JPH0339315B2 - - Google Patents
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- JPH0339315B2 JPH0339315B2 JP59262421A JP26242184A JPH0339315B2 JP H0339315 B2 JPH0339315 B2 JP H0339315B2 JP 59262421 A JP59262421 A JP 59262421A JP 26242184 A JP26242184 A JP 26242184A JP H0339315 B2 JPH0339315 B2 JP H0339315B2
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Description
【発明の詳細な説明】
＜技術分野＞
本発明は液晶表示パネル、より詳しくは、カメ
ラや光学プリンタ等の写し込み用表示装置として
用いられる液晶表示パネルに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Technical Field> The present invention relates to a liquid crystal display panel, and more particularly to a liquid crystal display panel used as a display device for imprinting in cameras, optical printers, and the like.
＜従来技術＞
カメラや光学プリンタ等の写し込み用表示装置
として用いられる液晶表示パネルでは、写し込み
パターンのフイルムや感光紙における位置ずれ等
が発生しないようにするために、液晶表示パネル
写し込みパターン以外の部分における光の遮蔽性
を如何に高めるかが最も要求される点である。<Prior art> In liquid crystal display panels used as display devices for imprinting in cameras, optical printers, etc., in order to prevent misalignment of the imprinted pattern on the film or photosensitive paper, the imprinted pattern on the liquid crystal display panel is The most important point is how to improve the light shielding properties in other parts.
第７図はこの写し込み用液晶表示パネルの従来
例を示す。第７図ではセグメント基板１０１を形
成するガラス基板１０３とコモン基板１０２を形
成するガラス基板１０４の相対向する面に透明導
電膜１０５，１０６がそれぞれのパターン形成さ
れ、２枚のガラス基板１０３，１０４の外面に偏
光板１０７，１０８がそれぞれ形成される。そし
て、透明導電膜１０５，１０６が液晶材料１０９
を介して対向するように、セグメント基板１０１
とコモン基板１０２とが配置される。 FIG. 7 shows a conventional example of this liquid crystal display panel for imprinting. In FIG. 7, transparent conductive films 105 and 106 are formed in respective patterns on opposite surfaces of a glass substrate 103 forming a segment substrate 101 and a glass substrate 104 forming a common substrate 102, and two glass substrates 103 and 104 are formed. Polarizing plates 107 and 108 are respectively formed on the outer surfaces of the . Then, the transparent conductive films 105 and 106 are connected to the liquid crystal material 109.
Segment substrates 101 are arranged so as to face each other via
and a common board 102 are arranged.
この場合、写し込み用として表示するパターン
は、透明導電膜１０５，１０６により決定される
が、写し込みパターン以外の部分では上下の偏光
板１０７，１０８によつてのみ光の遮蔽が行なわ
れ、この偏光板１０７，１０８による光の遮蔽性
が悪いため、入射光を完全に遮蔽することができ
なかつた。例えば、上下の偏光板１０７，１０８
による光の遮蔽率は高々97〜98.5％（於400〜
760nｍ）であり、偏光板を上下２枚にしても遮
蔽率は99〜99.5％である。 In this case, the pattern to be displayed for imprinting is determined by the transparent conductive films 105 and 106, but light is blocked only by the upper and lower polarizing plates 107 and 108 in areas other than the imprinted pattern. Since the light shielding properties of the polarizing plates 107 and 108 were poor, it was not possible to completely shield the incident light. For example, the upper and lower polarizing plates 107, 108
The light shielding rate is at most 97~98.5% (400~
760 nm), and the shielding rate is 99 to 99.5% even if there are two polarizing plates, upper and lower.
このため、従来では、光の遮蔽率の高めるため
に、第８図に示すように、コモン基板１１０の透
明導電膜１０６の上側（あるいは下側）に写し込
みパターン以外の部分を光遮蔽する金属膜による
メタルマスク１１１を形成する方法が採用されて
いた。しかしながら、この方法では、100％の光
遮蔽率が達成できるが、コモン基板１１０の透明
導電膜１０６が単一の回路パターンであるいわゆ
るスタテイツク駆動の場合にのみ採用することが
でき、コモン電極の透明導電膜が複数の回路パタ
ーンであるいわゆるダイナミツク駆動の場合にお
いては、透明導電膜とメタルマスクとの間に電気
的リークのために、採用できないという問題点を
有していた。 For this reason, conventionally, in order to increase the light shielding rate, as shown in FIG. A method of forming a metal mask 111 using a film has been adopted. However, although this method can achieve a light shielding rate of 100%, it can only be adopted in the case of so-called static drive in which the transparent conductive film 106 of the common substrate 110 has a single circuit pattern; In the case of so-called dynamic drive in which the conductive film has a plurality of circuit patterns, there is a problem that it cannot be used because of electrical leakage between the transparent conductive film and the metal mask.
第９図ないし第１１図はスタテイツク駆動の場
合の液晶表示パネルの構成パターンを示し、第９
図はセグメント電極のパターン、第１０図はコモ
ン電極のパターン、第１１図はメタルマスクを形
成したコモン電極とセグメント電極を重ね合せた
ときのパターンのそれぞれ示す。メタルマスク
は、８の字と小数点の写し込みパターンを除いた
部分の引出し配線部分やパターン間部分等を光遮
蔽するように、コモン電極の透明導電膜の上側
（あるいは下側）にパターン形成される。 9 to 11 show configuration patterns of a liquid crystal display panel in the case of static drive.
The figure shows the pattern of the segment electrode, FIG. 10 shows the pattern of the common electrode, and FIG. 11 shows the pattern when the common electrode and segment electrode on which a metal mask is formed are overlapped. The metal mask is patterned on the upper side (or lower side) of the transparent conductive film of the common electrode so as to shield the lead wiring area and the area between patterns except for the figure 8 and decimal point imprint patterns. Ru.
液晶表示パネルによつて多様なパターン情報の
写し込みを行なうためには、液晶表示パネルのダ
イナミツク駆動が必要になる。しかるに、上述の
ように、従来ではメタルマスクが採用できるのが
スタテイツク駆動の場合のみであるので、写し込
みのパターン情報としては、例えば年月日や時分
秒等を表わす４桁の８の字パターンや所定のシン
ボルマーク等の簡単な固定表示に限られる。 In order to imprint various pattern information on a liquid crystal display panel, dynamic driving of the liquid crystal display panel is required. However, as mentioned above, conventionally, metal masks can only be used in the case of static drive, so the pattern information for imprinting is, for example, a four-digit figure 8 representing the year, month, day, hour, minute, second, etc. It is limited to simple fixed displays such as patterns and predetermined symbols.
上述の問題点を避けるために、メタルマスクを
液晶表示セルの外側に形成する方法もあるが、写
し込みパターンが細いので、この方法ではガラス
基板の屈折率や厚みの影響からパターンのぼけや
位置ずれ等が発生する。また、メタルマスク以外
に、黒色ペイントや黒色樹脂等を液晶セルの外側
に形成する方法も、同様の理由で、細いパターン
の写し込みができないという欠点を有していた。 To avoid the above-mentioned problems, there is a method of forming a metal mask on the outside of the liquid crystal display cell, but since the imprinted pattern is thin, this method may cause the pattern to become blurred or the position to be affected by the refractive index and thickness of the glass substrate. Misalignment, etc. occurs. Furthermore, methods in which black paint, black resin, or the like is formed on the outside of the liquid crystal cell other than metal masks also have the disadvantage that thin patterns cannot be imprinted for the same reason.
＜発明の目的＞
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであ
り、その目的は、メタルマスクを形成ししかもダ
イナミツク駆動を可能にした写し込み用液晶表示
パネルを提供することである。<Object of the Invention> The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and its object is to provide a liquid crystal display panel for imprinting which has a metal mask and is capable of dynamic driving.
＜発明の構成＞
上記の目的を達成するために、本発明では、セ
グメント基板およびコモン基板に、それぞれ所定
パターンのメタルマスクと、このメタルマスクの
表面のみを被覆する絶縁膜と、透明導電膜を順次
に形成し、さらに、この各透明導電膜を、それぞ
れ写し込みパターンに相応する部分が基板に接触
し、かつ、複数のパターンに分割している。<Structure of the Invention> In order to achieve the above object, in the present invention, a metal mask with a predetermined pattern, an insulating film that covers only the surface of the metal mask, and a transparent conductive film are provided on the segment substrate and the common substrate, respectively. The transparent conductive films are sequentially formed, and each transparent conductive film is divided into a plurality of patterns, with portions corresponding to the imprinted patterns in contact with the substrate.
＜実施例＞ 以下、本発明の一実施例について説明する。<Example> An embodiment of the present invention will be described below.
第１図は液晶表示パネルの断面構成を示す。セ
グメント基板１のコモン基板２とが、液晶材料３
を介して対向する。セグメント基板１は、液晶材
料３と接する面において、ガラス基板４の上に金
属膜メタルマスク５がパターン形成され、この金
属膜メタルマスク５の上部と側部に金属酸化絶縁
膜６が形成される。さらに、この金属酸化絶縁膜
６及び写し込みパターン部分のガラス基板４の上
に透明導電膜７がダイナミツクパターン及びリー
ド配線パターンに形成される。セグメント基板１
の外面には、偏光板８が形成される。 FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a liquid crystal display panel. The common substrate 2 of the segment substrate 1 is the liquid crystal material 3.
Opposing through. In the segment substrate 1, a metal film metal mask 5 is patterned on a glass substrate 4 on the surface in contact with the liquid crystal material 3, and a metal oxide insulating film 6 is formed on the top and sides of the metal film metal mask 5. . Further, a transparent conductive film 7 is formed in a dynamic pattern and a lead wiring pattern on the metal oxide insulating film 6 and the glass substrate 4 in the imprinted pattern portion. Segment board 1
A polarizing plate 8 is formed on the outer surface of.
一方、コモン基板２は、液晶材料３と接する面
において、ガラス基板９の上に金属膜メタルマス
ク１０がパターン形成され、この金属膜メタルマ
スク１０の上部と側部に金属酸化絶縁膜１１が形
成される。さらに、この金属酸化絶縁膜１１及び
写し込みパターン部分のガラス基板９の上に透明
導電膜１２がダイナミツクパターン及びリード配
線パターンに形成される。コモン基板２の外面
に、偏光板１３が形成される。 On the other hand, in the common substrate 2, a metal film metal mask 10 is patterned on a glass substrate 9 on the surface in contact with the liquid crystal material 3, and a metal oxide insulating film 11 is formed on the top and sides of the metal film metal mask 10. be done. Further, a transparent conductive film 12 is formed in a dynamic pattern and a lead wiring pattern on the metal oxide insulating film 11 and the glass substrate 9 in the imprinted pattern portion. A polarizing plate 13 is formed on the outer surface of the common substrate 2.
セグメント基板１のメタルマスク５と金属酸化
絶縁膜６の形成方法は、先ず、Ta（タンタル）が
4000〜20000Åの厚さでスパツタされ、次にリア
クテイブイオンエツチング法（RIE法）によつて
ガラス基板４の上にパターン形成され、このTa
の表面及び側面に陽極酸化法によつてTa2O5（５
酸化タンタル）が2000〜10000Åの厚さで形成さ
れる。このようにして、電気良導体のメタルマス
ク５の表面及び側面に絶縁体である金属酸化絶縁
膜６が形成される。そして、この金属酸化絶縁膜
６の上及び写し込みパターンの部分となるガラス
基板４の上に、酸化インジウムと２参加スズから
なる透明導電膜７がフオトリソグラフイツクによ
つてパターン形成される。 The method for forming the metal mask 5 and metal oxide insulating film 6 on the segment substrate 1 is as follows: First, Ta (tantalum) is
This Ta is sputtered to a thickness of 4000 to 20000 Å, and then patterned on the glass substrate 4 by reactive ion etching (RIE).
Ta 2 O 5 (5
Tantalum oxide) is formed with a thickness of 2000 to 10000 Å. In this way, the metal oxide insulating film 6, which is an insulator, is formed on the surface and side surfaces of the metal mask 5, which is a good electrical conductor. Then, a transparent conductive film 7 made of indium oxide and divalent tin is patterned by photolithography on the metal oxide insulating film 6 and on the glass substrate 4 which will be the portion of the imprinted pattern.
コモン基板２のメタルマスク１０と金属酸化絶
縁膜１１及び透明導電膜１２は、上述のセグメン
ト基板１のメタルマスク５と金属酸化絶縁膜６及
び透明導電膜７の形成方法の同様の方法でガラス
基板９の上に形成される。 The metal mask 10, metal oxide insulating film 11, and transparent conductive film 12 of the common substrate 2 are formed on a glass substrate using the same method as that of forming the metal mask 5, metal oxide insulating film 6, and transparent conductive film 7 of the segment substrate 1 described above. Formed on top of 9.
第２図はセグメント基板１の構成パターンを示
す。図中、部分Ａがメタルマスク５と金属酸化絶
縁膜６で形成され、部分Ｂが透明導電膜７で形成
される。部分Ｂは、写し込みパターン部分及び引
き出し配線部分を含む。部分Ａと部分Ｂとの境界
部分では、メタルマスク５と透明導電膜７との間
に金属酸化絶縁膜６が介在する。このダイナミツ
クパターンは、前述の第９図のスタテイツクパタ
ーンに比べて、引出し配線の数を大幅に減らすこ
とができる。 FIG. 2 shows a configuration pattern of the segment substrate 1. As shown in FIG. In the figure, a portion A is formed of a metal mask 5 and a metal oxide insulating film 6, and a portion B is formed of a transparent conductive film 7. Part B includes an imprint pattern part and a lead-out wiring part. At the boundary between portions A and B, a metal oxide insulating film 6 is interposed between the metal mask 5 and the transparent conductive film 7. This dynamic pattern can greatly reduce the number of lead wires compared to the static pattern shown in FIG. 9 described above.
第３図はコモン電極２の構成パターンを示す。
図中、部分Ｃがメタルマスク１０と金属酸化絶縁
膜１１で形成され、部分Ｄが透明導電膜１２で形
成される。部分Ｃと部分Ｄとの境界部分では、メ
タルマスク１０と透明導電膜１２との間に金属酸
化絶縁膜１１が介在する。このコモン基板２に
は、３つの部分Ｄからなる回路パターンが透明導
電膜１２により形成される。 FIG. 3 shows the configuration pattern of the common electrode 2.
In the figure, a portion C is formed of a metal mask 10 and a metal oxide insulating film 11, and a portion D is formed of a transparent conductive film 12. At the boundary between portions C and D, a metal oxide insulating film 11 is interposed between the metal mask 10 and the transparent conductive film 12. On this common substrate 2, a circuit pattern consisting of three portions D is formed using a transparent conductive film 12.
上述のように、コモン基板２が３つの回路パタ
ーンで構成される場合には、この液晶表示パネル
は1/3デユーテイのダイナミツク駆動となる。こ
のように、ダイナミツク駆動では、コモン電極の
回路パターンがスタテイツク駆動の場合の１つの
回路パターン（第１０図）に比べて複数になる
が、コモン電極の回路パターンの数に応じてセグ
メント電極の引出し配線の数を減らすことができ
る。また、コモン電極のパターンは、セグメント
電極のパターンより大きくし、パターンずれに対
して余裕をもたせることができる。 As described above, when the common board 2 is composed of three circuit patterns, this liquid crystal display panel is dynamically driven with a duty of 1/3. In this way, in dynamic drive, there are multiple circuit patterns for the common electrode compared to one circuit pattern (Fig. 10) in static drive, but the segment electrodes are drawn out according to the number of circuit patterns for the common electrode. The number of wiring can be reduced. Furthermore, the common electrode pattern can be made larger than the segment electrode pattern to provide some margin for pattern misalignment.
第４図はセグメント基板１のパターンとコモン
基板２のパターンとを重ね合せて得られる写し込
みパターンを示す。 FIG. 4 shows an imprint pattern obtained by superimposing the pattern of the segment substrate 1 and the pattern of the common substrate 2.
上述のセグメント基板１のコモン基板２とを液
晶材料を介して組み合せて、ダイナミツク駆動の
写し込み用液晶表示パネルが形成される。このダ
イナミツク駆動では、例えば第２図のセグメント
基板１の部分Ｂのイと第３図のコモン基板２の部
分Ｄのへとの間、同様に、部分Ｂのロと部分Ｄの
ニ，ホ，ヘとの間、部分Ｂのハと部分Ｄのホとの
間、にそれぞれ電圧を加えることによつて、第４
図のパターンａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅが点灯して３の
字が写し込まれる。 By combining the segment substrate 1 and the common substrate 2 described above via a liquid crystal material, a dynamically driven liquid crystal display panel for imprinting is formed. In this dynamic drive, for example, between part A of part B of the segment board 1 in FIG. 2 and part D of the common board 2 in FIG. By applying voltages between C of part B and E of part D, the fourth
Patterns a, b, c, d, and e in the figure are lit and the letter 3 is imprinted.
上述のように、セグメント基板１とコモン基板
２とを組み合せることにより、写し込みパターン
はセグメント基板１のメタルマスク５とコモン基
板２のメタルマスク１０で規定され、しかも、写
し込みパターンは同一の桁で１、２、……、９、
０の切替えが可能になる。そして、この写し込み
用液晶表示パネルでは、ダイナミツク駆動が可能
であるので、上述の７セグメントパターンの数字
のみではなく、例えば、行パターンと列パターン
を透明導電膜で形成して、第５図と第６図に示す
５×７ドツトパターンの数字や英字の写し込み、
さらには、ｎ行×ｍ列のドツトパターンによる多
様なパターン情報の写し込みが可能になる。 As described above, by combining the segment substrate 1 and the common substrate 2, the imprint pattern is defined by the metal mask 5 of the segment substrate 1 and the metal mask 10 of the common substrate 2, and the imprint pattern is the same. Digits 1, 2, ..., 9,
0 switching becomes possible. Since dynamic driving is possible in this liquid crystal display panel for imprinting, in addition to the numbers in the 7-segment pattern described above, for example, row patterns and column patterns can be formed using a transparent conductive film, as shown in FIG. Imprinting numbers and letters in the 5 x 7 dot pattern shown in Figure 6,
Furthermore, it becomes possible to imprint various pattern information using a dot pattern of n rows by m columns.
＜発明の効果＞
以上説明したように、本発明においては、メタ
ルマスクの上に金属酸化絶縁膜を形成し、この金
属酸化絶縁膜の上に透明導電膜を形成したので、
カメラやプリンタ等の写し込み用液晶表示パネル
においてダイナミツク駆動が可能になり、多様な
パターン情報の写し込みができる。また、メタル
マスクをゼグメント基板およびコモン基板の双方
に形成したので、組み立て時にその両者の基板間
における位置ずれ等が生じても、例えば日文字パ
ターンの電極間における〓間を完全に遮光でき、
写し込みの文字形状が変形することがない。さら
に、セグメント基板およびコモン基板の透明導電
膜をそれぞれを分割したので、その分割パターン
を、例えば３パターンとした場合には、日文字の
各セグメトンをそれぞれ個別に分離することが可
能となり、これにより、二つの透明電極間に電圧
印加してセグメント遮光をした際に、その非遮光
部の文字形状が非常に整つた形状になる。<Effects of the Invention> As explained above, in the present invention, a metal oxide insulating film is formed on a metal mask, and a transparent conductive film is formed on this metal oxide insulating film.
Dynamic drive is now possible in the imprinting liquid crystal display panels of cameras, printers, etc., and various pattern information can be imprinted. In addition, since the metal mask is formed on both the segment board and the common board, even if a positional shift occurs between the two boards during assembly, for example, the gap between the electrodes of a Japanese character pattern can be completely shielded from light.
The shape of the imprinted characters will not be deformed. Furthermore, since the transparent conductive films of the segment substrate and the common substrate are each divided, if the division pattern is set to, for example, three patterns, it becomes possible to separate each segment of Japanese characters individually. When segment light is blocked by applying a voltage between two transparent electrodes, the shape of the characters in the non-light-blocking portion becomes very regular.
以上のことから、本発明を例えばカメラや光学
プリンタ等の写し込み用表示装置に適用した場
合、写し込みパターン部分とマスク部分とのコン
トラスト比を極めて高くすることができ、鮮明な
ネガフイルムおよび写真の作成、あるいは鮮明な
印刷が可能となつて、写し込みパターンの表示品
位が向上する。 From the above, when the present invention is applied to a display device for imprinting, such as a camera or an optical printer, the contrast ratio between the imprint pattern part and the mask part can be extremely high, and clear negative films and photographs can be produced. It becomes possible to create or print clearly, and the display quality of the imprinted pattern is improved.
なお、各透明導電膜の写し込みパターンに相応
する部分はそれぞれ基板に直接形成されるので、
絶縁膜の種類やその表面状態に関係なく、その部
分の膜厚を均質とすることができ、これにより、
透明導電膜の写し込みパターン部の抵抗値を正確
に制御することが可能になるという点の効果もあ
る。 Note that the portions of each transparent conductive film corresponding to the imprinted patterns are formed directly on the substrate, so
Regardless of the type of insulating film or its surface condition, the thickness of that part can be made uniform, which allows
Another effect is that it becomes possible to accurately control the resistance value of the imprinted pattern portion of the transparent conductive film.
第１図は本発明実施例の断面図、第２図は本発
明実施例のセグメント基板の平面図、第３図は本
発明実施例のコモン基板の平面図、第４図は本発
明実施例の写し込みパターンを示す図、第５図は
数字のドツトパターンを示す図、第６図は英字の
ドツトパターンを示す図、第７図は従来例を示す
断面図、第８図は他の従来例を示す断面図、第９
図は従来例のセグメント電極の平面図、第１０図
は従来例のコモン電極の平面図、第１１図は従来
例の写し込みパターンを示す図である。
１……セグメント基板、２……コモン基板、３
……液晶材料、４，９……ガラス基板、５，１０
……メタルマスク、６，１１……金属酸化絶縁
膜、７，１２……透明導電膜。
Fig. 1 is a cross-sectional view of an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a plan view of a segment board of an embodiment of the invention, Fig. 3 is a plan view of a common board of an embodiment of the invention, and Fig. 4 is an embodiment of the invention. FIG. 5 is a diagram showing a numerical dot pattern, FIG. 6 is a diagram showing an alphabetical dot pattern, FIG. 7 is a cross-sectional view of a conventional example, and FIG. 8 is another conventional example. Cross-sectional view showing an example, No. 9
10 is a plan view of a conventional common electrode, and FIG. 11 is a diagram showing an imprint pattern of a conventional example. 1...Segment board, 2...Common board, 3
...Liquid crystal material, 4,9...Glass substrate, 5,10
...metal mask, 6,11...metal oxide insulating film, 7,12...transparent conductive film.
Claims (1)
基板およびコモン基板を有する液晶表示バネルに
おいて、上記二つの基板には、それぞれ所定パタ
ーンのメタルマスクと、このメタルマスクの表面
のみを被覆する絶縁膜と、透明導電膜が順次に形
成され、この各透明導電膜は、それぞれ写し込み
パターンに相応する部分が上記基板に接触し、か
つ、複数のパターンに分割されていることを特徴
とする、液晶表示パネル。1. In a liquid crystal display panel having a segment substrate and a common substrate facing each other with a liquid crystal material in between, each of the two substrates has a metal mask with a predetermined pattern, an insulating film that covers only the surface of the metal mask, and a transparent A liquid crystal display panel characterized in that conductive films are sequentially formed, each transparent conductive film is in contact with the substrate at a portion corresponding to the imprinted pattern, and is divided into a plurality of patterns.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59262421A JPS61140981A (en) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | Liquid crystal display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59262421A JPS61140981A (en) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | Liquid crystal display panel |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61140981A JPS61140981A (en) | 1986-06-28 |
| JPH0339315B2 true JPH0339315B2 (en) | 1991-06-13 |
Family
ID=17375548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59262421A Granted JPS61140981A (en) | 1984-12-12 | 1984-12-12 | Liquid crystal display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61140981A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2874446B1 (en) * | 2004-08-17 | 2007-01-12 | Nemoptic Sa | LIQUID CRYSTAL DISPLAY IMPROVES IN PARTICULAR BY REMOVING NEGATIVE EFFECTS ON EDGES OF ZONES ADDRESSED |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55137121A (en) * | 1979-02-03 | 1980-10-25 | Hiyutsutenesu Aruberutousu Che | Condensation product made of phenol ingredient and aldehyde*its manufacture and binder containing it for foundry |
| JPS59129828A (en) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
-
1984
- 1984-12-12 JP JP59262421A patent/JPS61140981A/en active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55137121A (en) * | 1979-02-03 | 1980-10-25 | Hiyutsutenesu Aruberutousu Che | Condensation product made of phenol ingredient and aldehyde*its manufacture and binder containing it for foundry |
| JPS59129828A (en) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Hitachi Ltd | Liquid crystal display element |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61140981A (en) | 1986-06-28 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |