にはバルブ86が配置されて
おり、このバルブ86の開放によって水洗槽70内の水
洗水が廃液タンク88へ排出される。
Further, one end of a pipe line 84 is connected to the bottom of the washing tank 70 . A valve 86 is disposed in the middle of the pipe 84, and when the valve 86 is opened, the washing water in the washing tank 70 is discharged to the waste liquid tank 88.

フイニッシング部20にはフィニッシング槽92が備え
られている。このフィニッシング槽92の底部にはフイ
ニッシング液が収容されている。
The finishing section 20 is equipped with a finishing tank 92. A finishing liquid is stored at the bottom of the finishing tank 92.

フイニッシング槽92の上方には23版12の搬送方向
に沿って2組の搬送ローラ対96.98が配置されてい
る。これらの搬送ローラ対96.98は図示しない一対
の側板に支持されており、図示しない駆動手段の駆動力
で回転する。搬送ローラ対96へは搬送ローラ対90か
ら送り出された23版12が挿入され、搬送ローラ対9
8へと送り出される。
Above the finishing tank 92, two pairs of conveying rollers 96 and 98 are arranged along the conveying direction of the 23rd printing plate 12. These conveying roller pairs 96 and 98 are supported by a pair of side plates (not shown), and are rotated by the driving force of a driving means (not shown). The 23rd printing plate 12 sent out from the conveying roller pair 90 is inserted into the conveying roller pair 96 .
Sent to 8th.

搬送ローラ対96と搬送ローラ対98との間にはスプレ
ーパイプ100.102が配置されている。スプレーパ
イプ100は23版12の搬送路の上方に位置し、スプ
レーバイブ102は搬送路の下方に位置している。スプ
レーバイブ100.102は搬送ローラ対96.98へ
向けて開口した複数個の吐出口が、軸方向に沿って等間
隔に設けられている。スプレーバイブ100.102は
一端がフイニッシング槽92の底部と連通された管路1
04と連通されている。管路104の途中には供給ポン
プ106が配置されており、この供給ポンプ106の作
動によってフィニッシング槽92内のフイニッシング液
がスプレーバイブ100.102へ供給される。
A spray pipe 100, 102 is arranged between the transport roller pair 96 and the transport roller pair 98. The spray pipe 100 is located above the transport path for the 23rd plate 12, and the spray vibrator 102 is located below the transport path. The spray vibrator 100, 102 has a plurality of discharge ports opening toward the pair of transport rollers 96, 98, and are provided at equal intervals along the axial direction. The spray vibrator 100, 102 has a pipe line 1 whose one end communicates with the bottom of the finishing tank 92.
It is connected to 04. A supply pump 106 is disposed in the middle of the conduit 104, and the operation of the supply pump 106 supplies the finishing liquid in the finishing tank 92 to the spray vibrator 100, 102.

またフイニッシング槽92の底部には管路110の一端
が連通されている。管路110の途中にはバルブ112
が配置されており、このバルブ112の開放によってフ
イニッシング槽92内のフイニッシング液が廃液タンク
114へ排出される。
Further, one end of a conduit 110 is communicated with the bottom of the finishing tank 92. A valve 112 is located in the middle of the pipe line 110.
When the valve 112 is opened, the finishing liquid in the finishing tank 92 is discharged to the waste liquid tank 114.

次に本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

図示しない焼付装置によって上下両面に画像が″焼付け
られた23版12は搬送ローラ対22内へ挿入された後
に搬送ローラ対26間へ挿入され、現像液塗布部14内
へ挿入される。
The 23rd printing plate 12, on which images have been printed on both upper and lower surfaces by a printing device (not shown), is inserted into a pair of transport rollers 22, then inserted between a pair of transport rollers 26, and then inserted into the developer coating section 14.

現像液塗布部14内へ挿入された23版12は桶30の
現像液貯留部30A内へスプレーパイプ36によって一
時供給された現像液がオーバーフローしてワイヤパー2
8へ一旦供給された後に23版12の裏面側へ現像液が
塗布される。
The 23rd plate 12 inserted into the developer applying section 14 is overflowed by the developer temporarily supplied into the developer storage section 30A of the tub 30 by the spray pipe 36, and the wire par 2
After the developing solution is once supplied to the plate 8, the developer is applied to the back side of the 23rd plate 12.

また現像液貯留部30Bに供給された現像液がワイヤパ
ーへ引っ張られることによってワイヤパー28へ現像を
供給しても良い。
Alternatively, the developer may be supplied to the wire par 28 by pulling the developer supplied to the developer reservoir 30B to the wire par.

さらに23版12が搬送されると、桶32ヘスプし・−
バイブ36によって供給された現像液が桶32の現像液
貯留部32B内からワイヤパー28へ一旦供給された後
にPS版の表面側へ現像液が塗布される。
When the 23rd plate 12 is further conveyed, the tub 32 is pressed...
The developer supplied by the vibrator 36 is once supplied from the developer reservoir 32B of the tub 32 to the wire par 28, and then the developer is applied to the surface side of the PS plate.

現像液塗布部14で現像液が塗布された23版12は現
像部16へ搬送される。
The 23rd plate 12 coated with the developer in the developer application section 14 is conveyed to the development section 16 .

現像部16内へ挿入された23版12は花型口−ラ64
.66で裏面側を支持されて搬送される。
The 23rd plate 12 inserted into the developing section 16 is inserted into the flower-shaped opening 64.
.. At 66, the back side is supported and conveyed.

この搬送中に現像が進行してPS版12は感光層が膨潤
または溶解可能な状態となる。
During this transportation, development progresses and the photosensitive layer of the PS plate 12 becomes swollen or soluble.

この状態で搬送ローラ対67へ挿入され、感光層が膨潤
または溶解したいわゆる現像かすと余分な現像液が絞り
取られる。搬送ローラ対67間を通過したPS版12は
水洗部18の搬送ローラ対72間へ挿入される。搬送ロ
ーラ対72から送り出されたPS版12は搬送ローラ対
90間へ向けて搬送される。この搬送の途中でスプレー
バイブ74.76によって表裏両面へ水洗水が供給され
て、現像かすか除去される。この状態のPS版12は搬
送ローラ対90によって水洗水がスクイズされる。
In this state, the photosensitive layer is inserted into a pair of transport rollers 67, and so-called developer scum, in which the photosensitive layer is swollen or dissolved, and excess developer are squeezed out. The PS plate 12 that has passed between the transport roller pair 67 is inserted between the transport roller pair 72 of the washing section 18 . The PS plate 12 sent out from the transport roller pair 72 is transported toward between the transport roller pair 90. During this conveyance, washing water is supplied to both the front and back surfaces by spray vibrators 74 and 76 to remove development residue. Washing water is squeezed from the PS plate 12 in this state by a pair of transport rollers 90.

搬送ローラ対90から送り出されたPS版12は搬送ロ
ーラ対96間へ挿入される。搬送ローラ対96へ挿入さ
れたPS版12は略水平方向に搬送されて搬送ローラ対
98間へ挿入される。この搬送の途中でPS版12はス
プレーバイブ100.102によって上下両面へフイニ
ツシング液108が供給される。スプレーパイプ100
.102によってフイニツシンダ液が塗布されたPS版
12は)船道ローラ対98によって感光材料処理装置1
0の外方へ送り出されて図示しない乾燥装置へと搬送さ
れる。
The PS plate 12 sent out from the transport roller pair 90 is inserted between the transport roller pair 96. The PS plate 12 inserted into the transport roller pair 96 is transported in a substantially horizontal direction and inserted between the transport roller pair 98. During this conveyance, finishing liquid 108 is supplied to both upper and lower surfaces of the PS plate 12 by spray vibrators 100 and 102. spray pipe 100
.. The PS plate 12 coated with the Finitsinda liquid by the roller pair 98 is transferred to the photosensitive material processing device 1 by
0 and transported to a drying device (not shown).

なお本実施例では計量回転塗布手段としてワイヤバー2
8について説明したが、これに限定されるものではなく
、たとえばローラの外周面に溝が設けられたローラでも
良く、溝の大きさによってPS版12へ供給する現像液
の量を調節することが出来る計量回転塗布手段であって
もよく、その他現像液を所定量PS版12の表面へ塗布
ることが出来るものであればいかなる構造の計量回転塗
布手段であっても良い。
In this example, the wire bar 2 is used as the metering rotation coating means.
8 has been described, but the present invention is not limited to this. For example, the roller may have grooves on its outer peripheral surface, and the amount of developer supplied to the PS plate 12 can be adjusted depending on the size of the grooves. The metering rotation coating means may be any type of metering rotation coating means that can be used, or any other type of metering rotation coating means may be used as long as it can apply a predetermined amount of the developer onto the surface of the PS plate 12.

また本実施例で使用される現像液の粘度は2〜500C
Pのものが使用されている。
In addition, the viscosity of the developer used in this example is 2 to 500C.
P is used.

さらに本実施例では現像液貯留手段から計量回転塗布手
段へ現像液を供給する手段としてオーバーフローさせる
ことによって供給する場合と、計量回転塗布手段を現像
液の表面に近接させて、現像液が計量回転塗布手段へ引
っ張られることによって供給する例を示したが、これに
限らず他の供給方法でも良い。
Furthermore, in this embodiment, the developer is supplied from the developer storage means to the metered rotation coating means by overflowing, and the metered rotation coating means is brought close to the surface of the developer so that the developer is metered and rotated. Although an example has been shown in which the material is supplied by being pulled to the coating means, the present invention is not limited to this, and other methods of supply may be used.

[発明の効果] 以上に説明した通り本発明では、現像液供給手段によっ
て供給される現像液を現像液貯留手段を経て計量回転塗
布手段へ供給して、この軽量回転塗布手段によって感光
材料の少なくとも下面側へ現像液を均一に塗布すること
が出来、版面上にすじむらが生じないという優れた効果
が得られる。
[Effects of the Invention] As explained above, in the present invention, the developer supplied by the developer supply means is supplied to the measuring rotary coating means through the developer storage means, and this lightweight rotary coating means coats at least one of the photosensitive materials. The developing solution can be uniformly applied to the lower surface side, and an excellent effect is obtained in that no streaks occur on the plate surface.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る感光材料現像処理装置の実施例を
示す概略構成図、第2図は桶とワイヤバーの関係を示す
第1図の一部分を拡大した断面図、第3図は桶とワイヤ
バーとの関係を示す斜視図である。 10・・・感光材料現像処理装置、 12・・・感光性平版印刷版(PS版)、14・・・現
像液塗布部、 28・・・ツインバー 30.32・・・桶、 30B、32B・・・現像液貯留部、 36.48・・・スプレーパイプ。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a photosensitive material processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view of a portion of FIG. 1 showing the relationship between the tub and the wire bar, and FIG. It is a perspective view showing the relationship with a wire bar. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Photosensitive material development processing device, 12... Photosensitive lithographic printing plate (PS plate), 14... Developer application part, 28... Twin bar 30.32... Bucket, 30B, 32B. ...Developer storage section, 36.48...Spray pipe.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)画像が焼付けられた感光材料を搬送しながら現像
液を塗布して現像処理する感光材料現像処理装置であっ
て、前記現像液を供給する現像液供給手段と、前記現像
液供給手段によって供給された前記現像液を一時貯留す
る現像液貯留手段と、前記感光材料の少なくとも下面側
に当接配置すると共に前記現像液貯留手段から供給され
た前記現像液を計量しながら前記感光材料へ塗布する計
量回転塗布手段と、を有することを特徴とする感光材料
現像処理装置。
(1) A photosensitive material development processing apparatus that applies a developer to and processes a photosensitive material on which an image has been printed while conveying it, comprising a developer supplying means for supplying the developer and a developer supplying means for supplying the developer. A developer storage means for temporarily storing the supplied developer is disposed in contact with at least the lower surface side of the photosensitive material, and the developer supplied from the developer storage means is applied onto the photosensitive material while being measured. 1. A photosensitive material development processing apparatus comprising: a metering rotary coating means.
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