JPH0331451A - 極高真空機器用ステンレス鋼 - Google Patents

極高真空機器用ステンレス鋼

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JPH0331451A
JPH0331451A JP16543289A JP16543289A JPH0331451A JP H0331451 A JPH0331451 A JP H0331451A JP 16543289 A JP16543289 A JP 16543289A JP 16543289 A JP16543289 A JP 16543289A JP H0331451 A JPH0331451 A JP H0331451A
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stainless steel
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steel
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hydrogen gas
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Toshiro Yamashina
山科 俊郎
Akira Toyama
晃 遠山
Yusuke Minami
雄介 南
Takemi Yamada
山田 武海
Hiroyasu Takizawa
滝沢 広保
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JFE Engineering Corp
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NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は粒子加速器、理化学機器、半導体製造用、或
いは医療機器用等に用いられている極高真空(P(10
−’Pa)〜極高真空(P<10−”Pa)装置を構成
するチャンバ・配管・バルブ・フランジ・ベローズ・エ
ルボ等の構造部材として用いられているステンレス鋼に
関する。
〔従来の技術〕
超LSI等の半導体製造に用いられる製造装置や電子顕
微鏡・粒子加速器等の理化学機器等における真空装置を
構成するチャンバ・配管・バルブ・フランジ・ベローズ
・エルボ・容器等には、5US316L、5US304
等のステンレス鋼若しくはアルミニウム合金等の非鉄金
属が用いられている0例えば、超LSI製造技術におい
て反応チャンバ表面の耐食性及び耐イオン衝撃性を高め
た超高真空装置に接続した超クリーンガス供給用配管に
は、5US316Lステンレス鋼が用いられている。こ
のガス供給系や反応チャンバ内面からの放出ガスを極小
にするために、接ガス部表面を電解研磨することにより
、加工変質層を伴わない鏡面に仕上げている。また最近
では材料内の吸蔵ガス自体を減少させるために、2度真
空溶解を行なった5US316Lステンレス鋼が用いら
れている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の超高真空装置に用いられている構造材料は、上述
のように、ステンレス鋼とアルミニラム合金であるが、
半導体製造装置、核融合装置等の各種先端技術関係の真
空装置は、このような構造材料から放出されるガスの種
類・量・放出率によって大きな影響を受ける。従って材
料のガス放出については多くの研究がなされてきた。こ
れまでの研究から、超高真空領域(圧力P(10−’P
a)以下の圧力を構成する真空機器においては、材料か
ら放出されるガスの主役は水素であることがわかってお
り、その結果、現状の真空装置に用いられる材料として
は、(a)表面吸着の制御のために、接ガス部表面を電
解研磨若しくは電解複合研磨を行なって接ガス面積を小
さくし、(b) 200℃以上の高温でプレベーキング
した後、(c)接ガス部表面を酸化皮膜処理を行なう等
の表面処理を行なったステンレス鋼が用いられている。
しかし、装置の形状によっては高温プレベーキングが難
しい場合もあり、また表面処理を接ガス部全面に均一に
行なうことが難しいため。
必ずしも最良の条件を満たすことはできない。
更に、プレベーキング・表面処理といった作業は特別な
装置を必要とし、コストが上昇すると共に時間もかかる
という問題点があった。
一方、特願昭62−λ82252号では、(ア)鋼中の
非金属介在物は電解研磨により脱落してピンホールとな
るということや、(イ)非金属介在物の周囲に水素原子
がトラップされ、見掛は上の水素固溶度が低くなっても
局部的な水素の滞り場が形成され、拡散も速いというこ
とが明らかにされ、これらのことから鋼中の非金属介在
物は水素ガス放出に深く関っており、該非金属介在物を
低減させてやることにより、材料からの放出ガスの減少
速度が速くなるということが見い出されている。
しかし、鋼中の非金属介在物を″ゼロ”にすることはで
きず、また極端に低減することは製鋼コストの上昇を招
くと共に、生産上の管理も困離である。という問題点が
ある。
本発明は以上のような問題に鑑み創案されたもので、こ
れまでのプレベーキング・表面処理等を行なわなくても
、或いは非金属介在物の極端な低減を図らなくても、水
素ガスの放出率を低く抑えることができるステンレス鋼
を開発し、極高真空機器用の構造材料として提供せんと
するものである。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の創案に当っては、水素ガス放出の原因を次のよ
うに仮定し、これを本発明の開発のベースとした。
第2図に模式的に示されるように、■接ガス部表面に散
在している非金属介在物(1)は、電解研磨加工とか電
解複合研磨等の表面処理を受けることにより脱落する。
そのため、微細などンホール(2)があとに残り、吸着
ガスの滞り場となる。又、■材料内部の非金属介在物(
1)は水素原子(3)をトラップするため、非金属介在
物(1) j!l囲の水素濃度が高く拡散も速くなる。
従って材料に固溶している水素原子(3)とこれらトラ
ップされている水素原子(3)とが材料り水素ガス放出
率を決める要素となる。
本発明者らは、このような推測から、その周りに水素原
子をトラップする鋼中の非金属介在物の量と鋼中の水素
含有量とが水素ガスの放出に何らかの関連性があると考
え、次のような実験を行なってこれらの関連性を明らか
にした。
即ち、本発明者らの行なった実験は、種々の溶解方法を
用いて、鋼中の非金属介在物量と鋼中の水素含有量とが
異なるステンレス鋼の水素ガス放出率を測定するという
ものである。その結果、ステンレス鋼からの水素ガス放
出率は、鋼中の非金属介在物と水素含有量とから推定で
きることが判明した。
従って、ステンレス鋼中の水素含有量と、該ステンレス
鋼の非金属介在物とを制御することができれば、水素ガ
ス放出率を著しく低減することができるであろうとの推
測がなされ、更に、上記の実験結果から、極高真空機器
用の構造材料として望ましい水素ガス放出率まで低減化
せしめるために必要な上記水素含有量と非金属介在物の
制御条件が求められた。
本発明はこのような制御条件の究明から得られたもので
、次のような構成を有している。
即ち1本発明のステンレス鋼は、鋼中の水素含有量〔H
〕(単位: ppm)と、鋼中の非金属介在物量〔I〕
(単位:個l■8)とが次式を満足する成分組成を有す
ることを特徴としている。
1〉α(H)+β(I) a=2.16X1G−”    (1/ppm)β=3
.76X10−”  (131個)ここで非金属介在物
量は、ステンレス鋼部材の圧延方向断面において、40
0倍の光学顕微鏡にて少なくとも1000以上の面積に
観察された非金属介在物の個数の単位面積当りの個数を
いう。
尚、上述した鋼中の水素含有量を制御する方法には、真
空溶解時の原料選別・操作条件制御等によるものや、鋼
塊若しくは圧延鋼材において熱処理する方法がある。又
、鋼中の非金属介在物量を制御する方法には、鋼中の不
純物元素の低減・ガス成分の低減を図るものや、溶解及
び鋳造時の雰囲気制御を行なう方法がある。
以下、実施例について説明するが、本発明は以下の実施
例に限定されるものではなく、前後の趣旨に照らして適
宜設計変更をなすことは本発明の技術的範囲に含まれる
ものである。
〔実施例〕
以下、本発明の具体的実施例につき説明する。
下記第1表に示す組成の鋼を大気溶解炉・真空溶解炉・
真空アーク炉等を用いて溶解した。
そして造塊−熱間圧延により10閣厚さの熱延板とした
。その後冷間圧延により3m厚さの冷延板とし、固溶化
処理を施した。肉厚中央部より化学成分分析用サンプル
を採取して、水素含有量を分析した。又、圧延方向と平
行断面の非金属介在物測定用サンプルを採取した。非金
属介在物測定は、400倍の光学顕微鏡を用いて、10
■3以上の面積について実際に非金属介在物を大きさ毎
にカウントし、総数を1■2当りの個数で平均するカウ
ント法によって行なった。この測定中に観察された比較
鋼サンプルの非金属介在物の状態から、鋼内部の非金属
介在物(3)は丁度前記第2図に示されたような状態で
あろうと考えられる。一方、本発明鋼サンプルでamさ
れた非金属介在物の状態から推測すると、第1図に示さ
れるように、極めて径の小さな非金属介在物(3)がそ
の周りに微量の水素原子(1)をトラップした状態で鋼
中に疎らに存在しているものと思われる。
一方、冷延板より10xlOxl (■)の平板を採取
し、全表面を電解研磨加工により鏡面仕上げとし、水素
ガス放出率測定サンプルとした。
最も重要な特性である水素ガス放出率測定は、以下の手
法で行なった。前述のサンプルを1×10−’ tor
rの圧力に保たれている測定室中に導入したのち、10
00℃に加熱均熱し、表面に吸着している炭素、酸素、
水蒸気等の吸着分子を除去する。その後、室温に冷却し
、その時7点における水素ガス分圧を四重極質量分析計
にて計測する。一方、試料室表面から放出される水素ガ
ス分圧を、バックグラウンドとしてサンプルを装入せず
に同一の履歴にて測定し、補正を行なう、四重極貧量分
析計にて求まるIntensity(電流値:単位A・
・・アンペア)に、四重極質量分析計の水素ガスに対す
る感度係数R(単位=torr/A )と排気系の水素
ガスに対する排気速度S(単位: トhec)を乗じた
のち、サンプルの表面積(単位:am”)で除してやる
ことにより、水素ガスの放出率(単位: torr−Q
 /Sec−am” )が求まる。
以上のようにして求めた結果を下記第2表及び第3図に
示す、第2表は、本発明鋼及び比較鋼の各々の水素ガス
放出率と比較鋼Bの水素ガス放出率を1とした場合の放
出率比を示しており、又第3図はX軸座標にα(H)+
β(I)を、X軸座標に前記放出率比を採ってグラフ化
したものである。
第 表 以上の第2表と第3図から、本発明鋼は比較鋼に比べて
水素ガス放出率が低く、放出ガス特性が極めて優れてい
ることが判る。
〔発明の効果〕
以上述べた本発明の極高真空機器用ステンレス鋼を用い
て、真空装置を構成すれば、鋼中から放出される水素ガ
スを極めて低減化することが可能となり、真空装置の性
能を著しく向上させることができる。このような利点に
加え、ガス放出率の低減化の予測が可能となり、ブレベ
ーキング条件を緩和することができること、及び装置を
構成する材料の品質管理ができること等から、製作コス
トも低くすることができる。
更には、ベーキングを制約される形状の部品の性能も向
上せしめることができるため、真空系全体の性能向上が
期待できることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のステンレス鋼内部における非金属介在
物の状態を模式的に示す説明図、第2図は従来のステン
レス鋼内部における非金属介在物の状態を同じく模式的
に示す説明図−1第3図は本発明の実施例における水素
ガス放出率測定結果を示すグラフ図である。 第1iEl 第3図 第  2  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ステンレス鋼中の水素含有量〔H〕(単位:ppm)と
    、同じくステンレス鋼中の非金属介在物量〔 I 〕(単
    位:個/mm^2)とが次式を満足する成分組成を有す
    ることを特徴とする極高真空機器用ステンレス鋼。 1>α〔H〕+β〔 I 〕 α=2.16×10^−^2(1/ppm)β=3.7
    6×10^−^2(mm^2/個)
JP1165432A 1989-06-29 1989-06-29 極高真空機器用ステンレス鋼 Expired - Fee Related JPH0762219B2 (ja)

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