JPH03255689A - Excimer laser oscillator - Google Patents
Excimer laser oscillatorInfo
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- JPH03255689A JPH03255689A JP5408190A JP5408190A JPH03255689A JP H03255689 A JPH03255689 A JP H03255689A JP 5408190 A JP5408190 A JP 5408190A JP 5408190 A JP5408190 A JP 5408190A JP H03255689 A JPH03255689 A JP H03255689A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、エキシマレーザ発振器に関し、特にエキシマ
レーザのガスを交換するための時期を明確にする方法に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to excimer laser oscillators, and more particularly to a method for determining when to replace gas in an excimer laser.
従来、この種のエキシマレーザ発振器では、希ガス(X
esまたはKr)とハロゲンガス(H(1゜またはF2
)を混合し、バッファガスとしてはHe。Conventionally, this type of excimer laser oscillator uses rare gas (X
es or Kr) and halogen gas (H (1° or F2
), and He was used as the buffer gas.
Ne等のガスを加えた気体中の放電によりレーザ発振光
を得ている。混合ガス中のハロゲンガスは非常に反応性
が高く、レーザチャンバの内壁に吸着されたり、放電時
のプラズマ等により他の構成物質と化学反応を生じ、徐
々に濃度が減少し、レーザ出力の低下の原因となるため
、長時間安定なレーザ出力を得るために、定期的にハロ
ゲンガスを補給している。Laser oscillation light is obtained by electric discharge in a gas to which a gas such as Ne is added. The halogen gas in the mixed gas is highly reactive and may be adsorbed to the inner wall of the laser chamber or cause chemical reactions with other constituent substances due to plasma during discharge, resulting in a gradual decrease in concentration and a decrease in laser output. Therefore, in order to obtain stable laser output over a long period of time, halogen gas is regularly replenished.
上述した従来のエキシマレーザ発振器では、ハロゲンガ
ス補給の時期を決めるのに、レーザ出力が一定の値より
低下した時期に行っている。しかし、レーザ出力低下の
原因は、ハロゲンガスの濃度減少以外にも、レーザ発振
器の共振器の狂いや、ミラー等の汚れにも起因するため
、ハロゲンガスを補給してもレーザ出力が復帰しないと
いう欠点がある。In the conventional excimer laser oscillator described above, the timing of halogen gas replenishment is determined when the laser output drops below a certain value. However, the cause of the decrease in laser output is not only a decrease in the concentration of halogen gas, but also a malfunction of the laser oscillator's resonator and dirt on mirrors, etc., so even if halogen gas is replenished, the laser output will not recover. There are drawbacks.
本発明のエキシマレーザ発振器は、発振器内部に放電の
発光スペクトル強度をモニタする受光素子と、レーザ光
出力をモニタする受光素子、およびそれらの素子からの
電気信号を比較し、ノ・ロゲンガスを補給するハロゲン
ガス供給器を駆動するための制御回路を有している。The excimer laser oscillator of the present invention has a light receiving element that monitors the emission spectrum intensity of the discharge inside the oscillator, a light receiving element that monitors the laser light output, and compares the electrical signals from these elements and replenishes the nitrogen gas. It has a control circuit for driving the halogen gas supply device.
本発明は気体放電におけるスペクトル光をモニタするこ
とでノ・ロゲンガス濃度の減少を測定するためレーザ光
出力のみをモニタする場合に較べて、共振器のアライメ
ント等によるレーザ出力低下の要因を排除できるという
特長を有する。The present invention measures the decrease in the concentration of chlorogen gas by monitoring the spectral light in the gas discharge, so it is possible to eliminate factors that reduce the laser output due to resonator alignment, etc., compared to the case where only the laser light output is monitored. It has characteristics.
第1図(a)は本発明の一実旌例の構成図で、(b)は
レーザチャンバの横断面である。1はレーザチャンバで
内部に混合ガスが封入される。2゜3は放電電極で4の
電源より高電圧が印加され、2.3の電極間で放電が得
られる。5,6はレーザ発振器の共振器を構成するミラ
ーで、5は全反射鏡、6は部分透過鏡である。7はレー
ザ光が出力される光軸で、8のビームスプリッタにより
分岐されたレーザ光の一部が9のレーザモニタに入射す
る。12は放電光を透過させる窓でレーザ光の光軸と直
角の方向に向き、放電光のみを透過させる。透過した光
は13のバンドパスフィルターによりKrFエキシマで
あれば248nm、XeCl;!エキシマならば308
nm付近の光を選択し受光素子14に入射する。9のレ
ーザ出力モニタと14の受光素子よりの信号は、10の
制御回路に入力される。10の制御回路は、レーザ出力
と放電光強度が同時に一定値より低下した場合には11
のハロゲンガス供給器に信号を送りノ・ロゲンガスをレ
ーザチャンバ内に補給するが、レーザ出力が低下しても
、放電光強度が変化しない場合にはハロゲンガスの補給
は行なわない。FIG. 1(a) is a block diagram of one practical example of the present invention, and FIG. 1(b) is a cross-sectional view of a laser chamber. 1 is a laser chamber in which a mixed gas is sealed. 2.3 is a discharge electrode to which a higher voltage than the power source 4 is applied, and a discharge is obtained between the electrodes 2.3. 5 and 6 are mirrors constituting a resonator of a laser oscillator, 5 is a total reflection mirror, and 6 is a partial transmission mirror. Reference numeral 7 denotes an optical axis through which laser light is output, and a portion of the laser light split by the beam splitter 8 enters a laser monitor 9. Reference numeral 12 denotes a window that allows the discharge light to pass through, and is oriented in a direction perpendicular to the optical axis of the laser light, allowing only the discharge light to pass through. The transmitted light is filtered through 13 bandpass filters, and the wavelength is 248 nm for KrF excimer, XeCl;! 308 for excimer
Light in the vicinity of nm is selected and enters the light receiving element 14. Signals from a laser output monitor 9 and a light receiving element 14 are input to a control circuit 10. The control circuit 10 controls the control circuit 11 when the laser output and discharge light intensity simultaneously decrease below a certain value.
A signal is sent to the halogen gas supply device to supply halogen gas into the laser chamber, but if the discharge light intensity does not change even if the laser output decreases, halogen gas is not replenished.
第2図は本発明の実施例2の構成図である。第1図窓1
2の替りに光ファイバー20を使用するため、窓の取り
付は構造などが簡便になる利点がある。この他は先の実
施例と同じである。FIG. 2 is a configuration diagram of a second embodiment of the present invention. Figure 1 Window 1
Since the optical fiber 20 is used instead of the optical fiber 20, there is an advantage that the structure for installing the window is simplified. The rest is the same as the previous embodiment.
以上説明した様に本発明は、放電光をモニタすることに
より、レーザ出力低下の原因がノ10ゲンガス減少によ
るものであるか、他の原因によるものであるかを明確に
し、ガスの消費量を低減することができる効果がある。As explained above, the present invention clarifies whether the cause of the decrease in laser output is due to a decrease in gas or some other cause by monitoring the discharge light, and reduces the amount of gas consumption. There are effects that can be reduced.
第1図(a)は本発明の構成図、(b)はレーザチャン
バ部分の断面図である。第2図は本発明の第2の実施例
の構成図である。
1・・・・・・レーザチャンバ、2,3・・・・・・電
極、4・・・・・・電源、5・・・・・・全反射鏡、6
・・・・・・部分透過鏡、7・・・・・・光軸、8・・
・・・・ビームスプリッタ−9・・・・・・レーザ出力
モニタ、10・・・・・・制御回路、11・・・・・・
ハロゲンガス供給器、12・・・・・・Li2・・・・
・・バンドパスフィルター 14・・・・・・受光素子
、20・・・・・・光ファイバーFIG. 1(a) is a block diagram of the present invention, and FIG. 1(b) is a sectional view of a laser chamber portion. FIG. 2 is a block diagram of a second embodiment of the present invention. 1... Laser chamber, 2, 3... Electrode, 4... Power supply, 5... Total reflection mirror, 6
...Partially transmitting mirror, 7...Optical axis, 8...
...Beam splitter-9...Laser output monitor, 10...Control circuit, 11...
Halogen gas supply device, 12...Li2...
・・Bandpass filter 14・・・Photodetector, 20・・・Optical fiber
Claims (1)
により励起を行うエキシマレーザ発振器において、放電
による発光を電気信号に変換する受光素子と、レーザ光
出力をモニタする検出器、およびそれらの信号を比較し
、ハロゲンガス供給器を駆動する制御回路を含むことを
特徴とするエキシマレーザ発振器。In an excimer laser oscillator that uses rare gas and halogen gas as laser media and is excited by pulsed discharge, we compared the light receiving element that converts the light emitted by the discharge into an electrical signal, the detector that monitors the laser light output, and those signals. , an excimer laser oscillator comprising a control circuit for driving a halogen gas supply device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5408190A JPH03255689A (en) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | Excimer laser oscillator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5408190A JPH03255689A (en) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | Excimer laser oscillator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03255689A true JPH03255689A (en) | 1991-11-14 |
Family
ID=12960666
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5408190A Pending JPH03255689A (en) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | Excimer laser oscillator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03255689A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10341050A (en) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Komatsu Ltd | Gas laser device |
-
1990
- 1990-03-05 JP JP5408190A patent/JPH03255689A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10341050A (en) * | 1997-06-06 | 1998-12-22 | Komatsu Ltd | Gas laser device |
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