JPH0329738Y2 - - Google Patents
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- JPH0329738Y2 JPH0329738Y2 JP11499284U JP11499284U JPH0329738Y2 JP H0329738 Y2 JPH0329738 Y2 JP H0329738Y2 JP 11499284 U JP11499284 U JP 11499284U JP 11499284 U JP11499284 U JP 11499284U JP H0329738 Y2 JPH0329738 Y2 JP H0329738Y2
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Landscapes
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は浸透探傷装置に係るものであり、詳し
くは鋳造品、機械部品等の表面の微細な開口欠陥
部の探傷に汎用されている浸透探傷法の施行に際
して用いられる装置に係るものであつて、浸透探
傷法が採用されている分野において広く利用され
る。
くは鋳造品、機械部品等の表面の微細な開口欠陥
部の探傷に汎用されている浸透探傷法の施行に際
して用いられる装置に係るものであつて、浸透探
傷法が採用されている分野において広く利用され
る。
周知の通り、浸透探傷法の代表的な施行態様は
次の通りである。
次の通りである。
先づ、被検査物表面の油汚れ等を有機溶剤等を
用いて洗浄して清浄にする前洗浄操作が行われ、
洗浄された該検査物表面に、染料(通常、赤色又
は螢光染料)を溶剤(通常、石油系混合溶剤、芳
香族系溶剤等)に溶解し、可塑剤(通常、DOP、
TCP、TOP等)を加えた浸透性の強い液体−浸
透探傷用「浸透液」と呼ばれている。−を、塗布
(ハケ塗り、スプレー散布による。)、浸漬(浸透
液浴に漬けて引上げる。)等の手段によつて付着
させ、所定時間放置し、この間に被検査物表面に
存在する欠陥部中に「浸透液」を浸透させる浸透
操作が行われる。次に、欠陥部中に「浸透液」を
浸透させる浸透操作が行われる。次に、欠陥部内
に浸透せずに被検査物表面に残留している余剰浸
透液を、有機溶剤(通常、石油系又は塩素系溶
剤)−浸透探傷用「洗浄液」と呼ばれている。−を
用いて拭取り(洗浄液を付着させたウエスによ
る)、浸漬(洗浄液浴に漬けて引上げる)等の手
段によつて除去する洗浄操作が行われる。この洗
浄操作の終了した段階では「浸透液」は欠陥部内
のみに残留している状態にある。次に、この状態
で被検査物表面の欠陥部が可視光下又は紫外線照
射下に肉眼で目視できる場合には直ちに検査が行
われ、肉眼で目視できない場合には被検査物表面
に、白色微細無機粉末(通常、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、ケイ酸等の粒径1〜10μの
微細粉末)−浸透探傷用「現像剤」と呼ばれてい
る。−の均一な層(通常、厚さ2〜5μ)を形成
し、該層を形成している微細粉末粒子間の毛細管
現象によつて欠陥部内に浸透してる「浸透液」を
吸出させて層表面に「浸透液」のニジミ模様を現
出させる現像操作を行ない、このニジミ模様、換
言すれば欠陥指示模様を肉眼で目視して検査が行
われる。尚、被検査物表面が清浄なものであると
きには、前洗浄操作は当然省略される。
用いて洗浄して清浄にする前洗浄操作が行われ、
洗浄された該検査物表面に、染料(通常、赤色又
は螢光染料)を溶剤(通常、石油系混合溶剤、芳
香族系溶剤等)に溶解し、可塑剤(通常、DOP、
TCP、TOP等)を加えた浸透性の強い液体−浸
透探傷用「浸透液」と呼ばれている。−を、塗布
(ハケ塗り、スプレー散布による。)、浸漬(浸透
液浴に漬けて引上げる。)等の手段によつて付着
させ、所定時間放置し、この間に被検査物表面に
存在する欠陥部中に「浸透液」を浸透させる浸透
操作が行われる。次に、欠陥部中に「浸透液」を
浸透させる浸透操作が行われる。次に、欠陥部内
に浸透せずに被検査物表面に残留している余剰浸
透液を、有機溶剤(通常、石油系又は塩素系溶
剤)−浸透探傷用「洗浄液」と呼ばれている。−を
用いて拭取り(洗浄液を付着させたウエスによ
る)、浸漬(洗浄液浴に漬けて引上げる)等の手
段によつて除去する洗浄操作が行われる。この洗
浄操作の終了した段階では「浸透液」は欠陥部内
のみに残留している状態にある。次に、この状態
で被検査物表面の欠陥部が可視光下又は紫外線照
射下に肉眼で目視できる場合には直ちに検査が行
われ、肉眼で目視できない場合には被検査物表面
に、白色微細無機粉末(通常、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、ケイ酸等の粒径1〜10μの
微細粉末)−浸透探傷用「現像剤」と呼ばれてい
る。−の均一な層(通常、厚さ2〜5μ)を形成
し、該層を形成している微細粉末粒子間の毛細管
現象によつて欠陥部内に浸透してる「浸透液」を
吸出させて層表面に「浸透液」のニジミ模様を現
出させる現像操作を行ない、このニジミ模様、換
言すれば欠陥指示模様を肉眼で目視して検査が行
われる。尚、被検査物表面が清浄なものであると
きには、前洗浄操作は当然省略される。
上述の通りの浸透探傷法が施工されるに当つ
て、前洗浄操作、浸透操作及び洗浄操作における
有機溶剤、「浸透液」及び「洗浄液」の適用に当
つて浸漬なる手段を採る場合には、通常、有機溶
剤浴、「浸透液」浴、及び「洗浄液」浴と三種類
の浴を用い被検査物を各浴中に順番に浸漬する必
要があるが、この点を改良した技術として、米国
特許第3789221号公報に開示されている浸透探傷
装置がある。このものは後出第3図に示す通り上
面が開放された槽1からなり、槽1の上周縁近傍
部には冷却管2が周設され、槽1の底部には加熱
用ヒーター3が付設されている構造の槽1を用い
た浸透探傷装置である(以下、公知装置と呼
ぶ。)。
て、前洗浄操作、浸透操作及び洗浄操作における
有機溶剤、「浸透液」及び「洗浄液」の適用に当
つて浸漬なる手段を採る場合には、通常、有機溶
剤浴、「浸透液」浴、及び「洗浄液」浴と三種類
の浴を用い被検査物を各浴中に順番に浸漬する必
要があるが、この点を改良した技術として、米国
特許第3789221号公報に開示されている浸透探傷
装置がある。このものは後出第3図に示す通り上
面が開放された槽1からなり、槽1の上周縁近傍
部には冷却管2が周設され、槽1の底部には加熱
用ヒーター3が付設されている構造の槽1を用い
た浸透探傷装置である(以下、公知装置と呼
ぶ。)。
尚、第3図のSは被検査物である。
公知装置の使用態様が以下の通りであることも
公知である。
公知である。
槽1の下部には、「浸透液」とこれに対して約
4〜9容量%フロン溶剤又は塩素系炭化水素溶剤
との混合液Gが入れられる。
4〜9容量%フロン溶剤又は塩素系炭化水素溶剤
との混合液Gが入れられる。
槽1の底部に付設されている加熱用ヒーター3
によつて混合液Gが沸騰するまで加熱するととも
に槽1の上周縁近傍部に周設されている冷却管2
に冷却水を通じると、混合液G中のフロン溶剤又
は塩素系炭化水素溶剤は蒸発を始めるが、その蒸
気G1は冷却管2の位置を若干越える位置まで上
昇するだけで、槽1外に出ることはなく、槽1の
中間部は蒸気G1が充満した状態となつている。
尚、槽1外に出ようとする蒸気G1は冷却管2の
存在によつて液滴となつて落下する。
によつて混合液Gが沸騰するまで加熱するととも
に槽1の上周縁近傍部に周設されている冷却管2
に冷却水を通じると、混合液G中のフロン溶剤又
は塩素系炭化水素溶剤は蒸発を始めるが、その蒸
気G1は冷却管2の位置を若干越える位置まで上
昇するだけで、槽1外に出ることはなく、槽1の
中間部は蒸気G1が充満した状態となつている。
尚、槽1外に出ようとする蒸気G1は冷却管2の
存在によつて液滴となつて落下する。
上記の通りの状態において、吊下げ具によつ
て、被検査物Sを、槽1の開放口から槽内に下降
させ、先づ槽1内の中間部で停止させる(図中、
実線で描いたSの位置。)。被検査物Sの表面は蒸
気G1と接触し、被検査物Sの表面に接触した蒸
気G1は被検査物表面で露化し凝固して液滴G2と
なつて落下する。この時、被検査物S表面の油汚
れは洗浄され、こゝに前洗浄操作が完了する。
て、被検査物Sを、槽1の開放口から槽内に下降
させ、先づ槽1内の中間部で停止させる(図中、
実線で描いたSの位置。)。被検査物Sの表面は蒸
気G1と接触し、被検査物Sの表面に接触した蒸
気G1は被検査物表面で露化し凝固して液滴G2と
なつて落下する。この時、被検査物S表面の油汚
れは洗浄され、こゝに前洗浄操作が完了する。
次に、被検査物Sを更に下降させて混合液G中
に浸漬した位置で停止させる(図中、点線で描い
たSの位置。)。被検査物Sの表面は混合液Gと接
触し、混合液G中の「浸透液」が被検査物S表面
の開口欠陥部に浸透する。こゝに浸透操作が行わ
れるのである。
に浸漬した位置で停止させる(図中、点線で描い
たSの位置。)。被検査物Sの表面は混合液Gと接
触し、混合液G中の「浸透液」が被検査物S表面
の開口欠陥部に浸透する。こゝに浸透操作が行わ
れるのである。
次に、被検査物Sを上昇させて再び槽1内の中
間部で停止させる。混合液G中から引出された被
検査物Sの表面には混合液Gが付着している。し
かし、槽1内の中間部で停止させられている被検
査物Sの表面は蒸気G1と接触し、当該蒸気G1は
被検査物表面で露化し凝固して液滴G2となつて
落下するので、この時、被検査物S表面に付着し
ている混合液Gは洗浄され、こゝに洗浄操作が完
了する。
間部で停止させる。混合液G中から引出された被
検査物Sの表面には混合液Gが付着している。し
かし、槽1内の中間部で停止させられている被検
査物Sの表面は蒸気G1と接触し、当該蒸気G1は
被検査物表面で露化し凝固して液滴G2となつて
落下するので、この時、被検査物S表面に付着し
ている混合液Gは洗浄され、こゝに洗浄操作が完
了する。
洗浄操作が完了した被検査物Sは、吊下げ具に
よつて槽1内から取り出され、所定の場所に移さ
れる。この時、被検査物Sの表面は乾燥してお
り、所定の場所において、直ちに検査又は現像操
作を行なうことができる。
よつて槽1内から取り出され、所定の場所に移さ
れる。この時、被検査物Sの表面は乾燥してお
り、所定の場所において、直ちに検査又は現像操
作を行なうことができる。
上述の通りの公知装置によれば、有機溶剤浴、
「浸透液」浴及び「洗浄液」浴と三種類の浴を必
要とせず、また各浴から被検査物に不必要に付着
した有機溶剤、「浸透液」、「洗浄液」が持出され
ることもない等の利点があり、更に使用後の混合
液Gは「浸透液」とフロン溶剤又は塩素系炭化水
素溶剤との混合物であるため、溶剤の回収は容易
であり、回収後残つた「浸透液」は量が少ないの
で炉等で燃してしまうことによつて簡単に処理で
きるという利点もある。
「浸透液」浴及び「洗浄液」浴と三種類の浴を必
要とせず、また各浴から被検査物に不必要に付着
した有機溶剤、「浸透液」、「洗浄液」が持出され
ることもない等の利点があり、更に使用後の混合
液Gは「浸透液」とフロン溶剤又は塩素系炭化水
素溶剤との混合物であるため、溶剤の回収は容易
であり、回収後残つた「浸透液」は量が少ないの
で炉等で燃してしまうことによつて簡単に処理で
きるという利点もある。
しかしながら、上述の公知装置は、被検査物が
比較的小さな物品であるときには、その操作が煩
雑となり、非能率的なものとなるという弱点を内
在しているのである。詳言すると、被検査物が比
較的小さな物品であるとき、被検査物Sを混合液
G中に浸漬すると該被検査物自体の温度が沸騰し
ている混合液Gの温度と略同じ程度にまで上昇し
てしまい、混合液Gから引上げて槽1内の中間部
で停止させた時にも当該被検査物の温度はさほど
低下しないのである。従つて、この混合液Gの温
度と略同じ温度となつている被検査物Sの表面に
蒸気G1が接触しても該蒸気G1は被検査物表面に
凝固せず、このため被検査物S表面に付着してい
る混合液Gを洗浄することができないのである。
比較的小さな物品であるときには、その操作が煩
雑となり、非能率的なものとなるという弱点を内
在しているのである。詳言すると、被検査物が比
較的小さな物品であるとき、被検査物Sを混合液
G中に浸漬すると該被検査物自体の温度が沸騰し
ている混合液Gの温度と略同じ程度にまで上昇し
てしまい、混合液Gから引上げて槽1内の中間部
で停止させた時にも当該被検査物の温度はさほど
低下しないのである。従つて、この混合液Gの温
度と略同じ温度となつている被検査物Sの表面に
蒸気G1が接触しても該蒸気G1は被検査物表面に
凝固せず、このため被検査物S表面に付着してい
る混合液Gを洗浄することができないのである。
また、混合液Gの温度と略同じ温度となつてい
る被検査物Sの表面に、フロン溶剤又は塩素系炭
化水素溶剤をスプレー散布しても、散布された溶
剤は被検査物表面に接すると凝固せずに瞬間的に
蒸発してしまうのでやはり洗浄することはできな
いのである。
る被検査物Sの表面に、フロン溶剤又は塩素系炭
化水素溶剤をスプレー散布しても、散布された溶
剤は被検査物表面に接すると凝固せずに瞬間的に
蒸発してしまうのでやはり洗浄することはできな
いのである。
混合液Gの温度と略同じ温度となつている被検
査物Sを洗浄可能な温度とするためには、混合液
Gから引上げられた被検査物を一度槽1内から外
部に取り出して、槽1外で停止させ(図中、一点
鎖線で描いたSの位置。)て冷却しなければなら
ないのである。そして冷却した後に、再び槽1内
に下降させ、中間部で停止させ(図中、実線で描
いたSの位置。)て、被検査物S表面で蒸気G1を
露化、凝固させ液滴G2として落下させることに
よつて被検査物表面に付着している混合液Gを洗
浄しなければならないのである。(因みに、前掲
米国特許公報にも、かゝる態様を採る場合がある
ことが記載されている。) 即ち、公知槽を用いる場合、被検査物が比較的
小さな物品であるときには、当該物品全体がすぐ
に加熱されてしまうことに起因して、冷却のため
の待ち時間が必要となり、煩雑、非能率的となら
ざるを得ないのである。
査物Sを洗浄可能な温度とするためには、混合液
Gから引上げられた被検査物を一度槽1内から外
部に取り出して、槽1外で停止させ(図中、一点
鎖線で描いたSの位置。)て冷却しなければなら
ないのである。そして冷却した後に、再び槽1内
に下降させ、中間部で停止させ(図中、実線で描
いたSの位置。)て、被検査物S表面で蒸気G1を
露化、凝固させ液滴G2として落下させることに
よつて被検査物表面に付着している混合液Gを洗
浄しなければならないのである。(因みに、前掲
米国特許公報にも、かゝる態様を採る場合がある
ことが記載されている。) 即ち、公知槽を用いる場合、被検査物が比較的
小さな物品であるときには、当該物品全体がすぐ
に加熱されてしまうことに起因して、冷却のため
の待ち時間が必要となり、煩雑、非能率的となら
ざるを得ないのである。
本考案は、上述した通りの公知装置の諸利点は
そのまゝに弱点を解決し、被検査物が比較的小さ
な物品であるときにも、冷却のための待ち時間を
不要とするとともに、前洗浄操作、浸透操作及び
洗浄操作の全操作を自動化しようとするものであ
る。
そのまゝに弱点を解決し、被検査物が比較的小さ
な物品であるときにも、冷却のための待ち時間を
不要とするとともに、前洗浄操作、浸透操作及び
洗浄操作の全操作を自動化しようとするものであ
る。
〔問題点を解決するための手段〕 〔作用〕
本考案は上掲公知装置における槽1の構造を改
良するとともに被検査物移送手段として周知のク
ロスバーコンベヤを用いることによつて、上述の
問題点を解決したものである。
良するとともに被検査物移送手段として周知のク
ロスバーコンベヤを用いることによつて、上述の
問題点を解決したものである。
即ち、本考案は、第1図に示す如く、上面が開
放された槽10を第1仕切壁11と第2仕切壁1
2とによつて縦割に三分割して、槽10の一方の
壁101と第1仕切壁11とによつて第1区画
を、第1仕切壁11と第2仕切壁12とによつて
第2区画を、第2仕切壁12と槽10の他方の壁
102とによつて第3区画をそれぞれ形成し、更
に各区画の底を第2区画が深く、第1区画と第3
区画とが浅くなるように形成し、更に第1仕切壁
11には第1区画と第2区画に連通する導管11
1を、第2仕切壁12には第2区画と第3区画に
連通する導管121をそれぞれ設け、更に槽10
の全周壁、第1仕切壁11及び第2仕切壁12の
各上縁近傍部と第2区画の底部にはそれぞれ冷却
管20を周設し、更に第1区画及び第3区画の各
底部には加熱用ヒーター30を付設して、第1区
画を前洗浄室A、第2区画を浸透室B、第3区画
を洗浄室Cとするとともに槽10の上方には被検
査物を上下させながら搬送するクロスバーコンベ
ヤ40を設置してなる浸透探傷装置である。
放された槽10を第1仕切壁11と第2仕切壁1
2とによつて縦割に三分割して、槽10の一方の
壁101と第1仕切壁11とによつて第1区画
を、第1仕切壁11と第2仕切壁12とによつて
第2区画を、第2仕切壁12と槽10の他方の壁
102とによつて第3区画をそれぞれ形成し、更
に各区画の底を第2区画が深く、第1区画と第3
区画とが浅くなるように形成し、更に第1仕切壁
11には第1区画と第2区画に連通する導管11
1を、第2仕切壁12には第2区画と第3区画に
連通する導管121をそれぞれ設け、更に槽10
の全周壁、第1仕切壁11及び第2仕切壁12の
各上縁近傍部と第2区画の底部にはそれぞれ冷却
管20を周設し、更に第1区画及び第3区画の各
底部には加熱用ヒーター30を付設して、第1区
画を前洗浄室A、第2区画を浸透室B、第3区画
を洗浄室Cとするとともに槽10の上方には被検
査物を上下させながら搬送するクロスバーコンベ
ヤ40を設置してなる浸透探傷装置である。
本考案に係る浸透探傷装置の構成並びに使用態
様を図面に基づいて詳細に説明すれば次の通りで
ある。
様を図面に基づいて詳細に説明すれば次の通りで
ある。
第1図は、後出第2図のA−A線断面説明図で
あつて本考案に係る浸透探傷装置の構造を示して
おり、第2図は本考案に係る浸透探傷装置の外観
を示す側面図である。第1図、第2図において、
10は上面が開放された矩形状槽であり、槽10
の全周壁の上縁近傍部には冷却管20が周設さ
れ、その内部には冷却水が通される。槽10は第
1仕切壁11と第2仕切壁12とによつて縦割に
三分割されて第1区画、第2区画及び第3区画を
形成している。各区画の底は、第2区画が深く、
第1区画と第3区画が浅くなるように形成されて
いる。また、第1区画と第2区画とは第1仕切壁
11の第1区画側の底部近傍から第2区画側の略
中間部に向つて穿たれた導管111によつて連通
しており、第2区画と第3区画とは第2仕切壁1
2の第2区画側の略中間部から第3区画側の底部
近傍に向つて穿たれた導管121によつて連通し
ている。第1仕切壁11及び第2仕切壁12の各
上縁近傍部並びに第2区画Bの底部にもそれぞれ
冷却管20が周設され、その内部には冷却水が通
される。
あつて本考案に係る浸透探傷装置の構造を示して
おり、第2図は本考案に係る浸透探傷装置の外観
を示す側面図である。第1図、第2図において、
10は上面が開放された矩形状槽であり、槽10
の全周壁の上縁近傍部には冷却管20が周設さ
れ、その内部には冷却水が通される。槽10は第
1仕切壁11と第2仕切壁12とによつて縦割に
三分割されて第1区画、第2区画及び第3区画を
形成している。各区画の底は、第2区画が深く、
第1区画と第3区画が浅くなるように形成されて
いる。また、第1区画と第2区画とは第1仕切壁
11の第1区画側の底部近傍から第2区画側の略
中間部に向つて穿たれた導管111によつて連通
しており、第2区画と第3区画とは第2仕切壁1
2の第2区画側の略中間部から第3区画側の底部
近傍に向つて穿たれた導管121によつて連通し
ている。第1仕切壁11及び第2仕切壁12の各
上縁近傍部並びに第2区画Bの底部にもそれぞれ
冷却管20が周設され、その内部には冷却水が通
される。
第1区画及び第3区画の各底部には加熱用ヒー
ター30が付設されている。また、槽10の上方
には長手方向にわたつて周知のクロスバーコンベ
ヤ40が設置されている。クロスバーコンベヤ4
0には被検査物Sを収納する籠41が吊下げられ
ており、クロスバーコンベヤ40が駆動される
と、第1図中の矢印で示した通りに、籠41は第
1区画から第2区画へ、第2区画から第3区画へ
と順次に上下しながら搬送される。尚、籠41は
網状物である。籠41を使用することなく、被検
査物Sを直接吊下げることも勿論可能である。ク
ロスバーコンベヤ40の駆動は、進行・停止・進
行……を繰返す間歇的駆動でも、進行のみの連続
的駆動でもよい。被検査物Sの各区画における滞
留時間の調節は、クロスバーコンベヤ40の搬送
速度の調節又は各区画の長手方向の長さの調節に
よつて行える。
ター30が付設されている。また、槽10の上方
には長手方向にわたつて周知のクロスバーコンベ
ヤ40が設置されている。クロスバーコンベヤ4
0には被検査物Sを収納する籠41が吊下げられ
ており、クロスバーコンベヤ40が駆動される
と、第1図中の矢印で示した通りに、籠41は第
1区画から第2区画へ、第2区画から第3区画へ
と順次に上下しながら搬送される。尚、籠41は
網状物である。籠41を使用することなく、被検
査物Sを直接吊下げることも勿論可能である。ク
ロスバーコンベヤ40の駆動は、進行・停止・進
行……を繰返す間歇的駆動でも、進行のみの連続
的駆動でもよい。被検査物Sの各区画における滞
留時間の調節は、クロスバーコンベヤ40の搬送
速度の調節又は各区画の長手方向の長さの調節に
よつて行える。
上記の通りの構造において、槽10の第1区画
を前洗浄室A、第2区画を浸透室B、第3区画を
洗浄室Cとし、各区画A,B,Cには導管11
1,121を充分越える位置まで「浸透液」と該
浸透液に対し約40〜90容量%(好ましくは60〜80
容量%、尚、「浸透液」に対する割合が40容量%
以下の場合には洗浄に必要な蒸気が充分に得られ
難く、90容量%以上の場合には欠陥指示が不明瞭
となる。)のフロン溶剤又は塩素系炭化水素溶剤
との混合液Gを入れる。
を前洗浄室A、第2区画を浸透室B、第3区画を
洗浄室Cとし、各区画A,B,Cには導管11
1,121を充分越える位置まで「浸透液」と該
浸透液に対し約40〜90容量%(好ましくは60〜80
容量%、尚、「浸透液」に対する割合が40容量%
以下の場合には洗浄に必要な蒸気が充分に得られ
難く、90容量%以上の場合には欠陥指示が不明瞭
となる。)のフロン溶剤又は塩素系炭化水素溶剤
との混合液Gを入れる。
混合液Gが入つた状態で、加熱用ヒーター30
によつて第1区画A及び第3区画C内の混合液G
が沸騰するまで加熱するとともに冷却管20の全
てに冷却水を通じる。第1区画A及び第3区画C
内の混合液Gが沸騰すると混合液G中のフロン溶
剤又は塩素系炭化水素溶剤は蒸発するが、その蒸
気G1は冷却管20の位置を若干越えるまで上昇
するだけで槽10外に出てしまうことはなく、第
1区画A及び第3区画C内は冷却管20の近傍位
置から混合液Gの液面までの空間部が蒸気G1で
充満された状態となる。第2区画B内の混合液G
は冷却管20によつて底部並びに壁部から冷却さ
れているので沸点以下に保たれているので沸騰し
ない。尚、第1区画A及び第3区画Cの液温と第
2区画Bの液温との間に約15℃程度の温度差が生
じるようにすることが望ましい。
によつて第1区画A及び第3区画C内の混合液G
が沸騰するまで加熱するとともに冷却管20の全
てに冷却水を通じる。第1区画A及び第3区画C
内の混合液Gが沸騰すると混合液G中のフロン溶
剤又は塩素系炭化水素溶剤は蒸発するが、その蒸
気G1は冷却管20の位置を若干越えるまで上昇
するだけで槽10外に出てしまうことはなく、第
1区画A及び第3区画C内は冷却管20の近傍位
置から混合液Gの液面までの空間部が蒸気G1で
充満された状態となる。第2区画B内の混合液G
は冷却管20によつて底部並びに壁部から冷却さ
れているので沸点以下に保たれているので沸騰し
ない。尚、第1区画A及び第3区画Cの液温と第
2区画Bの液温との間に約15℃程度の温度差が生
じるようにすることが望ましい。
上記の状態を保つて置き、被検査物Sを収納し
た籠41を吊下げたクロスバーコンベヤ40を予
め設定した速度で駆動して、第1図中の矢橋で示
す通りに、被検査物Sを上下させながら第1区画
A→第2区画B→第3区画Cと順次搬送すると、
先づ被検査物Sは第1区画A内の蒸気G1が充満
している空間部において、その表面が蒸気G1と
接触し、接触した蒸気G1は被検査物S表面で露
化し凝固して液滴(図示せず)となつて落下し、
このとき被検査物S表面の油汚れ等は洗い落さ
れ、こゝに前洗浄操作が完了する。次に被検査物
Sは第2区画内の混合液G中に浸漬され、その表
面が混合液Gと接触し、このとき混合液C中の
「浸透液」が被検査物S表面の開口欠陥部に浸透
し、こゝに浸透操作が行われる。この場合、第2
区画B内の混合液Gの温度は第1区画A及び第3
区画C内の混合液Gの温度よりも低い温度(混合
液G中のフロン溶剤又は塩素系炭化水系溶剤の沸
点以下の温度)に保たれているから、被検査物S
が第3区画C内の混合液Gの温度にまで加熱され
ることはない。次に被検査物Sは第3区画C内の
蒸気G1が充満している空間部において、その表
面が蒸気G1と接触し、接触した蒸気G1は被検査
物S表面で露化し凝固して液滴となつて落下し、
このとき被検査物S表面に付着している余剰の混
合液Gは洗い落され、こゝに洗浄操作が完了す
る。尚、第1区画A、第2区画B及び第3区画C
は導管111,121によつて連通しているか
ら、各区画内の混合液Gは導管111,121を
通じて互いに交流し、その結果、各区画内の混合
液Gの組成(「浸透液」とフロン溶剤又は塩素系
炭化水素溶剤との混合割合)は常に略同じものに
保たれている。
た籠41を吊下げたクロスバーコンベヤ40を予
め設定した速度で駆動して、第1図中の矢橋で示
す通りに、被検査物Sを上下させながら第1区画
A→第2区画B→第3区画Cと順次搬送すると、
先づ被検査物Sは第1区画A内の蒸気G1が充満
している空間部において、その表面が蒸気G1と
接触し、接触した蒸気G1は被検査物S表面で露
化し凝固して液滴(図示せず)となつて落下し、
このとき被検査物S表面の油汚れ等は洗い落さ
れ、こゝに前洗浄操作が完了する。次に被検査物
Sは第2区画内の混合液G中に浸漬され、その表
面が混合液Gと接触し、このとき混合液C中の
「浸透液」が被検査物S表面の開口欠陥部に浸透
し、こゝに浸透操作が行われる。この場合、第2
区画B内の混合液Gの温度は第1区画A及び第3
区画C内の混合液Gの温度よりも低い温度(混合
液G中のフロン溶剤又は塩素系炭化水系溶剤の沸
点以下の温度)に保たれているから、被検査物S
が第3区画C内の混合液Gの温度にまで加熱され
ることはない。次に被検査物Sは第3区画C内の
蒸気G1が充満している空間部において、その表
面が蒸気G1と接触し、接触した蒸気G1は被検査
物S表面で露化し凝固して液滴となつて落下し、
このとき被検査物S表面に付着している余剰の混
合液Gは洗い落され、こゝに洗浄操作が完了す
る。尚、第1区画A、第2区画B及び第3区画C
は導管111,121によつて連通しているか
ら、各区画内の混合液Gは導管111,121を
通じて互いに交流し、その結果、各区画内の混合
液Gの組成(「浸透液」とフロン溶剤又は塩素系
炭化水素溶剤との混合割合)は常に略同じものに
保たれている。
第3区画Cを通過した被検査物Sの表面は乾燥
しており、「浸透液」が開口欠陥部内に残留して
いる状態となつている。この状態で開口欠陥部が
可視光下或いは紫外線照射下に肉眼によつて目視
できる場合には直ちに検査が行われる。肉眼によ
る目視ができない場合には、前記した「現像剤」
を用いる現像操作を行つた後に検査が行われる。
尚、現像操作を行なう場合には、第1図中に点線
で示したように第3区画Cの外側に現像剤噴霧器
51を備えた現像処理室50を増設するとともに
クロスバーコンベヤ40をその上方にまで延長す
るという態様を採り、第3区画Cを通過した被検
査物Sを現像処理室50に搬送し、その表面に現
像剤噴霧器51によつて「現像剤」を噴霧するこ
とによつて現像操作をも連続的に行なうことがで
きる。
しており、「浸透液」が開口欠陥部内に残留して
いる状態となつている。この状態で開口欠陥部が
可視光下或いは紫外線照射下に肉眼によつて目視
できる場合には直ちに検査が行われる。肉眼によ
る目視ができない場合には、前記した「現像剤」
を用いる現像操作を行つた後に検査が行われる。
尚、現像操作を行なう場合には、第1図中に点線
で示したように第3区画Cの外側に現像剤噴霧器
51を備えた現像処理室50を増設するとともに
クロスバーコンベヤ40をその上方にまで延長す
るという態様を採り、第3区画Cを通過した被検
査物Sを現像処理室50に搬送し、その表面に現
像剤噴霧器51によつて「現像剤」を噴霧するこ
とによつて現像操作をも連続的に行なうことがで
きる。
以上説明した通りの本考案に係る浸透探傷装置
を用いて浸透探傷法を施工する場合の諸条件の具
体例を挙げれば次の通りである。
を用いて浸透探傷法を施工する場合の諸条件の具
体例を挙げれば次の通りである。
〔実施例〕
混合液Gとして下記組成のものを用いる。
浸透探傷用「浸透液」:CD−6000(商品名):特
殊塗料(株)製:螢光染料を石油系混合溶剤、芳香族
カルボン酸エステル、アルキルベンゼン等に溶解
したもの:25容量%1.1.1−トリクロルエタン:
沸点74.0℃:75容量% 尚、この混合液は、第1区画A、第3区画Cを
液温76℃まで加熱すれば沸騰状態となり蒸気G1
を発生する。この場合第2区画Bは液温を50℃以
下に保てば沸騰しない。
殊塗料(株)製:螢光染料を石油系混合溶剤、芳香族
カルボン酸エステル、アルキルベンゼン等に溶解
したもの:25容量%1.1.1−トリクロルエタン:
沸点74.0℃:75容量% 尚、この混合液は、第1区画A、第3区画Cを
液温76℃まで加熱すれば沸騰状態となり蒸気G1
を発生する。この場合第2区画Bは液温を50℃以
下に保てば沸騰しない。
被検査物SとしてNDIS規格「24Sアルミニウ
ム焼き割れ試験片」を用い、クロスバーコンベヤ
40の速度を、被検査物Sが第1区画Aに120秒
間、第2区画Bに60秒間、第3図区画Cに60秒
間、それぞれとどまるように調節して、浸透探傷
法を施工すると、第3区画Cを通過後の被検査物
Sの表面は乾燥しており、現像剤を用いることな
く、紫外線灯(ブラツクライト)の照射下で鮮明
な黄色螢光の微細な欠陥指示模様が肉眼によつて
明瞭に確認できた。
ム焼き割れ試験片」を用い、クロスバーコンベヤ
40の速度を、被検査物Sが第1区画Aに120秒
間、第2区画Bに60秒間、第3図区画Cに60秒
間、それぞれとどまるように調節して、浸透探傷
法を施工すると、第3区画Cを通過後の被検査物
Sの表面は乾燥しており、現像剤を用いることな
く、紫外線灯(ブラツクライト)の照射下で鮮明
な黄色螢光の微細な欠陥指示模様が肉眼によつて
明瞭に確認できた。
混合液Gとして下記組成のものを用いる。
染色「浸透液」:UP−St(商品名):特殊塗料(株)
製、赤色油溶性染料を石油系混合溶剤、芳香族カ
ルボン酸エステル、アルキルベンゼン等に溶解し
たもの:30容量%1.1.1−トリクロルエタン:70
容量% 尚、この混合液は、第1区画A、第3区画Cを
液温76.5℃まで加熱すれば沸騰状態となり蒸気G1
を発生する。この場合第2区画Bは液温を51℃以
下に保てば沸騰しない。
製、赤色油溶性染料を石油系混合溶剤、芳香族カ
ルボン酸エステル、アルキルベンゼン等に溶解し
たもの:30容量%1.1.1−トリクロルエタン:70
容量% 尚、この混合液は、第1区画A、第3区画Cを
液温76.5℃まで加熱すれば沸騰状態となり蒸気G1
を発生する。この場合第2区画Bは液温を51℃以
下に保てば沸騰しない。
被検査物Sとして前記と同じ「試験片」を用
い、クロスバーコンベヤ40の速度も前記と同様
に調節し、第3区画Cを通過後の被検査物Sの乾
燥している表面に「現像剤」:UD−St(商品
名):特殊塗料(株)製:白色微細無機粉末を散布し
て、浸透探傷法を施工すると、可視光下で鮮かな
赤色の微細な欠陥指示模様が肉眼によつて明瞭に
確認できた。
い、クロスバーコンベヤ40の速度も前記と同様
に調節し、第3区画Cを通過後の被検査物Sの乾
燥している表面に「現像剤」:UD−St(商品
名):特殊塗料(株)製:白色微細無機粉末を散布し
て、浸透探傷法を施工すると、可視光下で鮮かな
赤色の微細な欠陥指示模様が肉眼によつて明瞭に
確認できた。
本考案に係る浸透探傷装置が上掲の諸条件以外
の条件によつても使用できることは勿論であり、
例えば、フロン溶剤として1.1.2−トリクロル−
1.2.2−トリフルオロエタン(沸点47.6℃)、
1.1.2.2−テトラクロル−1.2−ジフルオロエタン
(沸点92.8℃)等を用いることができ、塩素系炭
化水素溶剤としてトリクロルエチレン(沸点
87.19℃)を用いることもでき、また「浸透液」
も上掲の市販品以外に市販の各種浸透探傷用浸透
液を用いることができる。
の条件によつても使用できることは勿論であり、
例えば、フロン溶剤として1.1.2−トリクロル−
1.2.2−トリフルオロエタン(沸点47.6℃)、
1.1.2.2−テトラクロル−1.2−ジフルオロエタン
(沸点92.8℃)等を用いることができ、塩素系炭
化水素溶剤としてトリクロルエチレン(沸点
87.19℃)を用いることもでき、また「浸透液」
も上掲の市販品以外に市販の各種浸透探傷用浸透
液を用いることができる。
以上説明した通りの本考案に係る浸透探傷装置
によれば、被検査物Sが比較的小さな物品であつ
ても、該物品は第1区画A中の沸騰している混合
液Gには浸漬されることなく、第1区画A中の沸
騰している混合液Gよりも低い温度に保たれてい
る第2区画B中の混合液Gに浸漬されるので、前
記公知装置の場合のように被検査物Sを冷却する
ための持ち時間を必要とせず、しかも前記公知装
置の諸利点をそのまま生かすことができ、更にク
ロスバーコンベヤを用いているので浸透探傷の前
記各操作を流れ作業的に自動化して進行させるこ
とができるので、効率よく浸透探傷法を施工する
ことが可能となる。
によれば、被検査物Sが比較的小さな物品であつ
ても、該物品は第1区画A中の沸騰している混合
液Gには浸漬されることなく、第1区画A中の沸
騰している混合液Gよりも低い温度に保たれてい
る第2区画B中の混合液Gに浸漬されるので、前
記公知装置の場合のように被検査物Sを冷却する
ための持ち時間を必要とせず、しかも前記公知装
置の諸利点をそのまま生かすことができ、更にク
ロスバーコンベヤを用いているので浸透探傷の前
記各操作を流れ作業的に自動化して進行させるこ
とができるので、効率よく浸透探傷法を施工する
ことが可能となる。
第1図は、本考案に係る浸透探傷装置の構造を
示すものであつて後出第2図のA−A線断面説明
図である。第2図は、本考案に係る浸透探傷装置
の外観を示す側面図である。第3図は、従来の浸
透探傷装置の構造を示す縦断面説明図である。 第1図、第2図及び第3図において;1,10
は槽、2,20は冷却管、3,30は加熱用ヒー
ターである。11は第1仕切壁、12は第2仕切
壁、111,121は導管、40はクロスバーコ
ンベヤ、41は籠である。Sは被検査物、Gは混
合液、G1は蒸気、G2は液滴である。第2図中の
Aは前洗浄室、Bは浸透室、Cは洗浄室である。
尚、50は現像処理室、51は現像剤噴霧器であ
る。
示すものであつて後出第2図のA−A線断面説明
図である。第2図は、本考案に係る浸透探傷装置
の外観を示す側面図である。第3図は、従来の浸
透探傷装置の構造を示す縦断面説明図である。 第1図、第2図及び第3図において;1,10
は槽、2,20は冷却管、3,30は加熱用ヒー
ターである。11は第1仕切壁、12は第2仕切
壁、111,121は導管、40はクロスバーコ
ンベヤ、41は籠である。Sは被検査物、Gは混
合液、G1は蒸気、G2は液滴である。第2図中の
Aは前洗浄室、Bは浸透室、Cは洗浄室である。
尚、50は現像処理室、51は現像剤噴霧器であ
る。
Claims (1)
- 上面が開放された槽10を第1仕切壁11と第
2仕切壁12とによつて縦割に三分割して、槽1
0の一方の壁101と第1仕切壁11とによつて
第1区画を、第1仕切壁11と第2仕切壁12と
によつて第2区画を、第2仕切壁12と槽10の
他方の壁102とによつて第3区画をそれぞれ形
成し、更に各区画の底を第2区画が深く、第1区
画と第3区画とが浅くなるように形成し、更に第
1仕切壁11には第1区画と第2区画に連通する
導管111を、第2仕切壁12には第2区画と第
3区画に連通する導管121をそれぞれ設け、更
に槽10の全周壁、第1仕切壁11及び第2仕切
壁12の各上縁近傍部と第2区画の底部にはそれ
ぞれ冷却管20を周設し、更に第1区画及び第3
区画の各底部には加熱用ヒーター30を付設し
て、第1区画を前洗浄室A、第2区画を浸透室
B、第3区画を洗浄室Cとするとともに槽10の
上方には被検査物を上下させながら搬送するクロ
スバーコンベヤ40を設置してなる浸透探傷装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11499284U JPS6130850U (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 浸透探傷装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11499284U JPS6130850U (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 浸透探傷装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6130850U JPS6130850U (ja) | 1986-02-24 |
JPH0329738Y2 true JPH0329738Y2 (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=30673986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11499284U Granted JPS6130850U (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 浸透探傷装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6130850U (ja) |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP11499284U patent/JPS6130850U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6130850U (ja) | 1986-02-24 |
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