JPH0340291A - Semiconductor memory - Google Patents
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- JPH0340291A JPH0340291A JP2164679A JP16467990A JPH0340291A JP H0340291 A JPH0340291 A JP H0340291A JP 2164679 A JP2164679 A JP 2164679A JP 16467990 A JP16467990 A JP 16467990A JP H0340291 A JPH0340291 A JP H0340291A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は大容量で高速の半導体メモリに関するものであ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a large-capacity, high-speed semiconductor memory.
(従来の技術)
ダイナミックメモリは記憶セルが転送FETと記憶キャ
パシタの2素子により構成される点で単位面積あたりの
ビット記憶密度が゛高い。例えば記憶セルが6素子で構
成されるスタティックメモリに比べ約3倍のビット密度
を達成することができる。この点で大容量の半2導体メ
モリとしてはダイナミックメモリが主に用い−られてい
る。これに対しスタティックメモリは高速化、低消費電
力化に適するので小容量の高速メモリの分野で低電カメ
モリの分野に用いられている。(Prior Art) A dynamic memory has a high bit storage density per unit area in that a storage cell is composed of two elements: a transfer FET and a storage capacitor. For example, it is possible to achieve a bit density that is approximately three times that of a static memory in which the memory cell is composed of six elements. In this respect, dynamic memories are mainly used as large-capacity semiconductor memories. On the other hand, static memory is suitable for high speed and low power consumption, and is therefore used in the field of small-capacity, high-speed memory and low-power memory.
従来の大容量のダイナツクメモリの具体例として特開昭
57−186289号公報に記載されている回路を筆1
図に示す。ビット線B、白には、それぞれ転送用PMO
S FET QMと記憶キャパシタC8よりなるダ
イナツクメモリセルが接続されている。それぞれの転送
用PMOSFET Q のゲートにはワード線WN
’ WN+1が接続され、このワード線WN ’ W
Nilは行デコーダRDに接続される。ワード線WN、
WN+1・は行デコーダRDにより駆動される。ビット
線B。As a specific example of a conventional large-capacity dynamic memory, the circuit described in Japanese Patent Application Laid-open No. 186289/1983 is
As shown in the figure. Bit line B and white each have a PMO for transfer.
A dynamic memory cell consisting of an S FET QM and a storage capacitor C8 is connected. Word line WN is connected to the gate of each transfer PMOSFET Q.
' WN+1 is connected, and this word line WN ' W
Nil is connected to row decoder RD. word line WN,
WN+1. is driven by row decoder RD. Bit line B.
百には、寄生静電容量CBが付随している。A parasitic capacitance CB is associated with the voltage.
ビット線B、百にはさらにプリチャージ回路とセンスア
ンプ回路と力(接続されている。プリチャージ回路は、
NMO8FET NPI、NF2゜NF2からなる。Bit line B and 100 are further connected to a precharge circuit and a sense amplifier circuit.The precharge circuit is
Consists of NMO8FET NPI, NF2°NF2.
センスアンプ回路は、交差結合されたNMO8FET対
Nl、N2とラッチ用NMO3FET N3と、交差
結合されたPMOS FET対PI、P2と、ラッチ
用PMO3FET P3との6つのFETにより構成
されている。ビット線対B、白のそれぞれは、列選択信
号Y により選択的に転送ゲート用m
NMO5FET対Tif’ Tm2を介して行方向に配
線されたデータ線対I10.I10にそれぞれ接続され
る。データ線対I10.I10は、人力バッファB1を
介してデータ入力端子DINに、出カバッファBOを介
してデータ出力端子り。utに接続される。外部より与
えられたアドレス信号ARcはアドレスバッファADS
により行アドレスロープ信号φ に同期して行アドレス
ARがストR
ローブされ、行デコーダRDへ送られ、列アドレススト
ローブ信号φACに同期して列アドレスAcがストロー
ブされ列デコーダCDへ送られる。The sense amplifier circuit is composed of six FETs: a cross-coupled NMO8FET pair N1, N2, a latch NMO3FET N3, a cross-coupled PMOS FET pair PI, P2, and a latch PMO3FET P3. Each of the bit line pairs B and white is selectively connected to a data line pair I10 . I10 respectively. Data line pair I10. I10 is connected to the data input terminal DIN via the manual buffer B1, and to the data output terminal via the output buffer BO. Connected to ut. Address signal ARc applied from the outside is sent to address buffer ADS.
The row address AR is strobed in synchronization with the row address rope signal φ and sent to the row decoder RD, and the column address Ac is strobed in synchronization with the column address strobe signal φAC and sent to the column decoder CD.
次のこのダイナミックメモリの動作を説明する。The operation of this dynamic memory will be explained next.
行アドレスストローブ信号φARが入力される以前にφ
Poが入力されており、プリチャージ回路が動作してビ
ット線B、[3は中間電位VDまでプリチャージされて
いる。行アドレスストローブ信号φARがアクアイブに
されると、プリチャージが終了し、行アドレスが同期し
てストローブされ、行デコーダRDにより選択された番
地の行WNがHレベルからLレベルになり、行WNに接
続されている転送用FET QMが導通し、選択され
たメモリセルの記憶キャパシタC8の情報がビット線B
上にあられれる。すなわち、記憶キャパシタC8の情報
が「1」のときは、ビット線百の電位はVDからVD+
ΔVと変化し、記憶キャパシタCsの情報が「0」のと
きは、ビット線百の電位はVDからVD−ΔVと変化す
る。ここでΔV−CV /2(CB十C8)である。そ
の後センM
スアンプのラッチ用FET N3.P3のゲートにラ
ッチ相信号φN、φPが人力して、ラッチ用FET
N3.P3は導通状態になる。これにより微小信号ΔV
が増幅され、記憶キャパシタC8の情報が「1」ならば
ビット線百は電位■coとなり、ビット線色は電位Oと
なる。記憶キャパシタC8の情報がrOJならば逆にビ
ット線百は電位0となり、ビット線0は電位V。0とな
る。行アドレスストローブ信号φARがアクティブにさ
れた後、列アドレスストローブ信号φACがアクティブ
にされ、列アドレスが列デコーダCDに入力される。Before row address strobe signal φAR is input, φ
Po is input, and the precharge circuit operates to precharge the bit lines B and [3 to the intermediate potential VD. When the row address strobe signal φAR is made aqua-live, precharging is completed, the row address is strobed in synchronization, and the row WN at the address selected by the row decoder RD changes from the H level to the L level, and the row WN The connected transfer FET QM becomes conductive, and the information in the storage capacitor C8 of the selected memory cell is transferred to the bit line B.
Hail above. That is, when the information in the storage capacitor C8 is "1", the potential of the bit line 100 changes from VD to VD+.
When the information in the storage capacitor Cs is "0", the potential of the bit line 100 changes from VD to VD-ΔV. Here, ΔV-CV/2 (CB+C8). After that, the sense amplifier latch FET N3. The latch phase signals φN and φP are manually applied to the gate of P3, and the latch FET
N3. P3 becomes conductive. As a result, the minute signal ΔV
is amplified, and if the information in the storage capacitor C8 is "1", the bit line 100 becomes the potential ■co, and the bit line color becomes the potential O. Conversely, if the information in the storage capacitor C8 is rOJ, the bit line 100 has a potential of 0, and the bit line 0 has a potential of V. It becomes 0. After row address strobe signal φAR is activated, column address strobe signal φAC is activated and a column address is input to column decoder CD.
選択された列アドレスに従って選択列のY が選ばれ、
選択列の転送ゲート用NMO3FET対T□I’ Td
を導通させ、データ線対I10゜Iloとビット線対8
1日が接続される。リード制御信号φ 、ライト制御信
号φWに従って、それぞれ出力バッファBO1入カバッ
ファB1が活性化され、リード動作またはライト動作が
大現される。行アドレスストローブ信号φARがアクテ
ィブの状態で列アドレスストローブ信号φACを連続し
て変化させ、列アドレスを次々に変えて、同一行内でリ
ード動作またはライト動作を連続的におこなう。このよ
うなリード/ライト動作をページモード動作というが、
このページモードの最大サイクル数は、一定間隔でリフ
レッシュ動作を行う必要があるため制限されていた。例
えば256にビットメモリではリフレッシュサイクルは
256サイクル/4msであり、約16μS毎に1同の
割合でリフレッシュが必要であるが、ページモードサイ
クルが160nsて約100サイクル毎にリフレッシュ
が必要なため、ページモード数の最大値は100以下に
制限されてしまう。The selected column Y is selected according to the selected column address,
NMO3FET pair for transfer gate in selected column T□I' Td
conduction, data line pair I10°Ilo and bit line pair 8
1 day is connected. According to read control signal φ and write control signal φW, output buffer BO1 and input buffer B1 are activated, respectively, and a read operation or a write operation is performed. While row address strobe signal φAR is active, column address strobe signal φAC is continuously changed, column addresses are changed one after another, and read or write operations are continuously performed within the same row. This kind of read/write operation is called page mode operation.
The maximum number of cycles in this page mode is limited because refresh operations must be performed at regular intervals. For example, in a 256-bit memory, the refresh cycle is 256 cycles/4 ms, and refresh is required at a rate of about every 16 μS, but the page mode cycle is 160 ns, which requires refreshing about every 100 cycles. The maximum number of modes is limited to 100 or less.
また、例えば山田他rAuto/5ell’ Rel’
resh機能内蔵64Kbit MOSダイナツクRA
MJ (電子通信学会論文誌、Vol JGG−C(
No、り 、p62.1983年1月)には、タイマと
リフレッシュカウンタを内蔵し、タイマでカウントマツ
プされるリフレッシュカウンタ情報によりセルフリフレ
ッシュを行うものが記載されている。しかしこの半導体
メモリではセルフリフレッシュ時にセンスアンプがリフ
レッシュ動作に利用されるため、セルフリフレッシュ期
間内は外部から行方向のみならず列方向にもアドレスを
指定してリード/ライト動作をすることができなかった
。Also, for example, Yamada et al. rAuto/5ell'Rel'
64Kbit MOS dynamic RA with built-in resh function
MJ (Transactions of the Institute of Electronics and Communication Engineers, Vol. JGG-C)
No. 1, page 62, January 1983) describes a device that has a built-in timer and refresh counter, and performs self-refreshing based on refresh counter information counted and mapped by the timer. However, in this semiconductor memory, the sense amplifier is used for refresh operation during self-refresh, so during the self-refresh period, it is not possible to perform read/write operations by externally specifying addresses not only in the row direction but also in the column direction. Ta.
このような従来の半導体メモリには次のような問題点が
ある。■ビット線とデータ線の寄生容量は大きいため、
リード/ライト動作のアクセス時間やサイクル時間や、
ページモードのサイクル時間が長く必要であり、低速で
ある。0行アドレスを固定しての列アドレス変化に対す
るページモードのリフレッシュサイクル数に最大値があ
る。Such conventional semiconductor memories have the following problems. ■Since the parasitic capacitance of bit lines and data lines is large,
access time and cycle time for read/write operations,
Page mode requires long cycle times and is slow. There is a maximum value for the number of refresh cycles in page mode for a column address change with the 0 row address fixed.
■セルフリフレッシュ中はメモリに対するリード/ライ
ト動作のアクセスができない。■同一行をアクセスして
いるにもかかわらずページモードサイクルのある繰り返
し毎に行選択動作を繰り返す必要があるため消費電力が
大きい。■Read/write access to memory is not possible during self-refresh. ■Power consumption is high because it is necessary to repeat the row selection operation every certain repetition of the page mode cycle even though the same row is being accessed.
このような問題を解決するため、ダイナミックメモリの
高ビット密度とスタティックメモリの高速性とを組合わ
せた半導体メモリが同−光明者により提案されている(
特願昭58−113924号)。In order to solve these problems, a semiconductor memory that combines the high bit density of dynamic memory and the high speed of static memory has been proposed by Komyosha (
(Japanese Patent Application No. 113924/1982).
このメモリではダイナミックメモリの1行分のデータを
スタティックメモリ行に転送し、スタティックメモリの
高速性を利用して読出しを行い、全体としてのアクセス
速度を向上させようとするものである。In this memory, data for one row of dynamic memory is transferred to a static memory row, and reading is performed by taking advantage of the high speed of the static memory, thereby improving the overall access speed.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、ダイナミックメモリの1行分のセルのデ
ータを対応するスタティックメモリセルに転送する際に
は両者がビット線により直接接続されることになるため
、両者のデータが衝突することになる。例えば、読出し
時においてダイナミックメモリが“1″を記憶しており
、スタティックメモリが′0”状態となっている場合、
データが衝突し、通常の倍以上の大電流(貫通電流)が
流れる。このようなデータの衝突が起こった場合には、
−膜内に電流供給能力がある側のデータが取り出される
ことになる。この結果、ダイナミックメモリのデータが
取出されたときには問題がないが、スタティックメモリ
の情報が取出されたときには、誤読出しが発生すること
になる。(Problem to be Solved by the Invention) However, when transferring data from one row of cells in a dynamic memory to a corresponding static memory cell, both are directly connected by a bit line. will collide. For example, when the dynamic memory stores “1” and the static memory is in the “0” state at the time of reading,
Data collides and a large current (through current) that is more than twice the normal flow flows. If such a data collision occurs,
- Data from the side that has the ability to supply current within the membrane will be retrieved. As a result, there is no problem when data from the dynamic memory is retrieved, but erroneous reading occurs when information from the static memory is retrieved.
したがって、本発明はこのようなデータの衝突が発生を
貼止することができ、誤読出しをVj +l= した半
導体メモリを提供することを目的とする。Therefore, it is an object of the present invention to provide a semiconductor memory that can prevent such data collisions from occurring and prevents erroneous reading by Vj +l=.
(課題を解決するための手段)
本発明にかかる半導体メモリによれば、情報を記憶する
ダイナミックメモリセルを行方向と列方向にマトリクス
配列したダイナミックメモリセルアレイと、前記ダイナ
ミックメモリセルアレイ中のダイナミックメモリセルを
行方向に共通接続したワード線と、前記ダイナミックメ
モリセルアレイ中のダイナミックメモリセルを列方向に
共通接続したビット線と、前記ビット線を対にして、こ
の対にしたビット線間の電位差をセンス増幅する複数の
センスアンプ回路からなるセンスアンプ回路行とを備え
た半導体メモリにおいて、前記ダイナミックメモリセル
アレイ中の行方向のダイナミックメモリセルに対応した
スタティックメモリセルからなるスタティックメモリセ
ル行と、このスタティックメモリセル行中のスタティッ
クメモリセルとその対応する前記ビット線との間で情報
を伝達する転送ゲート手段と、所望の行アドレスのダイ
ナミックメモリセルからなるダイナミックメモリセル行
のワード線を選択する行選択手段と、前記スタティック
メモリセル行中の所望の列アドレスのスタティックメモ
リセルを選択して前記スタティックメモリセルとデータ
線の間で情報を転達する列選択手段と、前記スタティッ
クメモリセルへの電源供給を制御する電源供給制御手段
とを備え、前記電源供給制御手段により前記スタティッ
クメモリへの電源供給を停+l=、させておき、前記行
選択手段により選択されたワード線に共通接続された前
記ダイナミックメモリセル行の情報を前記転送ゲート手
段により前記スタティックメモリセル行に転送する際に
前記電源供給制御手段により前記スタティックメモリへ
電源供給を行い、前記列選択手段で選択されたデータ線
を介して、所望の列アドレスのスタティックメモリセル
の情報のリード動作をするようにしたことを特徴として
いる。(Means for Solving the Problems) A semiconductor memory according to the present invention includes a dynamic memory cell array in which dynamic memory cells for storing information are arranged in a matrix in the row direction and column direction, and dynamic memory cells in the dynamic memory cell array. A word line that is commonly connected in the row direction, a bit line that is commonly connected to the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array in the column direction, and the bit line are paired, and the potential difference between the paired bit lines is sensed. A semiconductor memory comprising: a sense amplifier circuit row comprising a plurality of sense amplifier circuits for amplification; and a static memory cell row comprising static memory cells corresponding to dynamic memory cells in the row direction in the dynamic memory cell array; Transfer gate means for transmitting information between static memory cells in a cell row and their corresponding bit lines, and row selection means for selecting a word line in a dynamic memory cell row consisting of dynamic memory cells at a desired row address. a column selection means for selecting a static memory cell at a desired column address in the static memory cell row and transferring information between the static memory cell and a data line; and controlling power supply to the static memory cell. power supply control means, wherein the power supply control means stops power supply to the static memory, and the dynamic memory cells commonly connected to the word line selected by the row selection means When the row information is transferred to the static memory cell row by the transfer gate means, the power supply control means supplies power to the static memory, and the desired information is transferred via the data line selected by the column selection means. It is characterized in that it performs an operation to read information from a static memory cell at a column address.
また、本発明にかかる半導体メモリによれば、情報を記
憶するダイナミックメモリセルを行方向と列方向にマト
リクス配列したダイナミックメモリセルアレイと、前l
己ダイナミックメモリセルアレイ中のダイナミックメモ
リセルを行方向に共通接続したワード線と、前記ダイナ
ミックメモリセルアレイ中のダイナミックメモリセルを
列h″向に共通接続したビット線と、前記ビット線を対
にして、この対にしたビット線間の電位差をセンス増幅
する複数のセンスアンプ回路からなるセンスアンプ回路
行とを備えた半導体メモリにおいて、前記ダイナミック
メモリセルアレイ中の行方向のダイナミックメモリセル
に対応したスタティックメモリセルからなるスタティッ
クメモリセル行と、このスタティックメモリセル行中の
スタティックメモリセルとその対応する前記ビット線と
の間で情報を伝達する転送ゲート手段と、所望の行アド
レスのダイナミックメモリセルからなるダイナミックメ
モリセル行のワード線を選択する行選択手段と、前記ス
タティックメモリセル行中の所望の列アドレスのスタテ
ィックメモリセルを選択して前記スタティックメモリセ
ルとデータ線の間で情報を伝達する列選択手段と前記ス
タティックメモリセルへの電源供給を制御する電源供給
制御手段とを備え、前記電源供給制御手段により前記ス
タティックメモリへの電源供給を停止させておき、前記
行選択手段により選択されたワード線に共通接続された
前記ダイナミックメモリセル行の情報を、前記転送ゲー
ト手段により前記スタティックメモリセル行に転送する
際に前記電源供給制御手段により前記スタティックメモ
リへ電源供給を行い、前記列選択手段で選択されたデー
タ線を介して、所望の列アドレスのスタティックメモリ
セルの情報のリードおよび/又はライト動作をし、この
リードおよび/又はライト動作した後の前記スタティッ
クメモリセル行の情報を、前記転送ゲート手段により、
前記行選択手段により選択されたワード線に共通接続さ
れた前記ダイナミックメモリセル行に転送して再書込み
するようにしたことを特徴としている。Further, according to the semiconductor memory according to the present invention, a dynamic memory cell array in which dynamic memory cells for storing information are arranged in a matrix in the row direction and column direction;
The bit line is paired with a word line to which the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array are commonly connected in the row direction, and a bit line to which the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array are commonly connected in the column h'' direction, In a semiconductor memory comprising a sense amplifier circuit row consisting of a plurality of sense amplifier circuits that sense and amplify the potential difference between the paired bit lines, static memory cells corresponding to dynamic memory cells in the row direction in the dynamic memory cell array a dynamic memory comprising a static memory cell row consisting of a static memory cell row, a transfer gate means for transmitting information between the static memory cell in the static memory cell row and its corresponding bit line, and a dynamic memory cell at a desired row address. row selection means for selecting a word line of a cell row; column selection means for selecting a static memory cell at a desired column address in the static memory cell row and transmitting information between the static memory cell and the data line; power supply control means for controlling power supply to the static memory cells, wherein the power supply control means stops the power supply to the static memory, and the word lines selected by the row selection means When the information of the connected dynamic memory cell row is transferred to the static memory cell row by the transfer gate means, the power supply control means supplies power to the static memory, and the column selection means selects the column selected by the column selection means. A read and/or write operation of information in a static memory cell at a desired column address is performed via a data line, and the information in the static memory cell row after the read and/or write operation is transferred by the transfer gate means. ,
It is characterized in that data is transferred and rewritten to the dynamic memory cell row commonly connected to the word line selected by the row selection means.
(作 用)
本発明にかかる半導体メモリでは、ダイナミックメモリ
セルのデータをスタティックメモリセルに転送前に、ス
タティックメモリセルへの電源供給を停止するようにし
ている。このため、データの転送の際に、スタティック
メモリセルの状態は白紙状態となり、ダイナミックメモ
リのデータの状態にスタティックメモリが影響を及ぼす
ことはない。このため、スタティックメモリの駆動能力
を落とさずに、データの衝突を避けることができる。(Function) In the semiconductor memory according to the present invention, power supply to the static memory cell is stopped before data in the dynamic memory cell is transferred to the static memory cell. Therefore, when data is transferred, the state of the static memory cell becomes a blank state, and the static memory does not affect the state of data in the dynamic memory. Therefore, data collisions can be avoided without reducing the driving performance of the static memory.
本発明の一実施例による半導体メモリを第2図から第4
図に示す。第2図は本実施例による半導体メモリのチッ
プ上のレイアウトを示したものである。この半導体メモ
リはIM語×1ビット構成であり、10本のアドレス信
号端子A。−A9を6する。このアドレス信号端子A1
〜A9には行アドレスと列アドレスをマルチプレックス
したアドレス信号を入力する。この他にこの半導体メモ
リは、チップイネーブル信号端子CE、人力データ信号
端子D 出力データ信号端子D 、すI N’
out−ド/ライト信号端子W1行
アドレスストローブ信号端子RAS、リフレッシュイネ
ーブルおよびレディ信号端子RRDYを有する。また電
1g、端了vDD、接地端子V38も有している。A semiconductor memory according to an embodiment of the present invention is shown in FIGS. 2 to 4.
As shown in the figure. FIG. 2 shows the layout on a chip of the semiconductor memory according to this embodiment. This semiconductor memory has an IM word x 1 bit configuration, and has 10 address signal terminals A. - Add 6 to A9. This address signal terminal A1
An address signal obtained by multiplexing a row address and a column address is input to ~A9. In addition, this semiconductor memory has a chip enable signal terminal CE, a human power data signal terminal D, an output data signal terminal D, and an IN'.
out-read/write signal terminal W1 has row address strobe signal terminal RAS, refresh enable and ready signal terminal RRDY. It also has a power terminal 1g, a terminal terminal VDD, and a ground terminal V38.
本実施例は、20 行のスペア行、02列のスペア列を
含む冗長構成をとっており、(512Xn )行(10
24+n 2 )列のダイナミックメモリセル400よ
りなるダイナミックメモリセルアレイ40を2個左右に
配置している。ダイナミックメモリセルアレイ40のビ
ット線対B、 9にはそれぞれ(1024+n 2 )
個のセンスアンプよりなるセンスアンプ回路20が設け
られている。This embodiment has a redundant configuration including 20 spare rows and 02 spare columns, with (512Xn) rows and (10
Two dynamic memory cell arrays 40 each consisting of 24+n 2 ) columns of dynamic memory cells 400 are arranged on the left and right. Bit line pairs B and 9 of the dynamic memory cell array 40 each have (1024+n 2 )
A sense amplifier circuit 20 consisting of sense amplifiers is provided.
さらに本実施例では、(1024+ n 2 )個のス
タティックメモリ600よりなるスタティックメモリセ
ル行60が、それぞれ左右のダイナミックメモリセルア
レイ40と転送ゲート手段50を介して設けられている
。スタティックメモリセル行60は中央に位置して列選
択手段である列デコーダ90をはさんで、左右に配置さ
れたデータ線対151.152に隣接して配置される。Further, in this embodiment, a static memory cell row 60 consisting of (1024+n 2 ) static memories 600 is provided via the left and right dynamic memory cell arrays 40 and the transfer gate means 50, respectively. Static memory cell row 60 is located at the center and is arranged adjacent to data line pairs 151 and 152 arranged on the left and right sides, with column decoder 90, which is column selection means, in between.
列デコーダ90により選択した選択列のスタティックメ
モリセル600がデータ線対151,152と接続され
る。ダイナミックメモリセルアレイ40の行線を構成す
るワード線11iは、行選択手段である行選択回路11
0により選択的に駆動される。Static memory cells 600 in a selected column selected by column decoder 90 are connected to data line pair 151, 152. The word line 11i constituting the row line of the dynamic memory cell array 40 is connected to a row selection circuit 11 which is a row selection means.
Selectively driven by 0.
またワード線11iのそれぞれには浮遊電位状態となる
のを防止する目的でノイズキラー100が設けられてい
る。行選択回路110や列デコーダ90に外部のアドレ
ス信号を供給するためにアドレスバッファ回路120が
設けられている。また、行選択回路110にオートリフ
レッシュまたはセルフリフレッシュ用の内部アドレス信
号を供給するためのリフレッシュカウンタ170と、リ
フレッシュカウンタ170ヘ力ウント人力を人力するタ
イマ回路160とが設けられている。データ線対151
,152にはデータ入力回路141とデータ出力回路1
42よりなるデータ回路140が設けられている。Further, a noise killer 100 is provided on each of the word lines 11i for the purpose of preventing a floating potential state. An address buffer circuit 120 is provided to supply external address signals to the row selection circuit 110 and column decoder 90. Further, a refresh counter 170 for supplying an internal address signal for auto-refresh or self-refresh to the row selection circuit 110, and a timer circuit 160 for manually inputting power to the refresh counter 170 are provided. Data line pair 151
, 152 have a data input circuit 141 and a data output circuit 1.
A data circuit 140 consisting of 42 is provided.
さらに本失施例による半導体メモリにはこれらの回路全
体を同期してコントロールするコントロール回路130
を有する。コントロール回路130はクロックジェネレ
ータを有し、リード、ライト、リフレッシュ等の各種動
作の制御をおこなう。本実施例では、左右のダイナミッ
クメモリセルアレイ40を同時に活性化し動作させるが
、リフレッシュサイクルは左右のダイナミックメモリア
レイ40の各1行ずつを同期させてリフレッシュし、各
メモリセルを4ms毎にリフレッシュするので、半導体
メモリ全体としては512リフレッシュサイクル/4m
sのリフレッシュサイクル数となる。Furthermore, the semiconductor memory according to this embodiment includes a control circuit 130 that controls all of these circuits in synchronization.
has. The control circuit 130 has a clock generator and controls various operations such as read, write, and refresh. In this embodiment, the left and right dynamic memory cell arrays 40 are activated and operated at the same time, but the refresh cycle is such that one row each of the left and right dynamic memory arrays 40 is refreshed synchronously, and each memory cell is refreshed every 4 ms. , the overall semiconductor memory is 512 refresh cycles/4m
The number of refresh cycles is s.
本実施例による半導体メモリを機能ブロック別に示した
ブロック図を第3図に示す。第2図では左右に分かれて
いるダイナミックセルアレイ40、センスアンプ囲路2
0、スタティックメモリセル行60、データ線対151
,152、行選択回路110について、第3図ではひと
つのブロワつて示している。またセンスアンプ回路20
、ダイナミックメモリセル400、転送ケート回路50
、スタティックメモリセル600とデータ線対151.
152を含む第m列の具体的回路を第4図に示す。また
ビット線対B、 3をプリチャージするプリチャージ回
路10、ダミーセル30、スタティックメモリセル40
0のプリチャージ回路70、スタティックメモリセル6
00とデータ線対151,152を列デコーダ出力信号
Y により選択的に接続する列選択ゲート回路80を設
けている。FIG. 3 is a block diagram showing the semiconductor memory according to this embodiment by functional block. In FIG. 2, the dynamic cell array 40 and the sense amplifier enclosure 2 are divided into left and right sides.
0, static memory cell row 60, data line pair 151
, 152, and the row selection circuit 110, one blower is shown in FIG. Also, the sense amplifier circuit 20
, dynamic memory cell 400, transfer gate circuit 50
, static memory cell 600 and data line pair 151 .
A concrete circuit of the m-th column including 152 is shown in FIG. Also, a precharge circuit 10 for precharging the bit line pair B, 3, a dummy cell 30, and a static memory cell 40.
0 precharge circuit 70, static memory cell 6
A column selection gate circuit 80 is provided for selectively connecting data line pair 151 and 152 to data line pair 151 and 152 using column decoder output signal Y.
第m列の具体的回路は第4図に示すようであり、ビット
線対B、百はそれぞれNMO5FET11.12を介し
て接地線7に接続されNMO5FET11.12のゲー
トは共通の信号線131に接続されている。このNMO
3FETII。The concrete circuit of the m-th column is as shown in FIG. has been done. This N.M.O.
3FET II.
12によりプリチャージ回路10が構成される。12 constitutes a precharge circuit 10.
ビット線対B、百には、互いにドレインとゲートとが交
差結合されている、PMOS FET23゜24より
なる交差結合回路と、NMO3FET21.22よりな
る交差結合回路とよりなるセンスアンプ回路20とが設
けられている。ビット線BはPMOS FET23と
NMOS FET21のドレインに接続されており、
ビット綜目はPMOS FET24とNMO8,FE
T22のドレインに接続されている。交差結合されたP
MOS FET23.24のソースは正極性センス信
号1jl132Hに、交差結合されたNMO5FET2
1,22のソースは負極性センス信号線132bに接続
されている。センス信号をこれらセンス信号線132a
、132bに与えることによりセンス動作が制御される
。また、ビット線B。The bit line pair B, 100 is provided with a sense amplifier circuit 20 consisting of a cross-coupled circuit consisting of PMOS FETs 23 and 24 whose drains and gates are cross-coupled to each other, and a cross-coupled circuit consisting of NMO3 FETs 21 and 22. It is being Bit line B is connected to the drains of PMOS FET23 and NMOS FET21,
The bit heath is PMOS FET24, NMO8, FE
Connected to the drain of T22. cross-linked P
The sources of MOS FET23 and 24 are connected to the positive polarity sense signal 1jl132H, and the cross-coupled NMO5FET2
The sources of signals 1 and 22 are connected to a negative sense signal line 132b. The sense signals are connected to these sense signal lines 132a.
, 132b, the sensing operation is controlled. Also, bit line B.
日のそれぞれには、ダミーセル30を構成するダミーキ
ャパシタ31の一端が接続され、ダミーキャパシタ31
の他端はダミーワードm101゜102にそれぞれ接続
される。これらのダミーセル30はダイナミックメモリ
セル400をセンスする時に利用される。ビット線対B
、百にはダイナミックメモリセル400が設けられてお
り、転送FET41のドレインがビット線B、13に接
続され、ゲートがワード111,112に接続されてい
る。One end of a dummy capacitor 31 constituting a dummy cell 30 is connected to each of the dummy capacitors 31 and 31.
The other ends are connected to dummy words m101 and m102, respectively. These dummy cells 30 are used when sensing the dynamic memory cells 400. Bit line pair B
, 100 are provided with a dynamic memory cell 400, the drain of a transfer FET 41 is connected to the bit lines B, 13, and the gate is connected to the words 111, 112.
ビット線B、百は、転送ゲート用N M O5FET5
1.52を介してスタティックメモリビットllBs、
BSに接続されている。スタティックメモリビット線B
S、BSには、スタティックメモリセル600カン設け
られている。スタティックメモリセル600は、ドレイ
ンゲートが交差結合されたNMO3FET61.62と
PMO3FET63.64からなっている。NMO5F
ET61、PMOS FET63のドレインはスタテ
ィックメモリビット線BSに接続され、NMO3FET
62、PMOS FET64のドレインはスタティッ
クメモリビット線BSに接続されている。PMOS
FET63.64のソースは共通接続され正極性のスタ
ティックメモリ制御線136aに、NMO3FET61
.62のソースは共通接続され負極性のスタティックメ
モリ制御線136bに接続されている。スタティックメ
モリビット線BS、BSのそれぞれはPMOS FE
T71.72を介して@源線8に接続される。さらにス
タティックメモリビット線BS、BSは、NMO3FE
T81.82を介してそれぞれデータ線対151.15
2に接続されている。NMO3FET81.82のゲー
トは共通接続されYデコーダ出力線91に接続される。Bit line B, 100 is NMO5FET5 for transfer gate
1.52 static memory bits llBs,
Connected to BS. Static memory bit line B
600 static memory cells are provided in S and BS. The static memory cell 600 consists of an NMO3FET 61.62 and a PMO3FET 63.64 whose drains and gates are cross-coupled. NMO5F
The drains of ET61 and PMOS FET63 are connected to the static memory bit line BS, and the drains of NMO3FET
62, the drain of PMOS FET 64 is connected to static memory bit line BS. PMOS
The sources of FET63 and FET64 are commonly connected to the positive polarity static memory control line 136a, and NMO3FET61
.. 62 sources are commonly connected and connected to a static memory control line 136b of negative polarity. Each of the static memory bit lines BS and BS is a PMOS FE.
Connected to @source line 8 via T71.72. Furthermore, the static memory bit lines BS and BS are made of NMO3FE.
data line pair 151.15 via T81.82 respectively
Connected to 2. The gates of the NMO3FETs 81 and 82 are commonly connected and connected to the Y decoder output line 91.
第4図に示す回路が列方向に、(1,024+n2)列
並んで第3図に示す全体の半導体メモリが構成される。The entire semiconductor memory shown in FIG. 3 is constructed by arranging the circuits shown in FIG. 4 in (1,024+n2) columns in the column direction.
行選択回路110は、外部からの行アドレス信号ARO
= Al?8またはリフレッシュカウンタ170により
指定される内部リフレッシュアドレスCRO”−CR8
のいずれか一方をデコードして、デコード出力信号によ
り左右のダイナミックメモリセルアレイ40のそれぞれ
(512+n)本のワード線111,112.・・・の
山の1本を選択して選択信号を出力する。列デコーダ9
0は、列アドレス信号Aco〜AC9とブロック選択用
アドレスAI?9により所定の列Y、を選択して、デー
タ線対151,152と左右のスタティックメモリセル
行60の唯一のスタティックメモリセル600を列選択
ゲート回路80により選択的に接続する。データ線対1
51,152は、データ人力バッファ回路141を介し
てデータ入力端子りと接続され、またデータ出力バッフ
ァ回路142を介してデータ出力端子り。1.と接続さ
れる。タイマ回路160には、行アドレスストローブ信
号RASの人力線6が接続され、行アドレスストローブ
信号Iτ丁により、タイマー回路160からの内部に設
けられたリフレッシュカウンタ170へのカウント人力
信号161が制御される。リフレッシュカウンタ170
はまたコントロール回路130と信号のやりとりをおこ
なう。例えばコントロール回路130はリフレッシュカ
ウンタ170のカウント動作を信号1317によりコン
トロールする。逆にリフレッシュカウンタ170はその
動作状態をステータス信号172によりコントロール回
路130に知らせる。アドレスバッファ回路120は、
コントロール囲路130からの信号1312により、外
部アドレスA。−A9ヲ、行アドレスARO= AR8
と列アドレスAco〜A とブロック選択用アドレスA
I?9に分けて、行9
選択回路110と列デコーダ90にそれぞれ出力する。The row selection circuit 110 receives a row address signal ARO from the outside.
= Al? 8 or internal refresh address CRO”-CR8 specified by refresh counter 170
are decoded, and the (512+n) word lines 111, 112 . . . . selects one of the mountains and outputs a selection signal. Column decoder 9
0 indicates column address signals Aco to AC9 and block selection address AI? 9 selects a predetermined column Y, and selectively connects the data line pair 151, 152 to the only static memory cell 600 of the left and right static memory cell rows 60 by the column selection gate circuit 80. data line pair 1
51 and 152 are connected to data input terminals via a data buffer circuit 141, and to data output terminals via a data output buffer circuit 142. 1. connected to. The timer circuit 160 is connected to the human power line 6 of the row address strobe signal RAS, and the row address strobe signal Iτ controls the count human power signal 161 from the timer circuit 160 to the internally provided refresh counter 170. . refresh counter 170
It also exchanges signals with the control circuit 130. For example, the control circuit 130 controls the counting operation of the refresh counter 170 using a signal 1317. Conversely, refresh counter 170 notifies control circuit 130 of its operating state through status signal 172. The address buffer circuit 120 is
External address A by signal 1312 from control circuit 130. -A9wo, row address ARO=AR8
and column address Aco~A and block selection address A
I? The data is divided into 9 parts and output to the row 9 selection circuit 110 and the column decoder 90, respectively.
コントロール回路130はアドレス信号Ao−A9を受
けて、アドレス1=号の変化に同期したクロックパルス
を発生するとともに、iテアドレスストローブ信号RA
S、チップイネーブル信号CE、 リード/ライト(:
号W、リフレッシュイネーブルおよびレディ信号RR
DYを受けて、各種コントロール信号を発生する。これ
らコントロール信号には、ノイズキラー100をコント
ロールする信号1310、タイマー回路160をコント
ロールする信号1317、ビット線B、百のプリチャー
ジコントロール信号131、センスアンプ回路20への
センス信号132a、132b、行選択回路110への
信号1311、転送ゲート回路50への転送ゲート信号
135、スタティックメモリセル600への制御信号1
’36 a 。The control circuit 130 receives the address signal Ao-A9, generates a clock pulse synchronized with the change in address 1=, and also generates an address strobe signal RA.
S, chip enable signal CE, read/write (:
No. W, refresh enable and ready signal RR
Upon receiving DY, it generates various control signals. These control signals include a signal 1310 that controls the noise killer 100, a signal 1317 that controls the timer circuit 160, a bit line B, a hundred precharge control signal 131, sense signals 132a and 132b to the sense amplifier circuit 20, and a row selection signal. Signal 1311 to circuit 110, transfer gate signal 135 to transfer gate circuit 50, control signal 1 to static memory cell 600
'36 a.
136b、スタティックメモリビットiBS。136b, static memory bit iBS.
BSのプリチャージコントロール信号137、アドレス
バッファ回路120のコントロール信号、データ人力バ
ッファ141のコントロール信号1314、データ出力
バッファ142のコントロール信号1315等がある。There are a precharge control signal 137 for the BS, a control signal for the address buffer circuit 120, a control signal 1314 for the data manual buffer 141, a control signal 1315 for the data output buffer 142, and the like.
次に本実施例の動作について第5図から第7図を用いて
説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained using FIGS. 5 to 7.
第5図、第6図は本実施例の動作のタイミングをホすも
のである。行アドレスストローブ(ぎ号1X丁がHレベ
ルとなって後一定期間T3経過した後の期間T4の間、
リフレッシュ期間T6以外はビット線B、 [3はプリ
チャージ状態にある。行アドレスストローブ信号RAS
のHレベルからLレベルへの立ち下がりに同期してアド
レス信号量 o −A taが外部の行アドレス信号A
Ro〜AR8とブロック選択用アドレスAR9としてア
ドレスバラフッ回路120にとり込まれる。外部の行ア
ドレス信号ARo−AR8を入力すると、行選択回路1
10は、コントロール回路130によりクロックコント
ロールされつつ、行アドレス信号ARO〜AR8をデコ
ードして所定のワード線を選択する。5 and 6 show the timing of the operation of this embodiment. Row address strobe (during a period T4 after a certain period T3 has elapsed after the number 1X becomes H level,
Except for the refresh period T6, the bit line B [3 is in a precharged state. Row address strobe signal RAS
In synchronization with the falling from H level to L level, address signal amount o -A ta becomes external row address signal A.
It is taken into the address balance circuit 120 as Ro to AR8 and the block selection address AR9. When external row address signal ARo-AR8 is input, row selection circuit 1
10 decodes row address signals ARO to AR8 while being clock-controlled by a control circuit 130 to select a predetermined word line.
選択行のダイナミックメモリセル400に記憶された情
報は、センスアンプ回路20によって行アドレスストロ
ーブ信号RASに同期して増幅される。こうして左右で
合計2 ×(1024+ n 2 )個のメモリセル4
00の情報が、2X (1024+n2)個のセンスア
ンプ回路20によって増幅されることになる。その後行
アドレスストローブ信号RASに同期して転送ゲート回
路50のゲートを開き、左右の2 X (1024+
n 2 )個のスタティックメモリセル行60にセンス
アンプ回路20により増幅された信号が一度に転送され
る。Information stored in the dynamic memory cell 400 of the selected row is amplified by the sense amplifier circuit 20 in synchronization with the row address strobe signal RAS. In this way, a total of 2 × (1024 + n 2 ) memory cells 4 on the left and right
00 information is amplified by 2X (1024+n2) sense amplifier circuits 20. Thereafter, the gate of the transfer gate circuit 50 is opened in synchronization with the row address strobe signal RAS, and the left and right 2
The signal amplified by the sense amplifier circuit 20 is transferred to n 2 ) static memory cell rows 60 at once.
このように行アドレスストローブ信号RASがHレベル
からLレベルへ迩移した後、行選択、センスアンプ動作
、転送動作が終了するまでの期間をT とする。T+
は約40 n5ccである。Let T be the period from when the row address strobe signal RAS shifts from the H level to the L level until the row selection, sense amplifier operation, and transfer operation are completed. T+
is approximately 40 n5cc.
期間T1後、行アドレスストローブf≦号RASがLレ
ベルの期間、すなわち期間T2は、この半導体メモリは
2 ×(1024+ n 2 )個のスタティックメモ
リセル600よりなるスタティックメモリとして動作す
る。このスタティックメモリは、外部アドレス信号量。After the period T1, during the period when the row address strobe f≦RAS is at L level, that is, during the period T2, this semiconductor memory operates as a static memory consisting of 2×(1024+n 2 ) static memory cells 600. This static memory is external address signal amount.
−A9を列アドレ:AA、。〜Ac9として動作し、ブ
ロック選択用アドレスAR9と列アドレスACO= A
C9の指定による列のスタティックメモリセル600と
データ線対151゜152間で情報をやりとりして、リ
ード/ライト動作をおこなう。この期間T2の間、転送
ゲート回路50は、全く閉じられたままであり、このス
タティックメモリセル行60は、ダイナミックメモリセ
ル40やセンスアンプ回路20とは全く独立にリード/
ライト動作をおこなう。すなわち、チップイネーブル信
号CEがLレベルでこのチップが選択され、リードライ
ト信号量がHレベルのときは、リード動作を行いスタテ
ィックメモリセル600の情報をデータ出力端DoUT
に出力し、リードライト信号量がLレベルのときは、デ
ータ入力端DINの情報をスタティックメモリセル60
0にライト動作をおこなう。この期間T2の間、タイマ
回路160はセルフリフレッシュ期間T5の設定とリフ
レッシュカウンタ170のカウントアツプ動作を指示す
る。タイマ回路160は例えば6μsec毎に1回ずつ
リフレッシュ動作をおこなう。すなわち、リフレッシュ
カウンタ170の西部リフレッシュアドレス信号CRo
〜CR8をデコードして、左右のダイナミックメモリセ
ルアレイ40の(512+ n l )木のワード線の
うちの1本ずつを選択し、選択されたダイナミックメモ
リセル行の情報を読み出してセンスアンプ回路20でセ
ンスし増幅してリフレッシュする。-A9 to column address: AA,. - Operates as Ac9, block selection address AR9 and column address ACO = A
Information is exchanged between the static memory cell 600 of the column designated by C9 and the data line pair 151.degree. 152, and read/write operations are performed. During this period T2, the transfer gate circuit 50 remains completely closed, and the static memory cell row 60 is read/written completely independently of the dynamic memory cells 40 and the sense amplifier circuit 20.
Performs a write operation. That is, when the chip enable signal CE is at L level and this chip is selected, and the read/write signal amount is at H level, a read operation is performed and the information of the static memory cell 600 is transferred to the data output terminal DoUT.
When the read/write signal amount is at L level, the information at the data input terminal DIN is output to the static memory cell 60.
Performs a write operation to 0. During this period T2, the timer circuit 160 instructs the setting of the self-refresh period T5 and the count-up operation of the refresh counter 170. The timer circuit 160 performs a refresh operation once every 6 μsec, for example. That is, the western refresh address signal CRo of the refresh counter 170
~CR8 is decoded, one word line of the (512+ n l ) tree of the left and right dynamic memory cell arrays 40 is selected, and the information of the selected dynamic memory cell row is read and the sense amplifier circuit 20 reads out the information of the selected dynamic memory cell row. Sense, amplify and refresh.
リフレッシュ動作が終了するとワード線を閉じ、リフレ
ッシュカウンタ170を1つカウントアツプしてビット
線対B、 9をプリチャージする。このようにしてg行
目がリフレッシュされた後の約6μSee後には(N+
1)行目がリフレッシュされるが、、このリフレッシュ
期間中もこの半導体メモリはスタティックメモリセル行
60とデータ線対151,15.2間で情報のやりとり
をしており、半導体メモリとしてのリード/ライト動作
はリフレッシュ動作と独立におこなわれている。このリ
フレッシュ期間T5の間、この半導体メモリはLレベル
のリフレッシュ用しディ信号RRDYを信号端9に出力
する。このレディ信号RRDYは、この半導体メモリが
リフレッシュ状態にあるか杏かを外部に知らせるための
もので、Lレベルのときはリフレッシュ状態であること
を示し、行アドレスストローブ信号RASを変化させて
はいけない状態にあることを知らせる。なお、リフレッ
シュイネーブル信号を設け、外部から強制的にこの信号
を低レベルとして、タイマ回路160にょらないオート
リフレッシュを開始させることも、回路設計のわずかな
変更により可能である。When the refresh operation is completed, the word line is closed, the refresh counter 170 is counted up by one, and the bit line pair B, 9 is precharged. Approximately 6 μSee after the g-th row is refreshed in this way, (N+
1) The row is refreshed, but even during this refresh period, this semiconductor memory exchanges information between the static memory cell row 60 and the data line pair 151, 15.2, and the read/write as a semiconductor memory The write operation is performed independently of the refresh operation. During this refresh period T5, this semiconductor memory outputs an L-level refresh signal RRDY to the signal terminal 9. This ready signal RRDY is for informing the outside whether this semiconductor memory is in a refresh state or not.When it is at L level, it indicates that it is in a refresh state, and the row address strobe signal RAS must not be changed. Inform you of the condition. Note that it is also possible to provide a refresh enable signal and forcibly set this signal to a low level from the outside to start auto-refresh without relying on the timer circuit 160 by slightly changing the circuit design.
次に行アドレスストローブ信号RASをLレベルからH
レベルに遷移すると、スタティックメモリセル行60の
情報が、行アドレスストローブ信号RASの遷移に同期
し、転送ゲート回路50を介してセンスアンプ回路20
に同時に転送される。Next, row address strobe signal RAS is changed from L level to H level.
When the static memory cell row 60 changes to the level, the information in the static memory cell row 60 is synchronized with the transition of the row address strobe signal RAS, and is transferred to the sense amplifier circuit 20 via the transfer gate circuit 50.
are transferred simultaneously.
行アドレスストローブ信号RASがHレベルのときに最
後にストローブされた外部行アドレス信号AI?0〜A
R8をデコードして、スタティックメモリセル行60の
内容であるダイナミックメモリセルアレイ40のうちの
ひとつのワード線が選択される。こうしてスタティック
メモリセル行60の情報がそのままこの選択されたダイ
ナミックメモリセル行に書込まれその後ワード線は閉じ
られる。External row address signal AI? which was last strobed when row address strobe signal RAS was at H level? 0~A
By decoding R8, one word line of the dynamic memory cell array 40, which is the contents of the static memory cell row 60, is selected. In this way, the information in the static memory cell row 60 is written as is into this selected dynamic memory cell row, and then the word line is closed.
期間T3では、スタティックメモリセル行60の情報を
センスアンプ回路20へ転送しダイナミックメモリセル
アレイ40へその情報を書込みワード線が閉じるまでの
動作がおこなわれる。その後、行アドレスストローブ(
a号RASがHレベルである期間T4の間をセルフリフ
レッシュ動作が約6μSee毎におこなわれる。このよ
うに本実施例による半導体メモリは、行アドレスストロ
ーブした行に関してはスタティックメモリと同様の動作
をおこなうことができ、かつこのスタティックメモリへ
のリード/ライト動作を独立にダイナミックメモリセル
へのセルフリフレッシュ動作をおこなうことができる。In period T3, the information in the static memory cell row 60 is transferred to the sense amplifier circuit 20, and the information is written into the dynamic memory cell array 40 until the word line is closed. Then the row address strobe (
A self-refresh operation is performed approximately every 6 μSee during the period T4 in which the a-number RAS is at H level. In this way, the semiconductor memory according to this embodiment can perform the same operation as a static memory for the row to which the row address has been strobed, and can independently perform self-refreshing of the read/write operations to the static memory to the dynamic memory cells. can perform actions.
したがってこの半導体メモリは、スタティックメモリの
高速性、低消費電力性能という利点と、ダイナミックメ
モリの高ビツト密度実装という利点をあわせもつことに
なる。Therefore, this semiconductor memory has both the advantages of static memory, such as high speed and low power consumption, and the advantages of dynamic memory, which has high bit density packaging.
次に第4図に示す回路の動作を第7図(a)、(b)を
用いて説明する。最初、プリチャージIM号線131が
Hレベル、スタティックメモリセル600のプリチャー
ジ信号線137がLレベルであり、プリチャージ回路1
0のNMOS FET11.12が導通してビット線
B、百がLレベルにプリチャージされ、スタティックメ
モリセル600のプリチャージ回路70のPMO3FE
T71.72が導通してスタティックメモリビット線B
S、TTがHレベルにプリチャージされている。次に行
アドレスストローブ信号RASが時刻toにてHレベル
からLレベルへ遷移するとそれに同期して外部行アドレ
ス信号AR8〜AR8とブロック選択用アドレスAI?
9が読み込まれ、時刻11にプリチャージ信号131が
Lレベルに、スタティックメモリのプリチャージ信号1
37がHレベルになり、NMOS FETl1.12
、PMO3FET71.72か非導通状態になりプリチ
ャージは終了する。Next, the operation of the circuit shown in FIG. 4 will be explained using FIGS. 7(a) and 7(b). Initially, the precharge IM line 131 is at H level, the precharge signal line 137 of the static memory cell 600 is at L level, and the precharge circuit 1
The NMOS FETs 11 and 12 of 0 become conductive, and the bit line B and 100 are precharged to L level, and the PMO3FE of the precharge circuit 70 of the static memory cell 600
T71.72 becomes conductive and static memory bit line B
S and TT are precharged to H level. Next, when the row address strobe signal RAS transitions from H level to L level at time to, external row address signals AR8-AR8 and block selection address AI?
9 is read, and at time 11, the precharge signal 131 goes to L level, and the precharge signal 1 of the static memory
37 becomes H level, NMOS FETl1.12
, the PMO3FETs 71 and 72 become non-conductive and the precharging ends.
次に時刻t2でダミーワード線11 i’ (i’−
1,2)がLレベルからHレベルへ遷移し、外部行アド
レスARO= AR8によって選ばれたワード線11
i’ (i−1,2,・・・、512)がHレベルか
らLレベルへ遷移する。今i′は、lが奇数のときは1
、iが偶数のときは2である。これにより第1行目のダ
イナミックメモリセル400の転送用FET41を導通
させ記憶キャパシタ42の情報をビット線Bまたは白に
読み出す。ここでダミーワード線101′に接続されて
いるダミーキャパシタ31の容量は、記憶キャパシタ4
2の容量の約172に設定されており、ビット線Bまた
は日にはダイナミックメモリセル400の情報がこれら
ビット線対間の電位差として読み出されることになる。Next, at time t2, the dummy word line 11 i'(i'-
1, 2) transitions from L level to H level, and word line 11 selected by external row address ARO=AR8
i' (i-1, 2, . . . , 512) transitions from H level to L level. Now i' is 1 when l is an odd number
, 2 when i is an even number. As a result, the transfer FET 41 of the dynamic memory cell 400 in the first row is made conductive, and the information on the storage capacitor 42 is read out to the bit line B or white. Here, the capacitance of the dummy capacitor 31 connected to the dummy word line 101' is equal to that of the storage capacitor 4.
2, and the information in the dynamic memory cell 400 is read out as the potential difference between the bit line B or bit line pair.
今、例えばワード線111が選択されたとすると、ダミ
ーワード線101が選ばれる。Now, for example, if word line 111 is selected, dummy word line 101 is selected.
記憶キャパシタ42の容量をCM、ダミーキャパシタ3
1の容量をCD、ビット線B、百の容量をCBとする。The capacity of the storage capacitor 42 is CM, and the dummy capacitor 3 is
The capacitance of 1 is CD, the bit line B is B, and the capacitance of 100 is CB.
選択したダイナミックメモリセル400の情報が「1」
のとぎ、すなわち転送用FET41と記憶キャパシタ4
2との接続点43の電位がVであるとすると、ビット線
B、13の電位V(B)、V(日)は、
となる。ここでCD−1/2CMである。cM<CBと
すると、
となる。The information of the selected dynamic memory cell 400 is "1"
Notogi, that is, transfer FET 41 and storage capacitor 4
Assuming that the potential at the connection point 43 with the bit lines B and 13 is V, the potentials V(B) and V(day) of the bit lines B and 13 are as follows. Here, it is CD-1/2CM. If cM<CB, then
逆にダイナミックメモリセル400の情報が
「0」
のとき、
すなわち接続点43の電位が
0のときは、
V (B)。=0
次に時刻t3でセンスアンプ回路20のセンス信号線1
32a、132bがそれぞれLレベルからHレベルと、
HレベルからLレベルへ変化し、センス動作が開始され
ると、ビット線対B、百の微小電位差はセンス増幅され
て、ダイナミックメモリセル400の情報が「1」のと
きはビット線対B、 13の電位は(V(B)、V(日
))−(Vo、0)となり、「0」のとキハ(V (B
) 。Conversely, when the information in the dynamic memory cell 400 is "0", that is, when the potential at the connection point 43 is 0, V (B). =0 Next, at time t3, the sense signal line 1 of the sense amplifier circuit 20
32a and 132b respectively go from L level to H level,
When the H level changes from the H level to the L level and a sensing operation is started, the minute potential difference between the bit line pair B and the bit line B is sensed and amplified, and when the information in the dynamic memory cell 400 is "1", the bit line pair B, The potential of 13 is (V (B), V (day)) - (Vo, 0), which is "0" and Kiha (V (B
).
V (B))−(0,VC)となり、ダイナミックメモ
リセル400に再書込みされる。その後時刻t3でダミ
ーワード線10i’がLレベルにもどり、ワード線11
iがHレベルにもどる。V (B))-(0, VC), and is rewritten into the dynamic memory cell 400. Thereafter, at time t3, the dummy word line 10i' returns to the L level, and the word line 11
i returns to H level.
次に時刻t5で転送ゲート回路50の転送ゲート信号1
35がLレベルからHレベルに遷移し、転送ゲート用F
ET51,52が導通し、スタティックメモリビット線
BS、BSヘビノド線21B百の電位信号が転送される
。その後侍刻t6てスタティックメモリ制御線136a
、136bがそれぞれLレベルからHレベルへ、Hレベ
ルからLレベルへと変化し、ダイナミックメモリセル4
00の情報はセンスアンプ回路20、ビット線82日を
通じてスタティックメモリセル600に読込まれること
になる。すなわち、時刻t6以前の136b>136a
の状態ではスタティックメモリセル600に電源供給が
行われないため、スタティックRAMとしての動作を行
わないか、時刻tG後の136b<136aの状態では
スタテ、fツクメモリセル600には713rln供給
がおこなわれるため、スタティックRAMとしての動作
を行う。このようにすることにより、ダイナミックメモ
リセルのデータをスタティックメモリセルに転送する際
に、スタティックメモリセルリの記憶状態は白紙状態と
なっているため、両セルのデータが衝突することがなく
、誤読出しか起こることはない。Next, at time t5, the transfer gate signal 1 of the transfer gate circuit 50
35 transitions from L level to H level, and transfer gate F
ET51 and ET52 are rendered conductive, and the potential signals of the static memory bit lines BS and BS heavy node line 21B are transferred. After that, the static memory control line 136a is marked t6.
, 136b change from L level to H level and from H level to L level, respectively, and the dynamic memory cell 4
Information of 00 is read into the static memory cell 600 through the sense amplifier circuit 20 and the bit line 82. That is, 136b>136a before time t6
In the state of , power is not supplied to the static memory cell 600, so it does not operate as a static RAM, or in the state of 136b<136a after time tG, the static memory cell 600 is supplied with 713rln. Operates as static RAM. By doing this, when the data in the dynamic memory cell is transferred to the static memory cell, the storage state of the static memory cell is a blank slate, so the data in both cells will not collide, and erroneous reading will not occur. Only that will happen.
次に時刻t7で転送ゲート回路50が非導通になり、そ
の後時刻t8でセンス(:号線132a。Next, at time t7, the transfer gate circuit 50 becomes non-conductive, and then at time t8, sense (: line 132a.
132bがそれぞれHレベルからLレベル・\、Lレベ
ルからHレベル・\女化し、センスアンプ回路20が不
能状態となる。さらに時刻t9てプリチャージ信号13
1がLレベルからHレベルへ変化し、プリチャージ回路
10によりビット線対B百は共にOVにプリチャージさ
れる。このようにして時刻t から時刻tloまでの期
間T1の動作が実現する。132b changes from H level to L level/\ and from L level to H level/\, respectively, and the sense amplifier circuit 20 becomes disabled. Furthermore, at time t9, the precharge signal 13
1 changes from L level to H level, and bit line pair B100 are both precharged to OV by the precharge circuit 10. In this way, the operation of period T1 from time t to time tlo is realized.
次に期間T5のリフレッシュ動作について説明する。タ
イマ回路160の指令で約6μsecに1同セルフリフ
レツシユ命令がでると、レディら号RRDYが時刻tl
lでHレベルからLレベルへ変化する。これに同期して
時刻t12でプリチャージ信号131がHレベルからL
レベルへ変化してプリチャージ動作が停止され、時刻t
13でリフレッシュカウンター70の発生する内部リフ
レッシュアドレス信号CI?0= CI?Hによって選
択された行のワード線11j (j=1.2.・・・
、512)とダミーワード線10j’ (j’ はj
が奇数のときは1、偶数のときは2なる数)が選択され
、j行目のダイナミックメモリセル・400の情報か微
小電位差としてビット線対B、百に読出される。時刻t
14にセンス信号線132a、132bがアクテイブに
され、センスアンプ回路20がラッチされて、ビット線
対B、百はセンス増幅され、j行口のグイミナックメモ
リセル400に再書込される。Next, the refresh operation during period T5 will be explained. When the timer circuit 160 issues one self-refresh command every 6 μsec, the ready number RRDY is activated at time tl.
Changes from H level to L level at l. In synchronization with this, the precharge signal 131 changes from H level to L level at time t12.
level, the precharge operation is stopped, and time t
13, the internal refresh address signal CI? generated by the refresh counter 70? 0=CI? Word line 11j of the row selected by H (j=1.2...
, 512) and the dummy word line 10j'(j' is j
1 when is an odd number and 2 when it is an even number), and the information of the j-th row dynamic memory cell 400 is read out to the bit line pair B, 100 as a minute potential difference. Time t
At 14, the sense signal lines 132a and 132b are activated, the sense amplifier circuit 20 is latched, and the bit line pair B, 100 is sense-amplified and rewritten to the guiminac memory cell 400 at the beginning of row j.
すなわちj行目のダイナミックメモリセル400の情報
はリフレッシュされる。次に時刻t15でワード線11
j1ダミーワード線10j′が非選択にされ、時fll
t t6でセンス信号線132a。That is, the information in the j-th row dynamic memory cell 400 is refreshed. Next, at time t15, the word line 11
j1 dummy word line 10j' is deselected, and when full
Sense signal line 132a at tt6.
132bをそれぞれLレベル、Hレベルとしてセンスア
ンプ回路20のラッチをはずし、時刻t17でプリチャ
ージ信号131がHレベルとなってビット線対B、百が
OVにプリチャージされる。時刻tlgでレディ信号R
RDYはLレベルからHレベルに変化する。時刻tll
からプリチャージ状態開までの時刻tlgまでをリフレ
ッシュ動作のための期間T5と定義している。132b are set to L level and H level, respectively, to release the latch of the sense amplifier circuit 20, and at time t17, the precharge signal 131 becomes H level, and bit line pair B, 100 is precharged to OV. Ready signal R at time tlg
RDY changes from L level to H level. time tll
The period from the time tlg to the opening of the precharge state is defined as a period T5 for the refresh operation.
次に行アドレスストローブ信号RASがLレベルからH
レベルに遷移すると、本実施例による半導体メモリは次
の如く動作する。特刻t1゜で行アドレスストローブ信
号RASがHレベルに変化すると、時刻t20でプリチ
ャージ信号131がLレベルに変化して、ビット線81
日のプリチャージ回路10がプリチャージ動作を停止す
る。次に時刻t21で転送ゲート信号135がLレベル
からHレベルに変化し、スタティックメモリセル600
の情報がプリチャージ状態のビット線B、百に転送され
る。その後時刻t2゜でセンス信号線132a、1B2
bがそれぞれアクティブにされて、センスアンプ回路2
0がラッチされ、スタティックメモリセル600の情報
はセンスアンプ回路20で増幅されラッチされることに
なる。次に特別t23で転送ゲート信号135がLレベ
ルへ変化して転送動作が終了するとともに、n、’ff
1l toでとりこまれた外部行アドレス信号AI?o
= AI?8で選択されたj行目のワード線11j、ダ
ミーワード線101′が選択される。こうして、スタテ
ィックメモリセル600の情報がビット線81日、セン
スアンプ回路20を通じて、選択された行jのダイナミ
ックメモリセル400に書込まれることになる。次に時
刻t25でワード線1111ダミーワード線10i′が
もとの状態にもどり、時刻t2゜でセンス信号線132
a、132bがそれぞれLレベル、Hレベルとなりセン
スアンプ回路20のラッチがはずされる。これとともに
スタティックメモリ制御線136a、136bがそれぞ
れLレベル、Hレベルとなることによりスタティックメ
モリセル600への電源供給か停止され、スタティック
メモリセル600への書込みが基1トされる。Next, the row address strobe signal RAS changes from L level to H level.
When the level changes, the semiconductor memory according to this embodiment operates as follows. When the row address strobe signal RAS changes to H level at time t1°, the precharge signal 131 changes to L level at time t20, and the bit line 81
The precharge circuit 10 stops the precharge operation. Next, at time t21, the transfer gate signal 135 changes from L level to H level, and the static memory cell 600
information is transferred to bit line B, which is in a precharged state. After that, at time t2°, sense signal lines 132a and 1B2
b are respectively activated, and the sense amplifier circuit 2
0 is latched, and the information in the static memory cell 600 is amplified and latched by the sense amplifier circuit 20. Next, at special t23, the transfer gate signal 135 changes to L level and the transfer operation ends, and n, 'ff
1l External row address signal AI taken in to? o
= AI? The j-th row word line 11j selected in step 8 and the dummy word line 101' are selected. In this way, information in the static memory cell 600 is written to the dynamic memory cell 400 in the selected row j on the bit line 81 through the sense amplifier circuit 20. Next, at time t25, the word line 1111 and dummy word line 10i' return to their original states, and at time t2, the sense signal line 132
a and 132b go to L level and H level, respectively, and the sense amplifier circuit 20 is unlatched. At the same time, static memory control lines 136a and 136b go to L level and H level, respectively, so that power supply to static memory cell 600 is stopped, and writing to static memory cell 600 is started.
次にn!j刻t27でビット線81日のプリチャージ信
号線131がHレベルとなり、スタティックメモリビッ
ト線BS、BSのプリチャージ信号線137がLレベル
になり、スタティックメモリビット線BS、BSのプリ
チャージ信号線137がLレベルになり、ビット線対B
、 3がLレベルへ、スタティックメモリビット線BS
、BSがHレベルへプリチャージを開始する。時刻t1
9から時刻t に続く時刻t28までの期間T3の間に
、以上7
の通りスタティックメモリセル行60からダイナミック
メモリセル行への情報の転送が実現する。Next n! At j time t27, the precharge signal line 131 of the bit line 81st becomes H level, the precharge signal line 137 of static memory bit lines BS and BS becomes L level, and the precharge signal line of static memory bit lines BS and BS becomes L level. 137 goes to L level, bit line pair B
, 3 goes to L level, static memory bit line BS
, BS starts precharging to H level. Time t1
During the period T3 from 9 to time t28 following time t, information transfer from the static memory cell row 60 to the dynamic memory cell row is realized as described in 7 above.
期間T3の後、行アドレスストローブ信号RASがHレ
ベルの期間T4の間に第7図(b)に示す様に期間T5
と全く同様なセルフリフレッシュ動作が、期間T4中の
リフレッシュ動作の期間T6の時刻t ′からt18′
までの間におこなわれる。After period T3, during period T4 in which the row address strobe signal RAS is at H level, period T5 occurs as shown in FIG. 7(b).
The same self-refresh operation is performed from time t' to t18' in the refresh operation period T6 during the period T4.
It will be done in the meantime.
1
このセルフリフレッシュ動作も内部のタイマ回路160
の指令により約6μsec毎に内部リフレッシュアドレ
スCI?0= CR9をカウントアソプしておこなう。1 This self-refresh operation is also performed by the internal timer circuit 160.
The internal refresh address CI? is updated approximately every 6 μsec by the command of 0= Perform CR9 by counting.
本実施例による半導体メモリに用いられるアドレスバラ
フッ回路120と行選択回路]10の具体的構成例を第
8図(a)に示す。外部アドレス信号約3a〜3kには
外部アドレス信号A。〜A9が入力される。このうち外
部アドレス信号A o −A sは行アドレスラッチ回
路1200に人力され、行アドレスストローブ信号RA
Sに開明したラッチ信号1312aによりラッチされる
。A specific configuration example of the address balance circuit 120 and row selection circuit 10 used in the semiconductor memory according to this embodiment is shown in FIG. 8(a). External address signal A is applied to external address signals approximately 3a to 3k. ~A9 is input. Of these, the external address signal A o -A s is inputted to the row address latch circuit 1200 and is input to the row address strobe signal RA.
It is latched by the latch signal 1312a disclosed to S.
外部アドレス信号A o −A 9はアドレスバラフッ
回路120にも入力され、コントロール信号1312b
によりアドレスバラフッ回路120はコントロールされ
、列アドレスAco−Ac9が得うれる。ブロック選択
相アドレス信号AR9は外部アドレス信号AR9を行ア
ドレスストローブ信号RASに同期したラッチ信号13
12aによりラッチされて得られる。The external address signal A o -A 9 is also input to the address balance circuit 120, and the control signal 1312b
The address balance circuit 120 is controlled by this, and the column address Aco-Ac9 can be obtained. The block selection phase address signal AR9 is a latch signal 13 that synchronizes the external address signal AR9 with the row address strobe signal RAS.
12a.
行選択回路110は、マルチプレクサ回路1100と行
デコーダおよびワード線の駆動回路1110よりなる。The row selection circuit 110 includes a multiplexer circuit 1100 and a row decoder and word line drive circuit 1110.
マルチプレクサ回路1100は行アドレスラッチ回路1
200の出力信号121と、リフレッシュカウンタ17
0の出力13号171をマルチプレクサ用コントロール
信号1311a、1311bにより−h゛を選択して行
デコーダおよびワード線の駆動回路1110へ出力する
。行デコーダおよびワード線の駆動回路1110はコン
トロール信号1311cの制御下で行デコーダおよびワ
ード線の駆動をおこなう。Multiplexer circuit 1100 is row address latch circuit 1
200 output signal 121 and refresh counter 17
Output No. 13 171 of 0 is selected as -h' by multiplexer control signals 1311a and 1311b and output to the row decoder and word line drive circuit 1110. Row decoder and word line driving circuit 1110 drives the row decoder and word line under the control of control signal 1311c.
その動作は、第8図(b)に示すように、ラッチ信号1
312aのLレベルからHレベルへ立ち上がりで、外部
アドレス信号A。−A8は行アドレスラッチ回路120
0ヘラツチされる。同様に列アドレスラッチ回路121
0は、ラッチ信号1312bの立ち上がりで外部アドレ
ス信号A。The operation is as shown in FIG. 8(b), when the latch signal 1
312a rises from L level to H level, external address signal A. -A8 is the row address latch circuit 120
0 Heratsuchi is applied. Similarly, column address latch circuit 121
0 is the external address signal A at the rising edge of the latch signal 1312b.
〜A9をラッチする。ラッチ信号1312bは行アドレ
スストローブ信号RASの立ち下がりや外部アドレス信
号A。〜A9の変化に同期して出力される。信号131
1gは行アドレスストローブ信号RASの立ち下がりと
レディ信号RRDYの立ち上がりに同期して出力され、
この信号1311aの立ち上がりに同期してマルチプレ
クサ回路1100は外部アドレス信号121を出力し続
ける。信号1311bはタイマ回路160の出力に、し
たがってレディ信号RRDYの立ち下がりに同期して出
力に同期して出力される。この信号131 lbの立ち
上がりに同期してマルチプレクサ回路1]00は山部リ
フレッシュアドレス信号171を出力し続ける。行デコ
ーダおよびワード線の駆動回路1110は、コント白−
ル信号131、1 cにより、行アドレスス)・ローブ
信号RASの立ち下がり、立ち上がり、レディ信号RR
DYの立ち下がりに同期して制御される。~Latch A9. The latch signal 1312b is the falling edge of the row address strobe signal RAS or the external address signal A. - Output in synchronization with changes in A9. signal 131
1g is output in synchronization with the falling edge of the row address strobe signal RAS and the rising edge of the ready signal RRDY.
The multiplexer circuit 1100 continues to output the external address signal 121 in synchronization with the rise of this signal 1311a. The signal 1311b is outputted in synchronization with the output of the timer circuit 160, and therefore in synchronization with the fall of the ready signal RRDY. The multiplexer circuit 1]00 continues to output the peak refresh address signal 171 in synchronization with the rising edge of the signal 131lb. The row decoder and word line drive circuit 1110 is a control circuit.
The falling and rising edges of the row address (row address)/lobe signal RAS and the ready signal RR are determined by the row signals 131 and 1c.
Controlled in synchronization with the falling edge of DY.
このように本実施例によれば、行アドレスストローブ信
号RASで選んだ外部アドレス信号A1?。As described above, according to this embodiment, the external address signal A1? selected by the row address strobe signal RAS? .
〜AR8により選択されたダイナミックメモリセル行か
らスタティックメモリセル行に情報を転送した後は、列
アドレス変化に対してスタティックメモリとして動作さ
せることができる。またこのとき同時にダイナミックメ
モリセルアレイ40とセンスアンプ四路20によりリフ
レッシュ動作を独立におこなうことができる。After information is transferred from the dynamic memory cell row selected by ~AR8 to the static memory cell row, it can be operated as a static memory in response to column address changes. At the same time, the dynamic memory cell array 40 and the four sense amplifiers 20 can independently perform a refresh operation.
以上のように、本発明にかかる半導体メモリによれば、
ダイナミックメモリセルのデータをスタティックメモリ
セルに転送する前にはスタティックメモリセルへの電源
供給を停止する手段を備えているため、スタティックメ
モリセルの記憶状態は白紙状態となっており、データ転
送時に両メモリセルのデータの衝突がなく、確実なデー
タ読出しが可能となる。As described above, according to the semiconductor memory according to the present invention,
Before transferring data from a dynamic memory cell to a static memory cell, there is a means to stop power supply to the static memory cell, so the storage state of the static memory cell is a blank slate, and when data is transferred, both There is no collision of data in memory cells, and reliable data reading becomes possible.
第1図は従来の半導体メモリの回路図、第2図は本発明
の一実施例による半導体メモリの半導体チップ上のレイ
アウト図、第3図は量率導体メモリのブロック図、第4
図は同半導体メモリの留部の回路図、第5図、第6図、
第7図(a)、(b)はそれぞれ同半導体メモリの動作
を示すタイムチャート、第8図(a)は同半導体メモリ
のアドレスバッファ回路と行選択回路の具体例を示す回
路図、第8図(b)は同具体例の動作を示すタイムチャ
ートである。
10・・・プリチャージ回路、20・・・センスアンプ
回路、30・・・ダミーセル、40・・・ダイナミック
メモリセルアレイ、50・・・転送ゲート回路、60・
・・スタティックメモリセル行、70・・・プリチャー
ジ回路、80・・・列選択ゲート回路、90・・・列デ
コーダ、100・・・ノイズキラー、110・・・行選
択回路、120・・・アドレスバッフ7回路、10・・
・コントロール回路、151,152・・・データ線、
160・・・タイマ回路、170・・・リフレッシュカ
ウンタ、400・・・ダイナミックメモリセル、600
・・・スタティックメモリセル、1100・・・マルチ
プレクサ凹路、1110・・・駆動回路、1200・・
・行アドレスラッチ回路、
1210・・・列アドレスラッチ回路。FIG. 1 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory, FIG. 2 is a layout diagram on a semiconductor chip of a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a block diagram of a quantity rate conductor memory, and FIG.
The figures are circuit diagrams of the retaining part of the same semiconductor memory, Figures 5, 6,
7(a) and 7(b) are time charts showing the operation of the same semiconductor memory, FIG. 8(a) is a circuit diagram showing a specific example of the address buffer circuit and row selection circuit of the same semiconductor memory, and FIG. Figure (b) is a time chart showing the operation of the same specific example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Precharge circuit, 20... Sense amplifier circuit, 30... Dummy cell, 40... Dynamic memory cell array, 50... Transfer gate circuit, 60...
... Static memory cell row, 70 ... Precharge circuit, 80 ... Column selection gate circuit, 90 ... Column decoder, 100 ... Noise killer, 110 ... Row selection circuit, 120 ... Address buffer 7 circuits, 10...
・Control circuit, 151, 152...data line,
160... Timer circuit, 170... Refresh counter, 400... Dynamic memory cell, 600
. . . Static memory cell, 1100 . . . Multiplexer concave path, 1110 . . . Drive circuit, 1200 .
- Row address latch circuit, 1210... Column address latch circuit.
Claims (1)
列方向にマトリクス配列したダイナミックメモリセルア
レイと、前記ダイナミックメモリセルアレイ中のダイナ
ミックメモリセルを行方向に共通接続したワード線と、
前記ダイナミックメモリセルアレイ中のダイナミックメ
モリセルを列方向に共通接続したビット線と、前記ビッ
ト線を対にして、この対にしたビット線間の電位差をセ
ンス増幅する複数のセンスアンプ回路からなるセンスア
ンプ回路行とを備えた半導体メモリにおいて、 前記ダイナミックメモリセルアレイ中の行方向のダイナ
ミックメモリセルに対応したスタティックメモリセルか
らなるスタティックメモリセル行と、このスタティック
メモリセル行中のスタティックメモリセルとその対応す
る前記ビット線との間で情報を伝達する転送ゲート手段
と、所望の行アドレスのダイナミックメモリセルからな
るダイナミックメモリセル行のワード線を選択する行選
択手段と、前記スタティックメモリセル行中の所望の列
アドレスのスタティックメモリセルを選択して前記スタ
ティックメモリセルとデータ線の間で情報を伝達する列
選択手段と、前記スタティックメモリセルへの電源供給
を制御する電源供給制御手段とを備え、 前記電源供給制御手段により前記スタティックメモリへ
の電源供給を停止させておき、前記行選択手段により選
択されたワード線に共通接続された前記ダイナミックメ
モリセル行の情報を前記転送ゲート手段により前記スタ
ティックメモリセル行に転送する際に前記電源供給制御
手段により前記スタティックメモリへ電源供給を行い、
前記列選択手段で選択されたデータ線を介して、所望の
列アドレスのスタティックメモリセルの情報のリード動
作をするようにしたことを特徴とする半導体メモリ。 2、情報を記憶するダイナミックメモリセルを行方向と
列方向にマトリクス配列したダイナミックメモリセルア
レイと、前記ダイナミックメモリセルアレイ中のダイナ
ミックメモリセルを行方向に共通接続したワード線と、
前記ダイナミックメモリセルアレイ中のダイナミックメ
モリセルを列方向に共通接続したビット線と、前記ビッ
ト線を対にして、この対にしたビット線間の電位差をセ
ンス増幅する複数のセンスアンプ回路からなるセンスア
ンプ回路行とを備えた半導体メモリにおいて、 前記ダイナミックメモリセルアレイ中の行方向のダイナ
ミックメモリセルに対応したスタティックメモリセルか
らなるスタティックメモリセル行と、このスタティック
メモリセル行中のスタティックメモリセルとその対応す
る前記ビット線との間で情報を伝達する転送ゲート手段
と、所望の行アドレスのダイナミックメモリセルからな
るダイナミックメモリセル行のワード線を選択する行選
択手段と、前記スタティックメモリセル行中の所望の列
アドレスのスタティックメモリセルを選択して前記スタ
ティックメモリセルとデータ線の間で情報を伝達する列
選択手段と前記スタティックメモリセルへの電源供給を
制御する電源供給制御手段とを備え、 前記電源供給制御手段により前記スタティックメモリへ
の電源供給を停止させておき、前記行選択手段により選
択されたワード線に共通接続された前記ダイナミックメ
モリセル行の情報を、前記転送ゲート手段により前記ス
タティックメモリセル行に転送する際に前記電源供給制
御手段により前記スタティックメモリへ電源供給を行い
、前記列選択手段で選択されたデータ線を介して、所望
の列アドレスのスタティックメモリセルの情報のリード
および/又はライト動作をし、このリードおよび/又は
ライト動作した後の前記スタティックメモリセル行の情
報を、前記転送ゲート手段により、前記行選択手段によ
り選択されたワード線に共通接続された前記ダイナミッ
クメモリセル行に転送して再書込みするようにしたこと
を特徴とする半導体メモリ。[Claims] 1. A dynamic memory cell array in which dynamic memory cells for storing information are arranged in a matrix in the row and column directions, and a word line that commonly connects the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array in the row direction;
A sense amplifier comprising a bit line commonly connecting the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array in the column direction, and a plurality of sense amplifier circuits that pair the bit lines and sense and amplify the potential difference between the paired bit lines. a static memory cell row consisting of static memory cells corresponding to the dynamic memory cells in the row direction in the dynamic memory cell array; and a static memory cell row in the static memory cell row and its corresponding one. transfer gate means for transmitting information to and from the bit line; row selection means for selecting a word line in a dynamic memory cell row consisting of dynamic memory cells at a desired row address; Column selection means for selecting a static memory cell of a column address and transmitting information between the static memory cell and a data line; and power supply control means for controlling power supply to the static memory cell, The power supply to the static memory is stopped by the supply control means, and the information of the dynamic memory cell row commonly connected to the word line selected by the row selection means is transferred to the static memory cell row by the transfer gate means. supplying power to the static memory by the power supply control means when transferring the data to the static memory;
A semiconductor memory characterized in that information read from a static memory cell at a desired column address is performed via the data line selected by the column selection means. 2. A dynamic memory cell array in which dynamic memory cells for storing information are arranged in a matrix in the row and column directions, and a word line that commonly connects the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array in the row direction;
A sense amplifier comprising a bit line commonly connecting the dynamic memory cells in the dynamic memory cell array in the column direction, and a plurality of sense amplifier circuits that pair the bit lines and sense and amplify the potential difference between the paired bit lines. a static memory cell row consisting of static memory cells corresponding to the dynamic memory cells in the row direction in the dynamic memory cell array; and a static memory cell row in the static memory cell row and its corresponding one. transfer gate means for transmitting information to and from the bit line; row selection means for selecting a word line in a dynamic memory cell row consisting of dynamic memory cells at a desired row address; Column selection means for selecting a static memory cell of a column address and transmitting information between the static memory cell and a data line; and power supply control means for controlling power supply to the static memory cell, The control means stops power supply to the static memory, and the transfer gate means transfers information of the dynamic memory cell rows commonly connected to the word line selected by the row selection means to the static memory cell row. When transferring data to the static memory cell, the power supply control means supplies power to the static memory, and reads and/or writes information in the static memory cell at a desired column address via the data line selected by the column selection means. The transfer gate means transfers the information of the static memory cell row after the read and/or write operation to the dynamic memory cell row commonly connected to the word line selected by the row selection means. A semiconductor memory characterized in that it can be transferred and rewritten.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2164679A JPH07109704B2 (en) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | Semiconductor memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2164679A JPH07109704B2 (en) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | Semiconductor memory |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58113924A Division JPH069114B2 (en) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | Semiconductor memory |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0340291A true JPH0340291A (en) | 1991-02-21 |
JPH07109704B2 JPH07109704B2 (en) | 1995-11-22 |
Family
ID=15797788
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2164679A Expired - Lifetime JPH07109704B2 (en) | 1990-06-22 | 1990-06-22 | Semiconductor memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07109704B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010225601A (en) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Oki Semiconductor Co Ltd | Semiconductor storage device |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60695A (en) * | 1983-06-15 | 1985-01-05 | Nec Corp | Memory circuit |
-
1990
- 1990-06-22 JP JP2164679A patent/JPH07109704B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60695A (en) * | 1983-06-15 | 1985-01-05 | Nec Corp | Memory circuit |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010225601A (en) * | 2009-03-19 | 2010-10-07 | Oki Semiconductor Co Ltd | Semiconductor storage device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07109704B2 (en) | 1995-11-22 |
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