JPH0333824A - Film formation of liquid crystal material - Google Patents

Film formation of liquid crystal material

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JPH0333824A
JPH0333824A JP16687889A JP16687889A JPH0333824A JP H0333824 A JPH0333824 A JP H0333824A JP 16687889 A JP16687889 A JP 16687889A JP 16687889 A JP16687889 A JP 16687889A JP H0333824 A JPH0333824 A JP H0333824A
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JP
Japan
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liquid crystal
film
substrate
crystal material
droplets
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Application number
JP16687889A
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Japanese (ja)
Inventor
Koyo Yuasa
公洋 湯浅
Kenji Hashimoto
橋本 憲次
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0333824A publication Critical patent/JPH0333824A/en
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Abstract

PURPOSE:To produce a liquid crystal film having a large area and uniform film thickness with good productivity by liquefying a liquid crystal material in the form of mists and depositing the resulted liquid drops on a substrate and thereby forming the film. CONSTITUTION:The container of a spray 11 is so formed that the inside thereof can be pressurized by an air pressure 13. A soln. 12 of the liquid crystal material is put into the spray 11 and while 1.5kg/cm<2> air pressure is sent therein the liquid drops 1 in the form of the mists are sprayed in the state of parting by about 50cm from a glass substrate 3 (150mmX200mmX0.8mm) with an ITO film used as the substrate. The liquid drops 1 are deposited on the ITO film and the film is formed thereon while the spray is moved in one direction along the longitudinal direction of the substrate 3 at v=2.5cm/sec speed. The liquid crystal film having the large area and uniform film thickness is produced with the good productivity in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、液晶光学素子、液晶記憶素子、液晶音響素子
等に用いられる液晶材料の製膜方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for forming a film of a liquid crystal material used for liquid crystal optical elements, liquid crystal storage elements, liquid crystal acoustic elements, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

液晶材料の製膜方法として各種の方法が考案されている
。例えば、■オフセント印刷法で液晶を電極を形成した
基板に塗布し、その後液晶を挟んで対向する基板をプレ
スして貼合わせる方法(特開昭60−75817号公報
)、■スペーサ材を混合した液晶をスピンコード法やロ
ールコート法で電極を形成した基板に塗布して液晶層を
形成する方法(特開昭63−133122号公報)など
がある。しかし、■の方法には、オフセット印刷法であ
るので数μm以下の薄膜を得るのが難しく、得られた液
晶膜の膜質が滑らかでなく、また薄膜を得ようとして液
晶を溶媒に溶かすと粘度が非常に小さくなるのでオフセ
ット凸板上を流れてしまい印刷が良好にできないなどの
問題がある。また、■の方法には、膜厚の均一化のため
にスペーサ材の混入を必須としており、その均一な分散
状前を得るための装置や工程を要し複雑であるなどの問
題がある。
Various methods have been devised as methods for forming films of liquid crystal materials. For example, ■ A method in which liquid crystal is applied to a substrate on which electrodes are formed using an offset printing method, and then the opposing substrates are pressed and bonded with the liquid crystal in between (Japanese Patent Application Laid-open No. 75817/1983); ■ A method in which a spacer material is mixed. There is a method of forming a liquid crystal layer by applying liquid crystal to a substrate on which electrodes are formed using a spin code method or a roll coat method (Japanese Patent Laid-Open No. 133122/1983). However, since method (2) uses offset printing, it is difficult to obtain a thin film of several μm or less, the quality of the obtained liquid crystal film is not smooth, and when the liquid crystal is dissolved in a solvent to obtain a thin film, the viscosity increases. Since it becomes very small, there is a problem that it flows on the offset convex plate, making it impossible to print well. In addition, method (2) requires the incorporation of a spacer material in order to make the film thickness uniform, and has the problem of being complicated and requiring equipment and processes to obtain uniform dispersion.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は、大面積かつ均一な膜厚の液晶膜を生産性よく
製造することができ、液晶膜中へのゴミの混入等のない
製造の歩留まりのよい液晶材料の製膜方法を提供しよう
とするものである。更に、電界変化に対する高速応答性
のよい液晶素子を得ることのできる液晶材料の製膜方法
を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to provide a method for forming a liquid crystal material that can produce a liquid crystal film having a large area and a uniform thickness with good productivity, and has a high manufacturing yield without contaminating the liquid crystal film with dust. It is something to do. Furthermore, it is an object of the present invention to provide a method for forming a film of a liquid crystal material, which makes it possible to obtain a liquid crystal element with good high-speed response to changes in electric field.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは前記課題を解決するために鋭意研究を重ね
た結果、液晶材料を液滴化して製膜することにより、そ
の目的が達成されることを見出し本発明を完成するに至
った。
The present inventors have conducted intensive research to solve the above-mentioned problems, and as a result, they have found that the object can be achieved by forming a film by forming liquid crystal material into droplets, and have completed the present invention.

すなわち本発明は、液晶材料を霧状に液滴化し、得られ
た液滴を基板上に堆積させて製膜する液晶材料の製膜方
法を提供するものである。
That is, the present invention provides a method for forming a film of a liquid crystal material, in which a liquid crystal material is atomized into droplets, and the resulting droplets are deposited on a substrate to form a film.

本発明に用いられる液晶材料としては、低分子液晶、高
分子液晶又はこれらの混合によるネマチック相、コレス
テリック相又はスメクチック相を示す各種のものが挙げ
られる。好ましくは電界変化に対する高速応答性のよい
カイラルスメクチックC相などの強誘電相を示す強誘電
性液晶材料が用いられる。このような強誘電性液晶材料
としては、例えば、低分子の強誘電性液晶化合物、強誘
電性高分子液晶又はこれらの組成物よりなる液晶材料、
更に低分子若しくは高分子の非強誘電性の非液晶物質又
は低分子若しくは高分子の非強誘電性の液晶物質と、低
分子若しくは高分子のカイラル性を有する非液晶物質又
は低分子若しくは高分子のカイラル性を有する液晶物質
とを、カイラルスメクチックC相などの強誘電相を示す
ように組合わせた液晶材料が挙げられる。
Examples of the liquid crystal material used in the present invention include low-molecular liquid crystals, polymer liquid crystals, or mixtures thereof that exhibit a nematic phase, cholesteric phase, or smectic phase. Preferably, a ferroelectric liquid crystal material exhibiting a ferroelectric phase such as a chiral smectic C phase with good high-speed response to electric field changes is used. Such ferroelectric liquid crystal materials include, for example, low-molecular ferroelectric liquid crystal compounds, ferroelectric polymer liquid crystals, or liquid crystal materials made of compositions thereof;
Furthermore, a low-molecular or high-molecular non-ferroelectric non-liquid crystal substance or a low-molecular or high-molecular non-ferroelectric liquid crystal substance, and a low-molecular or high-molecular non-liquid crystal substance having chiral properties, or a low-molecular or high-molecular non-liquid crystal substance Examples include liquid crystal materials in which a liquid crystal substance having chiral properties is combined to exhibit a ferroelectric phase such as a chiral smectic C phase.

強誘電性高分子液晶には、例えば、アクリレート主鎖系
高分子液晶、メタクリレート主鎖系高分子液晶、クロロ
アクリレート主鎖系高分子液晶、オキシラン主鎖系高分
子液晶、シロキサン主鎖系高分子液晶、エステル主鎖系
高分子液晶などが含まれる。
Examples of ferroelectric polymer liquid crystals include acrylate main chain polymer liquid crystals, methacrylate main chain polymer liquid crystals, chloroacrylate main chain polymer liquid crystals, oxirane main chain polymer liquid crystals, and siloxane main chain polymer liquid crystals. Includes liquid crystals, ester main chain polymer liquid crystals, etc.

アクリレート主鎖系高分子液晶の繰り返し単位としては
、例えば、 (A) (B) などが挙げられる。
Examples of repeating units of the acrylate main chain polymer liquid crystal include (A) and (B).

メタクリレート主鎖系高分子液晶の繰り返し単位として
は、例えば、 (C) CH3 (D) などが挙げられる。
Examples of the repeating unit of the methacrylate main chain polymer liquid crystal include (C) CH3 (D).

クロロアクリレート主鎖系高分子液晶の繰り返し単位と
しては、 例えば、 (E) などが挙げられる。
Examples of the repeating unit of the chloroacrylate main chain polymer liquid crystal include (E).

オキシラン主鎖系貰分子液晶の繰り返し単位としては、 例えば、 (F) などが挙げられる。The repeating unit of the oxirane main chain-based molecular liquid crystal is as follows: for example, (F) Examples include.

シロキサン主鎖系高分子液晶の繰り返し単位としては、 例えば、 (G) CH3 などが挙げられる。The repeating unit of the siloxane main chain polymer liquid crystal is as follows: for example, (G) CH3 Examples include.

エステル主鎖系高分子液晶の繰り返し単位としでは、 例えば、 (H) (I) (J) などが挙げられる。As a repeating unit of ester main chain polymer liquid crystal, for example, (H) (I) (J) Examples include.

なお、上記の強誘電性高分子液晶の繰り返し単位は、側
鎖の骨格がビフェニル骨格、フェニルベンゾエート骨格
、ビフェニルベンゾエート骨格、フェニル4−フェニル
ベンゾエート骨格で置き換えられてもよく、これらの骨
格中のベンゼン環が、ピリミジン環、ピリジン環、ピリ
ダジン環、ピラジン環、テトラジン環、シクロヘキサン
環、ジオキサン環、ジオキサボリナン環で置き換えられ
てもよく、フッ素、塩素などのハロゲン基あるいはシア
ノ基で置換されてもよく、1−メチルアルキル基、2−
フルオロアルキル基、2−クロロアルキル基、2−クロ
ロ−3−メチルアルキル基、2−トリフルオロメチルア
ルキル基、1−アルコキシカルボニルエチル基、2−ア
ルコキシ−1−メチルエチル基、2−アルコキシプロピ
ル基、2−クロロ−1−メチルアルキル基、2−アルコ
キシカルボニル−1−トリフルオロメチルプロピル基な
どの光学活性基あるいはエステル結合、エーテル結合を
介してこれらの光学活性基で置き換えられてもよく、ま
たスペーサの長さは、メチレン鎖長が1〜30の範囲で
変化してもよい。
In addition, in the repeating unit of the above-mentioned ferroelectric polymer liquid crystal, the side chain skeleton may be replaced with a biphenyl skeleton, a phenylbenzoate skeleton, a biphenylbenzoate skeleton, or a phenyl 4-phenylbenzoate skeleton, and benzene in these skeletons The ring may be substituted with a pyrimidine ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrazine ring, tetrazine ring, cyclohexane ring, dioxane ring, dioxaborinane ring, or may be substituted with a halogen group such as fluorine or chlorine, or a cyano group, 1-methylalkyl group, 2-
Fluoroalkyl group, 2-chloroalkyl group, 2-chloro-3-methylalkyl group, 2-trifluoromethylalkyl group, 1-alkoxycarbonylethyl group, 2-alkoxy-1-methylethyl group, 2-alkoxypropyl group , 2-chloro-1-methylalkyl group, 2-alkoxycarbonyl-1-trifluoromethylpropyl group, etc., or may be substituted with these optically active groups via an ester bond or an ether bond. The length of the spacer may vary from 1 to 30 methylene chain lengths.

また、上記強誘電性高分子液晶は数平均分子量が1,0
00〜400.000のものが使用できる。
Further, the above ferroelectric polymer liquid crystal has a number average molecular weight of 1.0
00 to 400.000 can be used.

強誘電性低分子液晶化合物としては、例えばシッフ塩基
系強誘電性低分子液晶化合物、アゾ及びアゾキシ系強誘
電性低分子液晶化合物、ビフェニル及びアロマティフク
スエステル系強誘電性低分子液晶化合物、ハロゲン、シ
アノ基等の環置換基を導入した強誘電性低分子液晶化合
物、複素環を有する強誘電性低分子液晶化合物などが挙
げられる。
Examples of ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds include Schiff base-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds, azo and azoxy-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds, biphenyl and aromatifux ester-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds, and halogen-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds. , a ferroelectric low-molecular liquid crystal compound into which a ring substituent such as a cyano group has been introduced, a ferroelectric low-molecular liquid crystal compound having a heterocycle, and the like.

シック塩基系強誘電性低分子液晶化合物としては、 例えば、 次に示す化合物(1) 〜 (4) が挙 げられる。As a thick basic ferroelectric low molecular weight liquid crystal compound, for example, Compound (1) shown below ~ (4) is raised can be lost.

(1) 113 5〜10. 12、 4 (2) 7〜10、 1 (3) n= 7. 8、 4 (4) 2 4. 8、 2 アゾ及びアゾキシ系強誘電性低分子液晶化合物としては
、例えば次に示す(5)、(6)が挙げられる。
(1) 113 5-10. 12, 4 (2) 7-10, 1 (3) n=7. 8, 4 (4) 2 4. 8.2 Examples of the azo and azoxy-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds include the following (5) and (6).

(5) n:′: 4、 (6) n= 16 ビフェニル及びアロマティックスエステル系強誘電性低
分子液晶化合物としては、例えば、次に示す化合物(7
)、(8)が挙げられる。
(5) n:': 4, (6) n=16 Examples of biphenyl and aromatics ester-based ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds include the following compounds (7
) and (8).

(7) n“ (8) n=  8 ハロゲン、シアノ基等の環置換基を導入した強誘電性低
分子液晶化合物としては、例えば、次に示す化合物(9
)〜(11)が挙げられる。
(7) n" (8) n=8 Examples of ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds into which ring substituents such as halogen and cyano groups are introduced include the following compounds (9
) to (11).

(9) n怠 7、8.10 (10) n冑 (11) n=  4、6 複素環を有する強誘電性低分子液晶化合物としては、例
えば、次に示す化合物(12)、(■3)が挙げられる
(9) n 7, 8.10 (10) n 冑 (11) n = 4, 6 Examples of ferroelectric low-molecular liquid crystal compounds having a heterocycle include the following compounds (12), (■3 ).

(12) (13) n=  7、8.11 なお、前記化合物は、強誘電性低分子液晶化合物の代表
的な化合物であり、本発明の強誘電性低分子液晶化合物
はなんら、これらの構造式に限定されるものではない。
(12) (13) n = 7, 8.11 The above compound is a typical compound of a ferroelectric low-molecular liquid crystal compound, and the ferroelectric low-molecular liquid crystal compound of the present invention does not have any of these structures. It is not limited to the formula.

さらに、上記の液晶材料には、液晶素子の機械的強度の
向上、曲げ配向処理などに対する配向性を改善するため
に、非液晶性のポリマーを0〜60重量%加えてもよい
。加えるポリマーとしては、熱可塑性樹脂や架橋性樹脂
が用いられ、特に接着剤が好適である。
Furthermore, 0 to 60% by weight of a non-liquid crystal polymer may be added to the above-mentioned liquid crystal material in order to improve the mechanical strength of the liquid crystal element and the alignment properties against bending alignment treatment. As the polymer to be added, thermoplastic resins and crosslinkable resins are used, and adhesives are particularly suitable.

熱可塑性樹脂としては、Tgが好ましくは30°C以上
のもの、さらに好ましくは70°C以上のものが用いら
れる。
The thermoplastic resin used preferably has a Tg of 30°C or higher, more preferably 70°C or higher.

具体的には、ポリ塩化ビニル、ポリ臭化ビニル、ポリフ
ッ化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビ
ニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−プロピレン共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニ
ル−ブタジェン共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エス
テル共!!合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合
体、塩化ビニル−スチレン−アクリロニトリル三元共重
合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル共重合
体、ポリ塩化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン
、ポリテトラフルオロクロルエチレン、ポリフッ化ビニ
リデン等のハロゲン化ビニル重合体又は共重合体; ポリビニルアルコール、ポリアリルアルコール、ポリビ
ニルエーテル、ポリアリルエーテル等の不飽和アルコー
ル若しくはエーテルの重合体又は共重合体; アクリル酸若しくはメタアクリル酸等不飽和カルボン酸
の重合体又は共重合体; ポリ酢酸ビニル等のポリビニルエステル、ポリフタル酸
等のポリアリルエステル等のアルコール残基中に不飽和
結合をもつものの重合体又は共重合体; ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、
マレイン酸エステル若しくはフマル酸エステルの重合体
等の酸残基又は酸残基とアルコール残基中に不飽和結合
をもつものの重合体あるいは共重合体; アクリロニトリル若しくはメタアクリロニトリルの重合
体又は共重合体、ポリシアン化ビニリデン、マロノニト
リル若しくはフマロニトリルの重合体又は共重合体等の
不飽和ニトリル重合体あるいは共重合体; ポリスチレン、ポリα−メチルスチレン、ポリp−メチ
ルスチレン、スチレン−α−メチルスチレン共重合体、
スチレン−p−メチルスチレン共11体、ポリビニルベ
ンゼン、ポリハロゲン化スチレン等の芳香族ビニル化合
物の重合体又は共重合体; ポリビニルピリジン、ポリ−N−ビニルピロリジン、ポ
リ−N−ビニルピロリドン等の複素環式化合物の重合体
又は共重合体; ポリカーボネート等のポリエステル縮合物、ナイロン7
、ナイロン6.6等のポリアミド縮合物; 無水マレイン酸、無水フマール酸及びそのイミド化物を
含む重合体又は共重合体; ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、
ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリスルホン、ポリニーテルモル永ン、ボリアリレ
ート等の耐熱性有機高分子等が挙げられる。
Specifically, polyvinyl chloride, polyvinyl bromide, polyvinyl fluoride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-ethylene copolymer, vinyl chloride-propylene copolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer Coalescence, vinyl chloride-butadiene copolymer, vinyl chloride-acrylic acid ester copolymer! ! Polymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-styrene-acrylonitrile terpolymer, vinyl chloride-vinylidene chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, polytetrafluoroethylene, polytetrafluorochloroethylene, polyfluoroethylene Halogenated vinyl polymers or copolymers such as vinylidene chloride; Polymers or copolymers of unsaturated alcohols or ethers such as polyvinyl alcohol, polyallyl alcohol, polyvinyl ether, polyallyl ether; Unsaturated alcohols such as acrylic acid or methacrylic acid Polymers or copolymers of saturated carboxylic acids; Polymers or copolymers of polyvinyl esters such as polyvinyl acetate, polyallyl esters such as polyphthalic acid, etc. that have unsaturated bonds in their alcohol residues; Polyacrylic esters , polymethacrylic acid ester,
Polymers or copolymers of acid residues such as polymers of maleic acid esters or fumaric acid esters, or polymers or copolymers of acid residues and alcohol residues having unsaturated bonds; polymers or copolymers of acrylonitrile or methacrylonitrile; Unsaturated nitrile polymers or copolymers such as polyvinylidene cyanide, malononitrile or fumaronitrile polymers or copolymers; polystyrene, polyα-methylstyrene, polyp-methylstyrene, styrene-α-methylstyrene copolymers,
Polymers or copolymers of aromatic vinyl compounds such as styrene-p-methylstyrene co-11, polyvinylbenzene, polyhalogenated styrene; complexes such as polyvinylpyridine, poly-N-vinylpyrrolidine, poly-N-vinylpyrrolidone, etc. Polymers or copolymers of cyclic compounds; polyester condensates such as polycarbonate, nylon 7
, polyamide condensates such as nylon 6.6; polymers or copolymers containing maleic anhydride, fumaric anhydride, and imidized products thereof; polyamide-imide, polyetherimide, polyimide,
Examples include heat-resistant organic polymers such as polyphenylene oxide, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyniterol, polyarylate, and the like.

接着剤としては、単独で用いられるものも、また液晶材
料中に配合して用いられるものも、いずれも接着剤とし
て通常用いられている高分子物質、例えばエポキシ系接
着剤、アクリル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ホッ
トメルト型接着剤、エラストマー型接着剤を挙げること
ができる。
The adhesive may be used alone or mixed into a liquid crystal material, and may be a polymeric substance commonly used as an adhesive, such as an epoxy adhesive, an acrylic adhesive, Examples include polyurethane adhesives, hot melt adhesives, and elastomer adhesives.

さらに、多色性色素、減粘剤等の添加剤が添加されてい
てもよい。
Furthermore, additives such as pleochroic dyes and viscosity reducing agents may be added.

多色性色素としては、スチリル系、アゾメチン系、アゾ
系、ナフトキノン系、アントラキノン系、メロシアニン
系、ベンゾキノン系、テトラジン系の色素が挙げられる
Examples of pleochroic dyes include styryl, azomethine, azo, naphthoquinone, anthraquinone, merocyanine, benzoquinone, and tetrazine dyes.

本発明において基板としては通常予め電極が設けられて
いるものが用いられる。
In the present invention, a substrate on which electrodes are normally provided is used as the substrate.

基板の基材としては、好ましくは透明性の材料が用いら
れる。例えばガラス、あるいは、−軸又は二軸延伸ポリ
エチレンテレフタレート等の結晶性ポリマー、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン等の非結晶性ポリマー、ポ
リエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ
カーボネート、ナイロン等のポリアミドなどのプラスチ
ックが用いられる。プラスチック製可撓性基板は連続生
産に適しているので好ましく用いられる。電極としては
金属、金属酸化物、有m導電物質等なんでもよいが、液
晶光学素子として用いる場合には透明性を有する電極が
好ましい。透明電極としては酸化スズを被着させたN 
E S A膜、酸化スズと酸化インジウムよりなるI’
l’O膜等が用いられる。これらの電極は、公知の各種
の手法、例えば、スパッタリング法、蒸着法、印刷法、
塗布法、メツキ法、接着法等又はこれらを適宜組み合わ
せた手法を用いて、上記のガラス、プラスチック等の基
材の上に設けることができる。更にこれらの電極は予め
所望の形状にパターンニングされていてもよい。
As the base material of the substrate, preferably a transparent material is used. For example, glass or plastics such as crystalline polymers such as -axially or biaxially oriented polyethylene terephthalate, amorphous polymers such as polysulfone and polyethersulfone, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polycarbonate, and polyamides such as nylon are used. . Plastic flexible substrates are preferably used because they are suitable for continuous production. The electrode may be made of any metal, metal oxide, conductive material, etc., but transparent electrodes are preferred when used as a liquid crystal optical element. The transparent electrode is N coated with tin oxide.
E S A film, I' made of tin oxide and indium oxide
A l'O film or the like is used. These electrodes can be fabricated using various known methods such as sputtering, vapor deposition, printing,
It can be provided on the above-mentioned base material such as glass or plastic using a coating method, a plating method, an adhesive method, or a suitable combination of these methods. Furthermore, these electrodes may be patterned in advance into a desired shape.

上記の液晶材料を加熱するか又は液晶材料に溶媒を加え
、液晶材料の粘度を低下させて液滴化することが好まし
い。液晶材料の加熱は液晶材料の粘度が霧状にできる程
度の温度への加熱ならよく、例えば液晶材料が各種液晶
相を示す温度や等吉相を示す温度又は液晶相と等吉相と
の混相を示す温度に加熱する。好ましくは粘度が非常に
小さくなる等吉相を示す温度に加熱する。また、液晶材
料に溶媒を加えるときは、必要な液晶材料の粘度、膜厚
に応じて適量の溶媒を加える。加える溶媒としては、例
えば、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルエチルケ
トン、1,1.1−)リクロロエタン、トルエン等液晶
材料を溶解できれば何でもよく、異種の溶媒を混合した
ものでもよい。
It is preferable to heat the above liquid crystal material or add a solvent to the liquid crystal material to reduce the viscosity of the liquid crystal material and form it into droplets. The liquid crystal material may be heated to a temperature such that the viscosity of the liquid crystal material becomes atomized, for example, the temperature at which the liquid crystal material exhibits various liquid crystal phases, a tomochic phase, or a mixed phase of a liquid crystal phase and a tomochic phase. Heat to temperature. Preferably, the mixture is heated to a temperature at which the viscosity becomes extremely low and exhibits an isotonic phase. Furthermore, when adding a solvent to the liquid crystal material, an appropriate amount of solvent is added depending on the required viscosity and film thickness of the liquid crystal material. The solvent to be added may be any solvent that can dissolve the liquid crystal material, such as dichloromethane, chloroform, methyl ethyl ketone, 1,1.1-)lichloroethane, toluene, or a mixture of different solvents.

上記の液晶材料をスプレー又は超音波噴霧器により霧状
に液滴化することが好ましい。このとき、液滴の平均直
径は0.2μmm3IIlInの範囲とする。
It is preferable to form the liquid crystal material into droplets in the form of mist using a spray or an ultrasonic atomizer. At this time, the average diameter of the droplets is in the range of 0.2 μmm 3 IIlIn.

通常液晶素子では液晶材料を数10μm以下の比較的薄
い膜にする必要があるので霧状の液滴は比較的小さいほ
うが好ましく、特に好ましくは平均直径が0.2μmm
−1OOuの範囲である。平均直径が0.2μm未満で
は製膜の効率が低くなったり、3mを超えると溶媒蒸発
後も十分薄い膜とすることが難しくなったりすることが
ある。
Normally, in a liquid crystal element, the liquid crystal material needs to be made into a relatively thin film of several tens of micrometers or less, so it is preferable that the atomized droplets be relatively small, particularly preferably an average diameter of 0.2 micrometers.
-1OOu range. If the average diameter is less than 0.2 μm, the efficiency of film formation may be low, and if it exceeds 3 m, it may be difficult to form a sufficiently thin film even after solvent evaporation.

スプレーにより霧状に液滴化する方法は、通常の、空気
などの気体を高圧状態にしてノズルから液晶材料又はそ
の溶液を噴射させる方法である。
The method of forming droplets into a mist by spraying is a method in which a gas such as air is brought into a high pressure state and the liquid crystal material or its solution is injected from a nozzle.

このとき、ノズルの形状、径などは特に制限はな〈従来
のものを好適に使用できる。ノズルの個数も制限はなく
、基板上に均一に製膜する場合には基板の幅などに応じ
て複数個並べてもよい、また、必要に応じて膜厚に変化
をつける場合にはノズルの配置を例えば厚くしたい部分
に多く設置する。
At this time, the shape and diameter of the nozzle are not particularly limited; conventional ones can be suitably used. There is no limit to the number of nozzles, and if you want to uniformly form a film on the substrate, you can line up multiple nozzles depending on the width of the substrate, or if you want to vary the film thickness as necessary, you can change the nozzle arrangement. For example, place more of them in areas where you want to make them thicker.

液滴の平均直径を0.2μmm3tmの範囲とするには
、ノズルの穴径は数閣以下、気体の圧力は常圧〜5 k
g/cdが好ましい。
In order to make the average diameter of the droplets within the range of 0.2μmm3tm, the nozzle hole diameter should be less than a few degrees, and the gas pressure should be between normal pressure and 5K.
g/cd is preferred.

また、液晶材料に溶媒を加えるときは、溶媒の量も考慮
する。好ましくは溶液濃度が0.5〜80重量%となる
ように加える。濃度が小さすぎると製膜効率が低下した
り、大きすぎると薄い膜厚を得ることが難しくなること
がある。
Also, when adding a solvent to the liquid crystal material, the amount of solvent is also taken into account. Preferably, it is added so that the solution concentration is 0.5 to 80% by weight. If the concentration is too low, the film forming efficiency may decrease, and if the concentration is too high, it may be difficult to obtain a thin film.

更に、生産性よく液晶材料を製膜するには、基板に対し
てスプレーを移動させるか又はスプレーに対して基板を
移動させなから液滴を基板上に堆積させるとよい、基板
のスプレーに対する移動速度により単位面積当たりに堆
積する液滴の量が決まるので、移動速度は所望の膜厚に
より適当に設定する。
Furthermore, in order to form a film of liquid crystal material with high productivity, it is recommended to move the spray relative to the substrate or to deposit the droplets on the substrate without moving the substrate relative to the spray. Since the amount of droplets deposited per unit area is determined by the speed, the moving speed is appropriately set depending on the desired film thickness.

第1図(a)は基板として枚葉基板を用いた場合、第1
図(b)は基板として長尺基板を用いた場合のスプレ一
方式による液晶材料の製膜方法の一例を示す略示図であ
る。
Figure 1(a) shows that when a single wafer substrate is used as the substrate, the first
Figure (b) is a schematic view showing an example of a method for forming a film of a liquid crystal material using a one-spray method when a long substrate is used as the substrate.

第1図(a)の方法では、スプレーのノズル2から噴出
された霧状の液滴lが基板3上に堆積される。
In the method shown in FIG. 1(a), atomized droplets 1 are ejected from a spray nozzle 2 and deposited on a substrate 3. In the method shown in FIG.

このとき基板3は基板搬送ベルト5により搬送され図中
左から右へ移動している。液滴1が堆積され液晶膜4が
形成された基板3はそのまま搬送ベルト5により乾燥や
う旦ネート工程へと搬送される。
At this time, the substrate 3 is transported by the substrate transport belt 5 and is moving from left to right in the figure. The substrate 3 on which the droplets 1 have been deposited and the liquid crystal film 4 has been formed is conveyed as it is by the conveyor belt 5 to a drying and laminating step.

第1図(b)の方法では、スプレーのノズルのアレイ6
から噴出された液滴lが長尺基板7上へ堆積される。こ
のとき長尺基板7は図中左から右へラインの流れ方向に
移動しており、液晶膜4が形成された後、乾燥やう多ネ
ート工程へと流れている。
In the method of FIG. 1(b), an array of spray nozzles 6
The droplets l ejected from the elongated substrate 7 are deposited on the elongated substrate 7. At this time, the long substrate 7 is moving in the flow direction of the line from left to right in the figure, and after the liquid crystal film 4 is formed, it is transferred to a drying and layering process.

第1図は(a)、の)いずれも液滴を上から下へ降らす
方法であるが、その他液ダレ等の防止のため基板の下側
又は横から液滴を噴霧して基板上に堆積させて製膜して
もよい。
Figure 1 shows methods (a) and 2) in which droplets fall from top to bottom, but in order to prevent dripping, droplets are sprayed from the bottom or side of the substrate and deposited on the substrate. The film may be formed by

また、液晶材料の膜質の改善のために、液滴を基板上に
堆積させる際又は堆積させた後、該基板を加熱プレート
又は加熱ローラ等で加熱してもよい。好ましい加熱温度
範囲は、25°C〜150°Cであり、特に好ましくは
溶媒の沸点上数゛Cとすると膜質の加熱による悪化が殆
ど生じない。
Further, in order to improve the film quality of the liquid crystal material, the substrate may be heated with a heating plate, heating roller, etc. when or after the droplets are deposited on the substrate. A preferable heating temperature range is 25° C. to 150° C., and particularly preferably a temperature several degrees Celsius above the boiling point of the solvent, so that the film quality is hardly deteriorated by heating.

更に、液晶材料の液滴を基板上に堆積させる際又は直ち
に溶媒が蒸発して液晶材料が微小ドメインとなって基板
上に堆積する際に、該液滴又は該微小ドメインに磁場又
は電場を印加しである程度配向させることが好ましい。
Furthermore, when depositing droplets of the liquid crystal material on the substrate, or when the solvent immediately evaporates and the liquid crystal material turns into microdomains and is deposited on the substrate, a magnetic field or an electric field is applied to the droplets or the microdomains. It is preferable to provide some degree of orientation.

この操作で後の工程の配向処理等を容易にすることがで
きる。好ましい印加磁場は500〜30,000ガウス
である。
This operation can facilitate the orientation treatment and the like in later steps. The preferred applied magnetic field is between 500 and 30,000 Gauss.

また好ましい印加電場は2〜200MV/mである。Further, a preferable applied electric field is 2 to 200 MV/m.

また、超音波噴霧器により霧状に液滴化する方法は、液
晶材料又はその溶液に超音波振動を印加し、そのエネル
ギーで液晶材料又はその溶液を液滴化して噴霧する方法
である。通常加湿器などに用いられている方法と同じも
のを用いることができる。好ましい印加振動数は20K
Hz〜10MHzである。
Further, a method of forming droplets into a mist using an ultrasonic atomizer is a method in which ultrasonic vibration is applied to a liquid crystal material or its solution, and the liquid crystal material or its solution is formed into droplets using the energy and then sprayed. The same method commonly used for humidifiers can be used. The preferred applied frequency is 20K
Hz to 10 MHz.

超音波噴霧器を用いる方法によると一般にスプレーを用
いる方法より細かな液滴を得られ易い。
A method using an ultrasonic atomizer generally makes it easier to obtain fine droplets than a method using a spray.

細かな液滴は基板に堆積するまでの滞空時間が長く、こ
れが基板上に堆積したときは均一な膜厚の液晶膜が得ら
れる。そのため特に強誘電性液晶材料を用いた場合のよ
うな数μm以下の薄い膜厚の液晶膜を作製する場合に好
適である。
Fine droplets stay in the air for a long time until they are deposited on the substrate, and when they are deposited on the substrate, a liquid crystal film with a uniform thickness is obtained. Therefore, it is particularly suitable for producing a thin liquid crystal film of several micrometers or less, such as when a ferroelectric liquid crystal material is used.

この超音波噴霧器を用いる製膜方法は、第1図(a)及
び(ハ)のスプレー噴霧器を超音波噴霧器に置き換えて
、その他は第1図(a)又は(b)と同じ構成にすると
よい。
For the film forming method using this ultrasonic atomizer, it is preferable to replace the spray atomizers in FIGS. 1(a) and (c) with an ultrasonic atomizer, and otherwise use the same configuration as in FIG. 1(a) or (b). .

あるいは第2図に示す方法も好適に用いられる。Alternatively, the method shown in FIG. 2 may also be suitably used.

第2図の方法では、超音波噴霧器8の噴霧口9から噴霧
された液滴1が基Fia上に堆積される。
In the method shown in FIG. 2, droplets 1 sprayed from the spray port 9 of the ultrasonic sprayer 8 are deposited on the base Fia.

ここでは基板3は枚葉基板であり基板搬送ベルト5によ
り搬送されているが、長尺基板の場合には第1図(ロ)
と同様に搬送ベルトを用いずに基板を移動させることが
できる。10は保護カバーである。
Here, the substrate 3 is a single wafer substrate and is conveyed by a substrate conveyance belt 5, but in the case of a long substrate, it is shown in FIG. 1 (b).
Similarly, the substrate can be moved without using a conveyor belt. 10 is a protective cover.

基板の加熱、液滴への磁場又は電場の印加に関してはス
プレーを用いた場合と同様である。
The heating of the substrate and the application of a magnetic field or electric field to the droplets are the same as in the case of using a spray.

以上、本発明によれば、大面積かつ均一な膜厚の液晶膜
を生産性よく製造することができる。また、製膜装置が
膜面に非接触であるので、液晶膜中へのゴミの混入等を
防止し、製造の歩留まりを向上させることができる。
As described above, according to the present invention, a liquid crystal film having a large area and a uniform thickness can be manufactured with high productivity. Furthermore, since the film forming apparatus does not contact the film surface, it is possible to prevent dust from entering the liquid crystal film and improve manufacturing yield.

〔実施例〕〔Example〕

実施例1 下記の構造と特性を有する高分子液晶を1,1゜1−ト
リクロルエタンに溶解させ3重量%の溶液とした。
Example 1 A liquid crystal polymer having the following structure and properties was dissolved in 1,1°1-trichloroethane to form a 3% by weight solution.

高分子液晶 Mu−15゜ O0 4 32 〔gニガラス状態、SmA :スメクチックA相、Is
o :等吉相] また、市販のキャンオンスプレーを改造し、第3図(a
)に示すようにスプレー1工の容器内を空気圧工3で加
圧できるようにした。このスプレー1工上記の液晶材料
の溶液12を入れて、基板として用いたITO膜付きガ
ラス基板(150m!lX200mX0.8am)から
約50C11離した状態で1゜5 kg/d圧の空気圧
を送りながら霧状の液滴を噴射させ、スプレーを速度v
=2.5cm/秒で基板の長手方向に沿って一方向に移
動させながらITO膜上に液滴を堆積させて製膜した(
第3図(ロ))。
Polymer liquid crystal Mu-15゜O0 4 32 [gniglass state, SmA: smectic A phase, Is
o: Tokichi phase] In addition, a commercially available can-on spray was modified to produce the image shown in Figure 3 (a
), the inside of the container for sprayer 1 can be pressurized using pneumatic equipment 3. In this spray step, the liquid crystal material solution 12 described above was poured into the glass substrate with an ITO film (150 m x 200 m x 0.8 am), which was used as a substrate, at a distance of about 50 C11 while applying an air pressure of 1°5 kg/d. Atomized droplets are ejected at a speed of v
The film was formed by depositing droplets on the ITO film while moving in one direction along the longitudinal direction of the substrate at = 2.5 cm/sec (
Figure 3 (b)).

このとき噴射させた液滴の平均直径は光散乱による測定
から約30μmであった。得られた膜の溶媒蒸発後の膜
厚は約9μmであった。また溶液状態でITO膜付きガ
ラスに塗布するのと異なり、ITO膜面の濡れ性の悪さ
に起因するはじきなどの現象が生じなかったので、基板
全面にわたり均一な膜ができた。
The average diameter of the droplets jetted at this time was about 30 μm as measured by light scattering. The thickness of the obtained film after solvent evaporation was about 9 μm. Also, unlike applying the solution to glass with an ITO film, there was no phenomenon such as repellency caused by poor wettability of the ITO film surface, so a uniform film could be formed over the entire surface of the substrate.

実施例2 実施例1と同じ手段を用い、基板として長尺のfTO膜
付きPES (ポリエーテルスルホン)基板を用い、そ
のITO膜上に液滴を堆積させて製膜した。ここではス
プレーを移動させるかわりに長尺の基板を一定速度10
CII/秒で長手方向に移動させた。ガラス基板の場合
と同様に得られた膜面ば滑らかであり、膜厚は4.5μ
m±0.3 a mと均一であった。
Example 2 Using the same means as in Example 1, a long fTO film-attached PES (polyethersulfone) substrate was used as the substrate, and droplets were deposited on the ITO film to form a film. Here, instead of moving the spray, the long substrate is moved at a constant speed of 10
It was moved longitudinally at CII/sec. As with the glass substrate, the obtained film surface was smooth and the film thickness was 4.5μ.
It was uniform at m±0.3 am.

実施例3 下記の構造と特性を有する強誘電性液晶と下記のエポキ
シ樹脂とを下記の割合で混合し、ジクロルメタンの5M
量%溶液とした。
Example 3 A ferroelectric liquid crystal having the structure and characteristics shown below and an epoxy resin shown below were mixed in the ratio shown below, and 5M dichloromethane was mixed.
It was made into a volume% solution.

強誘電性液晶 (cry:結晶相、SmC“ ニカイラルスメクチック
C相、N9:カイラルネマチック相〕エポキシ樹脂 油化シェルエポキシ■製 エピコート834 (主剤)/エボメートQX−12(
硬化剤)=2:1(重量比) 強誘電性液晶:エポキシ樹脂=4:IC重量比)超音波
噴霧器として市販の空気加湿器を用いて第2図に示した
ような装置を作製した。基板として予めポリイミドを塗
布してラビング処理したITOg付き一軸延伸PET基
板(厚み1ool1m、[300am)を用い、ライン
速度2cya/秒で長手方向に移動させながら、このI
TO膜上に超音波噴霧器から噴射された液滴を堆積させ
て製膜した。
Ferroelectric liquid crystal (cry: crystalline phase, SmC" nichiral smectic C phase, N9: chiral nematic phase) made of epoxy resin oil shell epoxy ■ Epikote 834 (base material) / Evomate QX-12 (
A device as shown in FIG. 2 was prepared using a commercially available air humidifier as an ultrasonic atomizer. Using a uniaxially stretched PET substrate with ITOg (thickness 1ool1m, [300am) that had been coated with polyimide and rubbed in advance as a substrate, this I
A film was formed by depositing droplets sprayed from an ultrasonic atomizer onto the TO film.

このとき、噴射された液滴の平均直径は18μmであっ
た。
At this time, the average diameter of the ejected droplets was 18 μm.

次いで液晶膜が製膜された基板を50°Cに加熱した乾
燥炉に通して溶媒を蒸発させ、その後一対の加圧ローラ
で同様の基板を液晶膜上にラミネートした。次いで直径
10100aの加熱ローラで液晶膜が製膜された基板を
瞬時に180″Cに加熱し、約20°C/分の速度で1
60°Cまで冷却した。液晶材料が結晶化する前にすぼ
や<5cm角を切り出してクロスニコル下で観察したと
ころ、色むらの全く認められない極めて均一な膜が得ら
れていた。
Next, the substrate on which the liquid crystal film was formed was passed through a drying oven heated to 50° C. to evaporate the solvent, and then a similar substrate was laminated onto the liquid crystal film using a pair of pressure rollers. Next, the substrate on which the liquid crystal film was formed was instantaneously heated to 180"C using a heating roller with a diameter of 10100a, and the temperature was increased to 180"C at a rate of about 20C/min.
Cooled to 60°C. Before the liquid crystal material crystallized, a square <5 cm was cut out and observed under crossed nicols, and an extremely uniform film with no color unevenness was obtained.

液晶材料の膜厚は複屈折効果による着色のスペクトル測
定から求めたところ4.2μmであった。また、他の場
所から切り取ったものすべての膜厚を調べたところ4.
2μm±0.2μmの範囲であり、膜厚均一性に優れて
いることが明らかであった。
The film thickness of the liquid crystal material was found to be 4.2 μm as determined from spectrum measurement of coloring due to birefringence. Also, when we examined the film thickness of all the films cut out from other places, we found 4.
The thickness was in the range of 2 μm±0.2 μm, and it was clear that the film thickness uniformity was excellent.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の液晶材料の製膜方法によると、大面積かつ均一
な膜厚め液晶膜を生産性よく製造することができる。ま
た、製膜装置が膜面に非接触であるので、液晶膜中への
ゴミの混入等を防止し、製造の歩留まりを向上させるこ
とができる。
According to the method for forming a liquid crystal material film of the present invention, a large-area, uniform, and thick liquid crystal film can be manufactured with high productivity. Furthermore, since the film forming apparatus does not contact the film surface, it is possible to prevent dust from entering the liquid crystal film and improve manufacturing yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)及び第1図(b)はスプレ一方式による液
晶材料の製膜方法の一例を示す略示図である。第2図は
超音波噴霧器を用いる製膜方法の一例を示す略示図であ
る。第3図(a)は空気圧で容器内を加圧できるスプレ
ーの略示図であり、第3図(b)は該スプレーを用いた
製膜方法の一例を示す略示図である。 符号の説明 液滴       2 スプレーのノズル基板    
   4 形成された液晶膜基板搬送ベルト スプレーのノズルのアレイ 長尺基板 超音波噴霧器 噴霧口      10 保護カバー スプレー    12 溶液 空気圧
FIGS. 1(a) and 1(b) are schematic diagrams showing an example of a method for forming a film of a liquid crystal material using a one-way spray method. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a film forming method using an ultrasonic atomizer. FIG. 3(a) is a schematic illustration of a spray that can pressurize the inside of a container with air pressure, and FIG. 3(b) is a schematic illustration of an example of a film forming method using the spray. Symbol explanation Droplet 2 Spray nozzle board
4 Formed liquid crystal film substrate conveyor belt spray nozzle array long substrate ultrasonic atomizer spray nozzle 10 Protective cover spray 12 Solution air pressure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、液晶材料を霧状に液滴化し、得られた液滴を基板上
に堆積させて製膜する液晶材料の製膜方法。 2、液晶材料をスプレー又は超音波噴霧器により霧状に
液滴化する請求項1記載の液晶材料の製膜方法。 3、液晶材料を加熱するか又は液晶材料に溶媒を加えて
液滴化する請求項1又は2記載の液晶材料の製膜方法。 4、液滴を基板上に堆積させる際又は堆積させた後、該
基板を加熱する請求項1、2又は3記載の液晶材料の製
膜方法。 6、液滴を基板上に堆積させる際、該基板を移動させな
がら該液滴を堆積させる請求項1ないし5いずれか記載
の液晶材料の製膜方法。 7、液滴の平均直径が0.2μm〜3mmの範囲である
請求項1ないし6いずれか記載の液晶材料の製膜方法。 8、液晶材料が強誘電性を示すものである請求項1ない
し7いずれか記載の液晶材料の製膜方法。 9、基板が可撓性基板である請求項1ないし8いずれか
記載の液晶材料の製膜方法。
[Scope of Claims] 1. A method for forming a film of a liquid crystal material by forming a liquid crystal material into droplets in the form of mist and depositing the resulting droplets on a substrate. 2. The method for forming a film of a liquid crystal material according to claim 1, wherein the liquid crystal material is atomized into droplets using a spray or an ultrasonic atomizer. 3. The method for forming a film of a liquid crystal material according to claim 1 or 2, wherein the liquid crystal material is heated or a solvent is added to the liquid crystal material to form droplets. 4. The method for forming a film of a liquid crystal material according to claim 1, 2 or 3, wherein the substrate is heated during or after depositing the droplets on the substrate. 6. The method for forming a film of a liquid crystal material according to claim 1, wherein the droplets are deposited on the substrate while moving the substrate. 7. The method for forming a film of a liquid crystal material according to any one of claims 1 to 6, wherein the average diameter of the droplets is in the range of 0.2 μm to 3 mm. 8. The method for forming a film of a liquid crystal material according to any one of claims 1 to 7, wherein the liquid crystal material exhibits ferroelectricity. 9. The method for forming a film of a liquid crystal material according to any one of claims 1 to 8, wherein the substrate is a flexible substrate.
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