JPH0341935U - - Google Patents

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JPH0341935U
JPH0341935U JP10307089U JP10307089U JPH0341935U JP H0341935 U JPH0341935 U JP H0341935U JP 10307089 U JP10307089 U JP 10307089U JP 10307089 U JP10307089 U JP 10307089U JP H0341935 U JPH0341935 U JP H0341935U
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JP
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wafer
vacuum suction
stage
suction hole
hole
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JP10307089U
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【図面の簡単な説明】
第1図は、この考案のウエーハ(大)を使用す
る場合の吸着チヤツク要部断面図、第2図は、ウ
エーハ(小)を使用する場合の吸着チヤツク要部
断面図である。第3図は、従来の大きさが一定の
ウエーハを吸着させるチヤツクの要部断面図であ
る。 1a,1b……真空吸引孔、2a……外周ステ
ージ、2b……内周ステージ、3……ウエーハ、
3a……ウエーハ(大)、3b……ウエーハ(小
)、4……統括真空吸引孔、5……ねじ込み部、
6……通気孔、7……Oリング。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 ウエーハを載置し、統括真空吸引孔に連なる真
    空吸引孔を複数個設けるステージを有するウエー
    ハ吸着チヤツクにおいて、 上記ステージを、ウエーハ径寸法に対応する数
    の同心状に設定するとともに、内周のステージは
    、外周のステージの真空吸引孔内にねじ込み接続
    され、かつねじ込み部は、ねじ込みにより外周ス
    テージの真空吸引孔を閉塞可能とする通気孔を設
    けたことを特徴とするウエーハ吸着チヤツク。
JP10307089U 1989-08-31 1989-08-31 Pending JPH0341935U (ja)

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JP10307089U JPH0341935U (ja) 1989-08-31 1989-08-31

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JPH0341935U true JPH0341935U (ja) 1991-04-22

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JP10307089U Pending JPH0341935U (ja) 1989-08-31 1989-08-31

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021070265A1 (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 株式会社日立ハイテク 試料ステージ及び光学式検査装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021070265A1 (ja) * 2019-10-08 2021-04-15 株式会社日立ハイテク 試料ステージ及び光学式検査装置
JPWO2021070265A1 (ja) * 2019-10-08 2021-04-15

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