JPH033573Y2 - - Google Patents
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- JPH033573Y2 JPH033573Y2 JP808487U JP808487U JPH033573Y2 JP H033573 Y2 JPH033573 Y2 JP H033573Y2 JP 808487 U JP808487 U JP 808487U JP 808487 U JP808487 U JP 808487U JP H033573 Y2 JPH033573 Y2 JP H033573Y2
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- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
考案の技術分野
本考案は、真空室の内壁に付着した水分やガス
を蒸発させてポンプで吸引することにより前記真
空室内を高真空にするためのベーキングランプユ
ニツトに関する。
を蒸発させてポンプで吸引することにより前記真
空室内を高真空にするためのベーキングランプユ
ニツトに関する。
考案の技術的背景ならびにその問題点
最近では、半導体製造装置あるいは各種の真空
装置において、超高真空のチエンバを形成する必
要性が生じている。
装置において、超高真空のチエンバを形成する必
要性が生じている。
例えば、前記半導体製造装置では真空室内で基
板上に複数の金属からなる合金薄膜を蒸着法によ
り形成している。
板上に複数の金属からなる合金薄膜を蒸着法によ
り形成している。
このような蒸着法で用いる真空室を形成するに
当り、従来からベーキング法が用いられ、真空室
の内壁の温度を上昇して、この内壁に付着した水
分、ガス等を蒸発させ、これをポンプで吸引して
外部に排出することにより超高真空とするもので
ある。
当り、従来からベーキング法が用いられ、真空室
の内壁の温度を上昇して、この内壁に付着した水
分、ガス等を蒸発させ、これをポンプで吸引して
外部に排出することにより超高真空とするもので
ある。
このようなベーキング法を実施するに当つて
は、真空室となる真空室本体の外部から抵抗加熱
のヒータを巻きつけ、真空室内の温度を上昇させ
るようにしたものがある。
は、真空室となる真空室本体の外部から抵抗加熱
のヒータを巻きつけ、真空室内の温度を上昇させ
るようにしたものがある。
しかし、この方法は、真空室を外部から加熱す
るようにしており、しかも電熱線を用いているた
め、加熱効率が悪く、また真空室内の内部構造が
複雑な場合は、この内部構成部材すべてを加熱す
ることが難しいものとなる。
るようにしており、しかも電熱線を用いているた
め、加熱効率が悪く、また真空室内の内部構造が
複雑な場合は、この内部構成部材すべてを加熱す
ることが難しいものとなる。
他の方法としては、真空室内にシース・ヒータ
を巻く方法もあるが、局部的で効率が悪いという
欠点がある。
を巻く方法もあるが、局部的で効率が悪いという
欠点がある。
本考案者は、上述のような欠点、問題点を解決
すべく鋭意検討したところ、熱源をランプとし、
これを真空室内に設ければ、熱効率が良く、真空
室内をくまなく加熱することができ、比較的簡単
に水分等を蒸発させて、超高真空を得ることがで
きることを見出して本考案を完成するに至つた。
すべく鋭意検討したところ、熱源をランプとし、
これを真空室内に設ければ、熱効率が良く、真空
室内をくまなく加熱することができ、比較的簡単
に水分等を蒸発させて、超高真空を得ることがで
きることを見出して本考案を完成するに至つた。
考案の目的
本考案は、真空室内という可酷な条件下であつ
ても、熱効率よく速やかな加熱ができ、しかも真
空室本体への装着が容易で、メンテナンスも容易
なベーキングランプユニツトを提供することを目
的とする。
ても、熱効率よく速やかな加熱ができ、しかも真
空室本体への装着が容易で、メンテナンスも容易
なベーキングランプユニツトを提供することを目
的とする。
考案の概要
本考案に係るベーキングランプユニツトは、内
部が真空室となる真空室本体にシール性をもつて
フランジを取付けるとともに該フランジに一対の
電流導入端子を挿通し、この電流導入端子の前記
真空室側先端に弾性を有する支持部材を取付け、
この支持部材によりハロゲンランプを弾性支持し
たことを特徴とするものである。
部が真空室となる真空室本体にシール性をもつて
フランジを取付けるとともに該フランジに一対の
電流導入端子を挿通し、この電流導入端子の前記
真空室側先端に弾性を有する支持部材を取付け、
この支持部材によりハロゲンランプを弾性支持し
たことを特徴とするものである。
このようにすれば、真空室内にランプを設置し
ているので、真空室内をくまなく照らし、短時間
で効率良く、内壁の温度を上昇させることがで
き、しかもランプの取付、交換のメンテナンスが
容易となり、熱伸縮により生じる接点不良を防止
することができることになる。
ているので、真空室内をくまなく照らし、短時間
で効率良く、内壁の温度を上昇させることがで
き、しかもランプの取付、交換のメンテナンスが
容易となり、熱伸縮により生じる接点不良を防止
することができることになる。
考案の具体的説明
以下、本考案の実施例を図面について説明す
る。
る。
第1図は、本考案の一実施例を示すもので、真
空蒸着装置に、垂直型のランプを組み込んだベー
キングランプユニツトを示す概略説明図、第2図
は、同ベーキングランプユニツトの正面図、第3
図は、同ユニツトの電極押え部材の断面図であ
る。
空蒸着装置に、垂直型のランプを組み込んだベー
キングランプユニツトを示す概略説明図、第2図
は、同ベーキングランプユニツトの正面図、第3
図は、同ユニツトの電極押え部材の断面図であ
る。
第1図に示す真空蒸着装置10はポンプ11と
連通された真空室本体12を有し、この真空室本
体12の真空室C内には真空蒸着用の各種機器m
と、この真空室本体12の内壁12aを加熱する
ベーキングランプユニツトL1が設けられている。
連通された真空室本体12を有し、この真空室本
体12の真空室C内には真空蒸着用の各種機器m
と、この真空室本体12の内壁12aを加熱する
ベーキングランプユニツトL1が設けられている。
このベーキングランプユニツトL1は第2図に
示すように、前記真空室本体12に取付けられた
フランジ13を有し、このフランジ13に一対の
電流導入端子14,14を挿通し、この電流導入
端子14,14の真空室内側先端には、支持部材
15が取付けられ、この支持部材15および電極
押え部材16aを介してハロゲンランプ17が挟
持されている。
示すように、前記真空室本体12に取付けられた
フランジ13を有し、このフランジ13に一対の
電流導入端子14,14を挿通し、この電流導入
端子14,14の真空室内側先端には、支持部材
15が取付けられ、この支持部材15および電極
押え部材16aを介してハロゲンランプ17が挟
持されている。
なお、前記支持部材15の強度が不足する恐れ
があるため、電極押え部材16aおよびステンレ
ス製の補強部材16bを設けている。この電極押
え部材16aは第3図に示すように、スリーブ2
0内に設けたばね21により弾揆的突出習性が付
与された支持片22を有し、この支持片22を後
退させた状態で、ハロゲンランプ17の電極17
aを押圧するようにしている。
があるため、電極押え部材16aおよびステンレ
ス製の補強部材16bを設けている。この電極押
え部材16aは第3図に示すように、スリーブ2
0内に設けたばね21により弾揆的突出習性が付
与された支持片22を有し、この支持片22を後
退させた状態で、ハロゲンランプ17の電極17
aを押圧するようにしている。
さらに詳述すれば、前記フランジ13は、銅ま
たはアルミニウムからなるメタルシールSを有す
るもので、真空かつ高温という可酷な条件下でも
ガスを発生せず、またシール力が低下しないよう
になつており、このフランジ13はチエーン又は
ボルト等を使用して、前記真空室本体12に取付
けるようになつている。つまり、このボルト等を
外すと、前記ベーキングランプユニツトL1全体
を取出すことができ、メンテナンスが容易とな
る。
たはアルミニウムからなるメタルシールSを有す
るもので、真空かつ高温という可酷な条件下でも
ガスを発生せず、またシール力が低下しないよう
になつており、このフランジ13はチエーン又は
ボルト等を使用して、前記真空室本体12に取付
けるようになつている。つまり、このボルト等を
外すと、前記ベーキングランプユニツトL1全体
を取出すことができ、メンテナンスが容易とな
る。
このフランジ13を挿通する電流導入端子1
4,14は、銅棒であり、真空室本体12の外側
は絶縁材であるセラミツク18により覆われ、内
部側の先端には一対のナツト19,19により挟
持された前記支持部材15が取付けられている。
4,14は、銅棒であり、真空室本体12の外側
は絶縁材であるセラミツク18により覆われ、内
部側の先端には一対のナツト19,19により挟
持された前記支持部材15が取付けられている。
この支持部材15は前記可酷な条件下でも弾性
を失わず導電性を有するもの、例えばステンレス
またはリンセイ銅などにより構成され、その先端
部間には、両端に電極17a,17aを有するハ
ロゲンランプ17が挟持されている。
を失わず導電性を有するもの、例えばステンレス
またはリンセイ銅などにより構成され、その先端
部間には、両端に電極17a,17aを有するハ
ロゲンランプ17が挟持されている。
このハロゲンランプ17は超高真空下でガス洩
れが生じないように構成されているが、万一ガス
洩れが生じても、不必要な化学変化が生じないよ
うに安全性を見込みハロゲンランプとしている。
れが生じないように構成されているが、万一ガス
洩れが生じても、不必要な化学変化が生じないよ
うに安全性を見込みハロゲンランプとしている。
次に作用を説明する。
第1図のスイツチ23をオンすると、電流が電
流導入端子14,14、および支持部材15を通
つて流れ、ハロゲンランプ17が点灯する。
流導入端子14,14、および支持部材15を通
つて流れ、ハロゲンランプ17が点灯する。
これにより強力な光が真空室C内をくまなく照
らし、真空室Cの内壁12aの温度を効率良く上
昇させ、この内壁12a及び各種機器m等に付着
していた水分、ガス等を蒸発させる。
らし、真空室Cの内壁12aの温度を効率良く上
昇させ、この内壁12a及び各種機器m等に付着
していた水分、ガス等を蒸発させる。
この蒸発ガスをポンプ11により吸引排出する
と、きわめて真空度の高い真空室12となり、真
空蒸着装置10の蒸着作用が確実に行なわれるこ
とになる。
と、きわめて真空度の高い真空室12となり、真
空蒸着装置10の蒸着作用が確実に行なわれるこ
とになる。
例えばハロゲンランプの定格として、全光束が
16900Lm、定格電圧100V、消費電力650Wのもの
を使用し、このハロゲンランプ17より80mm程度
離れた位置の温度を、熱電対を用いて測定した
所、第6図に示すような測定結果が得られた。
16900Lm、定格電圧100V、消費電力650Wのもの
を使用し、このハロゲンランプ17より80mm程度
離れた位置の温度を、熱電対を用いて測定した
所、第6図に示すような測定結果が得られた。
このグラフから明らかなように、定格100Vで
400℃に達するまで10分程度であり、きわめて短
時間の温度上昇が可能である。ベーキングを行な
う最適温度は、200〜400℃であり、定格100Vで
使用できるので、通常のソケツトが使用できるの
で非常に便利である。
400℃に達するまで10分程度であり、きわめて短
時間の温度上昇が可能である。ベーキングを行な
う最適温度は、200〜400℃であり、定格100Vで
使用できるので、通常のソケツトが使用できるの
で非常に便利である。
この場合、真空室C内の温度上昇を制御する必
要性がある時には、スライダツク等により電圧制
御すればよい。この場合の温度上昇も前述の
100Vの場合と同様に短時間となる。
要性がある時には、スライダツク等により電圧制
御すればよい。この場合の温度上昇も前述の
100Vの場合と同様に短時間となる。
また、この高真空、高温度という可酷な条件下
でも、フランジ13はメタルシールSを有するた
めに、シール性が低下することもなく、ガスを放
出することもない。
でも、フランジ13はメタルシールSを有するた
めに、シール性が低下することもなく、ガスを放
出することもない。
さらにランプ17及び支持部材15が超真空下
でもガス放出しないものであるため、不必要なガ
スが発生するという虞れがなく、また支持部材1
5はランプを弾性支持しているために、可酷な条
件下でも接点不良を起すこともなく、長寿命とな
る。
でもガス放出しないものであるため、不必要なガ
スが発生するという虞れがなく、また支持部材1
5はランプを弾性支持しているために、可酷な条
件下でも接点不良を起すこともなく、長寿命とな
る。
このようにしてベーキングを終了すると、真空
室C内をドライの窒素ガスなどで充満した後にラ
ンプ17を取り外せば、このランプ17を他の装
置に使用することもできる。
室C内をドライの窒素ガスなどで充満した後にラ
ンプ17を取り外せば、このランプ17を他の装
置に使用することもできる。
上述のように垂直型のランプにすれば、挟小な
真空室C内ではスペースをとらず、装着も容易と
なる。
真空室C内ではスペースをとらず、装着も容易と
なる。
なお、本考案は上述した実施例のみに限定され
るものではなく、第4,5図に示すような水平型
のランプにしてもよい。
るものではなく、第4,5図に示すような水平型
のランプにしてもよい。
この水平型ランプにすればランプの照射範囲が
広くなり、効率的な場合もある。
広くなり、効率的な場合もある。
考案の効果
以上のように、本考案によれば、真空室本体に
シール性をもつてフランジを取付け、このフラン
ジに一対の電流導入端子を挿通し、この端子に支
持部材を設けてハロゲンランプを弾性支持してい
るため、これを真空室内に設置すると、この真空
室内をくまなく照らし、短時間で効率良く内壁の
温度を上昇させることができ、しかもランプの取
付、交換のメンテナンスも容易となり、熱伸縮に
より生じる接点不良も防止することができる。
シール性をもつてフランジを取付け、このフラン
ジに一対の電流導入端子を挿通し、この端子に支
持部材を設けてハロゲンランプを弾性支持してい
るため、これを真空室内に設置すると、この真空
室内をくまなく照らし、短時間で効率良く内壁の
温度を上昇させることができ、しかもランプの取
付、交換のメンテナンスも容易となり、熱伸縮に
より生じる接点不良も防止することができる。
第1図は、本考案の一例を真空蒸着装置に組み
込んだ状態を示す概略説明図、第2図は、本考案
の一実施例を示す正面図、第3図は、第2図の要
部断面図、第4図は、本考案の他の実施例を示す
正面図、第5図は、第4図の平面図、第6図は、
温度上昇特性を示すグラフである。 12……真空室本体、13……フランジ、14
……電流導入端子、15……支持部材、17……
ハロゲンランプ。
込んだ状態を示す概略説明図、第2図は、本考案
の一実施例を示す正面図、第3図は、第2図の要
部断面図、第4図は、本考案の他の実施例を示す
正面図、第5図は、第4図の平面図、第6図は、
温度上昇特性を示すグラフである。 12……真空室本体、13……フランジ、14
……電流導入端子、15……支持部材、17……
ハロゲンランプ。
Claims (1)
- 内部が真空室Cとなる真空室本体12にシール
性をもつてフランジ13を取付けるとともに該フ
ランジ13に一対の電流導入端子14を挿通し、
この電流導入端子14の前記真空室C側先端に弾
性を有する支持部材15を取付け、この支持部材
15によりハロゲンランプ17を弾性支持してな
るベーキングランプユニツト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP808487U JPH033573Y2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP808487U JPH033573Y2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63119664U JPS63119664U (ja) | 1988-08-02 |
JPH033573Y2 true JPH033573Y2 (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=30792139
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP808487U Expired JPH033573Y2 (ja) | 1987-01-22 | 1987-01-22 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH033573Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-01-22 JP JP808487U patent/JPH033573Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63119664U (ja) | 1988-08-02 |
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