JPH0345907B2 - - Google Patents
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- JPH0345907B2 JPH0345907B2 JP60128966A JP12896685A JPH0345907B2 JP H0345907 B2 JPH0345907 B2 JP H0345907B2 JP 60128966 A JP60128966 A JP 60128966A JP 12896685 A JP12896685 A JP 12896685A JP H0345907 B2 JPH0345907 B2 JP H0345907B2
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B18/18—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves
- A61B18/20—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves using laser
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/02—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light
- G02B26/04—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the intensity of light by periodically varying the intensity of light, e.g. using choppers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/005—Diaphragms
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
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- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
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- H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
-
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- A61B2018/00636—Sensing and controlling the application of energy
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Description
【発明の詳細な説明】
「技術分野」
本発明は、例えばレーザメスとして使用される
レーザ治療装置において、レーザ光の出力を減衰
させる装置に関する。
レーザ治療装置において、レーザ光の出力を減衰
させる装置に関する。
「従来技術およびその問題点」
レーザ光の熱エネルギを利用したレーザ治療装
置としては、Co2レーザとNd−YAGレーザが一
般的に用いられているが、内視鏡下においては、
フレキシブルなレーザフアイバ中を効率よく伝達
されるNd−YAGレーザがよく用いられている。
このNd−YAGレーザを用いた治療では、レーザ
フアイバの先端に透明サフアイア材を連結し、こ
のサフアイア材の先端を患部に接触させて患部組
織の切開、凝固を行なう接触療法が実用化されて
いる。
置としては、Co2レーザとNd−YAGレーザが一
般的に用いられているが、内視鏡下においては、
フレキシブルなレーザフアイバ中を効率よく伝達
されるNd−YAGレーザがよく用いられている。
このNd−YAGレーザを用いた治療では、レーザ
フアイバの先端に透明サフアイア材を連結し、こ
のサフアイア材の先端を患部に接触させて患部組
織の切開、凝固を行なう接触療法が実用化されて
いる。
この接触療法は、従来から行なわれている非接
触療法に比べ、透明サフアイア材が直接患部に接
触するため、レーザ光の患部表面組織での反射、
散乱が抑えられるので、低い出力での治療効果を
期待することができる。特に凝固を目的とした場
合には、非接触療法では30w以上の出力が必要と
されたのに対し、接触療法ではその約1/3程度の
10w以下の出力でも非接触療法と同程度の効果が
得られる。
触療法に比べ、透明サフアイア材が直接患部に接
触するため、レーザ光の患部表面組織での反射、
散乱が抑えられるので、低い出力での治療効果を
期待することができる。特に凝固を目的とした場
合には、非接触療法では30w以上の出力が必要と
されたのに対し、接触療法ではその約1/3程度の
10w以下の出力でも非接触療法と同程度の効果が
得られる。
他方、このNd−YAGレーザも、例えば止血を
目的として使用するときには、100w程度の高出
力を要求される。このため、Nd−YAGレーザを
汎用機として使用するには、数ｗ程度の低出力か
ら、100w以上の高出力までの発振機能を満足し
なければならない。
目的として使用するときには、100w程度の高出
力を要求される。このため、Nd−YAGレーザを
汎用機として使用するには、数ｗ程度の低出力か
ら、100w以上の高出力までの発振機能を満足し
なければならない。
ところが従来の出力100wクラスのNd−YAG
レーザでは、レーザ発振を開始するための反転分
布のしきい値が10w近くの出力に相当するため、
10w程度の低出力を安定して出すことができな
い。すなわち励起ランプの光量を低出力に相当す
るように変化させるべく、電流コントロールを行
なつたとすると、発振されるレーザ光が非常に不
安定となつてしまう。このため上記接触療法を行
なうには、特別な低出力のNd−YAGレーザを用
いなければならないのが実情であつた。
レーザでは、レーザ発振を開始するための反転分
布のしきい値が10w近くの出力に相当するため、
10w程度の低出力を安定して出すことができな
い。すなわち励起ランプの光量を低出力に相当す
るように変化させるべく、電流コントロールを行
なつたとすると、発振されるレーザ光が非常に不
安定となつてしまう。このため上記接触療法を行
なうには、特別な低出力のNd−YAGレーザを用
いなければならないのが実情であつた。
「発明の目的」
本発明は、従来のレーザ発振装置のこの問題を
解消し、低出力から高出力までをカバーできる汎
用型のレーザ発振装置を得ることを目的とする。
解消し、低出力から高出力までをカバーできる汎
用型のレーザ発振装置を得ることを目的とする。
「発明の概要」
本発明は、レーザ発振器から発振されるレーザ
光を遮光することなく送信する場合を高出力、遮
光装置によつて一部遮光する場合を低出力にして
用いるという発想に基づいてなされたもので、レ
ーザ光路中に、レーザ光を機械的に遮光する遮光
部分と通過させる透光部分とを円周方向に交互に
有する回転体を備えた遮光装置を設け、この遮光
装置を、レーザ発振器から発振されるレーザ光を
その遮光部分によつて遮光する位置と、遮光しな
い非遮光位置とに、進退可能に設けたことを特徴
としている。
光を遮光することなく送信する場合を高出力、遮
光装置によつて一部遮光する場合を低出力にして
用いるという発想に基づいてなされたもので、レ
ーザ光路中に、レーザ光を機械的に遮光する遮光
部分と通過させる透光部分とを円周方向に交互に
有する回転体を備えた遮光装置を設け、この遮光
装置を、レーザ発振器から発振されるレーザ光を
その遮光部分によつて遮光する位置と、遮光しな
い非遮光位置とに、進退可能に設けたことを特徴
としている。
「発明の実施例」
以下図示実施例について本発明を説明する。第
１図は本発明のレーザ発振装置の回路ブロツク
図、第２図は第１図中の遮光装置１０の具体例を
示すものである。レーザ発振器１１は電源装置１
２から電力の供給を受けて作動し、レーザ光を発
振する。このレーザ光は集光レンズ系１３を介し
て例えばレーザ治療装置のレーザフアイバ１４の
入射端面に入射される。
１図は本発明のレーザ発振装置の回路ブロツク
図、第２図は第１図中の遮光装置１０の具体例を
示すものである。レーザ発振器１１は電源装置１
２から電力の供給を受けて作動し、レーザ光を発
振する。このレーザ光は集光レンズ系１３を介し
て例えばレーザ治療装置のレーザフアイバ１４の
入射端面に入射される。
レーザ発振器１１と集光レンズ系１３の間のレ
ーザ光路中には、ビームスプリツタ１５が配設さ
れており、ここで分割されたレーザ光は、出力検
出器１６に入力される。出力検出器１６の出力は
増幅器１７で増幅された後、演算回路１８に入力
され、演算回路１８には別に出力調整装置１９の
出力が入力される。演算回路１８は、出力検出器
１６と出力調整装置１９の出力を比較して、その
差を増幅器２０を介して加算回路２１に送る。こ
の加算回路２１には別に出力調整装置１９の出力
も入力されており、加算回路２１は、この演算回
路１８と出力調整装置１９の和によつて、電源装
置１２を制御する。以上のフイードバツク系によ
つて、発振レーザ光強度が出力調整装置１９で設
定された出力値になるように、レーザ発振器１１
が電源装置１２によつて駆動される。
ーザ光路中には、ビームスプリツタ１５が配設さ
れており、ここで分割されたレーザ光は、出力検
出器１６に入力される。出力検出器１６の出力は
増幅器１７で増幅された後、演算回路１８に入力
され、演算回路１８には別に出力調整装置１９の
出力が入力される。演算回路１８は、出力検出器
１６と出力調整装置１９の出力を比較して、その
差を増幅器２０を介して加算回路２１に送る。こ
の加算回路２１には別に出力調整装置１９の出力
も入力されており、加算回路２１は、この演算回
路１８と出力調整装置１９の和によつて、電源装
置１２を制御する。以上のフイードバツク系によ
つて、発振レーザ光強度が出力調整装置１９で設
定された出力値になるように、レーザ発振器１１
が電源装置１２によつて駆動される。
他方、出力調整装置１９の出力は、高低切換ス
イツチ２２の切換により、減衰器２３を介して表
示装置２４に、または表示装置２４に直接、与え
られるようになつている。
イツチ２２の切換により、減衰器２３を介して表
示装置２４に、または表示装置２４に直接、与え
られるようになつている。
遮光装置１０は、レーザ発振器１１から集光レ
ンズ系１３に至るレーザ光中に進退可能に設けら
れている。この遮光装置１０は、第２図に示すよ
うに、回転円板２５の周縁の表裏に、90度ずつ位
置を異ならせて、ピン２６により遮光板２７を枢
着したもので、遮光板２７は、ピン２６を中心に
回動して、回転円板２５の内側、および外側に移
動できる。そしてこの遮光板２７は、引張ばね２
８によつて、常時は回転円板２５の内側に位置す
るように回動付勢されている（第２図Ｂ）が、回
転円板２５の回転数が一定値に達してこれに作用
する遠心力が大きくなると、回転円板２５の外側
に突出する（同Ａ）。２９は内側の後退位置を規
制するストツパ円板、３０は突出位置を規制する
ストツパピンである。遮光板２７はこの回転円板
２５からの突出位置において、レーザ光路中に進
出するもので、進出状態では、隣り合う遮光板２
７間に空間３１が形成される。この実施例では、
遮光板２７と空間３１の周方向の長さの比は、
４：１となつている。
ンズ系１３に至るレーザ光中に進退可能に設けら
れている。この遮光装置１０は、第２図に示すよ
うに、回転円板２５の周縁の表裏に、90度ずつ位
置を異ならせて、ピン２６により遮光板２７を枢
着したもので、遮光板２７は、ピン２６を中心に
回動して、回転円板２５の内側、および外側に移
動できる。そしてこの遮光板２７は、引張ばね２
８によつて、常時は回転円板２５の内側に位置す
るように回動付勢されている（第２図Ｂ）が、回
転円板２５の回転数が一定値に達してこれに作用
する遠心力が大きくなると、回転円板２５の外側
に突出する（同Ａ）。２９は内側の後退位置を規
制するストツパ円板、３０は突出位置を規制する
ストツパピンである。遮光板２７はこの回転円板
２５からの突出位置において、レーザ光路中に進
出するもので、進出状態では、隣り合う遮光板２
７間に空間３１が形成される。この実施例では、
遮光板２７と空間３１の周方向の長さの比は、
４：１となつている。
そして回転円板２５は、第１図に示すように、
駆動モータ３３によつて回転駆動され、駆動モー
タ３３は作動スイツチ（高低切換スイツチ）３４
を介して電源装置３５に接続されている。この作
動スイツチ３４は、上記高低切換スイツチ２２と
連動している。
駆動モータ３３によつて回転駆動され、駆動モー
タ３３は作動スイツチ（高低切換スイツチ）３４
を介して電源装置３５に接続されている。この作
動スイツチ３４は、上記高低切換スイツチ２２と
連動している。
上記構成の本装置は、低出力モードを選択する
ときには、高低切換スイツチ２２および作動スイ
ツチ３４を低出力側に位置させる。すなわち、第
１図のように接点２２ａを接点２２ｂに、同接点
３４ａを接点３４ｂに接触させる。すると、駆動
モータ３３に給電されて回転円板２５が回転し、
その回転数が一定値に達すると、上述のように遮
光板２７がレーザ光路に進出して、レーザ発振器
１１から集光レンズ系１３に至るレーザ光の一部
が機械的に遮光され、集光レンズ系１３に入射す
るレーザ光が減衰する。すなわち、この実施例で
は、遮光板２７と、隣接する遮光板２７間の空間
３１の周方向の長さの比が４：１であるため、回
転円板２５の回転に伴なう遮光板２７のチヨツパ
作用によつて、レーザ発振器１１の出力は1/5に
減衰されてレーザフアイバ１４に与えられる。例
えばレーザ発振器１１の出力が100wであれば
20w、10wであれば2wが集光レンズ系１３に入力
される。なお回転円板２５に回転むらが生じたと
しても、、遮光板２７と空間３１の比は一定であ
るから、安定した減衰レーザ光が与えられる。減
衰器２３は、遮光板２７と空間３１の比に対応し
た減衰量を持つもので、この低出力モード時に
は、、出力調整装置１９の設定出力を1/5に減衰し
た出力表示装置２４に表示する。すなわち遮光装
置１０によつて減衰されたレーザ光の出力値に等
価な値が出力表示装置２４に表示される。
ときには、高低切換スイツチ２２および作動スイ
ツチ３４を低出力側に位置させる。すなわち、第
１図のように接点２２ａを接点２２ｂに、同接点
３４ａを接点３４ｂに接触させる。すると、駆動
モータ３３に給電されて回転円板２５が回転し、
その回転数が一定値に達すると、上述のように遮
光板２７がレーザ光路に進出して、レーザ発振器
１１から集光レンズ系１３に至るレーザ光の一部
が機械的に遮光され、集光レンズ系１３に入射す
るレーザ光が減衰する。すなわち、この実施例で
は、遮光板２７と、隣接する遮光板２７間の空間
３１の周方向の長さの比が４：１であるため、回
転円板２５の回転に伴なう遮光板２７のチヨツパ
作用によつて、レーザ発振器１１の出力は1/5に
減衰されてレーザフアイバ１４に与えられる。例
えばレーザ発振器１１の出力が100wであれば
20w、10wであれば2wが集光レンズ系１３に入力
される。なお回転円板２５に回転むらが生じたと
しても、、遮光板２７と空間３１の比は一定であ
るから、安定した減衰レーザ光が与えられる。減
衰器２３は、遮光板２７と空間３１の比に対応し
た減衰量を持つもので、この低出力モード時に
は、、出力調整装置１９の設定出力を1/5に減衰し
た出力表示装置２４に表示する。すなわち遮光装
置１０によつて減衰されたレーザ光の出力値に等
価な値が出力表示装置２４に表示される。
これに対し、高出力モードを選択するときに
は、第３図に示すように、高低切換スイツチ２２
の接点２２ａを接点２２ｃに、作動スイツチ３４
の接点３４ａを接点３４ｃに、それぞれ接触させ
る。すると電源装置３５と駆動モータ３３との導
通が断たれるため、回転円板２５は回転しない。
また出力調整装置１９の設定出力は直接出力表示
装置２４に表示される。したがつて、遮光装置１
０の遮光板２７は、引張ばね２８の力により、第
２図Ｂのように回転円板２５の内側に位置してレ
ーザ光路から後退し、非遮光位置に位置するた
め、レーザ発振器１１から出射されるレーザ光は
機械的に減衰されることなく、直接集光レンズ系
１３からレーザフアイバ１４に入射される。
は、第３図に示すように、高低切換スイツチ２２
の接点２２ａを接点２２ｃに、作動スイツチ３４
の接点３４ａを接点３４ｃに、それぞれ接触させ
る。すると電源装置３５と駆動モータ３３との導
通が断たれるため、回転円板２５は回転しない。
また出力調整装置１９の設定出力は直接出力表示
装置２４に表示される。したがつて、遮光装置１
０の遮光板２７は、引張ばね２８の力により、第
２図Ｂのように回転円板２５の内側に位置してレ
ーザ光路から後退し、非遮光位置に位置するた
め、レーザ発振器１１から出射されるレーザ光は
機械的に減衰されることなく、直接集光レンズ系
１３からレーザフアイバ１４に入射される。
なお実施例のように、遮光装置１０をモニタ用
のビームスプリツタ１５の前側においてレーザ光
路中に挿入すると、ビームスプリツタ１５によつ
て分割されるモニタ信号（レーザ光）の検知処理
を、従来のモニタ装置に変更を加えることなくそ
のまま利用して行なうことができるという利点が
ある。
のビームスプリツタ１５の前側においてレーザ光
路中に挿入すると、ビームスプリツタ１５によつ
て分割されるモニタ信号（レーザ光）の検知処理
を、従来のモニタ装置に変更を加えることなくそ
のまま利用して行なうことができるという利点が
ある。
第４図は本発明の別の実施例を示すもので、遮
光装置１０として、遮光板２７を第２図Ａの状態
で回転円板２５に固定したのを用い、この遮光装
置１０の全体をレーザ光路に対して進退させる駆
動装置４０を設けている。図示しない要素は、第
１図、第３図と同様である。遮光装置１０は、遮
光板２７と空間３１の周方向の長さの異なるもの
を複数用意しておき、これをそれぞれの駆動装置
４０を用いて択一的にレーザ光路中に進退させれ
ば、異なる減衰率のレーザ光を得ることができ
る。すなわちレーザ光の高低二段の出力モードだ
けでなく、より多段の細分された出力モードを得
ることが可能となる。
光装置１０として、遮光板２７を第２図Ａの状態
で回転円板２５に固定したのを用い、この遮光装
置１０の全体をレーザ光路に対して進退させる駆
動装置４０を設けている。図示しない要素は、第
１図、第３図と同様である。遮光装置１０は、遮
光板２７と空間３１の周方向の長さの異なるもの
を複数用意しておき、これをそれぞれの駆動装置
４０を用いて択一的にレーザ光路中に進退させれ
ば、異なる減衰率のレーザ光を得ることができ
る。すなわちレーザ光の高低二段の出力モードだ
けでなく、より多段の細分された出力モードを得
ることが可能となる。
「発明の効果」
以上のように本発明は、レーザ光を機械的に遮
光する遮光部分と通過させる透光部分とを円周方
向に交互に有する回転体を備えた遮光装置を、レ
ーザ発振器から発振されるレーザ光をその遮光部
分によつて遮光する位置と、遮光しない非遮光位
置とに、進退させるものであるから、非遮光位置
ではレーザ発振器の全出力を用いた高出力が得ら
れ、遮光位置では、遮光部分と透光部分の周方向
の長さの比（デユーテイ比）に応じて減衰させた
低出力を得ることができる。レーザ発振器自体の
出力は一定にすることができるので、低出力のと
きに出力が不安定になることがない。よつてレー
ザ治療装置において、従来療法の非接触治療には
高出力を得る一方、フアイバ出射端面に透明サフ
アイア材を被着して行なう接触療法に際しては、
安定した低出力を得ることができる。
光する遮光部分と通過させる透光部分とを円周方
向に交互に有する回転体を備えた遮光装置を、レ
ーザ発振器から発振されるレーザ光をその遮光部
分によつて遮光する位置と、遮光しない非遮光位
置とに、進退させるものであるから、非遮光位置
ではレーザ発振器の全出力を用いた高出力が得ら
れ、遮光位置では、遮光部分と透光部分の周方向
の長さの比（デユーテイ比）に応じて減衰させた
低出力を得ることができる。レーザ発振器自体の
出力は一定にすることができるので、低出力のと
きに出力が不安定になることがない。よつてレー
ザ治療装置において、従来療法の非接触治療には
高出力を得る一方、フアイバ出射端面に透明サフ
アイア材を被着して行なう接触療法に際しては、
安定した低出力を得ることができる。
第１図は本発明のレーザ発振装置の実施例を示
す回路ブロツク図、第２図Ａ，Ｂは遮光装置の具
体例を示す、互いに異なる状態の正面図、第３図
は第１図のレーザ発振装置において、高出力モー
ドを選択したときのブロツク図、第４図は本発明
の他の実施例を示す要部のブロツク図である。 １０……遮光装置、１１……レーザ発振器、１
２……電源装置、１３……集光レンズ系、１４…
…レーザフアイバ、１５……ビームスプリツタ、
１６……出力検出器、１８……演算回路、１９…
…出力調整装置、２１……加算回路、２２……高
低切換スイツチ、２３……減衰器、２４……出力
表示装置、２５……回転円板、２６……ピン、２
７……遮光板、３１……空間、３３……駆動モー
タ、３４……作動スイツチ、３５……電源装置。
す回路ブロツク図、第２図Ａ，Ｂは遮光装置の具
体例を示す、互いに異なる状態の正面図、第３図
は第１図のレーザ発振装置において、高出力モー
ドを選択したときのブロツク図、第４図は本発明
の他の実施例を示す要部のブロツク図である。 １０……遮光装置、１１……レーザ発振器、１
２……電源装置、１３……集光レンズ系、１４…
…レーザフアイバ、１５……ビームスプリツタ、
１６……出力検出器、１８……演算回路、１９…
…出力調整装置、２１……加算回路、２２……高
低切換スイツチ、２３……減衰器、２４……出力
表示装置、２５……回転円板、２６……ピン、２
７……遮光板、３１……空間、３３……駆動モー
タ、３４……作動スイツチ、３５……電源装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザ光を機械的に遮光する遮光部分と通過
させる透光部分とを円周方向に交互に有する回転
体を備えた遮光装置を設け、 この遮光装置を、レーザ発振器から発振される
レーザ光をその遮光部分によつて遮光する位置
と、遮光しない非遮光位置とに、進退可能に設け
たことを特徴とするレーザ発振装置。 ２ 特許請求の範囲第１項において、遮光装置
は、回転円板と、この回転円板の周縁部に、該回
転円板の内外に移動可能に枢着された遮光板と、
この遮光板を常時は回転円板内に位置させるばね
手段とを備え、 遮光板は、回転円板の回転数が一定値以上にな
つたとき、これに作用する遠心力により上記ばね
手段に抗して回転円板の外方に突出してレーザ光
を遮光する上記遮光部分を構成し、この遮光板の
存在しない部分が上記透光部分を構成するレーザ
発振装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60128966A JPS61285780A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | レ−ザ発振装置 |
| US06/871,038 US4783787A (en) | 1985-06-12 | 1986-06-05 | Laser beam generating device with multiple power levels |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60128966A JPS61285780A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | レ−ザ発振装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61285780A JPS61285780A (ja) | 1986-12-16 |
| JPH0345907B2 true JPH0345907B2 (ja) | 1991-07-12 |
Family
ID=14997815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60128966A Granted JPS61285780A (ja) | 1985-06-12 | 1985-06-12 | レ−ザ発振装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4783787A (ja) |
| JP (1) | JPS61285780A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1000908A6 (fr) * | 1987-09-11 | 1989-05-16 | Centre Rech Metallurgique | Dispositif pour moduler un faisceau laser. |
| DE3914070A1 (de) * | 1988-09-19 | 1990-03-29 | Zeiss Carl Fa | Laseranordnung mit ein- und ausschaltbarer frequenzkonversion |
| US5249192A (en) * | 1991-06-27 | 1993-09-28 | Laserscope | Multiple frequency medical laser |
| US5459310A (en) * | 1994-05-04 | 1995-10-17 | At&T Global Information Solutions Company | Apparatus for sensing different attenuation windows within an optical scanner |
| US5528611A (en) * | 1995-02-16 | 1996-06-18 | Scheps; Richard | Repetitively Q-switched laser pumped by laer diodes and Q-switched with an intracavity variable speed moving aperture |
| WO2008037089A1 (en) * | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Universite Laval | System and method for permanently writing a diffraction grating in a low phonon energy glass medium |
| US7760411B2 (en) * | 2006-11-20 | 2010-07-20 | Alcon, Inc. | System and method for illumination attenuation |
| US10965089B2 (en) * | 2018-05-07 | 2021-03-30 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser device, laser machining apparatus, and method for controlling output of laser device |
| CN111999885A (zh) * | 2020-09-04 | 2020-11-27 | 之江实验室 | 一种电控可调光衰减装置 |
Citations (2)
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| JPS5910766U (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-23 | 滝川 重次 | 鋏 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US3561869A (en) * | 1969-01-22 | 1971-02-09 | Us Army | Lidar with automatic scanner having fixed optics |
| US3626322A (en) * | 1969-07-09 | 1971-12-07 | American Optical Corp | Method and apparatus for eliminating dominance or laser oscillations at one wavelength over those at another |
| US3609588A (en) * | 1969-12-30 | 1971-09-28 | Us Army | Repetitively pulsed high peak power laser |
| JPS4926477U (ja) * | 1972-06-07 | 1974-03-06 | ||
| US4435808A (en) * | 1981-01-22 | 1984-03-06 | Ali Javan | Production of radiation at frequencies of preselected absorbing resonances and methods using same |
| JPS59115032A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-03 | 東北リコ−株式会社 | 血管吻合装置 |
| US4514849A (en) * | 1983-09-07 | 1985-04-30 | Coherent, Inc. | Dye laser with rotating wedge alignment servo |
-
1985
- 1985-06-12 JP JP60128966A patent/JPS61285780A/ja active Granted
-
1986
- 1986-06-05 US US06/871,038 patent/US4783787A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5821387A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-08 | Olympus Optical Co Ltd | レ−ザ照射装置 |
| JPS5910766U (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-23 | 滝川 重次 | 鋏 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4783787A (en) | 1988-11-08 |
| JPS61285780A (ja) | 1986-12-16 |
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