JPH03277922A - 渦流量計 - Google Patents
渦流量計Info
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- JPH03277922A JPH03277922A JP2079147A JP7914790A JPH03277922A JP H03277922 A JPH03277922 A JP H03277922A JP 2079147 A JP2079147 A JP 2079147A JP 7914790 A JP7914790 A JP 7914790A JP H03277922 A JPH03277922 A JP H03277922A
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 27
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 2
- 230000008676 import Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、流れに対して垂直に設けられた渦発生体によ
って発生する渦の周波数が流速により異なることを用い
て流量を検出する渦流量計に関する。
って発生する渦の周波数が流速により異なることを用い
て流量を検出する渦流量計に関する。
(従来の技術)
一般に、渦流量計は信号が周波数であるために、配管の
振動に対して、なんらかの対策をとっている。
振動に対して、なんらかの対策をとっている。
第9図は従来例の一例である。図において、1は配管、
2は、フランジ部2g、突き出し部2bより構成される
取り付は座である。
2は、フランジ部2g、突き出し部2bより構成される
取り付は座である。
3は取り付は座2のフランジ部2aにボルト4とナツト
5を用いて取り付けられ、先端部が配管1内に突出する
渦発生体である。この渦発生体3の基端部には圧電素子
6.7が取り付けられている。
5を用いて取り付けられ、先端部が配管1内に突出する
渦発生体である。この渦発生体3の基端部には圧電素子
6.7が取り付けられている。
次に、上記構成の渦流量計の測定原理を説明する。配管
1内を流れる流体が渦発生体3を通過すると、渦発生体
の後部に渦(カルマン渦)が発生する。しかも、この渦
は、渦発生体3の後部に2列でしかも交互に発生する。
1内を流れる流体が渦発生体3を通過すると、渦発生体
の後部に渦(カルマン渦)が発生する。しかも、この渦
は、渦発生体3の後部に2列でしかも交互に発生する。
渦流量計はこの現象が流速によって異なることを利用し
たもので、渦発生の周期(周波数)を計測することで、
流体の流量を知ろうとするものである。
たもので、渦発生の周期(周波数)を計測することで、
流体の流量を知ろうとするものである。
そして、上記従来例では、これら2つの圧電素子6,7
の出力を差動的にとることで、ノイズ分を減少させるよ
うにしている。
の出力を差動的にとることで、ノイズ分を減少させるよ
うにしている。
(発明が解決しようとする課題)
上記構成の従来例において、あらゆる振動条件をカバー
することはできず、振動条件(渦発生体3によって発生
する渦の周波数と配管等の周波数が同相の場合)によっ
ては、信号のS/N比が十分にとれない場合がある。
することはできず、振動条件(渦発生体3によって発生
する渦の周波数と配管等の周波数が同相の場合)によっ
ては、信号のS/N比が十分にとれない場合がある。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、その目的
は、配管振動に強い渦流量計を提供することにある。
は、配管振動に強い渦流量計を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
上記課題を解決する本発明は、流れに対して垂直に設け
られた渦発生体によって発生する渦の周波数が流速によ
り異なることを用いて流量を検出する渦流量計において
、前記渦発生体の両側面に作用する圧力が導かれるダイ
アフラムと、該ダイアフラムに作用する圧力の周波数を
検出する周波数検出用ゲージと、前記ダイアフラムに連
設されたカンチレバーと、該カンチレバーの固定端部に
設けられた加速度検出用ゲージとを備えたものである。
られた渦発生体によって発生する渦の周波数が流速によ
り異なることを用いて流量を検出する渦流量計において
、前記渦発生体の両側面に作用する圧力が導かれるダイ
アフラムと、該ダイアフラムに作用する圧力の周波数を
検出する周波数検出用ゲージと、前記ダイアフラムに連
設されたカンチレバーと、該カンチレバーの固定端部に
設けられた加速度検出用ゲージとを備えたものである。
(作用)
本発明の渦流量計において、渦発生体の両側面に作用す
る圧力はダイアフラムへ導かれ、周波数検出用ゲージに
よって、圧力の周波数が検出される。
る圧力はダイアフラムへ導かれ、周波数検出用ゲージに
よって、圧力の周波数が検出される。
一方、渦流量計に作用する配管の振動は、カンチレバー
の固定端に設けられた加速度検出用ゲージによって検出
される。
の固定端に設けられた加速度検出用ゲージによって検出
される。
(実施例)
次に図面を用いて本発明の一実施例を説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す部分断面構成図である
第1図におけるセンサの断面構成図、第2図は本発明の
一実施例を示す部分断面構成図、第3図は第2図におけ
る■−■断面構成図、第4図は第1図におけるIV−I
V断面図、第5図は第1図における寸法関係を説明する
図、第6図は周波数と振動力との関係を説明する図、第
7図は本実施例の信号処理回路を説明する図、第8図は
周波数ゲージの出力を説明する図である。
第1図におけるセンサの断面構成図、第2図は本発明の
一実施例を示す部分断面構成図、第3図は第2図におけ
る■−■断面構成図、第4図は第1図におけるIV−I
V断面図、第5図は第1図における寸法関係を説明する
図、第6図は周波数と振動力との関係を説明する図、第
7図は本実施例の信号処理回路を説明する図、第8図は
周波数ゲージの出力を説明する図である。
先ず、第2図において、11は配管であり、12はフラ
ンジ部12a、突き出し部12bより構成される取り付
は座である。
ンジ部12a、突き出し部12bより構成される取り付
は座である。
13は取り付は座12のフランジ部12aにボルト14
とナツト15を用いて取り付けられ、先端部が配管11
内に突出する渦発生体である。
とナツト15を用いて取り付けられ、先端部が配管11
内に突出する渦発生体である。
この渦発生体13の先端部の断面形状は第3図に示すよ
うに、台形をしており、台形の平行な長辺及び短辺のう
ち、流れの上流に長辺がくるように配設されている。そ
して、台形の斜面には、第1室14及び第2室15が形
成されている。これら第1室、第2室14.15の開放
面には第1及び第2の金属ダイアフラム16.17が取
り付けられている。
うに、台形をしており、台形の平行な長辺及び短辺のう
ち、流れの上流に長辺がくるように配設されている。そ
して、台形の斜面には、第1室14及び第2室15が形
成されている。これら第1室、第2室14.15の開放
面には第1及び第2の金属ダイアフラム16.17が取
り付けられている。
第1室及び第2室14.15からはそれぞれ上方に向か
って形成された第1及び第2の導圧路18.19が設け
られている。
って形成された第1及び第2の導圧路18.19が設け
られている。
更に、20.21は一端が第1及び第2の導圧路18.
19に接続され、他端がセンサ22に接続される第1及
び第2の導圧パイプである。そして、第1室、第2室1
4.15と、第1.第2の導圧路18,19と、第1.
第2の導圧パイプ20.21内には、シリコンオイルS
が充填されている。
19に接続され、他端がセンサ22に接続される第1及
び第2の導圧パイプである。そして、第1室、第2室1
4.15と、第1.第2の導圧路18,19と、第1.
第2の導圧パイプ20.21内には、シリコンオイルS
が充填されている。
次に、第1図を用いてセンサ22を説明する。
31は下ベースガラス、32は下ベースガラス31上に
例えば陽極接合されたシリコン(St)で作られた検出
部材である。この検出部材32は異方性エツチングによ
り形成されたダイアフラム部33と、ダイアフラム部3
3によって形成された第2室32mと、ダイアフラム部
33に連設されるカンチレバ一部34とから構成されて
いる。また、下ベースガラス31には、一端側が第2室
32aに開口を有し、他端側には第2の導圧パイプ21
が接続され、第2の金属ダイアフラム17がらの圧力を
導入する第2の導圧孔31aが設けられている。
例えば陽極接合されたシリコン(St)で作られた検出
部材である。この検出部材32は異方性エツチングによ
り形成されたダイアフラム部33と、ダイアフラム部3
3によって形成された第2室32mと、ダイアフラム部
33に連設されるカンチレバ一部34とから構成されて
いる。また、下ベースガラス31には、一端側が第2室
32aに開口を有し、他端側には第2の導圧パイプ21
が接続され、第2の金属ダイアフラム17がらの圧力を
導入する第2の導圧孔31aが設けられている。
マタ、下ベースガラス31のカンチレノく一対向面には
カンチレバ一部34の自由端部34aが自由振動可能な
ように段差31bが形成されて(箋る。
カンチレバ一部34の自由端部34aが自由振動可能な
ように段差31bが形成されて(箋る。
更に、
更に、検出部材32のダイアフラム部33の表面には、
ピエゾ抵抗素子の周波数検出用ゲージ36が、検出部材
32のカンチレノく一部34の固定部34bの表面には
、ピエゾ抵抗素子の加速度検出用ゲージ(せん新形ゲー
ジ)37が同じウエノ1プロセスで設けられている。周
波数検出用ゲージ37を固定端部34bに設けた理由番
よ、カンチレバ一部34の振動による応力が最大となる
位置であるからである。
ピエゾ抵抗素子の周波数検出用ゲージ36が、検出部材
32のカンチレノく一部34の固定部34bの表面には
、ピエゾ抵抗素子の加速度検出用ゲージ(せん新形ゲー
ジ)37が同じウエノ1プロセスで設けられている。周
波数検出用ゲージ37を固定端部34bに設けた理由番
よ、カンチレバ一部34の振動による応力が最大となる
位置であるからである。
38は下ベースガラス31に対して、検出部材32を介
して取り付けられた上ベースガラスである。この上ベー
スガラス38のダイアフラム部33の対向部には第1室
38aが形成されて0る。
して取り付けられた上ベースガラスである。この上ベー
スガラス38のダイアフラム部33の対向部には第1室
38aが形成されて0る。
そして、一端側が第1室38aに開口を有し、他端側に
は第1の導圧パイプ20が接続され、第1の金属ダイア
フラム16からの圧力を導入する第1の導圧孔38bが
設けられている。
は第1の導圧パイプ20が接続され、第1の金属ダイア
フラム16からの圧力を導入する第1の導圧孔38bが
設けられている。
次に、上記構成の作動を説明する。第4図及び第5図に
示すように検出部材32の幅をす1段さ31bの深さを
d、カンチレバ一部34の長さを1、カンチレバ一部3
4の厚さをt、自由端部の質量をWとする。
示すように検出部材32の幅をす1段さ31bの深さを
d、カンチレバ一部34の長さを1、カンチレバ一部3
4の厚さをt、自由端部の質量をWとする。
第1図において、カンチレバ一部34の固有振動数fn
は、 fn=A/(2π) ・(1/ fl 2) 51石「
■E−・・(1)で表せ、周波数f’nに対する振動力
Sは第6図に示すようなる。
は、 fn=A/(2π) ・(1/ fl 2) 51石「
■E−・・(1)で表せ、周波数f’nに対する振動力
Sは第6図に示すようなる。
ただしE;ヤング率(Kgf’/1層2)■;断面2次
モーメント(l■4) g;重力加速度(s+ne/52) so ;(αv) /g α ;加速度 A;定数 第6図に示すように、r < (2/3)rnの範囲で
は、5=So−αw/g であり、この振動力Sがカンチレバ一部34の自由端部
34aに作用する。
モーメント(l■4) g;重力加速度(s+ne/52) so ;(αv) /g α ;加速度 A;定数 第6図に示すように、r < (2/3)rnの範囲で
は、5=So−αw/g であり、この振動力Sがカンチレバ一部34の自由端部
34aに作用する。
振動力Sにより、カンチレバ一部34の固定端部34b
では、振動力Sによる曲げモーメントMによる応力σが
発生し、周波数検出用ゲージ37には応力σに比例する
電気信号が発生する。
では、振動力Sによる曲げモーメントMによる応力σが
発生し、周波数検出用ゲージ37には応力σに比例する
電気信号が発生する。
H−1−8−1αw/g
cr−M/I−t/2−(tNv)/(21g)・cz
−(2)この応力σの検出は、本実施例においては
、せん新形ゲージで検出している。せん新形ゲージの出
力■は、せん断力をτとすると、 V−τ■σ匡α となる。
−(2)この応力σの検出は、本実施例においては
、せん新形ゲージで検出している。せん新形ゲージの出
力■は、せん断力をτとすると、 V−τ■σ匡α となる。
周波数検出用ゲージ36の出力■は、第8図に示すよう
な振動波形となる。本実施例では、第7図に示す回路を
用いて信号処理を行なっている。
な振動波形となる。本実施例では、第7図に示す回路を
用いて信号処理を行なっている。
図に°おいて、41は増幅器、43は増幅器41の出力
をパルス化するコンパレータである。44は加速度検出
用ゲージ36の信号を取り込んで、コンパレータ43て
の閾値を決定する閾値演算回路である。このような、閾
値演算回路44を設け、閾値を変化させることにより、
第8図(b)の様に外部からのノイズが多い場合でも、
ノイズ分を除去したパルスデータを得ることができる。
をパルス化するコンパレータである。44は加速度検出
用ゲージ36の信号を取り込んで、コンパレータ43て
の閾値を決定する閾値演算回路である。このような、閾
値演算回路44を設け、閾値を変化させることにより、
第8図(b)の様に外部からのノイズが多い場合でも、
ノイズ分を除去したパルスデータを得ることができる。
そして、パルスデータを用いて、渦の振動数を求め、配
管11内の流量を求めることができる。
管11内の流量を求めることができる。
上記構成によれば、渦流量計に加速度検出用ゲージを設
けたことにより、別途加速度計を取り付けることが不要
となり、配管振動に強い渦流量計を実現できる。
けたことにより、別途加速度計を取り付けることが不要
となり、配管振動に強い渦流量計を実現できる。
なお、本発明は上記実施例に限定するものでない。例え
ば、センサ22を渦発生体13より離せば、シリコンオ
イルが許す限り、低温や高温の流体に適用できる。
ば、センサ22を渦発生体13より離せば、シリコンオ
イルが許す限り、低温や高温の流体に適用できる。
又、センサ22を渦発生体13の内部に設けるようにし
てもよい。このとき、検知部材32上に温度センサを取
り付けると、流量と共に、温度も検出できる。
てもよい。このとき、検知部材32上に温度センサを取
り付けると、流量と共に、温度も検出できる。
更に、検知部材32上に信号処理回路を形成し、所謂集
積化センサとしてもよい。これにより、小型化が図れる
。
積化センサとしてもよい。これにより、小型化が図れる
。
渦発生体は渦を発生できる形状であれば、どんな形状で
もよい。又、上記実施例では、先端部を配管11に取り
付ける構造であったが、先端部をフリーにして片持ち構
造としてもよい。
もよい。又、上記実施例では、先端部を配管11に取り
付ける構造であったが、先端部をフリーにして片持ち構
造としてもよい。
(発明の効果)
以上述べたように本発明によれば、渦発生体の両側面に
作用する圧力が導かれるダイアフラムと、該ダイアフラ
ムに作用する圧力の周波数を検出する周波数検出用ゲー
ジと、前記ダイアフラムに連設されたカンチレバーと、
該カンチレバーの固定端部に設けられた加速度検出用ゲ
ージとを備えたことにより、配管振動に強い渦流量計を
実現できる。
作用する圧力が導かれるダイアフラムと、該ダイアフラ
ムに作用する圧力の周波数を検出する周波数検出用ゲー
ジと、前記ダイアフラムに連設されたカンチレバーと、
該カンチレバーの固定端部に設けられた加速度検出用ゲ
ージとを備えたことにより、配管振動に強い渦流量計を
実現できる。
第1図は本発明の一実施例を示す部分断面構成図である
第1図におけるセンサの断面構成図、第2図は本発明の
一実施例を示す部分断面構成図、 第3図は第2図における■−■断面構成図、第4図は第
1図におけるIV−IV断面図、第5図は第1図におけ
る寸法関係を説明する図、第6図は周波数と振動力との
関係を説明する図、第7図は本実施例の信号処理回路を
説明する図、第8図は周波数ゲージの出力を説明する図
、第9図は従来例の一例を示す要部構成部分断面図であ
る。 これらの図において、 13・・・渦発生体 33・・・ダイアフラム(部
)34・・・カンチレバー(部) 34b・・・固定端部 36・・・周波数検出用ゲー
ジ37・・・加速度検出用ゲージ
第1図におけるセンサの断面構成図、第2図は本発明の
一実施例を示す部分断面構成図、 第3図は第2図における■−■断面構成図、第4図は第
1図におけるIV−IV断面図、第5図は第1図におけ
る寸法関係を説明する図、第6図は周波数と振動力との
関係を説明する図、第7図は本実施例の信号処理回路を
説明する図、第8図は周波数ゲージの出力を説明する図
、第9図は従来例の一例を示す要部構成部分断面図であ
る。 これらの図において、 13・・・渦発生体 33・・・ダイアフラム(部
)34・・・カンチレバー(部) 34b・・・固定端部 36・・・周波数検出用ゲー
ジ37・・・加速度検出用ゲージ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 流れに対して垂直に設けられた渦発生体(13)によっ
て発生する渦の周波数が流速により異なることを用いて
流量を検出する渦流量計において、前記渦発生体(13
)の両側面に作用する圧力が導かれるダイアフラム(3
3)と、 該ダイアフラム(33)に作用する圧力の周波数を検出
する周波数検出用ゲージ(36)と、前記ダイアフラム
(33)に連設されたカンチレバー(34)と、 該カンチレバー(34)の固定端部(34b)に設けら
れた加速度検出用ゲージ(37)とを備えたことを特徴
とする渦流量計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2079147A JPH03277922A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 渦流量計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2079147A JPH03277922A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 渦流量計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03277922A true JPH03277922A (ja) | 1991-12-09 |
Family
ID=13681848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2079147A Pending JPH03277922A (ja) | 1990-03-28 | 1990-03-28 | 渦流量計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03277922A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2482041A1 (de) * | 2011-01-31 | 2012-08-01 | KROHNE Messtechnik GmbH | Vortex-Durchflussmessgerät |
-
1990
- 1990-03-28 JP JP2079147A patent/JPH03277922A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2482041A1 (de) * | 2011-01-31 | 2012-08-01 | KROHNE Messtechnik GmbH | Vortex-Durchflussmessgerät |
JP2012159508A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Krohne Messtechnik Gmbh | 渦流量計 |
CN102680030A (zh) * | 2011-01-31 | 2012-09-19 | 克洛纳测量技术有限公司 | 涡流流量计 |
US8820176B2 (en) | 2011-01-31 | 2014-09-02 | Krohne Messtechnik Gmbh | Vortex flow meter having an inertial sensor for detecting parasitic oscillations |
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