JPH03245006A - 位相シフト干渉測定方法 - Google Patents
位相シフト干渉測定方法Info
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- JPH03245006A JPH03245006A JP4333690A JP4333690A JPH03245006A JP H03245006 A JPH03245006 A JP H03245006A JP 4333690 A JP4333690 A JP 4333690A JP 4333690 A JP4333690 A JP 4333690A JP H03245006 A JPH03245006 A JP H03245006A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title description 18
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 15
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 12
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 235000017166 Bambusa arundinacea Nutrition 0.000 description 1
- 235000017491 Bambusa tulda Nutrition 0.000 description 1
- 241001330002 Bambuseae Species 0.000 description 1
- 235000015334 Phyllostachys viridis Nutrition 0.000 description 1
- 239000011425 bamboo Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、位相シフト干渉測定方法に関するものであり
、例えば表面形状の非接触測定に用いられるものである
。
、例えば表面形状の非接触測定に用いられるものである
。
[従来の技術]
従来、2光束光束干渉計を用いて物体の表面形状を非接
触的に測定するために、位相シフト干渉測定方法が提案
されている。この測定方法は、1974年にBruni
ngにより発表された測定方法であり、レーザー干渉計
の測定精度を大きく向上させることかできる(Appl
ied 0ptics Vo113゜No、11参
照)。
触的に測定するために、位相シフト干渉測定方法が提案
されている。この測定方法は、1974年にBruni
ngにより発表された測定方法であり、レーザー干渉計
の測定精度を大きく向上させることかできる(Appl
ied 0ptics Vo113゜No、11参
照)。
第1図は従来のトワイマングリーン干渉計の概略構成を
示している。光源から出た光はコリメートされ、適当な
径の平行光束とされて、ビームスプリッタ1に入射する
。ここで、参照鏡2へ進む参照光と被測定物4へ進む物
体光の2光束に分けられる。それぞれの光は、参照鏡2
と被測定物4で反射され、再びビームスプリッタ1に戻
る。ここで、2つの光が合成され、観測面5で干渉縞が
観察される。
示している。光源から出た光はコリメートされ、適当な
径の平行光束とされて、ビームスプリッタ1に入射する
。ここで、参照鏡2へ進む参照光と被測定物4へ進む物
体光の2光束に分けられる。それぞれの光は、参照鏡2
と被測定物4で反射され、再びビームスプリッタ1に戻
る。ここで、2つの光が合成され、観測面5で干渉縞が
観察される。
被測定物4の表面上の任意の点をx−y座標で表し、そ
の点での高さをh(x、y)とする。被測定物4から反
射される波面Wt(x、y)は、次式で表される。
の点での高さをh(x、y)とする。被測定物4から反
射される波面Wt(x、y)は、次式で表される。
Wt(x、y)=a −exp(i2kh(x、y)
l +++■ここで、k=2π/λ、λは波長、
aは定数、iは虚数単位である。
l +++■ここで、k=2π/λ、λは波長、
aは定数、iは虚数単位である。
第1図の光学系では、参照鏡2にPZT3を取り付けで
ある。このPZT3を駆動させ、参照鏡2を変位させる
と、参照光の位相が変化する。位相変化量をδとし、参
照光の波面をWr(x、y)とすると、W r (x
、 y )は次式で表される。
ある。このPZT3を駆動させ、参照鏡2を変位させる
と、参照光の位相が変化する。位相変化量をδとし、参
照光の波面をWr(x、y)とすると、W r (x
、 y )は次式で表される。
Wr(x、y)−bexp(ikδ) ・■−
こで、bは定数である。上記の、■式から、観測面5で
得られる干渉縞1 (x、y、δ)は、I (X、11
.δ) −l Wt(x、y)+Wr(x、y)α→−βcos
[2h(x、y)−δ) ■たたし、α= a2
+ b2 β=2ab 位相ジフト注では、δをある既知量たけ3回以」二変化
させ、これらの複数の干渉縞からフーリエ展開により、
未知数であるα、β、h(x、y)の中がらh(x、y
)たけを抽出する。ここで、高さh(x、y)を抽出し
たが、波面Wt(x、y)の位相分布φ(x、y)−2
kh(x、y)を抽出したと考えても良い。
こで、bは定数である。上記の、■式から、観測面5で
得られる干渉縞1 (x、y、δ)は、I (X、11
.δ) −l Wt(x、y)+Wr(x、y)α→−βcos
[2h(x、y)−δ) ■たたし、α= a2
+ b2 β=2ab 位相ジフト注では、δをある既知量たけ3回以」二変化
させ、これらの複数の干渉縞からフーリエ展開により、
未知数であるα、β、h(x、y)の中がらh(x、y
)たけを抽出する。ここで、高さh(x、y)を抽出し
たが、波面Wt(x、y)の位相分布φ(x、y)−2
kh(x、y)を抽出したと考えても良い。
特に、位相変化量δとして、δ−0,π/2 π3π/
2の4つを採用すると、高さh(x、y)の抽出が簡単
になる。上記4つの位相を採用した場合の強度は、以下
の式のようになる。
2の4つを採用すると、高さh(x、y)の抽出が簡単
になる。上記4つの位相を採用した場合の強度は、以下
の式のようになる。
Hx、y、 O) =a+βcos k・2h(x、y
)I (x、y、π/2) =a−βsin k・2h
(x、y)I(x、y、 rr ) =a−βcos
k・2h(x、y)1 (x、y、3/2π)−a+β
sin k・2 h(x、y)これらから、h(x、y
)は以下のようになる。
)I (x、y、π/2) =a−βsin k・2h
(x、y)I(x、y、 rr ) =a−βcos
k・2h(x、y)1 (x、y、3/2π)−a+β
sin k・2 h(x、y)これらから、h(x、y
)は以下のようになる。
この方法は、4バケツト法と呼はれ、最もよく用いられ
ている。
ている。
以上の説明から明らかなように、位相シフト法で高さh
(x、y)を抽出するときには、位相変化量δの各位相
差における干渉縞パターンI (x、y、δ〉における
α、βの値は、δが変化しても変わらないことが必要で
ある。なお、第1図に示す光学系では、PZT3による
位相シフト法を示したが、この他にも偏光を利用した位
相シフト法がある。
(x、y)を抽出するときには、位相変化量δの各位相
差における干渉縞パターンI (x、y、δ〉における
α、βの値は、δが変化しても変わらないことが必要で
ある。なお、第1図に示す光学系では、PZT3による
位相シフト法を示したが、この他にも偏光を利用した位
相シフト法がある。
第2図は特開昭63−21503号公報に開示されてい
る位相シフト法の説明図である。この光学系では、複数
枚の波長板を用いる。まず、入射レーザー光は偏光子2
1により直線偏光に変換される。次いで、波長板22を
通過するが、透過光において、常光線と異常光線と0間
には、波長板22の特性によって定まる所定の位相差δ
が与えられる。その後、光束は偏光ビームスプリッタ−
23により、物体光と参照光に分離される。この際、物
体光と参照先は、上述の常光線と異常光線のどちらかに
完全に一致させておく。偏光ビームスプリッタ−23は
偏光方向で2光束に分ける働きがある。この後、物体光
と参照光はそれぞれ被測定物27と参照鏡25で反射さ
れて、検光子28を介して観測面2つで干渉縞を形成す
る。1/4波長板24.26では、それぞれの直線偏光
の光に対して1/4波長の位相シフトを与える。この光
学系において、位相シフト法を行うためには、波長板2
2を交換もしくは追加することで位相変化量δを変化さ
せることにより実現できるとされている。上記公報では
、波長板を配置する方法として、以下のような提案がさ
れている。
る位相シフト法の説明図である。この光学系では、複数
枚の波長板を用いる。まず、入射レーザー光は偏光子2
1により直線偏光に変換される。次いで、波長板22を
通過するが、透過光において、常光線と異常光線と0間
には、波長板22の特性によって定まる所定の位相差δ
が与えられる。その後、光束は偏光ビームスプリッタ−
23により、物体光と参照光に分離される。この際、物
体光と参照先は、上述の常光線と異常光線のどちらかに
完全に一致させておく。偏光ビームスプリッタ−23は
偏光方向で2光束に分ける働きがある。この後、物体光
と参照光はそれぞれ被測定物27と参照鏡25で反射さ
れて、検光子28を介して観測面2つで干渉縞を形成す
る。1/4波長板24.26では、それぞれの直線偏光
の光に対して1/4波長の位相シフトを与える。この光
学系において、位相シフト法を行うためには、波長板2
2を交換もしくは追加することで位相変化量δを変化さ
せることにより実現できるとされている。上記公報では
、波長板を配置する方法として、以下のような提案がさ
れている。
まず第1は、λ/4、λ/2.3λ/4の3枚の波長板
を用意する。始めに、波長板を用いずに、干渉縞パター
ンを取り込む。続いて、λ/4波長板を配置して干渉縞
パターンを取り込む。そして、順次、λ/2.3λ/4
波長板に交換して干渉縞パターンを取り込む。これら4
つの干渉縞パターンから■式によりh(x、y)を抽出
する。
を用意する。始めに、波長板を用いずに、干渉縞パター
ンを取り込む。続いて、λ/4波長板を配置して干渉縞
パターンを取り込む。そして、順次、λ/2.3λ/4
波長板に交換して干渉縞パターンを取り込む。これら4
つの干渉縞パターンから■式によりh(x、y)を抽出
する。
第2の方法は、λ/4波長板を3枚用意する。
始めに、波長板を配置しない状態の干渉縞パターンを取
り込み、順次λ/4波長板を追加して干渉縞パターンを
取り込み、■式よりh(x、y)を抽出する。さらに、
λ/4波長板とλ/2波長板の2枚を使う方法なども提
案されている。
り込み、順次λ/4波長板を追加して干渉縞パターンを
取り込み、■式よりh(x、y)を抽出する。さらに、
λ/4波長板とλ/2波長板の2枚を使う方法なども提
案されている。
このように、波長板を用いて位相シフト法を行う方法は
、高価なPZT素子を用いる必要がなく、測定装置を低
コスト化できる。
、高価なPZT素子を用いる必要がなく、測定装置を低
コスト化できる。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、特開昭63−21503号公報に開示された
従来技術では、波長板の透過率が測定誤差の原因になる
という問題がある。波長板は、水晶や雲母のような異方
性材料で作られる。これらの材料の光の透過率は1o
o 9.tではなく、ある程度の光の吸収が必す存在す
る。第3図は板厚1mmの天然水晶の分光透過率特性を
示している。例えば、上述のλ/4、λ/2.3λ/4
波長板を3枚用意して位相シフト法を行う場合について
考える。λ/4、λ/2.3λ/4波長板の光の透過率
を各々r、、r2.r、とする。このそれぞれの波長板
を使用したときの干渉縞パターンは、以下のようになる
。
従来技術では、波長板の透過率が測定誤差の原因になる
という問題がある。波長板は、水晶や雲母のような異方
性材料で作られる。これらの材料の光の透過率は1o
o 9.tではなく、ある程度の光の吸収が必す存在す
る。第3図は板厚1mmの天然水晶の分光透過率特性を
示している。例えば、上述のλ/4、λ/2.3λ/4
波長板を3枚用意して位相シフト法を行う場合について
考える。λ/4、λ/2.3λ/4波長板の光の透過率
を各々r、、r2.r、とする。このそれぞれの波長板
を使用したときの干渉縞パターンは、以下のようになる
。
rt+r? r3“く 1
1’(x、y、 0 ) = α+βcos k
・2 h(x、y)1 ’(x、y、π/2) =r、
(a−βsin k・2h(x、yNl ’ (x、y
、 yr ) =r2(a −βcos k
−2h(x、y))1’(x、y、3/2π)=rs(
α+βsin k・2 h(x、y)1・・■ 上述の公報に開示された従来技術では、干渉縞パターン
の高さ分布h(x、y)や位相分布φ(x、y)を求め
るのに、■″(x、y、o)〜ビ(x、y、3/2π)
を■式のT (x、y、 O)〜I (x、y、3/2
π)と考えて計算している。つまり、h(x、y)を以
下の式で導出していることになる。
・2 h(x、y)1 ’(x、y、π/2) =r、
(a−βsin k・2h(x、yNl ’ (x、y
、 yr ) =r2(a −βcos k
−2h(x、y))1’(x、y、3/2π)=rs(
α+βsin k・2 h(x、y)1・・■ 上述の公報に開示された従来技術では、干渉縞パターン
の高さ分布h(x、y)や位相分布φ(x、y)を求め
るのに、■″(x、y、o)〜ビ(x、y、3/2π)
を■式のT (x、y、 O)〜I (x、y、3/2
π)と考えて計算している。つまり、h(x、y)を以
下の式で導出していることになる。
上記の式では、r、〜「3の係数が存在し、l+(x、
y)は正しく計算されていない。この点について、上記
の公報ては全く触れられていない。また、1/4波長板
を順次重ねて行く方法でも同様の問題が発生する。
y)は正しく計算されていない。この点について、上記
の公報ては全く触れられていない。また、1/4波長板
を順次重ねて行く方法でも同様の問題が発生する。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、複数枚の波長板を使用する位相
シフト干渉測定方法において、波長板の透過率による測
定誤差を解消することにある。
の目的とするところは、複数枚の波長板を使用する位相
シフト干渉測定方法において、波長板の透過率による測
定誤差を解消することにある。
[課題を解決するための手段コ
本発明にあっては、上記の課題を解決するた力に、複数
枚の波長板を用いる位相シフト干渉測定方法において、
予め波長板の透過率を測定しておき、この値を元に各波
長板を使用して測定された干渉縞を補正した後、必要な
位相量を抽出するようにしたことを特徴とするものであ
る。
枚の波長板を用いる位相シフト干渉測定方法において、
予め波長板の透過率を測定しておき、この値を元に各波
長板を使用して測定された干渉縞を補正した後、必要な
位相量を抽出するようにしたことを特徴とするものであ
る。
[作用コ
本発明の測定方法を実施するに際しては、測定に用いる
複数枚の波長板の透過率を予め測定しておく。そして、
各波長板を使って得られた干渉縞パターンの各点の強度
を透過率で除算すると、波長板の透過率が1であるとき
に得られる干渉縞パターンと等価なものが得られる。こ
のように、全ての干渉縞パターンを透過率1の波長板を
使った場合と等価な干渉縞パターンに変換してから、こ
れらのデータを元に位相シフト法を行う。これにより、
透過率に起因する測定誤差を解消することができる。
複数枚の波長板の透過率を予め測定しておく。そして、
各波長板を使って得られた干渉縞パターンの各点の強度
を透過率で除算すると、波長板の透過率が1であるとき
に得られる干渉縞パターンと等価なものが得られる。こ
のように、全ての干渉縞パターンを透過率1の波長板を
使った場合と等価な干渉縞パターンに変換してから、こ
れらのデータを元に位相シフト法を行う。これにより、
透過率に起因する測定誤差を解消することができる。
[実施例]
以下、本発明の一実施例を第1I2Iを用いて説明する
。測定に用いる波長板をλ/4、λ/2.3λ/4波長
板とし、各波長板の光の透過率をそれぞれrl+r2.
r)とする。このときに得られる干渉縞パターンは前述
の0式で表される。これらの干渉縞パターンを透過率1
の波長板を用いた場合と等価な干渉縞パターンにするに
は、用いた波長板の透過率て各干渉縞強度を除算すれば
良い。このようにして補正された干渉縞強度をI”(x
、y、O)〜■“’(x、y、3/2π)とすると、以
下の関係がある。
。測定に用いる波長板をλ/4、λ/2.3λ/4波長
板とし、各波長板の光の透過率をそれぞれrl+r2.
r)とする。このときに得られる干渉縞パターンは前述
の0式で表される。これらの干渉縞パターンを透過率1
の波長板を用いた場合と等価な干渉縞パターンにするに
は、用いた波長板の透過率て各干渉縞強度を除算すれば
良い。このようにして補正された干渉縞強度をI”(x
、y、O)〜■“’(x、y、3/2π)とすると、以
下の関係がある。
I“”(x、y、 O)−α+βcos k・2h(x
、yI”(x、y、π/2) =Ia−βsin k・
2h(x、y )/r1”(x、y、 yr ) −(
a−βcos k・2h(x、y)l/r2I ”(x
、y、3/2π)−1a+βsin k・2h(x、y
l/r3これらのことから求める高さ分布h(x、y
)は、■■式で与えられる。
、yI”(x、y、π/2) =Ia−βsin k・
2h(x、y )/r1”(x、y、 yr ) −(
a−βcos k・2h(x、y)l/r2I ”(x
、y、3/2π)−1a+βsin k・2h(x、y
l/r3これらのことから求める高さ分布h(x、y
)は、■■式で与えられる。
h(x、y)
■
また、波面Wt(x、y)の位相分布φ(x、y)を求
めるのであれば、φ(x、y) −2kh(x、y)と
して求めれば良い。
めるのであれば、φ(x、y) −2kh(x、y)と
して求めれば良い。
第1図の光学系において、3枚の1/4波長板を順次重
ねて行くことにより位相シフトを行う測定方性でも同じ
考え方で測定精度を上げることができる。それぞれの1
/4波長板の透過率をξξ2.ξ3とすると、透過率1
の波長板を使った場合と等価な強度に補正された干渉縞
パターンI ”(x、y、())〜1′’(x、y、3
π/2)は、次式のようになる。
ねて行くことにより位相シフトを行う測定方性でも同じ
考え方で測定精度を上げることができる。それぞれの1
/4波長板の透過率をξξ2.ξ3とすると、透過率1
の波長板を使った場合と等価な強度に補正された干渉縞
パターンI ”(x、y、())〜1′’(x、y、3
π/2)は、次式のようになる。
1”(x、y、 0 ) = I (x、y、
O)I”(x、y、π/2) = I (x、y、
π/2)/ξI”(x、y、 π )= T (x、
y、 π )/ξlξ2I “’(x、y、3/2
π ) −丁 (x、y、3/2 π )/ ξ 1
ξ 、ξ コこのO8式を」1記■式に代入すれば、求
めるべき高さ分布h(x、y)や位相分布φ(X、y)
が抽出てきる。
O)I”(x、y、π/2) = I (x、y、
π/2)/ξI”(x、y、 π )= T (x、
y、 π )/ξlξ2I “’(x、y、3/2
π ) −丁 (x、y、3/2 π )/ ξ 1
ξ 、ξ コこのO8式を」1記■式に代入すれば、求
めるべき高さ分布h(x、y)や位相分布φ(X、y)
が抽出てきる。
その他、位相ソフト法を行うためにヅ・要な波長板の組
み合わせは種々考乙られるが、上記と同様の考え方で波
長板の透過率を予めIII定し、干渉縞の強度を補正す
れば良い。
み合わせは種々考乙られるが、上記と同様の考え方で波
長板の透過率を予めIII定し、干渉縞の強度を補正す
れば良い。
なお、本発明はトワイマングリーン干渉計だけでなく、
シアリング干渉計やフィゾー干渉計等にも適用できる。
シアリング干渉計やフィゾー干渉計等にも適用できる。
[発明の効果]
本発明によれば、複数枚の波長板を用いる位相シフト干
渉測定方法において、予め波長板の透過率を測定してお
き、この値を元に各波長板を使用して測定された干渉縞
を補正した後、必要な位相量を抽出するようにしたので
、波長板の透過率による測定誤差を解消することができ
、したがって、高精度の測定が可能となるという効果が
ある。
渉測定方法において、予め波長板の透過率を測定してお
き、この値を元に各波長板を使用して測定された干渉縞
を補正した後、必要な位相量を抽出するようにしたので
、波長板の透過率による測定誤差を解消することができ
、したがって、高精度の測定が可能となるという効果が
ある。
第1図は本発明の測定方法を適用される光学系の概略構
成図、第2図は従来の測定方法を適用される光学系の概
略構成図、第3図は天然水晶の分光透過率特性を示す図
である。 2]は偏光子、22は波長板、23は偏光ビームスプリ
ッタ、24は↓/4波長板、25は参照鏡、26は1/
4波長板、27は被測定物、28は検光子、2つは観測
面である。
成図、第2図は従来の測定方法を適用される光学系の概
略構成図、第3図は天然水晶の分光透過率特性を示す図
である。 2]は偏光子、22は波長板、23は偏光ビームスプリ
ッタ、24は↓/4波長板、25は参照鏡、26は1/
4波長板、27は被測定物、28は検光子、2つは観測
面である。
Claims (1)
- (1)光波の偏光面が互いに直交する2直線偏光を、そ
れぞれ参照光及び物体光とする光波干渉計における前記
2直線偏光の共通光路中に位相シフト用の波長板を配置
する光学系において、波長板の透過率を予め測定し、参
照光と物体光の干渉縞の強度を波長板の透過率で補正す
ることを特徴とする位相シフト干渉測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4333690A JPH03245006A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 位相シフト干渉測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4333690A JPH03245006A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 位相シフト干渉測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03245006A true JPH03245006A (ja) | 1991-10-31 |
Family
ID=12660996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4333690A Pending JPH03245006A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 位相シフト干渉測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03245006A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06242079A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Hitachi Ltd | 光音響信号検出方法及び装置 |
US5528369A (en) * | 1993-12-21 | 1996-06-18 | American Cyanamid Company | Apparatus for producing interferometric fringe patterns having variable parameters |
US5867263A (en) * | 1995-05-25 | 1999-02-02 | Kabushiki Kaisha Topcon | Laser survey instrument having a reflection light blocking means |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP4333690A patent/JPH03245006A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06242079A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Hitachi Ltd | 光音響信号検出方法及び装置 |
US5528369A (en) * | 1993-12-21 | 1996-06-18 | American Cyanamid Company | Apparatus for producing interferometric fringe patterns having variable parameters |
US5867263A (en) * | 1995-05-25 | 1999-02-02 | Kabushiki Kaisha Topcon | Laser survey instrument having a reflection light blocking means |
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