JPH0347817A - Transparent resin having high hardness - Google Patents

Transparent resin having high hardness

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JPH0347817A
JPH0347817A JP2045845A JP4584590A JPH0347817A JP H0347817 A JPH0347817 A JP H0347817A JP 2045845 A JP2045845 A JP 2045845A JP 4584590 A JP4584590 A JP 4584590A JP H0347817 A JPH0347817 A JP H0347817A
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Japan
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formulas
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mathematical
chemical
group
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Application number
JP2045845A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuyuki Suzuki
鈴木 順行
Katsuyuki Sasagawa
笹川 勝行
Masao Imai
雅夫 今井
Yoshinobu Kanemura
芳信 金村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide the subject resin composed of a crosslinked polymer produced by copolymerizing a combination of two specific kinds of monomers, having high surface hardness and excellent transparency, chemical resistance, etc., and useful as a crazing material, optical lens. etc. CONSTITUTION:The objective resin can be produced by combining (A) a monomer of formula I {R is aliphatic or alicyclic residue which may contain a functional group of formula II, formula III, formula IV or formula V [(IP-O)<-> is isopropenylphenoxy group which is not included in R] bonded to isopropenylphenoxy, aliphatic residue having at least one alicyclic group, heterocyclic group, aromatic group or hetero atom in the residue or group of formula VI; n is integer of 1-4} and (B) a monomer having one or more kinds of m functional groups selected from the groups of formula VII, formula VIII and formula IX (n+m is integer of >=3) and radically polymerizing the monomers with heat, ultraviolet radiation, etc.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高い表面硬度を有し、耐擦傷性に優れ、耐熱性
、耐薬品性にも優れたものにできる透明樹脂及び該樹脂
よりなるグレージング材、ディスブレス装置用保護カバ
ー、光学レンズ、ハードコート材に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention provides a transparent resin that has high surface hardness, excellent scratch resistance, heat resistance, and chemical resistance, and a transparent resin made of the resin. Related to glazing materials, protective covers for discless devices, optical lenses, and hard coat materials.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来メタクリル樹脂やポリカーボネート樹脂、ポリスチ
レン樹脂などは透明性、耐衝撃性、加工性、大量生産性
などに優れていることから、車両や住居、学校、スポー
ツ施設などの窓、ベランダ腰板、バルコニーなどのグレ
ージング材として、又、各種計器盤、コンピューターデ
ィスプレイ、液晶テレビ、自動販売機前面板などのディ
スプレイ装置用保護カバー、光学レンズ、照明カバー看
板、保護メガネ、光学式光デイスク基板などに使用され
ている。これらの用途への適用として特にグレージング
材、ディスプレイ装置用保護カバ、光学レンズなどでは
、その透明性、光学物性、機械的強度、剛性などととも
に、その視認性、美観等の点から耐擦傷性すなわち高い
表面硬度、及び場合によって耐薬品性、耐熱性などが求
められている。
Traditionally, methacrylic resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, etc. have excellent transparency, impact resistance, processability, and mass productivity, so they are used for windows of vehicles, residences, schools, sports facilities, etc., veranda wainscoting, balconies, etc. It is also used as a glazing material, protective covers for display devices such as various instrument panels, computer displays, LCD TVs, and vending machine front panels, optical lenses, lighting cover signs, safety glasses, optical disk substrates, etc. . Applications to these applications include glazing materials, protective covers for display devices, optical lenses, etc., in addition to their transparency, optical properties, mechanical strength, and rigidity, as well as their visibility, aesthetics, etc. High surface hardness and, in some cases, chemical resistance, heat resistance, etc. are required.

しかしながら前述の汎用透明樹脂では、構造が線型高分
子であるために表面硬度や耐薬品性、耐熱性などが十分
とはいえず、またこれらの樹脂に表面硬度、耐薬品性の
向上のためにハードコートを施したものでも尚必ずしも
十分な性能を有しているとはいえない。
However, the above-mentioned general-purpose transparent resins have a linear polymer structure, so they do not have sufficient surface hardness, chemical resistance, or heat resistance. Even those coated with a hard coat cannot necessarily be said to have sufficient performance.

これらの問題を解決するためジエチレングリコルジアリ
ルカーボネート樹脂やウレタンポリアクリル系エステル
(特開昭61−3610号公報、特開昭63−7502
2号公報)などの架橋構造を有する高分子からなる透明
樹脂が提案されている。
In order to solve these problems, diethylene glycoldiallyl carbonate resin and urethane polyacrylic ester (Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-3610, Japanese Patent Application Laid-open No. 63-7502)
Transparent resins made of polymers having a crosslinked structure have been proposed, such as Japanese Patent Publication No. 2).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら前記の樹脂は重合速度の近似したアリル基
やアクリル基、メタクリル基どうしの重合であり、重合
の制御が難しく、暴走反応を起こし易く、表面状態が良
好でかつ重合歪みが少ない重合体を得るには長時間を有
するなどの問題がある。
However, the above resins polymerize allyl groups, acrylic groups, and methacrylic groups with similar polymerization rates, making it difficult to control polymerization and easily causing runaway reactions, resulting in polymers with good surface conditions and little polymerization distortion. There are problems such as the long time required.

本発明の目的は重合の制御が容易で、表面硬度が高く、
且つ耐薬品性、耐熱性にも優れたものとすることができ
る透明樹脂を提供することである。
The purpose of the present invention is to provide easy control of polymerization, high surface hardness,
Another object of the present invention is to provide a transparent resin that can also have excellent chemical resistance and heat resistance.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは前記の課題を解決するために鋭意研究を行
った。
The present inventors conducted extensive research to solve the above problems.

その結果、重合速度の遅い重合基としてイソプロペニル
フェニル基とこれよりも重合速度の速い重合性基を組み
合わせることにより、すなわち1分子中にイソプロペニ
ルフェニル基を1つ以上有する化合物と、イソプロペニ
ルフェニル基よリラジカル重合性の高いアクリロイル基
、メタクリロイル基、ビニルフェニル基を有する化合物
とを共重合させることにより、重合時の暴走反応を容易
に制御することができるため、重合時間の大幅な短縮が
可能となるばかりでなく、本課題の架橋高分子からなる
高い表面硬度を有する透明な樹脂が得られることを見出
した。
As a result, by combining an isopropenylphenyl group as a polymerizable group with a slow polymerization rate and a polymerizable group with a faster polymerization rate, in other words, a compound having one or more isopropenylphenyl groups in one molecule and an isopropenylphenyl group By copolymerizing compounds with acryloyl groups, methacryloyl groups, and vinylphenyl groups that have high reradical polymerizability, runaway reactions during polymerization can be easily controlled, making it possible to significantly shorten polymerization time. We have found that not only this, but also a transparent resin with high surface hardness made of the crosslinked polymer of the present invention can be obtained.

加えて本樹脂は、高い表面硬度すなわち耐擦傷性を有し
、耐熱性、耐薬品性をも有するようにできるため、本樹
脂からなる板状重合体は車両、住居、学校、スポーツ施
設などの窓、ベランダ腰板、バルコニーなどのグレージ
ング材、各種計器盤、コンピューターデイスプレー、液
晶テレビ、自動販売機前面板などのディスプレイ装置用
保護カバなどに、またレンズ状重合体は光学レンズとし
て有用であることを見出した。さらに各種樹脂、金属、
木材等の基材へ塗布し重合させた重合体は耐擦傷性、耐
薬品性を有する塗膜すなわちハードコート材としても有
用であることを見出した。
In addition, this resin has high surface hardness, i.e., scratch resistance, and can be made to have heat resistance and chemical resistance, so plate-like polymers made of this resin can be used in vehicles, homes, schools, sports facilities, etc. Lenticular polymers are useful as glazing materials for windows, veranda wainscoting, balconies, etc., protective covers for display devices such as various instrument panels, computer displays, LCD televisions, and vending machine front panels, and as optical lenses. I found out. In addition, various resins, metals,
It has been found that a polymer coated onto a base material such as wood and polymerized is also useful as a coating film having scratch resistance and chemical resistance, that is, a hard coat material.

すなわち本発明は、 (1) 下記一般式(1)で表される単量体(A)と、 基((IP−0+ はイソプロペニルフェノキシ基を示
しRには含まれない)または、■イソプロペニルフェノ
キシ基に結合した (式中Rは■イソプロペニルフェノキシ基に結合した(
IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基、
II    I                  
 II    10H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基から
1曹11 選ばれた官能基を有するか有しない脂肪族残基((I 
P−0+ はイソプロペニルフェノキシ基を示しRには
含まれない)または、■イソプロペニルフェノキシ基に
結合した (IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基
、II    I                 
   II    10H5H (IP−0)−(、−0−基、(IP−0)−C−基I
I                        
 IIから選ばれた官能基を有するか有しない脂環族残
OH5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基から
選ばれた官能基を有するか有しない、残基中に脂環基、
複素環、芳香環および、ヘテロ原子(窒素原子、硫黄原
子、酸素原子等)よりなる群から選んだ少なくとも1種
を有する脂肪族残基((I’P−0+ はイソプロペニ
ルフェノキシ基を示しRには含まれない)または、■−
C−基を■ 表わし、nは1〜4の整数を表わす。)1分子中にCH
2=CH−C−0−基、1種の官能基をm個有する単量
体(B)とを(n+ m )が3以上の整数になるよう
に組み合わせて共重合させてなる架橋高分子からなる高
硬度透明樹脂。
That is, the present invention provides (1) a monomer (A) represented by the following general formula (1), and a group ((IP-0+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or bonded to the propenylphenoxy group (wherein R was bonded to the isopropenylphenoxy group (
IP-0)-C-N- group, (IP-0)-C-N- group,
II I
II 10H5H (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group monocarbonate 11 Aliphatic residue with or without selected functional group ((I
P-0+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or (IP-0)-C-N- group, (IP-0)-C-N- group bonded to the isopropenylphenoxy group , II I
II 10H5H (IP-0)-(, -0- group, (IP-0)-C- group I
I
Alicyclic residue OH5H with or without a functional group selected from II (IP-0)-C-0- group, with or without a functional group selected from (IP-0)-C- group, Alicyclic group in the residue,
Aliphatic residues having at least one type selected from the group consisting of heterocycles, aromatic rings, and heteroatoms (nitrogen atoms, sulfur atoms, oxygen atoms, etc.) ((I'P-0+ represents an isopropenylphenoxy group; R ) or ■-
represents a C-group, and n represents an integer of 1 to 4; ) CH in one molecule
2=CH-C-0- group, a monomer (B) having m pieces of one type of functional group is combined and copolymerized so that (n+m) is an integer of 3 or more. High hardness transparent resin.

(2)   (1)の単量体(A)及び単量体(B)よ
りなる下記一般式(n)および/または(m)で表わさ
れる構造単位を含有する架橋高分子からなる高硬度透明
樹脂。
(2) High hardness and transparency consisting of a crosslinked polymer containing structural units represented by the following general formula (n) and/or (m) consisting of monomer (A) and monomer (B) of (1) resin.

(式中Rは■イソプロペニルフェノキシ基に結合した(
IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基、
II    I                  
 II    10H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基から
選ばれた官能基を有するか有しない脂肪族残基((IP
−0+ はイソプロペニルフェノキシ基を示しRには含
まれない)または、■イソプロペニルフェノキシ基に結
合した (IP’−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−
基、II    I                
    II    10HSH o              0 から選ばれた官能基を有するか有しない脂環族残基((
IP−0+ はイソプロペニルフェノキシ基を示しRに
は含まれない)または、■イソプロペニルフェノキシ基
に結合した (IP−0)−C−N−基、(IP−〇)−C−N−基
、1督II+1 0H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基II
                     11から
選ばれた官能基を有するか有しなく、残基中に脂環基、
複素環、芳香環および、ヘテロ原子(窒素原子、硫黄原
子、酸素原子等)よりなる群より選んだ少なくとも1種
を有する脂肪族残基((IP−0+ はイソプロペニル
フェノキシ基を示しRには含まれない)または、■−〇
−基を表わし、R′は水素またはメチル基を、(3) 
前記(1)記載の高硬度透明樹脂からなるグレージング
材 (4) 前記(1)記載の高硬度透明樹脂からなるディ
スプレイ装置用保護カバー (5) 前記(1)記載の高硬度透明樹脂からなる光学
レンズ。
(In the formula, R is bonded to the isopropenylphenoxy group (
IP-0)-C-N- group, (IP-0)-C-N- group,
II I
II 10H5H Aliphatic residues with or without a functional group selected from (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group ((IP
-0+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or (IP'-0)-C-N- group bonded to the isopropenylphenoxy group, (IP-0)-C-N-
Group, II I
II 10HSH o 0 Alicyclic residues with or without functional groups ((
IP-0+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or (IP-0)-C-N- group, (IP-〇)-C-N- group bonded to the isopropenylphenoxy group , 1 D II + 1 0H5H (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group II
with or without a functional group selected from 11, an alicyclic group in the residue,
Aliphatic residues having at least one type selected from the group consisting of heterocycles, aromatic rings, and heteroatoms (nitrogen atoms, sulfur atoms, oxygen atoms, etc.) ((IP-0+ represents an isopropenylphenoxy group; R represents (3)
Glazing material (4) made of the highly hard transparent resin described in (1) above; Protective cover for a display device (5) made of the highly hard transparent resin described in (1) above; Optical material made of the highly hard transparent resin described in (1) above. lens.

(6) 前記(1)記載の高硬度透明樹脂からなるハー
ドコート材。
(6) A hard coat material made of the highly hard transparent resin described in (1) above.

(7) 下記一般式(IV)  (V)  (VI) 
 (■)(■)(■)で表わされる単量体からなる群よ
り選ばれた少なくとも1種である単量体(A)と1分子
中にCH2−CH−C−0 基、 1種の官能基をm個有する単量体(B)とを(n十m)
が3以上の整数になるように組み合わせて共重合させて
なる架橋高分子からなる高硬度透明樹脂。
(7) The following general formula (IV) (V) (VI)
(■) (■) (■) At least one monomer (A) selected from the group consisting of monomers represented by (■) and one type of CH2-CH-C-0 group in one molecule. Monomer (B) having m functional groups (n0m)
A high-hardness transparent resin made of crosslinked polymers that are copolymerized by combining them so that they become an integer of 3 or more.

位置はo、m、p 位を表わす。)  H H (式中n=1.Rは−CH、−C2H5゜また芳香環の
置換基の位置はO,m、pわす。) 位を表 を表わす。また芳香環の置換基の位置は01m。
The positions represent o, m, and p positions. ) H H (In the formula, n=1.R is -CH, -C2H5°, and the positions of the substituents on the aromatic ring are O, m, and p.) The positions are shown in the table. Furthermore, the position of the substituent on the aromatic ring is 01m.

p−位を表わす。) (式中n=2.Rは (CH2)3 (CH2 (CH2 (CH)  −、−(CH2)6−を表わす。Represents p-position. ) (In the formula, n=2.R is (CH2)3 (CH2 (CH2 (CH) represents -, -(CH2)6-.

また芳香環の置換基の位置はo、m、p−位を表わす。Further, the positions of substituents on the aromatic ring are o-, m-, and p-positions.

) の置換基の位置はo、m、p 位を表わす。) を表わす。また芳香環の置換基の位置は01m。) The positions of the substituents are o, m, p represents rank. ) represents. Furthermore, the position of the substituent on the aromatic ring is 01m.

p−位を表わす。) 本発明の単量体(A)とは下記一般式(I)で表わされ
る。
Represents p-position. ) The monomer (A) of the present invention is represented by the following general formula (I).

3CCH3 (式中Rは■イソプロペニルフェノキシ基に結合した(
IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基、
II    I                  
  11   10H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基から
II                       
II選ばれた官能基を有するか有しない脂肪族残基((
I P−0+ はイソプロペニルフェノキシ基を示しR
には含まれない)または、■イソプロペニルフェノキシ
基に結合した (IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基
、II    I                 
   II    10H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基II
                         
IIOO から選ばれた官能基を有するか有しない脂環族残基((
rp−o+ はイソプロペニルフェノキシ基を示しRに
は含まれない)または、■イソプロペニルフェノキシ基
に結合した (IP−0)−C−N−基、(IP−0)−C−N−基
、Ill                    1
110H5H (IP−0)−C−0−基、(IP−0)−C−基II
                        I
Iから選ばれた官能基を有するか有しない、残基中に脂
環基、複素環、芳香環および、ヘテロ原子(窒素原子、
硫黄原子、酸素原子等)よりなる群から選んだ少なくと
も1種を有する脂肪族残基((IP−0+ はイソプロ
ペニルフェノキシ基を示しRには含まれない)または、
■−C−基を表わし、nは1〜4の整数を表わす。)本
発明の該単量体(A)はイソプロペニルフェノールと、
該化合物の有するフェノール性水酸基と反応しつる一N
GO基、−NC8基、−COOH基、−COC1基、−
COBr基、ハロゲン化アルキル基、−803R1基(
R’はアルキル基群から選んだ1〜4個の官能基及び脂
肪族残基、脂環族残基、または残基中に脂環基、複素環
、芳香環およびヘテロ原子(窒素原子、硫黄原子、酸素
原子等)よりなる群より選んだ少なくとも1種を有する
脂肪族残基を兼備する化合物、あるいはイソプロプニル
フェノールとホスゲンとを反応させて得られる化合物で
あり、更に詳しくは、イソプロペニルフェノールの有す
るフェノール性水酸基と、−NGO基、−NC8基との
反応で得られるカルバミン酸エステル化合物、カルバミ
ン酸チオエステル化合物、−COOH基、−coc i
基、〜COB r基との反応で得られるエステル化合物
、−COCl基、ホスゲンとの反応で得られるカーボネ
ート化合物、ハロゲン化アルキル基、−8O3R’基(
R’はアルキル基又はアリール物である。
3CCH3 (wherein R is bonded to the isopropenylphenoxy group (
IP-0)-C-N- group, (IP-0)-C-N- group,
II I
11 10H5H (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group to II
II Aliphatic residues with or without selected functional groups ((
I P-0+ represents an isopropenylphenoxy group, and R
) or (IP-0)-C-N- group bonded to isopropenylphenoxy group, (IP-0)-C-N- group, II I
II 10H5H (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group II

Alicyclic residues with or without functional groups selected from IIOO ((
rp-o+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or (IP-0)-C-N- group, (IP-0)-C-N- group bonded to the isopropenylphenoxy group , Ill 1
110H5H (IP-0)-C-0- group, (IP-0)-C- group II
I
Alicyclic groups, heterocycles, aromatic rings, and heteroatoms (nitrogen atoms,
an aliphatic residue having at least one kind selected from the group consisting of sulfur atoms, oxygen atoms, etc. ((IP-0+ represents an isopropenylphenoxy group and is not included in R), or
(2) represents a -C- group, and n represents an integer of 1 to 4; ) The monomer (A) of the present invention is isopropenylphenol;
-N that reacts with the phenolic hydroxyl group of the compound
GO group, -NC8 group, -COOH group, -COC1 group, -
COBr group, halogenated alkyl group, -803R1 group (
R' is one to four functional groups selected from alkyl groups, aliphatic residues, alicyclic residues, or alicyclic groups, heterocycles, aromatic rings, and heteroatoms (nitrogen atoms, sulfur atoms, etc.) in the residues. A compound having an aliphatic residue having at least one aliphatic residue selected from the group consisting of atoms, oxygen atoms, etc.), or a compound obtained by reacting isopropylphenol with phosgene; more specifically, isopropenylphenol Carbamate ester compounds, carbamate thioester compounds, -COOH groups, -coc i obtained by the reaction of the phenolic hydroxyl group possessed by -NGO groups, -NC8 groups
group, ester compound obtained by reaction with ~COBr group, -COCl group, carbonate compound obtained by reaction with phosgene, halogenated alkyl group, -8O3R' group (
R' is an alkyl group or an aryl group.

さらに上記一般式(I)中での有機基Rは立体的な堅固
さ等にもよるが一般的には低分子量のもの程好ましく残
基部分の分子量が15〜500のものが好適に用いられ
る。
Furthermore, although the organic group R in the above general formula (I) depends on the steric rigidity, etc., in general, the lower the molecular weight, the more preferable it is, and those with a residue moiety having a molecular weight of 15 to 500 are preferably used. .

そこで上記方法により単量体(A)を製造する場合に用
いられるイソプロペニルフェノールの有するフェノール
性水酸基と反応しうる一NCO基、−NCS基、−CO
OH基、−COCl基、−COBr基、ハロゲン化アル
キル基、−5o3R’基(R’はアルキル基又はアリー
ル基)、は残基中に脂環基、複素環、芳香環およびヘテ
ロ原子(窒素原子、硫黄原子、酸素原子等)よりなる群
より選んだ少なくとも1種を有する脂肪族残基を兼備す
る化合物、あるいは、ホスゲンは、たとえばメチルイソ
シアネート、エチルイソシアネト、プロピルイソシアネ
ート、ブチルイソシアネート、シクロヘキシルイソシア
ネート、メチルイソチオシアネート、エチルイソチオシ
アネート、プロピルイソチオシアネート、ブチルイソチ
オシアネート、シクロヘキシルイソチオシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、1−メチルシクロヘキ
サン−2,4−ジイソシアネート、1゜2−ジメチルシ
クロヘキサン−ω、ω′ −ジイソシアネート、イソホ
ロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,
4′ −ジイソシアネ一ト、リジンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネート、フェニレンビス(イソプ
ロピルイソシアネート)、1,6.11−ウンデカント
リイソシアネート、1.8−ジイソシアネート−4−イ
ソシアネートメチルオクタン、リジンエステルトリイソ
シアネート、1.3.6−ヘキサメチレントリイソシア
ネート、ビシクロへブタントリイソシアネート、ヘキサ
メチレンジイソチオシアネート、シクロヘキサンジイソ
チオシアネート等。
Therefore, -NCO group, -NCS group, -CO group, which can react with the phenolic hydroxyl group of isopropenylphenol used when producing monomer (A) by the above method.
OH group, -COCl group, -COBr group, halogenated alkyl group, -5o3R' group (R' is an alkyl group or aryl group), alicyclic group, heterocycle, aromatic ring, and heteroatom (nitrogen A compound having an aliphatic residue having at least one aliphatic residue selected from the group consisting of atom, sulfur atom, oxygen atom, etc.) or phosgene is, for example, methyl isocyanate, ethyl isocyanate, propyl isocyanate, butyl isocyanate, cyclohexyl isocyanate. , methylisothiocyanate, ethylisothiocyanate, propylisothiocyanate, butylisothiocyanate, cyclohexylisothiocyanate, hexamethylene diisocyanate, 1-methylcyclohexane-2,4-diisocyanate, 1゜2-dimethylcyclohexane-ω,ω′-diisocyanate, Isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,
4'-diisocyanate, lysine diisocyanate,
Xylylene diisocyanate, phenylene bis(isopropylisocyanate), 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyl octane, lysine ester triisocyanate, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate, bicyclo Hebutane triisocyanate, hexamethylene diisothiocyanate, cyclohexane diisothiocyanate, etc.

酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプ
リル酸、フェニル酢酸、マロン酸、コハク酸、イタコン
酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、グルタコン酸
、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸
、セバシン酸、シクロプロパンジカルボン酸、シクロブ
タンジカルボン酸、ピン酸、ホモピン酸、シクロペンタ
ンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、フェニ
レンニ酢酸、オキシニ酢酸、オキサアジピン酸、チオニ
酢酸、チオジプロピオン酸、ジチオニ酢酸、ジチオプロ
ピオン酸、及びこれらの酸塩化物、酸臭化物等。
Acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, caprylic acid, phenylacetic acid, malonic acid, succinic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, glutaric acid, glutaconic acid, adipic acid, pimelic acid, speric acid, azelaic acid Acid, sebacic acid, cyclopropanedicarboxylic acid, cyclobutanedicarboxylic acid, pinic acid, homopicic acid, cyclopentanedicarboxylic acid, cyclohexanedicarboxylic acid, phenylenediacetic acid, oxydiacetic acid, oxaadipic acid, thioniacetic acid, thiodipropionic acid, dithioniacetic acid, Dithiopropionic acid, and their acid chlorides, acid bromides, etc.

ジエチレングリコールジクロロホルメート、ホスゲン等
Diethylene glycol dichloroformate, phosgene, etc.

ヨードメタン、ブロモメタン、クロロメタン、ヨードエ
タン、ブロモエタン、クロロエタン、ヨードプロパン、
ブロモプロパン、クロロプロパン、ヨードブタン、ブロ
モブタン、クロロブタン、ヨードペンタン、ブロモペン
タン、クロロペンタン、ヨードヘキサン、ブロモヘキサ
ン、クロロヘキサン、ヨードへブタン、ブロモヘプタン
、クロロへブタン、ヨードオクタン、ブロモオクタン、
クロロオクタン、ヨードシクロペンクン、ブロモシクロ
ペンタン、クロロシクロペンタン、ヨードシクロヘキサ
ン、ブロモシクロヘキサン、クロロシクロヘキサン、ベ
ンジルクロライド1.硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、P
−トルエンスルホン酸メチルエステル、P−トルエンス
ルホン酸エチルエステル、ショートエタン、ジブロモエ
タン、ジクロロエタン、ショートプロパン、ジブロモプ
ロパン、ジクロロプロパン、ショートブタン、ジブロモ
ブタン、ジクロロブタン、ショートペンタン、ジブロモ
ペンクン、ジクロロペンクン、ショートヘキサン、ジブ
ロモヘキサン、ジクロロヘキサン、ブロモクロロエタン
、ブロモクロロプロパン、クロロヨードプロパン、ブロ
モクロロブタン、ブロモクロロペンタン、ブロモクロロ
ヘキサン、α、α′ −ジブロモキシレン、α、α′ 
−ジクロロキシレン、などを用いる。これらを用いてカ
ルバミン酸エステル化合物、カルバミン酸チオエステル
化合物、エステル化合物、カーボネート化合物、エーテ
ル化合物を得るにはイソプロペニルフェノールの有する
フェノール性水酸基と反応しうる一NCO基、NC8基
、−COOH基、−COCl基、−COBr基、ハロゲ
ン化アルキル基、−3o3R’基(R’はアルキル基又
はアリール基)、は主鎖中に脂環基、複素環、芳香環お
よびヘテロ原子(窒素原子、硫黄原子、酸素原子等)よ
りなる群から選んだ少なくとも1種を有する脂肪族残基
を兼備する化合物あるいは、ホスゲンと、イソプロペニ
ルフェノールとを従来公知の方法により反応を行うこと
により得られる。溶媒を用いた場合は合成反応の後に溶
媒を留去する。さらに必要に応じて精製を行い単量体(
A)として次のラジカル重合に備える。
Iodomethane, bromomethane, chloromethane, iodoethane, bromoethane, chloroethane, iodopropane,
Bromopropane, chloropropane, iodobutane, bromobutane, chlorobutane, iodopentane, bromopentane, chloropentane, iodohexane, bromohexane, chlorohexane, iodohebutane, bromoheptane, chlorohebutane, iodooctane, bromooctane,
Chloroctane, iodocyclopenkune, bromocyclopentane, chlorocyclopentane, iodocyclohexane, bromocyclohexane, chlorocyclohexane, benzyl chloride 1. Dimethyl sulfate, diethyl sulfate, P
-Toluenesulfonic acid methyl ester, P-toluenesulfonic acid ethyl ester, short ethane, dibromoethane, dichloroethane, short propane, dibromopropane, dichloropropane, short butane, dibromobutane, dichlorobutane, short pentane, dibromopencune, dichloropene Short hexane, dibromohexane, dichlorohexane, bromochloroethane, bromochloropropane, chloroiodopropane, bromochlorobutane, bromochloropentane, bromochlorohexane, α, α′ -dibromoxylene, α, α′
- dichloroxylene, etc. are used. To obtain carbamate ester compounds, carbamate thioester compounds, ester compounds, carbonate compounds, and ether compounds using these, NCO groups, NC8 groups, -COOH groups, - COCl group, -COBr group, halogenated alkyl group, -3o3R' group (R' is an alkyl group or aryl group), have alicyclic groups, heterocycles, aromatic rings, and heteroatoms (nitrogen atoms, sulfur atoms) in the main chain. , oxygen atoms, etc.) or by reacting phosgene with isopropenylphenol by a conventionally known method. When a solvent is used, the solvent is distilled off after the synthesis reaction. Further purification is performed as necessary to obtain monomers (
As A), prepare for the next radical polymerization.

単量体(A)として具体的には下記の一般式%式%) れる化合物等が例示される。Specifically, the monomer (A) has the following general formula (% formula %) Examples include compounds such as

(式中n=l、Rは−CH、−C2H5゜また芳香環の
置換基の位置はo、m、pわす。) 位を表 また芳香環の置換基の位置はOr m+  1)わす。
(In the formula, n=l, R is -CH, -C2H5°, and the positions of the substituents on the aromatic ring are o, m, and p.) The positions of the substituents on the aromatic ring are as follows.

) 位を表 位置はo、m、p 位を表わす。) (式中n=2.Rは、 C−CH,、−C。) show the rank The positions are o, m, p represents rank. ) (In the formula, n=2.R is C-CH,,-C.

(式中n−1、Rは−C−N−CH3゜■   曹  H C−N−C2H5゜  H OHOHOH を表わす。また芳香環の置換基の位置はo、m。(In the formula, n-1, R is -C-N-CH3゜■ Sodium H C-N-C2H5゜ H OHOHOH represents. Further, the positions of the substituents on the aromatic ring are o and m.

p−位を表わす。) の置換基の位置はo、m、p 位を表わす。) (式中n=2.Rは (CH2)3 (CH2)5 (CH2)2 (CH2)4 (CH2)8 を表わす。Represents p-position. ) The positions of the substituents are o, m, p represents rank. ) (In the formula, n=2.R is (CH2)3 (CH2)5 (CH2)2 (CH2)4 (CH2)8 represents.

を表わす。また芳香環の置換基の位置は02m。represents. Furthermore, the position of the substituent on the aromatic ring is 02m.

p−位を表わす。) 次に本発明における1分子中に CH2=CH−C−0−基、 1種の官能基をm個有する単量体(B)とは、アクリル
酸、メタクリル酸のエステル及びスチレンの誘導体であ
りm=1のものとしてはたとえばメチルアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメ
タクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタク
リレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメ
タクリレート、シクロへキシルアクリレート、シクロへ
キシルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジ
ルメタクリレート、メトキシエチルアクリレート、メト
キシエチルメタクリレート、エトキシエチルアクリレー
ト、エトキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルアクリレート、2ヒドロキシエチルメタクリレート
、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルメタクリレート、1,4−ブチレングリコー
ルモノアクリレート、1.4−ブチレングリコールモノ
メタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジル
メタクリレート、スチレン、メチルスチレン、クロロス
チレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、メト
キシスチレン、などが挙げられる。
Represents p-position. ) Next, in the present invention, the monomer (B) having m CH2=CH-C-0- groups and one type of functional group in one molecule is an ester of acrylic acid, methacrylic acid, and a derivative of styrene. Examples of m=1 include methyl acrylate,
Methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, isopropyl acrylate, isopropyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, methoxyethyl acrylate, methoxyethyl methacrylate, ethoxyethyl acrylate, ethoxy Ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 1,4-butylene glycol monoacrylate, 1,4-butylene glycol monomethacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, Examples include styrene, methylstyrene, chlorostyrene, bromostyrene, chloromethylstyrene, methoxystyrene, and the like.

m≧2のものとしては、たとえばエチレングリコールジ
アクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、
ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジメタクリレート、プロピレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジ
プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレング
リコルジメタクリレート、2,2−ビス(4−アクリロ
キシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(4−
メタクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2.2−
ビス(4−アクリロキシジェトキシフェニル)プロパン
、2,2−ビス(4−メタクリロキシジェトキシフェニ
ル)プロパン、2゜2−ビス(4−アクリロキシプロビ
ロキシフェニル)プロパン、2I 2−ビス(4−メタ
クリロキシプロビロキシフェニル)プロパン、]、]3
−ブタンジオールシアクリル−ト1.3−ブタンジオー
ルジメタクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,4−ブタンジオールジメタクリレート、1
.6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6−ヘキ
サンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレ
ート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエ
ステルジアクリレート、スピログリコールジアクリレト
、スピログリコールジメタクリレート、エポキシアクリ
レート、エポキシメタクリレート、2−プロペノイック
アシッド(2−[1,1−ジメチル−2−[(1−オキ
ソ−2−プロペニル)オキシ〕エチル〕−5−エチル−
1,3−ジオキサン−5−イルコメチルエステル、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ビス(アクリロイロキシエチル)ヒドロキシエチ
ルイソシアヌレート、ビス(メタクリロイロキシエチル
)ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス(アクリ
ロイロキシエチル)イソシアヌレート、トリス(メタク
リロイロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリス
リトルテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテト
ラメタクリレート、ジペンタエリスリトールへキサアク
リレート、ジペンタエリスリトールへキサメタクリレー
ト、メチルトリ(アクリロイロキシエトキシ)シラン、
グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリ
レート、グリセロールメタクリレートアクリレート、ジ
ブロムネオペンチルグリコールジアクリレート、ジブロ
ムネオペンチルグリコールジメタクリレート、ジビニル
ベンゼン、ウレタンアクリレート類、ウレタンメタクリ
レート類、1,1,3,3.5.5−へキサ(アクリロ
イロキシ)シクロトリホスフォイン、1.1,3,3,
5.5−ヘキサ(メタクリロイロキシ)シクロトリホス
フォイン、1,1,3゜3.5.5−ヘキサ(アクリロ
イルエチレンジオキシ)シクロトリホスフォイン、1,
1,3.3゜5.5−へキサ(メタクリロイルエチレン
ジオキシ)シクロトリホスフォイン、などが挙げられる
Examples of m≧2 include ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate,
Diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, dipropylene glycol diacrylate, dipropylene glycol dimethacrylate, 2,2-bis(4-acryloxyethoxyphenyl)propane, 2,2-bis (4-
Methacryloxyethoxyphenyl)propane, 2.2-
Bis(4-acryloxyjethoxyphenyl)propane, 2,2-bis(4-methacryloxyjethoxyphenyl)propane, 2゜2-bis(4-acryloxyprobyloxyphenyl)propane, 2I 2-bis(4 -methacryloxyprobyloxyphenyl)propane, ], ]3
-butanediol cyacrylate 1,3-butanediol dimethacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol dimethacrylate, 1
.. 6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester diacrylate, spiroglycol diacrylate, spiroglycol dimethacrylate, epoxy Acrylate, epoxy methacrylate, 2-propenoic acid (2-[1,1-dimethyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)oxy]ethyl]-5-ethyl-
1,3-dioxan-5-ylcomethyl ester, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis(acryloyloxyethyl)hydroxyethyl isocyanurate, bis(methacrylate) (royloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tris (methacryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritor tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol Hexamethacrylate, methyltri(acryloyloxyethoxy)silane,
Glycerol diacrylate, glycerol dimethacrylate, glycerol methacrylate acrylate, dibromneopentyl glycol diacrylate, dibromneopentyl glycol dimethacrylate, divinylbenzene, urethane acrylates, urethane methacrylates, 1,1,3,3.5.5 -hexa(acryloyloxy)cyclotriphosphoine, 1.1,3,3,
5.5-hexa(methacryloyloxy)cyclotriphosphoin, 1,1,3゜3.5.5-hexa(methacryloylethylenedioxy)cyclotriphosphoin, 1,
Examples include 1,3.3°5.5-hexa(methacryloylethylenedioxy)cyclotriphosphoine.

本発明により高い表面硬度を有する透明樹脂を製造する
方法としては、 下記一般式(I)で表される単量体(A)と、(式中、
Rの定義は前記(1)に記載した■■■■によって定義
される。) 1分子中にCH2=CH−C−0−基、1種の官能基を
m個有する単量体(B)とを(n十m )が3以上の整
数になるように組み合わせて共重合させることにより得
ることができる。
As a method for producing a transparent resin having high surface hardness according to the present invention, a monomer (A) represented by the following general formula (I) and (in the formula,
The definition of R is defined by ■■■■ described in (1) above. ) Copolymerization by combining a monomer (B) having m CH2=CH-C-0- groups and one type of functional group in one molecule so that (n0m) is an integer of 3 or more. It can be obtained by

さらに粘度調整等の目的に上記単量体(A)以外のイソ
プロペニルフェニル基を有する単量体たとえばジイソプ
ロペニルベンゼン、N−(3−イソプロペニル−α、α
−ジメチルベンジル)−2アクリロイロキシカルバメー
ト、N−(3−イソプロペニル−α、α−ジメチルベン
ジル)−2−メタクリロイロキシカルバメート等を加え
てもよい。
Furthermore, for the purpose of viscosity adjustment, monomers having an isopropenylphenyl group other than the above monomer (A), such as diisopropenylbenzene, N-(3-isopropenyl-α, α
-dimethylbenzyl)-2-acryloyloxycarbamate, N-(3-isopropenyl-α,α-dimethylbenzyl)-2-methacryloyloxycarbamate, etc. may be added.

さらに本共重合において、上記単量体の混合物中でのイ
ソプロペニル基と CH2=CH−C−0−基、 基との比率は上記単量体の有する官能基の種類及び単量
体の構造などにより一概には決められないが、イソプロ
ペニルフェニル基1当量に対してCH2−CH−C−0
−基、 基の総和が0.5〜10当量の範囲で共重合させるのが
好ましい。
Furthermore, in this copolymerization, the ratio of the isopropenyl group to the CH2=CH-C-0- group in the mixture of the monomers is determined by the type of functional group possessed by the monomer and the structure of the monomer. Although it cannot be determined unconditionally based on factors such as, CH2-CH-C-0
It is preferable to carry out copolymerization in such a way that the sum total of the - groups and the groups is in the range of 0.5 to 10 equivalents.

本共重合はラジカル共重合であり、重合方法は熱重合の
みならず、紫外線、γ線等を用いた方法も使用でき、ま
た単独での方法のみならず、組み合せて行うことも可能
である。
This copolymerization is a radical copolymerization, and the polymerization method can be not only thermal polymerization but also a method using ultraviolet rays, gamma rays, etc., and it is also possible to perform not only a single method but also a combination of methods.

熱重合を行う場合のラジカル重合開始剤は特に限定され
ず、公知のベンゾイルパーオキサイド、p−クロロベン
ゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカー
ボネート、ジー2−エチルへキシルパーオキシカーボネ
ート、t−ブチルパーオキシピバレートなどの過酸化物
およびアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物を
0.01〜5重量%の割合で用いる。
Radical polymerization initiators for thermal polymerization are not particularly limited, and include known benzoyl peroxide, p-chlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxy carbonate, di-2-ethylhexyl peroxy carbonate, and t-butyl peroxy carbonate. Peroxides such as barreto and azo compounds such as azobisisobutyronitrile are used in proportions of 0.01 to 5% by weight.

紫外線硬化による場合の光増感剤も特に限定されず、公
知のベンゾイル化合物、ベンゾインメチルエーテル、ベ
ンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル
、ベンゾインイソブチルエテル、2−ヒドロキシ−2−
ベンゾイルプロパン、アゾビスイソブチロニトリル、ベ
ンジル、チオキサントン、ンフェニルジスルフィドなど
を0.01〜5重量%の割合で用いる。
The photosensitizer in the case of ultraviolet curing is not particularly limited, and may include known benzoyl compounds, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, 2-hydroxy-2-
Benzoylpropane, azobisisobutyronitrile, benzyl, thioxanthone, nphenyl disulfide, etc. are used in a proportion of 0.01 to 5% by weight.

γ線等の放射線を使用する場合は、一般的には重合開始
剤などは必ずしも必要とはしない。
When using radiation such as gamma rays, a polymerization initiator is generally not necessary.

また本発明において、高硬度透明樹脂を用いた板または
レンズを得る方法は特に限定されず公知の製造方法を採
用できる。代表的な製造方法としては注型重合法である
。例えばガスケットまたはスペーサーとガラスまたは金
属性のモールドとを組み合せた鋳型の中に、前記組み合
わせの単量体混合物にラジカル開始剤または光増感剤を
加え、よく混合、脱泡した後注入し、加熱または紫外線
、放射線の照射により硬化させる。むろん前記重合前の
混合物に紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、近赤外線吸
収剤、離型剤、帯電防止剤などの添加剤を重合硬化を妨
げない範囲で添加することができる。
Further, in the present invention, the method for obtaining a plate or lens using a highly hard transparent resin is not particularly limited, and any known manufacturing method can be employed. A typical manufacturing method is a cast polymerization method. For example, a radical initiator or photosensitizer is added to the monomer mixture of the above combination into a mold that combines a gasket or spacer and a glass or metal mold, and after thorough mixing and defoaming, the mixture is injected and heated. Or harden by irradiation with ultraviolet rays or radiation. Of course, additives such as ultraviolet absorbers, antioxidants, dyes, near-infrared absorbers, mold release agents, and antistatic agents can be added to the mixture before polymerization to the extent that they do not interfere with polymerization and curing.

また薄膜状として用いる場合も公知の薄膜作製方法を採
用できる。すなわち、ロールコーティング、スプレーコ
ーティング、フローコーティング、デイピング等を用い
て前記組み合わせの単量体混合物に、ラジカル開始剤ま
たは光増感剤を加えたもの又はそれら混合物を溶媒で希
釈したものを、樹脂、金属、木材等の基材ヘコーティン
グする。
Furthermore, when using the material in the form of a thin film, a known method for producing a thin film can be employed. That is, using roll coating, spray coating, flow coating, dipping, etc., a radical initiator or photosensitizer is added to the monomer mixture of the above combination, or a mixture thereof is diluted with a solvent, and then the resin, Coating to base materials such as metal and wood.

溶媒を用いた場合は溶媒を揮発させた後、加熱または紫
外線、放射線の照射により硬化させる。この際前記重合
前の混合物に、紫外線吸収剤、酸化防止剤、染料、顔料
、近赤外線吸収剤、帯電防止剤、無機化合物微粒子など
の添加剤、充填剤等を重合硬化を妨げない範囲で添加す
ることができる。
When a solvent is used, the solvent is volatilized and then cured by heating or irradiation with ultraviolet rays or radiation. At this time, additives such as ultraviolet absorbers, antioxidants, dyes, pigments, near-infrared absorbers, antistatic agents, inorganic compound fine particles, fillers, etc. are added to the mixture before polymerization to the extent that they do not interfere with polymerization and curing. can do.

このようにして得られた高硬度透明樹脂板は耐擦傷性に
優れており、また、耐薬品性、耐熱性、加工性等に優れ
たものとすることができるのでグレージング材、ディス
プレイ装置用保護カバーなどに用いられる。またレンズ
の型のモールド内で重合もしくは、当樹脂を切削、研磨
等の加工をすることにより、上記と同様の特徴を有する
光学レンズが得られる。
The high-hardness transparent resin plate obtained in this way has excellent scratch resistance, and can also be made into a material with excellent chemical resistance, heat resistance, processability, etc., so it can be used as a glazing material and a protection material for display devices. Used for covers, etc. Further, by polymerizing the resin in a lens mold or processing the resin by cutting, polishing, etc., an optical lens having the same characteristics as described above can be obtained.

さらに、他の樹脂、金属、木材等の上での薄膜状の高硬
度透明樹脂は、耐擦傷性、耐薬品性等に優れた被覆材す
なわちハードコート材として用いられる。
Furthermore, a thin film of highly hard and transparent resin on other resins, metals, wood, etc. is used as a covering material, ie, a hard coat material, with excellent scratch resistance, chemical resistance, etc.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本
発明は、この実施例により同等限定されるものではない
。実施例中の部は重量部を表わす。
The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited to the same extent by these Examples. Parts in the examples represent parts by weight.

初めに本発明に用いる単量体(A)の合成例を説明する
。合成例中の部は重量部を表わす。
First, a synthesis example of monomer (A) used in the present invention will be explained. Parts in the synthesis examples represent parts by weight.

(合成例1) 3−イソプロペニルフェノール13.4部、イソホロン
ジイソシアネート11.1部、ジブチルスズジラウレー
ト0.1部、トルエン10部を混合し反応液温を70℃
に保ちながら1時間撹拌して反応を行った。反応終了後
、反応液を濃縮した。
(Synthesis Example 1) 13.4 parts of 3-isopropenylphenol, 11.1 parts of isophorone diisocyanate, 0.1 part of dibutyltin dilaurate, and 10 parts of toluene were mixed and the reaction solution temperature was adjusted to 70°C.
The reaction was carried out by stirring for 1 hour while maintaining the temperature. After the reaction was completed, the reaction solution was concentrated.

濃縮液は、クロマトグラフ法で精製し、無色透明液体状
の下記構造単量体22.3部を得た。
The concentrated liquid was purified by chromatography to obtain 22.3 parts of the following structural monomer in the form of a colorless and transparent liquid.

(合成例2) 3−イソプロペニルフェノール20.0部、エタノール
30部、50%水酸化ナトリウム水溶液10部を混合溶
解させ還流させる。ここにジブロムエタン12.7部を
滴下し、滴下終了後還流下で8時間反応させる。反応終
了後、溶媒を濃縮し、トルエンを加え5%水酸化ナトリ
ウム水溶液、水で洗い、乾燥、濃縮後、再結晶により無
色結晶状の下記構造の単量体12.3部を得た。
(Synthesis Example 2) 20.0 parts of 3-isopropenylphenol, 30 parts of ethanol, and 10 parts of a 50% aqueous sodium hydroxide solution are mixed and dissolved and refluxed. 12.7 parts of dibromoethane was added dropwise thereto, and after the addition was completed, the mixture was allowed to react under reflux for 8 hours. After the reaction was completed, the solvent was concentrated, toluene was added, and the mixture was washed with a 5% aqueous sodium hydroxide solution and water, dried, concentrated, and recrystallized to obtain 12.3 parts of a colorless crystalline monomer having the following structure.

(合成例3) 3−イソプロペニルフェノール13.4m、水240部
、水酸化ナトリウム4.8部を混合、溶解させる。激し
く撹拌しながらアジピン酸クロリド9.1部の塩化メチ
レン溶液200部を滴下し、滴下終了後、室温にて2時
間、塩化メチレン還流下で1時間反応させた。塩化メチ
レン層を5%水酸化ナトリウム溶液水で洗った後、乾燥
、留去し、エタノールから再結晶して白色固体状の下記
構造の単量体14.0部を得た。
(Synthesis Example 3) 13.4 m of 3-isopropenylphenol, 240 parts of water, and 4.8 parts of sodium hydroxide are mixed and dissolved. While vigorously stirring, a solution of 9.1 parts of adipic acid chloride in 200 parts of methylene chloride was added dropwise, and after the addition was completed, the mixture was reacted for 2 hours at room temperature and for 1 hour under refluxing methylene chloride. The methylene chloride layer was washed with 5% sodium hydroxide solution, dried, distilled off, and recrystallized from ethanol to obtain 14.0 parts of a white solid monomer having the structure shown below.

(合成例4) 4−イソプロペニルフェノール13.4部をエタノール
30部、水5部、水酸化ナトリウム4.0部の混合液に
溶解し、加熱し還流させる。
(Synthesis Example 4) 13.4 parts of 4-isopropenylphenol is dissolved in a mixed solution of 30 parts of ethanol, 5 parts of water, and 4.0 parts of sodium hydroxide, and heated to reflux.

ここにヨードエタン17.0部を滴下し、還流下で2時
間反応させる。反応終了後、溶媒を留去し、生成した沈
殿物を濾別する。濾液を減圧下で蒸留し、無色透明液体
状の下記構造の単量体12.2部を得た。
17.0 parts of iodoethane was added dropwise thereto, and the mixture was allowed to react under reflux for 2 hours. After the reaction is completed, the solvent is distilled off and the formed precipitate is filtered off. The filtrate was distilled under reduced pressure to obtain 12.2 parts of a colorless transparent liquid monomer having the structure shown below.

(合成例5) 3−イソプロペニルフェノール13.4部、n−プチル
イソシアネー)10.0部、クロロホルム20部、ジブ
チルスズジラウレート0.1部を混合し、クロロホルム
還流下で1時間撹拌して反応を行った。反応終了後、反
応液を濃縮した。
(Synthesis Example 5) 13.4 parts of 3-isopropenylphenol, 10.0 parts of n-butyl isocyanate, 20 parts of chloroform, and 0.1 part of dibutyltin dilaurate were mixed, and the mixture was stirred for 1 hour under refluxing chloroform to react. I did it. After the reaction was completed, the reaction solution was concentrated.

濃縮液はクロマグラフ法で精製し無色液体状の下記構造
の単量体20.5部を得た。
The concentrated solution was purified by chromatography to obtain 20.5 parts of a colorless liquid monomer having the structure shown below.

り 2C (合成例6) 4−イソプロペニルフェノール13.4部、ベンゼン5
0部、トリエチルアミン15.0部を混合し、氷冷しな
がら酢酸クロライド8.6部を滴下し、室温にて2時間
撹拌して反応させる。反応終了後、反応液を濾過、濃縮
した。濃縮液はクロマトグラフ法で精製し、無色液体状
の下記構造の単量体16.3部を得た。
2C (Synthesis Example 6) 13.4 parts of 4-isopropenylphenol, 5 parts of benzene
0 parts of triethylamine and 15.0 parts of triethylamine were mixed, 8.6 parts of acetic acid chloride was added dropwise while cooling with ice, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours to react. After the reaction was completed, the reaction solution was filtered and concentrated. The concentrated solution was purified by chromatography to obtain 16.3 parts of a colorless liquid monomer having the structure shown below.

(実施例1) 合成例1と同様にして得られた下記構造の単量体122
.7部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート8
8.1部を加え良く混合した後、ベンゾイルパーオキサ
イド2.4部を加え混合、脱泡を行い、この液を2枚の
5 mm厚のガラス板の周辺に5關厚のポリ塩化ビニル
製のスペーサーを入れクランプでしっかりと締め付けた
鋳型の中に注入し、重合用熱風炉の中で70℃から14
0℃まで1.5時間かけて昇温し、重合を行った後、冷
却し、鋳型から離型して、表面が平滑で透明な樹脂板を
得た。この板の鉛筆硬度(J Is−に−5400法に
よる)は7Hであり耐薬品性(イソプロパツールおよび
トルエンに室温中24時間浸漬後に鉛筆HBで後の残ら
ないものを良好とする)が良好で耐熱性(120℃の熱
風乾燥機中に4時間放置した後、重合体を取り出し肉眼
にて重合体の着色、表面の歪みなどの変化が見られない
ものを良好とする)も良好で金切りノコギリによる切断
が可能であり眼鏡レンズ加工用の玉摺り機でも研削が可
能であった。
(Example 1) Monomer 122 with the following structure obtained in the same manner as Synthesis Example 1
.. 7 parts, pentaerythritol tetraacrylate 8
After adding 8.1 parts of benzoyl peroxide and mixing well, add 2.4 parts of benzoyl peroxide, mix, defoamer, and apply this liquid to a 5 mm thick polyvinyl chloride plate around two 5 mm thick glass plates. Place a spacer in the mold and tighten it firmly with a clamp.
The temperature was raised to 0° C. over 1.5 hours to perform polymerization, and then cooled and released from the mold to obtain a transparent resin plate with a smooth surface. The pencil hardness of this board (according to the JIS-5400 method) is 7H, and the chemical resistance is good (if it does not leave a pencil HB residue after being immersed in isopropanol and toluene for 24 hours at room temperature, it is considered good). It also has good heat resistance (after leaving it in a hot air dryer at 120°C for 4 hours, the polymer is taken out and no changes such as coloration or surface distortion are observed with the naked eye). It was possible to cut it with a saw, and it was also possible to grind it with a beading machine for processing eyeglass lenses.

(実施例2) 合成例3と同様にして得られた下記構造の単量体70.
2部にジビニルベンゼン37.6部を加え良く混合した
後に、ベンゾイルパーオキサイド1.0部を加え混合、
脱泡を行い、この液を2枚の51厚のガラス板の周辺に
5 mm厚のポリ塩化ビニール製のスペーサーを入れ、
クランプでしっかりと締め付けた鋳型の中に注入し、重
合用熱風炉の中で70℃から140℃まで1.5時間か
けて昇温し重合を行ったのち、冷却し鋳型から離型して
、表面が平滑で透明な樹脂板を得た。この板の鉛筆硬度
は5Hであり、耐薬品性、耐熱性が良好で金切りノコギ
リによる切断が可能であり眼鏡レンズ加工用の玉摺り機
でも研削が可能であった。
(Example 2) Monomer 70 having the following structure obtained in the same manner as Synthesis Example 3.
Add 37.6 parts of divinylbenzene to 2 parts and mix well, then add 1.0 part of benzoyl peroxide and mix.
After degassing, this liquid was placed in a 5 mm thick polyvinyl chloride spacer around two 51 thick glass plates.
The mixture was poured into a mold that was tightly tightened with a clamp, and the temperature was raised from 70°C to 140°C over 1.5 hours in a polymerization hot air oven for polymerization. After that, it was cooled and released from the mold. A transparent resin plate with a smooth surface was obtained. This board had a pencil hardness of 5H, had good chemical resistance and heat resistance, could be cut with a metal saw, and could be ground with a beading machine for processing eyeglass lenses.

(実施例3) 合成例4と同様にして得られた下記構造体の単量体81
.1部に ペンタエリスリトールテトラアクリレート88.1部を
加えて良く混合した後、ベンゾイルパーオキサイド0.
9部を加えて混合、脱泡を行い、この液を2枚の5 m
m厚のガラス板の周辺に5龍厚のポリ塩化ビニル製のス
ペーサーを入れ、クランプでしっかりと締め付けた鋳型
の中に注入し、重合用熱風炉の中で70℃から140℃
まで1.5時間かけて昇温し重合を行ったのち、冷却し
、鋳型から離型して、表面が平滑で透明な樹脂板を得た
。この板の鉛筆硬度は7Hであり、耐薬品性、耐熱性が
良好で、金切りノコギリによる切断が可能であり、眼鏡
レンズ加工用の玉摺り機でも研削が可能であった。
(Example 3) Monomer 81 of the following structure obtained in the same manner as Synthesis Example 4
.. After adding 88.1 parts of pentaerythritol tetraacrylate to 1 part and mixing well, 0.0 parts of benzoyl peroxide was added.
Add 9 parts, mix, defoamer, and pour this liquid into two 5 m
A spacer made of polyvinyl chloride with a thickness of 5 m is placed around the glass plate, poured into a mold tightly tightened with a clamp, and heated at 70 to 140 °C in a hot air oven for polymerization.
After polymerization was carried out by raising the temperature over 1.5 hours, the mixture was cooled and released from the mold to obtain a transparent resin plate with a smooth surface. This board had a pencil hardness of 7H, had good chemical resistance and heat resistance, could be cut with a metal saw, and could be ground with a beading machine for processing eyeglass lenses.

(実施例4) 実施例1と同様に調製した単量体混合物30部にベンゾ
イルパーオキサイド0.1部を加え加圧下で孔径5μm
のフィルターを通して濾過し、ジエチレングリコールジ
アリルカーボネート用の+2ジオプター用のレンズ型に
注入し70℃から140℃まで3時間かけて昇温しで重
合を行ったのち、冷却し鋳型から離型して表面が平滑で
透明な凸レンズを得た。表面の鉛筆硬度は7Hであり、
アツベ屈折計による屈折率は1.53であった。
(Example 4) 0.1 part of benzoyl peroxide was added to 30 parts of the monomer mixture prepared in the same manner as in Example 1, and the pore size was adjusted to 5 μm under pressure.
Filtered through a filter, poured into a +2 diopter lens mold for diethylene glycol diallyl carbonate, heated from 70°C to 140°C over 3 hours to polymerize, cooled, released from the mold, and the surface was removed. A smooth and transparent convex lens was obtained. The surface pencil hardness is 7H,
The refractive index measured by an Atsube refractometer was 1.53.

(実施例5) 実施例2と同様に調製した単量体混合物20.0部にベ
ンゾイルパーオキサイド0.2部を加え、よく混合、脱
泡し、鋼板上にコーティングバーを用いて膜厚50μm
となる様に塗布し140℃の温度にて30分加熱硬化さ
せ表面が平滑で透明な薄膜を得た。塗膜の鉛筆硬度は7
Hてあり、基盤目試験(J Is−に−54(10によ
る)が良好であり、耐熱性(120℃の熱風乾燥型中に
10時間放置し異常が見られなかったものを良好とする
)も良好であった。
(Example 5) 0.2 parts of benzoyl peroxide was added to 20.0 parts of the monomer mixture prepared in the same manner as in Example 2, mixed well, defoamed, and coated on a steel plate with a coating bar to a thickness of 50 μm.
It was coated and cured by heating at a temperature of 140° C. for 30 minutes to obtain a transparent thin film with a smooth surface. The pencil hardness of the paint film is 7
H, substrate test (JIs-54 (according to 10)) is good, heat resistance (good if no abnormality was observed after being left in a hot air drying mold at 120°C for 10 hours) was also good.

(比較例1) ジエチレングリコールジアリルカーボネート100部に
ベンゾイルパーオキサイド3.0部を加え混合、脱泡を
行い、この液を2枚の5 mm厚のガラス板の周辺に5
 ynm厚のポリ塩化ビニル製のスペーサーを入れ、ク
ランプでしっかりと締め付けた後、この鋳型の中に注入
し、重合用熱風炉の中で50℃から120℃まで3時間
かけて昇温加熱重合を行う途中70℃付近で急激な重合
がおこり、ガラスモールドから重合物が剥離、黄色に着
色した。
(Comparative Example 1) 3.0 parts of benzoyl peroxide was added to 100 parts of diethylene glycol diallyl carbonate, mixed and defoamed, and this liquid was spread around two 5 mm thick glass plates for 5.0 parts.
After inserting a spacer made of polyvinyl chloride with a thickness of 100 yen and tightening it firmly with a clamp, it was poured into the mold and polymerized by heating from 50°C to 120°C for 3 hours in a hot air oven for polymerization. During the process, rapid polymerization occurred at around 70°C, and the polymer was peeled off from the glass mold and colored yellow.

50℃から120℃まで10時間かけて昇温加熱重合す
ることにより、始めて剥離のない樹脂板を得ることが可
能であったが、得られた樹脂の鉛筆硬度は3Hであった
By heating and polymerizing the resin from 50°C to 120°C over 10 hours, it was possible to obtain a resin plate without peeling for the first time, but the pencil hardness of the resin obtained was 3H.

(比較例2) メチルメタクリレート20.0部にm−キシリレンジイ
ソシアネート18.8部を加え、さらにジブチルスズジ
ラウレート0.5部を加え、内温か60℃となるように
加熱しなからヒドロキシエチルメタクリレート26.0
部を徐々に加えて赤外吸収スペクトルでイソシアネート
基の吸収がほとんど消えた粘稠なウレタン化合物のメチ
ルメタクリレート混合物を得た。これにベンゾイルパー
オキサイド0.3部を加え混合、脱泡を行い、この液を
2枚の5 +nn+厚のガラス板の周辺に5關厚の塩化
ビニル製のスペーサーを入れ、クランプでしっかりと締
め付けた鋳型の中に注入し重合用熱風炉の中で45℃か
ら120℃まで3時間かけて昇温加熱重合を行う途中、
65℃付近で急激な重合が起りガラスモールドから重合
物が剥離した。
(Comparative Example 2) Add 18.8 parts of m-xylylene diisocyanate to 20.0 parts of methyl methacrylate, further add 0.5 parts of dibutyltin dilaurate, and heat until the internal temperature reaches 60°C. .0
A viscous urethane compound methyl methacrylate mixture in which the absorption of the isocyanate group almost disappeared in the infrared absorption spectrum was obtained by gradually adding 50% of the mixture. Add 0.3 parts of benzoyl peroxide to this, mix and defoam, then insert a 5mm thick vinyl chloride spacer around two 5+nn+ thick glass plates and tighten firmly with a clamp. The mixture was poured into a mold and heated and polymerized in a hot air oven for polymerization from 45°C to 120°C over 3 hours.
Rapid polymerization occurred at around 65°C, and the polymer peeled off from the glass mold.

(比較例3) トリメチロールプロパントリアクリレート50部にベン
ゾイルパーオキサイド0.5部を加え、混合、脱泡を行
い、この液を2枚の5 mm厚のガラス板の周辺に5 
mm厚のポリ塩化ビニル製のスペーサーを入れ、クラン
プでしっかりと締め付けた鋳型の中に注入し、重合用熱
風炉の中で60℃から140℃まで3時間かけて昇温し
重合を行う途中、間もなく急激な重合が起りガラスモー
ルドから重合物が剥離した。
(Comparative Example 3) 0.5 parts of benzoyl peroxide was added to 50 parts of trimethylolpropane triacrylate, mixed and defoamed, and this liquid was spread around two 5 mm thick glass plates for 50 parts.
A mm-thick polyvinyl chloride spacer was inserted, the mixture was poured into a mold that was tightly tightened with a clamp, and the temperature was raised from 60°C to 140°C over 3 hours in a hot air oven for polymerization. Rapid polymerization soon occurred and the polymer peeled off from the glass mold.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の樹脂は重合過程における重合制御が極めて容易
であり、従って成型重合において剥離や白化、ヒビ割れ
を起すことなく成型性が極めて良好であり、精度の高い
成型が可能である。更に本発明の樹脂は高い表面硬度を
有し、透明性にも優れている。
The resin of the present invention can be extremely easily controlled during the polymerization process, and therefore has extremely good moldability without causing peeling, whitening, or cracking during molding polymerization, and can be molded with high precision. Furthermore, the resin of the present invention has high surface hardness and excellent transparency.

また本発明の樹脂は耐薬品性、耐熱性にも優れたものに
することができ、高い表面硬度と相まって、切断や切削
などの加工性にも優れている。
Furthermore, the resin of the present invention can be made to have excellent chemical resistance and heat resistance, and in combination with high surface hardness, it also has excellent processability such as cutting and machining.

従って、グレージング材、デイスプレー装置用保護カバ
ー、光学レンズ、ハードコート材などに好適に使用でき
る。
Therefore, it can be suitably used for glazing materials, protective covers for display devices, optical lenses, hard coat materials, etc.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)下記一般式( I )で表される単量体(A)と、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中Rは[1]イソプロペニルフェノキシ基に結合し
た▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学
式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基から 選ばれた官能基を有するか有しない脂肪族残基▲数式、
化学式、表等があります▼はイソプロペニルフェノキシ
基を示しRには含まれない)または、 [2]イソプロペニルフェノキシ基に結合した ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基 から選ばれた官能基を有するか有しない脂環族残基▲数
式、化学式、表等があります▼はイソプロペニルフェノ
キシ基を示しRには含まれない)または、 [3]イソプロペニルフェノキシ基に結合した ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基 から選ばれた官能基を有するか有しない、残基中に脂環
基、複素環、芳香環および、ヘテロ原子よりなる群から
選んだ少なくとも1種を有する脂肪族残基▲数式、化学
式、表等があります▼はイソプロペニルフエノキシ基を
示しRには含まれない)または、 [4]▲数式、化学式、表等があります▼基を表わし、
nは1〜4の整数を表わす。) 1分子中に▲数式、化学式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、または ▲数式、化学式、表等があります▼基から選ばれた少な
くとも1種の官能基をm個有する単量体(B)とを(n
+m)が3以上の整数になるように組み合わせて共重合
させてなる架橋高分子からなる高硬度透明樹脂。 (2)請求項1の単量体(A)及び単量体(B)よりな
る下記一般式(II)および/または(III)で表わされ
る構造単位を含有する架橋高分子からなる高硬度透明樹
脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは[1]イソプロペニルフェノキシ基に結合し
た▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学
式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基から 選ばれた官能基を有するか有しない脂肪族残基▲数式、
化学式、表等があります▼はイソプロペニルフェノキシ
基 を示しRには含まれない)または、[2]イソプロペニ
ルフェノキシ基に結合した ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基 から選ばれた官能基を有するか有しない脂環族残基▲数
式、化学式、表等があります▼はイソプロペニルフェノ
キシ 基を示しRには含まれない)または、[3]イソプロペ
ニルフェノキシ基に結合した ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、化学式
、表等があります▼基 から選ばれた官能基を有するか有しない、残基中に脂環
基、複素環、芳香環および、ヘテロ原子(窒素原子、硫
黄原子、酸素原子等)よりなる群より選んだ少なくとも
1種を有する脂肪族残基▲数式、化学式、表等がありま
す▼はイソプロペニルフェノキシ基 を示しRには含まれない)または、[4]−C−基を表
わし、R′は水素またはメチル基を、 Yは▲数式、化学式、表等があります▼・・基、 ▲数式、化学式、表等があります▼・・基、 または▲数式、化学式、表等があります▼・・基を、n
は1〜4の整数を表わし、(n+m)は3以上の整数を
表わす)(3)請求項1記載の高硬度透明樹脂からなる
グレージング材。 (4)請求項1記載の高硬度透明樹脂からなるディスプ
レイ装置用保護カバー。 (5)請求項1記載の高硬度透明樹脂からなる光学レン
ズ。 (6)請求項1記載の高硬度透明樹脂からなるハードコ
ート材。 (7)下記一般式(IV)(V)(VI)(VII)(VIII)
(IX)で表わされる単量体からなる群より選ばれた少な
くとも1種である単量体(A)と1分子中に▲数式、化
学式、表等があります▼基、 ▲数式、化学式、表等があります▼基、または ▲数式、化学式、表等があります▼基から選ばれた少な
くとも 1種の官能基をm個有する単量体(B)とを(n+m)
が3以上の整数になるように組み合わせて共重合させて
なる架橋高分子からなる高硬度透明樹脂。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中n=1、Rは−CH_3、−C_2H_5、−C
_3H_7、−C_4H_9、−C_5H_1_1、−
C_6H_1_3、▲数式、化学式、表等があります▼
を表わす。また芳香環の置換基の位置はo、m、p−位
を表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中n=1、Rは▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式
、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります
▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学
式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。また芳香
環の置換基の 位置はo、m、p−位を表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中n=1、Rは▲数式、化学式、表等があります▼
、▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、%式、 を表わす。また芳香環の置換基の位置はo、m、p−位
を表わす。) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中n=2、Rは−(CH_2)_2−、−(CH_
2)_3−、−(CH_2)_4−、−(CH_2)_
5−、−(CH_2)_6−を表わす。 また芳香環の置換基の位置はo、m、p−位を表わす。 ) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中n=2、Rは、▲数式、化学式、表等があります
▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わす。また芳香
環 の置換基の位置はo、m、p−位を表わす。)▲数式、
化学式、表等があります▼(IX)(式中n=2、Rは▲
数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 を表わす。また芳香環の置換基の位置はo、m、p−位
を表わす。)
[Claims] (1) Monomer (A) represented by the following general formula (I), ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R is [1] isopropenyl There are ▼ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to phenoxy groups ▼ groups, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼Aliphatic residues with or without functional groups chosen from the group ▲Formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ indicates isopropenylphenoxy group and is not included in R) or [2] There are ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to isopropenyl phenoxy group ▼ group, ▲ mathematical formula, chemical formula, There are tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ alicyclic residues with or without functional groups selected from groups ▲ mathematical formulas, chemical formulas , tables, etc. ▼ indicates isopropenylphenoxy group and is not included in R) or [3] There are ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to isopropenyl phenoxy group ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. an aliphatic residue having at least one member selected from the group consisting of a ring, an aromatic ring, and a heteroatom ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ indicates an isopropenyl phenoxy group and is not included in R) or , [4] ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ Represents a group,
n represents an integer from 1 to 4. ) One molecule contains at least one functional group selected from ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ group, ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ group, or ▲ has a mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ group Monomer (B) having m groups and (n
A high-hardness transparent resin made of crosslinked polymers that are copolymerized in combination such that +m) is an integer of 3 or more. (2) High hardness and transparency made of a crosslinked polymer containing a structural unit represented by the following general formula (II) and/or (III) made of monomer (A) and monomer (B) according to claim 1. resin. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R is bonded to the [1] isopropenylphenoxy group. There are chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ there are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ aliphatic residues with or without functional groups selected from the groups ▲ mathematical formulas,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ indicates isopropenylphenoxy group (not included in R) or [2] There are ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to isopropenyl phenoxy group ▼ group, ▲ mathematical formula, chemical formula, There are tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ alicyclic residues with or without functional groups selected from groups ▲ mathematical formulas, chemical formulas , tables, etc. ▼ indicates an isopropenylphenoxy group and is not included in R) or [3] There are ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. bonded to the isopropenyl phenoxy group ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ groups, ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. An aliphatic residue having at least one type selected from the group consisting of a ring, an aromatic ring, and a hetero atom (nitrogen atom, sulfur atom, oxygen atom, etc.) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ is an isopropenylphenoxy group. (not included in R) or [4]-C- group, R' is hydrogen or methyl group, Y is ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼... group, ▲ mathematical formula, chemical formula, There are tables, etc. ▼...Groups, or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...Groups, n
(n+m) represents an integer of 1 to 4, and (n+m) represents an integer of 3 or more. (3) A glazing material made of the highly hard transparent resin according to claim 1. (4) A protective cover for a display device made of the highly hard transparent resin according to claim 1. (5) An optical lens made of the highly hard transparent resin according to claim 1. (6) A hard coat material comprising the highly hard transparent resin according to claim 1. (7) General formula (IV) (V) (VI) (VII) (VIII) below
Monomer (A), which is at least one type selected from the group consisting of monomers represented by (IX), and ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. in one molecule ▼ group, ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. A monomer (B) having m functional groups of at least one kind selected from ▼ groups, or ▲ mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. groups, and (n + m)
A high-hardness transparent resin made of crosslinked polymers that are copolymerized by combining them so that they become an integer of 3 or more. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(IV) (In the formula, n=1, R is -CH_3, -C_2H_5, -C
_3H_7, -C_4H_9, -C_5H_1_1, -
C_6H_1_3, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼
represents. Further, the positions of the substituents on the aromatic ring represent the o-, m-, and p-positions. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(V) (In the formula, n=1, R is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼
, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, There are tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼. Further, the positions of the substituents on the aromatic ring represent the o-, m-, and p-positions. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VI) (In the formula, n = 1, R is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼
, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Mathematical formulas, chemical formulas,
There are tables, etc. ▼, % expression, and . Further, the positions of the substituents on the aromatic ring represent the o-, m-, and p-positions. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(VII) (In the formula, n=2, R is -(CH_2)_2-, -(CH_
2)_3-, -(CH_2)_4-, -(CH_2)_
5-, -(CH_2)_6-. Further, the positions of the substituents on the aromatic ring represent the o-, m-, and p-positions. ) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VIII) (In the formula, n = 2, R is ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲Mathematical formulas, chemical formulas , tables, etc. Represents ▼. Also, the positions of substituents on the aromatic ring represent the o, m, and p-positions.) ▲ Formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ (IX) (in the formula, n = 2, R is ▲
There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼, ▲ Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. There are▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, Represents. Further, the positions of the substituents on the aromatic ring represent the o-, m-, and p-positions. )
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