JPH03267747A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPH03267747A JPH03267747A JP6641390A JP6641390A JPH03267747A JP H03267747 A JPH03267747 A JP H03267747A JP 6641390 A JP6641390 A JP 6641390A JP 6641390 A JP6641390 A JP 6641390A JP H03267747 A JPH03267747 A JP H03267747A
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Links
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 title claims description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 21
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、蛍光Ｘ線分析装置に関し、特に高い分析精度
と測定値の再現性とをもつ蛍光Ｘ線分析装置に関する。
と測定値の再現性とをもつ蛍光Ｘ線分析装置に関する。
従来、この種の蛍光Ｘ線分析装置では、試料を収容する
主室と試料を出し入れする試料室との間を仕切るゲート
バルブを一関一の状態に設定し、画室の真空度が同一に
なるように主室と試料室とを常時−つのポンプで排気し
ながらの分析測定が行われる。
主室と試料を出し入れする試料室との間を仕切るゲート
バルブを一関一の状態に設定し、画室の真空度が同一に
なるように主室と試料室とを常時−つのポンプで排気し
ながらの分析測定が行われる。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、従来のように主室と試料室の双方を常時
排気しながら分析を行う蛍光Ｘ線分析装置では、分析測
定が行われている間、真空度を一定に維持することが難
しい。しかも、真空度の変化量も一定せず第３図に示す
ように蛍光Ｘ線強度にバラツキが生ずる。第３図は、従
来装置での試料に含まれる元素ｐ、ｑ、ｒのＸ線強度（
キロカウント７秒で表示）の測定開始後の変動状態を示
す。この測定カウント数は真空度による影響が大きく、
真空度の安定が得られないため分析精度・測定値の再現
性に対する信頼性がないことを示している。
排気しながら分析を行う蛍光Ｘ線分析装置では、分析測
定が行われている間、真空度を一定に維持することが難
しい。しかも、真空度の変化量も一定せず第３図に示す
ように蛍光Ｘ線強度にバラツキが生ずる。第３図は、従
来装置での試料に含まれる元素ｐ、ｑ、ｒのＸ線強度（
キロカウント７秒で表示）の測定開始後の変動状態を示
す。この測定カウント数は真空度による影響が大きく、
真空度の安定が得られないため分析精度・測定値の再現
性に対する信頼性がないことを示している。
本発明の目的は、上記の情況に鑑み、分析精度および測
定値の再現性に問題がある従来の欠点を解決した蛍光Ｘ
線分析装置を提供することである。
定値の再現性に問題がある従来の欠点を解決した蛍光Ｘ
線分析装置を提供することである。
【課題を解決するための手段］
本発明によれば、蛍光Ｘａｔ分析装置は、蛍光Ｘ線分析
を行うべき試料を収容する主室と、前記試料の出し入れ
に用いる試料室と、前記主室と試料室との間を隔てるゲ
ートバルブと、前記主室と試料室をそれぞれ独立に排気
する排気系と、前記主室の真空度が規定値に到達した際
前記ゲートバルブを閉状態に設定する制御手段とを備え
て構成される。
を行うべき試料を収容する主室と、前記試料の出し入れ
に用いる試料室と、前記主室と試料室との間を隔てるゲ
ートバルブと、前記主室と試料室をそれぞれ独立に排気
する排気系と、前記主室の真空度が規定値に到達した際
前記ゲートバルブを閉状態に設定する制御手段とを備え
て構成される。
［作 用 １
本発明によれば、測定が行われる間主室と試料室とを仕
切るゲートバルブは“閉”の状態に設定され、また、主
室の真空度が一定に保たれるように独立の真空計で監視
される。従って、試料から放射される蛍光Ｘ線強度のバ
ラツキを低減させることができるので、分析精度および
測定値の再現性を著しく高めることができる。
切るゲートバルブは“閉”の状態に設定され、また、主
室の真空度が一定に保たれるように独立の真空計で監視
される。従って、試料から放射される蛍光Ｘ線強度のバ
ラツキを低減させることができるので、分析精度および
測定値の再現性を著しく高めることができる。
［実施例］
次に、本発明について図面を参照して詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す蛍光Ｘ線分析装置の概
略構成図である。本実施例によれば、蛍光Ｘ線分析装置
の主体をなす真空チャンバー１００は、試料を出し入れ
する試料室ｌと、試料３に対して分析を行う主室２と、
この２つの間を仕切るゲートバルブ４とから成る。
略構成図である。本実施例によれば、蛍光Ｘ線分析装置
の主体をなす真空チャンバー１００は、試料を出し入れ
する試料室ｌと、試料３に対して分析を行う主室２と、
この２つの間を仕切るゲートバルブ４とから成る。
ここで、５および６は試料室および主室にそれぞれ設け
られる試料３の出し入れ用窓蓋およびＸ＃ｉ管を示す。
られる試料３の出し入れ用窓蓋およびＸ＃ｉ管を示す。
本実施例におけるゲートバルブ４は主室２が一定の真空
度に到達した際、主室の気圧変化の検知システムによっ
て矢印に示す如（作動し、主室２を試料室１から分離し
独立させる。真空チャンバー１００を真空状態に排気す
るための排気系は、チャンバー全体を排気する配管と主
室２だけを独自に排気する配管とから構成され、おのお
のの配管には２つのバルブ７．８と９．１０および一つ
のリークバルブ１１と１２が真空計１３．１４と共にそ
れぞれ設けられる。この２つの配管はその後真空計１５
を備える１本の配管にまとめられ、最終的に一つの排気
ポンプ１６と接続される。上記実施例の蛍光Ｘ線分析装
置は、下表に示すバルブ上記の動作Ａ４よ、分析装置に
対し試料３をロード、アンロードする際のバルブ操作を
示すもので、主室２のみが真空引きされる。つぎの動作
Ｂでは真空計１３と真空計１４とが示す真空度が同一値
となるまで真空チャンバー１００内の気圧が一定化され
る。ついで行う動作Ｃはチャンバー１００内の全体が動
作Ｂの段階で同一気圧とされた後、試料３を主室２内へ
移動させるバルブ操作である。動作りでは主室２のみが
目標の真空度に達するまで真空引きされる。最後の動作
Ｅは前段の動作りによって主室２内が目標の真空度に達
した後、この主室２の真空度が変動しないようにするバ
ルブ操作である。この動作Ｅでは主室２の前後にある全
てのバルブが“閉”の状態に設定され、この段階を経過
後試料３の分析測定が行われる。この場合、主室２の真
空度に変動があった場合は真空計１４により検知され常
時監視されるので、主室２の真空度は試料分析が行われ
ている間、目標値で安定化される。
度に到達した際、主室の気圧変化の検知システムによっ
て矢印に示す如（作動し、主室２を試料室１から分離し
独立させる。真空チャンバー１００を真空状態に排気す
るための排気系は、チャンバー全体を排気する配管と主
室２だけを独自に排気する配管とから構成され、おのお
のの配管には２つのバルブ７．８と９．１０および一つ
のリークバルブ１１と１２が真空計１３．１４と共にそ
れぞれ設けられる。この２つの配管はその後真空計１５
を備える１本の配管にまとめられ、最終的に一つの排気
ポンプ１６と接続される。上記実施例の蛍光Ｘ線分析装
置は、下表に示すバルブ上記の動作Ａ４よ、分析装置に
対し試料３をロード、アンロードする際のバルブ操作を
示すもので、主室２のみが真空引きされる。つぎの動作
Ｂでは真空計１３と真空計１４とが示す真空度が同一値
となるまで真空チャンバー１００内の気圧が一定化され
る。ついで行う動作Ｃはチャンバー１００内の全体が動
作Ｂの段階で同一気圧とされた後、試料３を主室２内へ
移動させるバルブ操作である。動作りでは主室２のみが
目標の真空度に達するまで真空引きされる。最後の動作
Ｅは前段の動作りによって主室２内が目標の真空度に達
した後、この主室２の真空度が変動しないようにするバ
ルブ操作である。この動作Ｅでは主室２の前後にある全
てのバルブが“閉”の状態に設定され、この段階を経過
後試料３の分析測定が行われる。この場合、主室２の真
空度に変動があった場合は真空計１４により検知され常
時監視されるので、主室２の真空度は試料分析が行われ
ている間、目標値で安定化される。
第２図は上記実施例の試料分析室内における真空度の時
間経過図である。本発明の分析装置の真空度は目標値で
ほとんど安定している。従来の分析装置では試料分析室
（主室２）だけを単独に排気する独立配管を持たず、真
空チャンバー１００全体を一つの配管で排気しているの
で、真空計１５で見たときの真空度で分析測定が行われ
ている間実際には試料分析室内の真空度が変動し、第３
図に示すようにＸ線強度が変動し、測定信頼性が得られ
なかったのである。
間経過図である。本発明の分析装置の真空度は目標値で
ほとんど安定している。従来の分析装置では試料分析室
（主室２）だけを単独に排気する独立配管を持たず、真
空チャンバー１００全体を一つの配管で排気しているの
で、真空計１５で見たときの真空度で分析測定が行われ
ている間実際には試料分析室内の真空度が変動し、第３
図に示すようにＸ線強度が変動し、測定信頼性が得られ
なかったのである。
以上詳細に説明したように、本発明によれば、試料が蛍
光Ｘ線分析される間、分析室の真空度は確実に目標値で
安定化されるので、試料から発せられる蛍光Ｘ線の強度
も安定化される。従って、試料分析の精度および測定値
の再現性を従来より格段に向上させる効果を有する。
光Ｘ線分析される間、分析室の真空度は確実に目標値で
安定化されるので、試料から発せられる蛍光Ｘ線の強度
も安定化される。従って、試料分析の精度および測定値
の再現性を従来より格段に向上させる効果を有する。
第１図は本発明の一実施例を示す蛍光Ｘ線分析装置の概
略構成図、第２図は上記実施例の試料分析室内真空度の
時間経過図、第３図は従来装置における試料分析時のＸ
線強度の時間経過図である。 １００−・・真空チャンパー ト・・試料室、 ２・・・主室、３・・・試料、
４−Ｘ線管、５−・−恋着、 ６
−・・ゲートバルブ。 ７．８．９．１０−−バルブ、 １１．１２−一・リークバルブ、 １３．１４．１５−・−真空計。 １６・・・排気ポンプ。 第１図
略構成図、第２図は上記実施例の試料分析室内真空度の
時間経過図、第３図は従来装置における試料分析時のＸ
線強度の時間経過図である。 １００−・・真空チャンパー ト・・試料室、 ２・・・主室、３・・・試料、
４−Ｘ線管、５−・−恋着、 ６
−・・ゲートバルブ。 ７．８．９．１０−−バルブ、 １１．１２−一・リークバルブ、 １３．１４．１５−・−真空計。 １６・・・排気ポンプ。 第１図
Claims (1)
- 蛍光Ｘ線分析を行うべき試料を収容する主室と、前記試
料の出し入れに用いる試料室と、前記主室と試料室との
間を隔てるゲートバルブと、前記主室と試料室をそれぞ
れ独立に排気する排気系と、前記主室の真空度が規定値
に到達した際前記ゲートバルブを閉状態に設定する制御
手段とを備えることを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6641390A JPH03267747A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6641390A JPH03267747A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03267747A true JPH03267747A (ja) | 1991-11-28 |
Family
ID=13315088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6641390A Pending JPH03267747A (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03267747A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS618854B2 (ja) * | 1977-06-18 | 1986-03-18 | Basf Ag |
-
1990
- 1990-03-15 JP JP6641390A patent/JPH03267747A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS618854B2 (ja) * | 1977-06-18 | 1986-03-18 | Basf Ag |
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