JPH03254055A - Electron microscope - Google Patents

Electron microscope

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Publication number
JPH03254055A
JPH03254055A JP4930490A JP4930490A JPH03254055A JP H03254055 A JPH03254055 A JP H03254055A JP 4930490 A JP4930490 A JP 4930490A JP 4930490 A JP4930490 A JP 4930490A JP H03254055 A JPH03254055 A JP H03254055A
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JP
Japan
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motion
movement
stage
drive
inclining
Prior art date
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Application number
JP4930490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norifune Hosoi
紀舟 細井
Yutaka Misawa
三沢 豊
Koji Kimoto
浩司 木本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03254055A publication Critical patent/JPH03254055A/en
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Abstract

PURPOSE:To accomplish wide range combinations of parallel motion amount with inclining motion amount by calculating the maximum possible motion amount from the situation of other motion amount when a certain specified motion amount is to be varied relative to the parallel motion and inclining motion of a gonio-stage, and thereupon admitting a movement within the limit thus obtained. CONSTITUTION:A drive command system 8 receives externally a command about parallel motion or inclining motion to be made by a gonio-stage 5, and sends the command to a computational processing system 7. This processing system 7 stores in memory the parallel motion amount and inclining motion amount of the gonio-stage 5 at the current time. When a motion command is received from the drive command system 8, the processing system calculates the limit value for movability and transmits only motion commands within this limit to a drive system 6, which implements the commands. This allows setting of the motion limit while correlation between the x, y parallel motion and theta, psi inclining motion are taken into consideration, so that any desired combination of the x, y, theta, psi motion amounts can be achieved within the extent in which the gonio-stage does not touch an objective stop.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は試料に電子線を透過させて、結晶構造。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention involves transmitting an electron beam through a sample to determine its crystal structure.

組成、化学結合状態などの情報を得る電子顕微鏡及びそ
の類似装置に関する。
This invention relates to electron microscopes and similar devices for obtaining information on composition, chemical bonding states, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子線が試料を透過する際に発生する特性X線を利用し
ての分析機能を持たせた電子顕微鏡では、電子線の通路
に試料を保持する方法としてサイドエントリー式のゴニ
オステージを用いるのが一般的である。ゴニオステージ
に装着された試料は対物レンズのポールピースと呼ばれ
るギャップ形成部のほぼ中央に保持される。第2図はこ
の様子を説明するためのゴニオステージ挿入方向から見
た断面図である。対物レンズのポールピースの一部分で
ある11,1.2によって形成される隙間13の中央に
ゴニオステージの試料保持部14が挿入されている。隙
間13内にはこの他に対物絞り15も挿入されている。
In an electron microscope equipped with an analysis function that uses characteristic X-rays generated when an electron beam passes through a sample, a side-entry goniometer stage is used to hold the sample in the path of the electron beam. Common. The sample mounted on the goniometer stage is held approximately at the center of a gap forming section called the pole piece of the objective lens. FIG. 2 is a sectional view viewed from the goniometer stage insertion direction for explaining this situation. A sample holder 14 of a goniometer stage is inserted into the center of a gap 13 formed by parts 11 and 1.2 of the objective lens pole piece. In addition to this, an objective diaphragm 15 is inserted into the gap 13.

電子線16に対する試料の位置や向きは14の位置や向
きを変えて変化させることができる。−例として14を
傾けた場合、傾きが大きすぎると14′に示したゴニオ
ステージの傾き状態で14と15が接触し、対物絞りが
破損する。このためゴニオステージの移動可能範囲を設
定して、鏡体内部品との接触を防ぐ必要がある。
The position and orientation of the sample with respect to the electron beam 16 can be changed by changing the position and orientation of the electron beam 14. - For example, if 14 is tilted, if the tilt is too large, 14 and 15 will come into contact with each other in the tilted state of the goniometer stage shown at 14', and the objective aperture will be damaged. For this reason, it is necessary to set the movable range of the goniometer stage to prevent it from coming into contact with the parts within the mirror.

第3図はサイドエントリー方式ゴニオステージの構造と
、並進及び傾斜の機構を説明する図である。主軸20の
先端付近は平たん部21になっており、主軸の中心線方
向にX軸22を設定する。
FIG. 3 is a diagram illustrating the structure of the side entry type goniometer stage and the mechanisms for translation and tilting. The vicinity of the tip of the main shaft 20 is a flat portion 21, and an X-axis 22 is set in the direction of the center line of the main shaft.

21にはX軸22と垂直なy軸23を中心に回転できる
傾斜子24が付いており、試料25は24に装着される
。主軸20の微動によって試料25にX方向及びy方向
の並進移動を与えることができ、主軸20の回軸により
X軸回りの傾斜θを与えることができ、傾斜子24の傾
斜によりy軸回りの傾斜Tを与えることができる。なお
、xy平面は常に平たん部2工と平行にとるものとする
21 is equipped with a tilter 24 that can rotate about a y-axis 23 perpendicular to the x-axis 22, and a sample 25 is attached to 24. The slight movement of the main shaft 20 can give the sample 25 translation in the X and y directions, the rotation of the main shaft 20 can give a tilt θ around the X axis, and the tilt of the tilter 24 can give the sample 25 a translational movement around the A slope T can be provided. Note that the xy plane is always parallel to the 2nd flat part.

すなわちX軸回りの傾斜によってy軸の方向が変化する
ものと約束する。
In other words, it is assumed that the direction of the y-axis changes depending on the inclination around the x-axis.

サイドエントリー方式のゴニオステージにおいては、第
3図で説明した機構によって試料の電子線に対する位置
と向きを変えることによってできるが、移動の量がある
限度を越えると第2図で説明した様な対物絞りの破損を
生じる。この対策として、x、y方向の並進移動量及び
θ、Tの傾斜移動量の全てについて限界値を設けて、こ
れを越えての移動ができないようインターロックをかけ
る必要がある。
In a side-entry type goniometer stage, this can be done by changing the position and orientation of the sample relative to the electron beam using the mechanism explained in Figure 3, but if the amount of movement exceeds a certain limit, the objective as explained in Figure 2 will change. This will cause damage to the aperture. As a countermeasure for this, it is necessary to set limit values for all of the translational movement amounts in the x and y directions and the inclination movement amounts in θ and T, and to apply an interlock to prevent movement beyond these limits.

この種のインターロックの方法として、特開昭59−1
46145号に記載の干渉部材による接触の危険の検出
法が考案されている。これは、鏡体試料室内部構造を代
表する固定干渉部材とゴニオステージの移動量を代表す
る移動干渉部材を設け、移動干渉部材の移動をゴニオス
テージの移動と完全に連動させ、固定干渉部材と移動干
渉部材の電気的なたは機械的接触によってゴニオステー
ジの移動限界を検出してインターロックをかける方法で
ある。
As this type of interlock method, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-1
A method of detecting the risk of contact by an interference member has been devised, as described in No. 46145. This is achieved by providing a fixed interference member that represents the internal structure of the mirror sample chamber and a moving interference member that represents the amount of movement of the goniometer stage. This method detects the movement limit of the goniometer stage through electrical or mechanical contact of moving interference members and applies an interlock.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記従来技術は反射電子を検出する走査電子顕微鏡への
利用を想定して考案されたもので、透過電子を検出する
電子顕微鏡のような非常に限られた空間での実用化につ
いては配慮されていない。
The above-mentioned conventional technology was devised with the assumption that it would be used in scanning electron microscopes that detect reflected electrons, and no consideration was given to its practical application in extremely limited spaces such as in electron microscopes that detect transmitted electrons. do not have.

すなわち、走査電子顕微鏡の鏡体内には広い空間がある
ので、ゴニオステージの動きと移動干渉部材の動きを連
動させる機構を組み込む余地が十分にあった。これに対
して透過電子顕微鏡では、細い棒状のゴニオステージを
電子レンズ内に差し込む機構であり、十分に安定して動
作するようなゴニオステージと移動干渉部材の連動機構
を付属させることは非常に困難である。また仮に実現し
たとしても、サイドエントリー方式ゴニオステージが大
がかりなものになるため、外部からの振動の影響を受は
易くなり、電子顕微鏡本体の性能を損ってしまう。
In other words, since there is a wide space inside the mirror body of a scanning electron microscope, there is ample room to incorporate a mechanism that links the movement of the goniometer stage and the movement of the movable interference member. In contrast, in a transmission electron microscope, a thin rod-shaped goniometer stage is inserted into the electron lens, and it is extremely difficult to attach an interlocking mechanism between the goniometer stage and the movable interference member that operates sufficiently stably. It is. Even if it were to be realized, the side-entry goniometer stage would be large-scale, making it susceptible to external vibrations, which would impair the performance of the electron microscope itself.

そこで、大型化の不都合を回避するために、単純化応用
が考えられる。これは、1個の移動干渉部材で正確にゴ
ニオステージのすべての動きをモニターするのではなく
、X、 3/、θ (0のそれぞれに一組ずつの固定及
び移動干渉部材を割り当てる方法である。この方法であ
れば、X+’l+  θ。
Therefore, in order to avoid the disadvantages of increasing the size, a simplified application can be considered. This is a method that assigns one set of fixed and moving interference members to each of .With this method, X+'l+θ.

Tのそれぞれの駆動部の適当な部位に正、負の移動限界
値に対応する固定干渉部材と、この間を移動するような
移動干渉部材を設置すれば良く、大型化の大都会は生じ
ない。しかし、この場合、X。
It is sufficient to install fixed interference members corresponding to positive and negative movement limit values and a movable interference member that moves between the fixed interference members at appropriate positions of each drive unit of the T, and large cities do not arise. However, in this case, X.

y、θ、(Pのそれぞれについて個別に固定された限界
値を設けるため、x、y、  θ、ψの全てが同時に限
界値となってもゴニオステージと対物絞りの接触が生じ
ない範囲でなければならないという欠点がある。
Since individual fixed limit values are provided for each of y, θ, and (P), it must be within a range that does not cause contact between the goniometer stage and objective aperture even if x, y, θ, and ψ all reach their limit values at the same time. It has the disadvantage that it cannot be used.

近年の電子顕微鏡に対する高分解能化の要求のために、
上記従来技術の単純化応用インターロックの欠点が顕著
なものとなってきた。
Due to the recent demand for higher resolution for electron microscopes,
The shortcomings of the simplified applied interlocks of the prior art described above have become significant.

分解能は電子線の波長が短いほど向上し、また、対物レ
ンズの磁界が強いほど向上する。対物レンズの磁界を強
めるにはポールピースの隙間を狭くする必要があり、そ
の分だけゴニオステージの移動量の範囲が小さくなり、
電子線の加速電圧30OkVクラスの電子顕微鏡では波
長が短いので高分解能化によってもポールピースの隙間
はさして狭まらないが、200kVクラスでは隙間の挟
まりの影響が大きい。従来の限界値設定方法では、分解
能1.4nm の装置ではx、yが±1mm、  θ。
The resolution improves as the wavelength of the electron beam becomes shorter, and the resolution improves as the magnetic field of the objective lens becomes stronger. In order to strengthen the magnetic field of the objective lens, it is necessary to narrow the gap between the pole pieces, which reduces the range of movement of the goniometer stage.
In an electron microscope with an electron beam accelerating voltage of 30OkV class, the wavelength is short, so the gap between the pole pieces does not narrow much even with higher resolution, but in the 200kV class, the effect of the gap being caught is large. In the conventional limit value setting method, x and y are ±1 mm and θ for a device with a resolution of 1.4 nm.

Tが±20’の範囲で移動できたが、1.0nm分解能
装置では、Xryが±1m、θ、Tが±10’の範囲に
制約される。
Although T could be moved within a range of ±20', in a 1.0 nm resolution device, Xry is limited to a range of ±1 m, and θ and T are limited to a range of ±10'.

一例として、1.0nm分解能装置において試料の移動
量をx=y=Q、5nm 、 θ=20@ψ=5°に設
定したいとする。この設定にしてもゴニオステージと対
物絞りは接触しないにもかかわらず、1.0nm分解能
装置ではインターロックの働きによりこの様な設定には
できない。すなわち、従来のインターロック技術では、
本来移動可能なX、 y、θ、ψの範囲のうちの一部の
範囲での移動しか許されず、使用者に不便を強いている
As an example, assume that in a 1.0 nm resolution device, the amount of movement of the sample is set to x=y=Q, 5 nm, θ=20@ψ=5°. Although the goniometer stage and the objective aperture do not come into contact with each other even with this setting, such a setting cannot be achieved in a 1.0 nm resolution device due to the function of an interlock. In other words, with conventional interlock technology,
Movement is only allowed within a part of the originally movable ranges of X, y, θ, and ψ, which causes inconvenience to the user.

本発明の目的は、従来の干渉部材の接触法には依らずに
、x、y、θ、(Pの各々の移動量について相対的に考
慮しながら動作するインターロック手段を備えることに
より、ゴニオステージと対物絞りの接触が生じない範囲
での自由なx、y、θ。
An object of the present invention is to provide an interlocking means that operates while taking into consideration relative movement amounts of each of x, y, θ, and (P) without relying on the conventional contact method of interference members. Free x, y, and θ within the range where the stage and objective aperture do not come into contact.

での組合せを実現する電子顕微鏡を提供することにある
。特に、本発明の電子顕微鏡は結晶性物質の解析に有利
である。
The object of the present invention is to provide an electron microscope that realizes the combination of In particular, the electron microscope of the present invention is advantageous for analyzing crystalline substances.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために、x、y、 θ、ψの移動量
のうちのいずれかを変えようとする毎に、他の移動量を
現状の値に保持するという条件下で変えようとする移動
量のみの移動限界値を算出し、この限界値の範囲内での
移動を許す構造とした。
In order to achieve the above objective, each time we try to change any of the displacements of x, y, θ, ψ, we try to change it under the condition that the other displacements are kept at their current values. A movement limit value for only the amount of movement was calculated, and the structure was designed to allow movement within this limit value.

〔作用〕[Effect]

後述する実施例の全体構成を示す第1図を用いて本発明
の詳細な説明する。電子線源1から検出部3へ向って電
子線が通っている鏡体2中の電子線の通路に試料4を保
持するためのサイドエントリー方式のゴニオメータ5は
駆動系6.演算処理系7、駆動指示系8によって制御さ
れる。駆動系6はゴニオステージ5に並進移動及び傾斜
移動を行わせる役目を持ち、モータなどの動力発生手段
と動力伝達手段から構成される。駆動指示系8はゴニオ
ステージ5に行わせようとする並進移動や傾斜移動の命
令を外部から受は取り、演算処理系7に伝える役割を持
つ。外部からの命令受は取り方法は1人によるツマミ、
ボタン、レバー、ペダル等の入力手段による直接入力方
法またはプログラムされた計算機からの命令転送による
方法とする。演算処理系7は記憶素子、演算素子、l!
@動指示系8からの命令受は入れ手段、及び、駆動系6
への命令伝達手段から構成される。演算処理系7は現時
点でのゴニオステージ5の並進及び傾斜移動量を記憶し
ている。ここへ駆動指示系8から移動命令を受は取ると
移動可能限界値を算出してこの範囲内の移動命令のみを
駆動系6へ伝達して実行させる。このようにすれば、X
y3/の並進、θ。
The present invention will be described in detail with reference to FIG. 1 showing the overall configuration of an embodiment described later. A side entry type goniometer 5 for holding the sample 4 in the path of the electron beam in the mirror body 2 through which the electron beam passes from the electron beam source 1 to the detection section 3 is driven by a drive system 6. It is controlled by an arithmetic processing system 7 and a drive instruction system 8. The drive system 6 has the role of causing the goniometer stage 5 to perform translational movement and tilting movement, and is composed of power generation means such as a motor and power transmission means. The drive instruction system 8 has the role of receiving from the outside commands for translational movement or tilting movement to be performed by the goniometer stage 5, and transmitting them to the arithmetic processing system 7. The method of receiving commands from outside is by one person using a knob.
Direct input using input means such as buttons, levers, pedals, etc., or instruction transfer from a programmed computer. The arithmetic processing system 7 includes memory elements, arithmetic elements, l!
@Input means for receiving commands from the motion instruction system 8 and the drive system 6
It consists of a means of transmitting commands to. The arithmetic processing system 7 stores the translational and tilting amounts of the goniometer stage 5 at the current time. When a movement command is received from the drive instruction system 8, a movement limit value is calculated, and only movement commands within this range are transmitted to the drive system 6 and executed. If you do this,
Translation of y3/, θ.

Tの傾斜移動の相対的関係を考慮しながら移動限界を設
定できるので、ゴニオステージが対物絞りなどと接触し
ない範囲でX H’l Hθ、Tの移動量の自由な組合
せが実現できる。
Since the movement limit can be set while considering the relative relationship of the tilt movement of T, a free combination of the movement amounts of X H'l Hθ and T can be realized within a range where the goniometer stage does not come into contact with the objective aperture or the like.

〔実施例〕〔Example〕

以下5本発明の一実施例を説明する。第工図は本実施例
の基本構造図である。ゴニオステージ5は電子顕微鏡の
鏡体2の中の電子線の通路に試料4を保持しており、試
料4に対して第3図で示した様なXr’j方向の並進移
動、θ、CPの傾斜移動を与える構造になっている。こ
れらの移動は駆動系6の電動モータの動力により実行さ
れる。駆動指示系8はゴニオステージに与えるへき移動
を入力する部分で、ジョイスティックによってX。
Hereinafter, five embodiments of the present invention will be described. The construction drawing is a basic structural diagram of this embodiment. The goniometer stage 5 holds the sample 4 in the path of the electron beam in the mirror body 2 of the electron microscope, and performs translational movement in the Xr'j direction, θ, CP with respect to the sample 4 as shown in FIG. It has a structure that allows for tilt movement. These movements are executed by the power of the electric motor of the drive system 6. The drive instruction system 8 is a part that inputs the cleavage movement to be given to the goniometer stage, and is used to input the lateral movement to be applied to the goniometer stage.

X+’l+  Yの並進移動命令を入力し、別のジョイ
スティックによってθ、十〇、’f、+’Pの傾斜移動
命令を入力するようにした。演算処理系7は32ビツト
のパーソナルコンピュータと、駆動指示系8から命令を
受けるためのインターフェースと、駆動系6のモーター
の電源をON、OFFする手段で構成される。
A translational movement command of X+'l+Y is input, and tilting movement commands of θ, 10, 'f, +'P are inputted using another joystick. The arithmetic processing system 7 is composed of a 32-bit personal computer, an interface for receiving commands from the drive instruction system 8, and means for turning on and off the power to the motor of the drive system 6.

第4図及び第5図は本実施例におけるゴニオステージの
並進及び傾斜移動の制御方法を説明するために、位置座
標系を定義する図及びゴニオステージに設けた座標モニ
ター点を示す図である。第3図に示した並進方向を定義
するy軸、y軸とは別に、鏡体内におけるゴニオステー
ジの位置を表すための直交座標系を第4図のように設定
する。
4 and 5 are diagrams defining a position coordinate system and diagrams showing coordinate monitor points provided on the gonio stage, in order to explain the method of controlling the translation and tilting movement of the gonio stage in this embodiment. Apart from the y-axis and y-axis that define the translational direction shown in FIG. 3, an orthogonal coordinate system is set as shown in FIG. 4 to represent the position of the goniometer stage within the mirror body.

電子鏡の進行方向31と平行に2軸33をとり、ゴニオ
ステージの主軸方向にX軸33を定め、右手座標系とな
るよう残りのY軸を定める。このX軸、Y軸は、ゴニオ
ステージの移動量ゼロの状態で第3図のX軸、y軸と一
致する。並進、傾斜移動によってゴニオステージがポー
ルピースの隙間内でゴニオステージの上下にある他の部
品に接触しないようにするには、ゴニオステージのどの
部分のZ座標も構造で決まる±l Z−ax lを越え
ないようにすれば良い。ゴニオステージの上方(−2方
向)または下方(+2方向)に最も突き出した位置を代
表するものとして、第5図の傾斜子24の8個の角の部
分a −h、及びゴニオステージの平たん部24のy軸
23をはさむ上下の4点Ω〜0の座標を並進、傾斜の操
作毎にモニターし、各点の2座標が±IZ−axlを越
えないよう制御する。
Two axes 33 are set parallel to the direction of movement 31 of the electronic mirror, an X-axis 33 is set in the direction of the main axis of the goniometer stage, and the remaining Y-axes are set so as to form a right-handed coordinate system. The X-axis and Y-axis coincide with the X-axis and y-axis in FIG. 3 when the amount of movement of the goniometer stage is zero. In order to prevent the goniometer stage from coming into contact with other parts above and below it within the gap between the pole pieces due to translational and tilting movements, the Z coordinate of any part of the goniometer stage is determined by the structure ± l Z - ax l You just have to make sure you don't exceed that. The eight corner portions a - h of the tilter 24 in FIG. The coordinates of four points Ω~0 above and below the y-axis 23 of the section 24 are monitored for each translation and tilt operation, and the two coordinates of each point are controlled so as not to exceed ±IZ-axl.

一般にある座標点を表わす3項数ベクトルaの並、傾斜
移動操作による新座標を表わす3項数ベクトルa′の関
係は、Aを3行3列の行列として、A a= a ’ 
と表わされる。この関係を本実施例の座標系に適用すれ
ば、現在のX、Y、Z座標とθ。
Generally, the relationship between the alignment of the trinomial vector a representing a coordinate point and the trinomial vector a' representing the new coordinates resulting from the tilt movement operation is as follows, where A is a 3-by-3 matrix, A a = a '
It is expressed as If this relationship is applied to the coordinate system of this embodiment, the current X, Y, Z coordinates and θ.

Tの下で±X、±y、±θ、±rのどの移動操作ん加え
るかによりAは一義的に定まる。また、aは現在のX、
Y、Z座標そのものであるから、a’=について簡単な
代数で解くことができ、このZ座標成分の範囲を±lz
、a、l以下にするように制御すれば良い。
A is uniquely determined by which movement operation of ±X, ±y, ±θ, and ±r is applied under T. Also, a is the current X,
Since these are the Y and Z coordinates themselves, a'= can be solved using simple algebra, and the range of this Z coordinate component is ±lz
, a, l or less.

本実施例では、演算処理系7に、a−h、Q〜0各点の
x、y、z座標及び傾斜角θ、Tの値を記憶しておき、
さらに並進や傾斜の命令毎に行列計算を実行させ、a=
h、Q−oのすべてのZ座標が±1z−awl以下であ
る場合に駆動系7にゴニオステージの移動を実行させて
いる。
In this embodiment, the arithmetic processing system 7 stores the x, y, and z coordinates of each point a-h, Q-0, and the values of the inclination angles θ and T.
Furthermore, matrix calculations are executed for each translation and tilt command, and a=
When all Z coordinates of h and Qo are less than ±1z-awl, the drive system 7 is caused to move the goniometer stage.

本実施例の場合、従来技術の可動範囲設定をすると、X
r’/の並進は±1mm以内、θ、ψの傾斜は±10°
以内となるが、本実施例で説明した本発明の移動制限方
法によれば、−例としてx=y=±0.511I11.
θ=±15°、ψ=±7° (θ。
In the case of this embodiment, if the movable range setting of the conventional technology is set,
Translation of r'/ is within ±1mm, inclination of θ and ψ is ±10°
However, according to the movement restriction method of the present invention described in this embodiment, as an example, x=y=±0.511I11.
θ=±15°, ψ=±7° (θ.

ではどの+、−の組み合わせも可)の移動量の組合せも
実現でき、この組合せは従来技術では不可能であった。
Therefore, it is possible to realize a combination of movement amounts (any combination of + and - is possible), and this combination was not possible with the prior art.

本実施例によれば、ゴニオステージによる鏡体的部品の
破損を生しることなく、従来の移動制限方法では実現し
得ない範囲の移動量の組み合せを実現する電子顕微鏡を
提供できる。
According to this embodiment, it is possible to provide an electron microscope that achieves a range of combinations of movement amounts that cannot be achieved with conventional movement restriction methods, without causing damage to mirror components caused by the goniostage.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、電子顕微鏡の鏡体内におけるゴニオス
テージの並進及び傾斜の移動に対して固定された上限値
を設けるのではなくて、ある移動量を変える場合に、他
の移動量の状況から可能な最大移動量を算出してその範
囲の移動を許すので、広い範囲の並進、傾斜移動量の組
合せを実現できる効果がある。
According to the present invention, instead of setting fixed upper limits for the translational and tilting movements of the goniometer stage within the mirror body of an electron microscope, when changing a certain amount of movement, it is possible to Since the maximum possible amount of movement is calculated and movement within that range is allowed, it is possible to realize combinations of translational and tilting amounts over a wide range.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例の基本構成図、第2図はゴニ
オステージの試料保持部近くの電子微鏡鏡鏡体内部の様
子を示す図、第3図はサイドエントリー方式ゴニオステ
ージの構造と並進及び傾斜の機構の説明図、第4図は本
発明の一実施例におけるゴニオステージの制御のために
設けたXYZ直交座標系の説明図、第5図は本発明の一
実施例におけるゴニオステージの制御のために設けた座
標位置モニター点を示す図である。 1・電子線源、2・・・電子顕微鏡の鏡体、3・・・電
子線の検出部、5・・・サイドエントリー方式のゴニオ
ステージ、6・・・駆動系、7・・・演算処理系、8・
・・駆動指示系、11.12・・・対物レンズのポール
ピースの一部、工3・・・ポールピースの隙間、工4・
・・ゴニオステージの試料保持部、15・・・対物絞り
、20・・・ゴニオステージの主軸、21・・・主軸先
端の平たん部、22・・・X軸、23・・・y軸、24
・・・傾斜22 第 図 第 図 第 図 7ム 第 図 電+錦δ句
Figure 1 is a basic configuration diagram of an embodiment of the present invention, Figure 2 is a diagram showing the inside of the electron microscope near the sample holding part of the goniometer stage, and Figure 3 is a diagram of the side entry goniometer stage. FIG. 4 is an explanatory diagram of the structure and translation and tilting mechanism. FIG. 4 is an explanatory diagram of the XYZ orthogonal coordinate system provided for controlling the goniometer stage in an embodiment of the present invention. FIG. FIG. 3 is a diagram showing coordinate position monitor points provided for controlling the goniometer stage. 1. Electron beam source, 2. Mirror body of electron microscope, 3. Electron beam detection unit, 5. Side entry goniometer stage, 6. Drive system, 7. Arithmetic processing. System, 8・
... Drive indication system, 11.12... Part of the objective lens pole piece, Step 3... Gap between pole pieces, Step 4.
... Sample holding part of the goniometer stage, 15... Objective aperture, 20... Main shaft of the goniometer stage, 21... Flat part at the tip of the main shaft, 22... X axis, 23... Y axis, 24
・・・Slope 22 Fig. Fig. Fig. 7 Mu Fig. den + Brocade δ phrase

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、試料を透過した電子線を検出する装置において、試
料はサイドエントリー方式のゴニオステージにより電子
線の通路に保持され、ゴニオステージは、電子線と平行
でない任意の面内において設定される直交座標系のx方
向及びy方向の並進移動、並びに、x軸回り及びy軸回
りの傾斜を試料に施すための駆動系と、外部から並進ま
たは傾斜の駆動命令を受ける駆動指示系と、演算処理系
とにより制御され、演算処理系は駆動指示系が駆動命令
を受ける毎に並進または傾斜の限界値を設定し、この範
囲内での駆動を駆動系に実行させることを特徴とする電
子顕微鏡。
1. In a device that detects an electron beam transmitted through a sample, the sample is held in the path of the electron beam by a side-entry goniometer stage, and the goniometer stage has orthogonal coordinates set in an arbitrary plane that is not parallel to the electron beam. A drive system for translating the system in the x and y directions and tilting the sample around the x and y axes, a drive instruction system that receives translation or tilt drive commands from the outside, and an arithmetic processing system. An electron microscope characterized in that the arithmetic processing system sets a limit value for translation or inclination each time the drive instruction system receives a drive command, and causes the drive system to execute driving within this range.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004008475A1 (en) * 2002-07-12 2004-01-22 Sii Nanotechnology Inc. Ion beam device and ion beam processing method, and holder member

Cited By (2)

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WO2004008475A1 (en) * 2002-07-12 2004-01-22 Sii Nanotechnology Inc. Ion beam device and ion beam processing method, and holder member
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