JPH03263347A - 被検査体の位置決め方法 - Google Patents
被検査体の位置決め方法Info
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- JPH03263347A JPH03263347A JP2062414A JP6241490A JPH03263347A JP H03263347 A JPH03263347 A JP H03263347A JP 2062414 A JP2062414 A JP 2062414A JP 6241490 A JP6241490 A JP 6241490A JP H03263347 A JPH03263347 A JP H03263347A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 50
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 13
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000013100 final test Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は被検査体の位置決め方法に係り、特に複数の半
導体チップを塔載してモジュール化L7た被検査体の位
置決め方法に関する。
導体チップを塔載してモジュール化L7た被検査体の位
置決め方法に関する。
(従来の技術)
ICチップ等を利用した種々の半導体装置の製造工程に
おいては、一般に、半導体ウェハ上に多数のICチップ
等が形成されている段階で行うプローブテスト(−次検
査)と、例えばバッヶジングされて製品化された段階で
行うファイナルテスト(二次検査)とが行われている。
おいては、一般に、半導体ウェハ上に多数のICチップ
等が形成されている段階で行うプローブテスト(−次検
査)と、例えばバッヶジングされて製品化された段階で
行うファイナルテスト(二次検査)とが行われている。
ところで、ICチップやLSIチップ(以下、チップと
記す)等を個別にパッケージジグしたQFP、SOP等
に代表される半導体装置の二次検査については、測定部
のユニット等を交換することで1台で多くの形状の半導
体素子の測定が可能な検査装置(ICハンドラ)、いわ
ゆるユニバーサルハンドラ等が開発されており、検査工
数の短縮化や検査精度の向上が図られている。
記す)等を個別にパッケージジグしたQFP、SOP等
に代表される半導体装置の二次検査については、測定部
のユニット等を交換することで1台で多くの形状の半導
体素子の測定が可能な検査装置(ICハンドラ)、いわ
ゆるユニバーサルハンドラ等が開発されており、検査工
数の短縮化や検査精度の向上が図られている。
しかしく最近の半導体分野においては、各種処理の高速
化や複雑化等に対応するために、内部配線が施された多
層セラミックス基板上等に機能の異なる複数のチップを
塔載し、モジュール化してチップアレイとして直接利用
することが徐々に増加しつつあり、このような半導体モ
ジュールの二次検査への対応が強く望まれている。
化や複雑化等に対応するために、内部配線が施された多
層セラミックス基板上等に機能の異なる複数のチップを
塔載し、モジュール化してチップアレイとして直接利用
することが徐々に増加しつつあり、このような半導体モ
ジュールの二次検査への対応が強く望まれている。
このような半導体モジュールの二次検査は、個々のチッ
プのボンディング状態や多層セラミックス基板内の配線
状態等の検査、さらにはモジュールとしての動作特性の
検査の他に、個々のチップの基本性能や入力から出力ま
での中間過程における動作特性等の検査も必要とされる
。
プのボンディング状態や多層セラミックス基板内の配線
状態等の検査、さらにはモジュールとしての動作特性の
検査の他に、個々のチップの基本性能や入力から出力ま
での中間過程における動作特性等の検査も必要とされる
。
そして、かかる検査においては、半導体モジュルと検査
装置本体との正確な位置あわせをした後、検査をする必
要がある。
装置本体との正確な位置あわせをした後、検査をする必
要がある。
(発明が解決しようとする課題)
このように半導体モジュール(半導体装置)を検査する
ためには、半導体モジュールと装置本体との正確な位置
あわせが必要である。
ためには、半導体モジュールと装置本体との正確な位置
あわせが必要である。
本発明はこのような要望に鑑みてなされたものでその目
的とするところは被検査体例えば半導体モジュールと装
置本体との正確な位置あわせを行うことが出来る被検査
体の位置決め方法を提供することにある。
的とするところは被検査体例えば半導体モジュールと装
置本体との正確な位置あわせを行うことが出来る被検査
体の位置決め方法を提供することにある。
[発明の構成コ
(課題を解決するための手段)
検査装置本体に設けられた被検査体の電極端子に検査端
子を接触させて検査を行う際の被検査体の位置決め方法
において、前記検査装置本体に対して移動可能であり前
記被検査体を載置したサイドボードと前記検査装置本体
との粗い位置決めを行う工程と、前記被検査体を支持す
るソケットボードと前記検査装置本体との正確な位置決
めを行う工程と、を具備してなる被検査体の位置決め方
法である。
子を接触させて検査を行う際の被検査体の位置決め方法
において、前記検査装置本体に対して移動可能であり前
記被検査体を載置したサイドボードと前記検査装置本体
との粗い位置決めを行う工程と、前記被検査体を支持す
るソケットボードと前記検査装置本体との正確な位置決
めを行う工程と、を具備してなる被検査体の位置決め方
法である。
(作 用)
本発明では、まず最初に被検査体を載置したワークと検
査装置本体との粗い位置決めを行った後、上記ワークに
載置した被検査体と検査装置本体との正確な位置決めを
行い、高精度な位置決めを可能としたことを特徴とする
。
査装置本体との粗い位置決めを行った後、上記ワークに
載置した被検査体と検査装置本体との正確な位置決めを
行い、高精度な位置決めを可能としたことを特徴とする
。
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明方法の一実施例の半導体検査装置の断面
図である。
図である。
装置本体1は、非導電性不活性液体中で被検査体例えば
半導体モジュール2を搬送および検査可能な状態とした
ワーク3の所定の検査を行う検査部10と、半導体モジ
ュール2上に塔載された複数の半導体素子(以下、チッ
プと記す)に対応した複数の検査用接触端子が収容され
、これらの交換および位置合せを行う接触端子供給部2
0とから構成されており、装置本体1の検査部10側の
端部には、上記ワーク3をロード・アンロードするため
のワークローダ一部30が着脱自在に設置されている。
半導体モジュール2を搬送および検査可能な状態とした
ワーク3の所定の検査を行う検査部10と、半導体モジ
ュール2上に塔載された複数の半導体素子(以下、チッ
プと記す)に対応した複数の検査用接触端子が収容され
、これらの交換および位置合せを行う接触端子供給部2
0とから構成されており、装置本体1の検査部10側の
端部には、上記ワーク3をロード・アンロードするため
のワークローダ一部30が着脱自在に設置されている。
また、装置本体1およびワークロダ一部30上には、そ
れぞれワークローダ一部301検査部10、接触端子供
給部20の並列方向(以下、X方向とよぶ)に沿って移
動可能とされたワーク搬送機構40と接触端子移動機構
50とが塔載されている。
れぞれワークローダ一部301検査部10、接触端子供
給部20の並列方向(以下、X方向とよぶ)に沿って移
動可能とされたワーク搬送機構40と接触端子移動機構
50とが塔載されている。
なお上記ワーク3は、例えば第2図に示すように、複数
例えば36個のチップ2aが内部配線を有する多層セラ
ミックス基板2b上にボンディングされて構成された半
導体モジュール2の下部に、この半導体モジュール2の
図示を省略した各人出カピンと電気的に接触されたソケ
ット4およびソケットボード5が配置され、また半導体
モジュール2の外周側に押え板6とOリング7とによっ
て液密シールが形成されたクランプ部となるサポートボ
ード8が配置されて構成されたものである。
例えば36個のチップ2aが内部配線を有する多層セラ
ミックス基板2b上にボンディングされて構成された半
導体モジュール2の下部に、この半導体モジュール2の
図示を省略した各人出カピンと電気的に接触されたソケ
ット4およびソケットボード5が配置され、また半導体
モジュール2の外周側に押え板6とOリング7とによっ
て液密シールが形成されたクランプ部となるサポートボ
ード8が配置されて構成されたものである。
なおソケットボード5、押え板6、サポートボード8は
締結ボルト101によって締結される。
締結ボルト101によって締結される。
また、図示を省略したがチップ2aの周囲には測定用電
極パッドが、多層セラミックス基板2bの上面の3隅に
はアライメント用ターゲットが、またサポートボード8
の4隅には粗い信号決めを行うための位置決め孔102
が設けられており、ソケットボート5の2隅には正確な
信号決めを行うための信号決め孔103が設けられる。
極パッドが、多層セラミックス基板2bの上面の3隅に
はアライメント用ターゲットが、またサポートボード8
の4隅には粗い信号決めを行うための位置決め孔102
が設けられており、ソケットボート5の2隅には正確な
信号決めを行うための信号決め孔103が設けられる。
上記検査部10は、装置本体1の基台1a上に設置され
た検査部基台11.の上面側に突設された槽外壁11a
および横内壁11bと、例えばネオプレンゴム等のシー
ルを有するワーク載置台12およびワーク3自体とによ
って形成される液槽13を有しており、ワーク3はクラ
ンプ14によってワーク載置台12に対し、液密シール
を形成するように密着固定される。そして、液槽13内
に注入された非導電性不活性液体15中にワーク3を浸
漬し、その状態で検査が行われる。なお、検査部基台1
1内には、槽外壁11aと槽内壁11bとの間にオーバ
ーフローした非導電性不活性液体15の排出管16aと
、ワーク交換時の排出管16bとが設けられており、そ
れぞれ図示を省略した冷却機構に接続されている。また
、上記口字状のワーク載置台12の開口部下方には、ワ
ーク3のソケットボード5に対して差込まれ電気的な接
続を行う多数のピン104が突設されたワークセットベ
ースユニット17が配置されており、さらにワーク搬送
機構40およびワーク載置台12間におけるワーク3の
移載を行う昇降可能なワク移載ピン1つが設けられてい
る。
た検査部基台11.の上面側に突設された槽外壁11a
および横内壁11bと、例えばネオプレンゴム等のシー
ルを有するワーク載置台12およびワーク3自体とによ
って形成される液槽13を有しており、ワーク3はクラ
ンプ14によってワーク載置台12に対し、液密シール
を形成するように密着固定される。そして、液槽13内
に注入された非導電性不活性液体15中にワーク3を浸
漬し、その状態で検査が行われる。なお、検査部基台1
1内には、槽外壁11aと槽内壁11bとの間にオーバ
ーフローした非導電性不活性液体15の排出管16aと
、ワーク交換時の排出管16bとが設けられており、そ
れぞれ図示を省略した冷却機構に接続されている。また
、上記口字状のワーク載置台12の開口部下方には、ワ
ーク3のソケットボード5に対して差込まれ電気的な接
続を行う多数のピン104が突設されたワークセットベ
ースユニット17が配置されており、さらにワーク搬送
機構40およびワーク載置台12間におけるワーク3の
移載を行う昇降可能なワク移載ピン1つが設けられてい
る。
このワーク移載ピン19は、サポートボード8の四隅に
設けられた位置決め孔102に係合するものである。ま
た、ワークベースユニット17の対角線上の三隅には、
ソケットボード5の対角線の三隅に設けられた位置決め
孔103に係合する固定ピン105が設けられる。
設けられた位置決め孔102に係合するものである。ま
た、ワークベースユニット17の対角線上の三隅には、
ソケットボード5の対角線の三隅に設けられた位置決め
孔103に係合する固定ピン105が設けられる。
すなわち、この半導体検査装置では、ワーク2をワーク
セットベースユニット17上に載置する場合、ワーク移
載ピン19とサポートボード8に設けられている位置決
め孔102によってワーク2と検査装置との粗い位置合
せを行い、さらにソケットボード5に設けられている位
置決め孔103と固定ピン105によって正確な位置合
せを行う。
セットベースユニット17上に載置する場合、ワーク移
載ピン19とサポートボード8に設けられている位置決
め孔102によってワーク2と検査装置との粗い位置合
せを行い、さらにソケットボード5に設けられている位
置決め孔103と固定ピン105によって正確な位置合
せを行う。
ワークローダ一部30は、装置本体1の基台1aに対し
て着脱自在に配置されたワーク通過孔31aを有するロ
ーダ一部基台31と、このローダ一部基台31の下方に
配置され、ワーク3を収容しつつワーク交換位置とワー
ク通過孔゛31aの下方位置との間を移動可能とされた
ワークセットテーブル32と、ワーク通過孔31aの下
方に配置され、ワーク3をワーク搬送機構40へと受渡
すワーク昇降機構33とにより構成されている。また、
ローダ一部基台31の上面は、装置本体1の基台1aの
上面と面一とされており、これらローダ一部基台31お
よび装置本体1の基台1a上面には、X方向に連結され
たステージ用ガイド30a −、1bが設けられている
。
て着脱自在に配置されたワーク通過孔31aを有するロ
ーダ一部基台31と、このローダ一部基台31の下方に
配置され、ワーク3を収容しつつワーク交換位置とワー
ク通過孔゛31aの下方位置との間を移動可能とされた
ワークセットテーブル32と、ワーク通過孔31aの下
方に配置され、ワーク3をワーク搬送機構40へと受渡
すワーク昇降機構33とにより構成されている。また、
ローダ一部基台31の上面は、装置本体1の基台1aの
上面と面一とされており、これらローダ一部基台31お
よび装置本体1の基台1a上面には、X方向に連結され
たステージ用ガイド30a −、1bが設けられている
。
ワーク搬送機構40は、上記ステージ用ガイド30a、
lb上をX方向に沿って移動可能とされており、上記ワ
ーク昇降機構33によって上昇したワーク3を保持する
保持部41を有している。
lb上をX方向に沿って移動可能とされており、上記ワ
ーク昇降機構33によって上昇したワーク3を保持する
保持部41を有している。
この保持部41は、ワーク3の下面を支持するX方向に
進退自在の一対のつめ42によって構成されている。
進退自在の一対のつめ42によって構成されている。
また、接触端子移動機構50は、上記ステージ用ガイド
上に塔載された口字形状を有するXステージ51、この
Xステージ51上に配置された同様の開口面積を有する
口字形状のYステージ52および上記Xステージ51お
よびYステージ52の開口部内に配置された2ステージ
53によって、この2ステージ53に固定されたピンブ
ロック21のチャック部54と上アライメント用カメラ
55とが設置された測定部56が、x−y−z方向に移
動可能に構成されており、また図示を省略したθ駆動機
構によってチャック部54が回転自在とされている。そ
して、上記チャック部54に保持されたピンブロック2
1は、2ステージ53によって検査部10の液槽13内
まで下降し、液槽13内に浸漬されているワーク3との
接触が行われる。
上に塔載された口字形状を有するXステージ51、この
Xステージ51上に配置された同様の開口面積を有する
口字形状のYステージ52および上記Xステージ51お
よびYステージ52の開口部内に配置された2ステージ
53によって、この2ステージ53に固定されたピンブ
ロック21のチャック部54と上アライメント用カメラ
55とが設置された測定部56が、x−y−z方向に移
動可能に構成されており、また図示を省略したθ駆動機
構によってチャック部54が回転自在とされている。そ
して、上記チャック部54に保持されたピンブロック2
1は、2ステージ53によって検査部10の液槽13内
まで下降し、液槽13内に浸漬されているワーク3との
接触が行われる。
測定部56には、上記チャック部54に近接して図示を
省略した冷却機構に接続された非導電性不活性液体導入
管57が配設されており、またチャック部54の上部に
はピンブロック21と図示を省略したテスタに接続され
たタッチプレートが配置されており、このタッチプレー
トによってピンブロック21とテスタとの電気的な接続
が行われている。
省略した冷却機構に接続された非導電性不活性液体導入
管57が配設されており、またチャック部54の上部に
はピンブロック21と図示を省略したテスタに接続され
たタッチプレートが配置されており、このタッチプレー
トによってピンブロック21とテスタとの電気的な接続
が行われている。
上記構成の半導体検査装置における検査手順について、
第2.3.4図を参照して以下に説明する。
第2.3.4図を参照して以下に説明する。
0
まず、ワークローダ一部30におけるワークセットテー
ブル32のワーク収容部32a内にワク3を載置すると
ともに、ワークセットテーブル32を駆動してワーク3
をワーク昇降機構33の上方の受渡位置まで移動させる
。次いで、ワーク昇降機構33の昇降テーブル33aに
よってワク3を位置決めしつつワーク搬送機構40の保
持部41位置まで上昇させる。ワーク3の上昇を確認し
た後、保持部41の一対のつめ42によってワーク3は
保持される(第3図−a)。
ブル32のワーク収容部32a内にワク3を載置すると
ともに、ワークセットテーブル32を駆動してワーク3
をワーク昇降機構33の上方の受渡位置まで移動させる
。次いで、ワーク昇降機構33の昇降テーブル33aに
よってワク3を位置決めしつつワーク搬送機構40の保
持部41位置まで上昇させる。ワーク3の上昇を確認し
た後、保持部41の一対のつめ42によってワーク3は
保持される(第3図−a)。
次に、ワーク搬送機構40を駆動して、ワーク3を検査
部10のワーク載置台12上方のワーク受渡位置まで搬
送する。この際、接触端子移動機構50は、接触端子供
給部側へと移動する。
部10のワーク載置台12上方のワーク受渡位置まで搬
送する。この際、接触端子移動機構50は、接触端子供
給部側へと移動する。
ワーク受渡位置まで搬送されたワーク3は、検査部10
側から上昇したワーク移載ピン19上に移載される。こ
の際にワーク移載ピン19の先端部は、ワーク3におけ
るサポートボード8の4角に設けられた位置決め孔10
2に挿入され、ワーク3の粗い位置決めが行われる(第
2図)。
側から上昇したワーク移載ピン19上に移載される。こ
の際にワーク移載ピン19の先端部は、ワーク3におけ
るサポートボード8の4角に設けられた位置決め孔10
2に挿入され、ワーク3の粗い位置決めが行われる(第
2図)。
1
粗い位置決めとなるのは、位置決め孔102の内径がワ
ーク移載ピン1つの外径よりもかなり大きいからである
。
ーク移載ピン1つの外径よりもかなり大きいからである
。
この後、ワーク移載ピン19は下降し、ワーク載置台1
2上にワーク3が載置される。このとき、第4図に示す
ように、ソケットボード5の位置決め孔103にワーク
セットベースユニット17の固定ピン105が係合する
ことによって、ソケットボート5に載置された半導体モ
ジュール2の正確な位置決めが行われる。
2上にワーク3が載置される。このとき、第4図に示す
ように、ソケットボード5の位置決め孔103にワーク
セットベースユニット17の固定ピン105が係合する
ことによって、ソケットボート5に載置された半導体モ
ジュール2の正確な位置決めが行われる。
正確な位置決めとなるのは、位置決め孔103の内径と
固定ピン105の外径とが略等しいからである。
固定ピン105の外径とが略等しいからである。
このように、粗い位置決めの後に正確な位置決めを行う
のは半導体モジュール2を載置したソケットボード5と
サポートボード8は締結ボルト101によって締結され
るので、締結時に取付は誤差がでるので、固定ピン10
5と位置決め孔103によってソケットボード5の正確
な位置決めを行い、半導体モジュール2の正確な位置を
決定す2 るためである。
のは半導体モジュール2を載置したソケットボード5と
サポートボード8は締結ボルト101によって締結され
るので、締結時に取付は誤差がでるので、固定ピン10
5と位置決め孔103によってソケットボード5の正確
な位置決めを行い、半導体モジュール2の正確な位置を
決定す2 るためである。
そして、クランプ14によってワーク載置台12に対し
て液密に固定されると共に、ワーク3のソケットボード
5と検査部1o側のワークセットベースユニット17と
の電気的な接続が行われる(第3図=b)。
て液密に固定されると共に、ワーク3のソケットボード
5と検査部1o側のワークセットベースユニット17と
の電気的な接続が行われる(第3図=b)。
ワーク3のセツティングと相前後して、ピンブロック2
1の装着が行われる。(第3図−b)Xステージ51、
Yステージ52および図示を省略したθ駆動機構を駆動
してチップ2aの周囲に形成された測定用電極パッドと
ピンブロック21に植設されたプローブピンとのアライ
メントが行われる。
1の装着が行われる。(第3図−b)Xステージ51、
Yステージ52および図示を省略したθ駆動機構を駆動
してチップ2aの周囲に形成された測定用電極パッドと
ピンブロック21に植設されたプローブピンとのアライ
メントが行われる。
そして、非導電性不活性液体導入管57から例えばフッ
素系不活性液が液槽13内に供給され、ワーク3は非導
電性不活性液体15内に浸漬された状態となる。
素系不活性液が液槽13内に供給され、ワーク3は非導
電性不活性液体15内に浸漬された状態となる。
この後、非導電性不活性液体15を測定対象チップ2a
上および周囲に供給しつつ、2ステージ53を駆動する
ことによって測定部56を下降さ 3 せ、ピンブロック21のプローブピンを非導電性不活性
液体15中に浸漬しつつ、測定用電極パッドに当接させ
る。そして、半導体モジュール2にテスト電圧を供給し
当該チップ2aの検査を行う(第3図−C)。
上および周囲に供給しつつ、2ステージ53を駆動する
ことによって測定部56を下降さ 3 せ、ピンブロック21のプローブピンを非導電性不活性
液体15中に浸漬しつつ、測定用電極パッドに当接させ
る。そして、半導体モジュール2にテスト電圧を供給し
当該チップ2aの検査を行う(第3図−C)。
検査が終了した後、非導電性不活性液体15を排出し、
検査部10上方まで移動したワーク搬送機構40にワー
ク移載ピン19によってワーク3を移載する。そして、
ワーク搬送機構40をワクローダ一部30まで移動して
、ワーク3を搬出し、一連の検査工程が終了する。
検査部10上方まで移動したワーク搬送機構40にワー
ク移載ピン19によってワーク3を移載する。そして、
ワーク搬送機構40をワクローダ一部30まで移動して
、ワーク3を搬出し、一連の検査工程が終了する。
このように、本実施例によれば、サポートボド8の位置
決め孔102と、ワーク移載ピン19によってワーク2
の粗い位置合せを行った後、ソケットボード5の位置決
め孔103とワークセットベースユニット17に設けら
れた固定ビン105によって、ソケットボード5の正確
な位置合せが行われる。
決め孔102と、ワーク移載ピン19によってワーク2
の粗い位置合せを行った後、ソケットボード5の位置決
め孔103とワークセットベースユニット17に設けら
れた固定ビン105によって、ソケットボード5の正確
な位置合せが行われる。
このため、締結ボルト101によって締結されるサポー
トボード8とソケットボード5の相対位4 置関係がすれたとしても、ソケットボード5を正確に位
置合せすることができるので、半導体モジュール2の正
確な位置決めを行うことができる。
トボード8とソケットボード5の相対位4 置関係がすれたとしても、ソケットボード5を正確に位
置合せすることができるので、半導体モジュール2の正
確な位置決めを行うことができる。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、半導体モジュー
ルと本体側との正確な位置決めを行うことができる。
ルと本体側との正確な位置決めを行うことができる。
第1図は本発明の一実施例にかかる半導体検査装置の断
面図、第2図および第4図はワークおよヒワークセット
ベースユニット近辺のX方向断面図、第3図はこの半導
体検査装置の検査手順を示す説明図である。 2・・・・・・・・・半導体モ、ジュール3・・・・・
・・・・ワーク 5・・・・・・・・・ソケットボード 8・・・・・・・・・サポートボード 17・・・・・・・・・ワークセットベースユニット1
9・・・・・・・・・ワーク移載ピン102.103・
・・・・・・・・位置決め孔5 5・・・・・・・・・固定ピン
面図、第2図および第4図はワークおよヒワークセット
ベースユニット近辺のX方向断面図、第3図はこの半導
体検査装置の検査手順を示す説明図である。 2・・・・・・・・・半導体モ、ジュール3・・・・・
・・・・ワーク 5・・・・・・・・・ソケットボード 8・・・・・・・・・サポートボード 17・・・・・・・・・ワークセットベースユニット1
9・・・・・・・・・ワーク移載ピン102.103・
・・・・・・・・位置決め孔5 5・・・・・・・・・固定ピン
Claims (1)
- 検査装置本体に設けられた被検査体の電極端子に検査
端子を接触させて検査を行う際の被検査体の位置決め方
法において、前記検査装置本体に対して移動可能であり
前記被検査体を載置したサイドボードと前記検査装置本
体との粗い位置決めを行う工程と、前記被検査体を支持
するソケットボードと前記検査装置本体との正確な位置
決めを行う工程と、を具備してなる被検査体の位置決め
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2062414A JPH03263347A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 被検査体の位置決め方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2062414A JPH03263347A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 被検査体の位置決め方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03263347A true JPH03263347A (ja) | 1991-11-22 |
Family
ID=13199470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2062414A Pending JPH03263347A (ja) | 1990-03-13 | 1990-03-13 | 被検査体の位置決め方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03263347A (ja) |
-
1990
- 1990-03-13 JP JP2062414A patent/JPH03263347A/ja active Pending
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