JPH03242957A - Package for semiconductor device - Google Patents
Package for semiconductor deviceInfo
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- JPH03242957A JPH03242957A JP4060590A JP4060590A JPH03242957A JP H03242957 A JPH03242957 A JP H03242957A JP 4060590 A JP4060590 A JP 4060590A JP 4060590 A JP4060590 A JP 4060590A JP H03242957 A JPH03242957 A JP H03242957A
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Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
この発明は、ＡｌＮ製基板基板いた、放熱性の良い、低
融点ガラスで気密封止の可能な、半導体装ｒｌ用パッケ
ージに関する。The present invention relates to a package for a semiconductor device RL, which has a substrate made of AlN, has good heat dissipation, and can be hermetically sealed with low melting point glass.
【 従 来 の 技 術 】半導体素子を
封止するパッケージとしては、プラスチックパッケージ
が最も広く使われている。
ダイオードやトランジスタから、大容量のメモリ素子や
、演算素子などまでに広く用いられる。これは安価であ
る。
しかし、プラスチックパッケージは、放熱性が良くない
。また、封止が完全でないので、水分が浸透しやすい。
こういう難点があるが、安価であるので多くの半導体装
置のパッケージとして使われ、改良が進められている。
気密性、放熱性を高めるため、サーバツクパッケージ（
Ｃｅｒｐａｃｋ）が用いられることがある。サーバツク
型パッケージは、Ａｌ２Ｏ３セラミック基板を用いて、
ＰｂＯ−８２０３系の低融点ガラスで、基板とリードフ
レームとキャップを封着したものである。
セラミックであるアルミナを基板に使うのでＣｅｒとい
う語をつける。セラミックを基板に使うが積層セラミッ
クパッケージと区別される。積層セラミックパッケージ
はもっと多くのセラミック板を積層したもので高価であ
る。これと区別しなければならない。
このサーバツク型パッケージはプラスチックパッケージ
に比較して、気密性が良く、信頼性が高い。これはアル
ミナの基板とキャップで素子部分を囲むためである。ま
たアルミナ基板を使うので放熱性もプラスチックパッケ
ージより良い。
さらに高い放熱性を要求されるパッケージでは、放熱板
として、Ｃｕ−Ｗ板を素子搭載部にろうづけしたものも
ある。Ｃｕ−ＷはＣｕとＷの微小粒を混合固化したもの
で合金ではない。これは熱伝導度が極めて良い。またア
ルミナとの密着性も良いので素子からの熱を速やかに放
散できる。
またＢｅＯ基板を用いたものがある。ＢｅＯはアルミナ
（ＡｊｇＯ３）よりも熱伝導度が高いので放熱性に優れ
る。[Conventional technology] Plastic packages are the most widely used packages for sealing semiconductor devices. It is widely used in everything from diodes and transistors to large-capacity memory devices and arithmetic devices. This is cheap. However, plastic packages do not have good heat dissipation. Furthermore, since the sealing is not complete, moisture easily penetrates. Despite these drawbacks, it is used as a package for many semiconductor devices because it is inexpensive, and improvements are being made. In order to improve airtightness and heat dissipation, a server package (
Cerpack) may be used. The server pack type package uses an Al2O3 ceramic substrate.
The substrate, lead frame, and cap are sealed with PbO-8203-based low-melting glass. The word Cer is added because alumina, which is a ceramic, is used for the substrate. Although ceramic is used for the substrate, it is distinguished from a multilayer ceramic package. Multilayer ceramic packages consist of many more ceramic plates stacked together and are more expensive. This must be differentiated. This server-pack type package has better airtightness and higher reliability than plastic packages. This is because the element portion is surrounded by an alumina substrate and a cap. Also, since it uses an alumina substrate, its heat dissipation is better than that of a plastic package. In some packages that require even higher heat dissipation, a Cu--W plate is brazed to the element mounting portion as a heat dissipation plate. Cu-W is a mixture of fine particles of Cu and W, and is not an alloy. It has extremely good thermal conductivity. Also, since it has good adhesion to alumina, heat from the element can be quickly dissipated. There is also one using a BeO substrate. Since BeO has higher thermal conductivity than alumina (AjgO3), it has excellent heat dissipation.
Ｃｕ−Ｗ放熱板をアルミナＡ Ｉ２Ｏ３板にろうづけし
たパッケージは、ろうづけ工程によりコストが高くなる
。
ＢｅＯ基板を用いたパッケージでは、ＢｅＯの毒性のた
め、その取り扱いが、困難であった。
Ａｌ２Ｏ３よりも熱伝導率が高いセラミックとしてＡＪ
Ｎが知られている。これを基板としてパッケージを作れ
ば高放熱性のものができるはずである。
ところが、実際にＡｌＮを基板として低融点ガラス封止
パッケージを作ると、次の難点があることがわかった。
第３図にこのパッケージの断面を示す。
互いに上下に対向するように、ＡｌＮ製の基板１とキャ
ップ９がある。基板１とキャップ９とリードフレーム４
とを封着用低融点ガラス３で封着している。これはＡｌ
２Ｏ３用のＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系ガラスを基本組成として
熱膨張率をＡｌＮに整合させた封着用低融点ガラスであ
る。
ところが、このパッケージはＡｌＮと低融点ガラスとの
境界に無数の気泡５が生豐る。この気泡の為に、パッケ
ージの封着強度が著しく低下し、気密性も損なわれる。
これは、ＡｌＮとＰｂ０−ＢｚＯａガラス融液との化学
反応によって、境界面でガスが発生し、発泡が生じたも
のと考えられる。このような欠点があるので、実際には
第３図のようなパッケージは市販されていない。
ＡＪＮを主体とし、低融点ガラスで封止し、しかも発泡
のないパッケージを提供することが本発明の目的である
。
このようなものとして本発明者は既に特願昭６３−３３
００１０号（Ｓ［ｉ３．１２．２Ｂ）に新規なパッケー
ジを開示している。これは低融点ガラスとＡＪＮの間に
高融点ガラスを挟むものである。高融点ガラスによって
低融点ガラスとＡｌＮの間の化学反応を禁止するのであ
る。しかしこの発明は高融点ガラスの種類についてなお
不十分な点があった。本発明は高融点ガラスの組成を明
らかにするものである。A package in which a Cu-W heat sink is brazed to an alumina A I2O3 plate is expensive due to the brazing process. Packages using BeO substrates have been difficult to handle due to the toxicity of BeO. AJ as a ceramic with higher thermal conductivity than Al2O3
N is known. If a package is made using this as a substrate, it should be possible to create a package with high heat dissipation. However, when a low melting point glass sealed package was actually made using AlN as a substrate, the following difficulties were found. Figure 3 shows a cross section of this package. There is a substrate 1 and a cap 9 made of AlN so as to face each other vertically. Substrate 1, cap 9 and lead frame 4
and are sealed with a low melting point glass 3 for sealing. This is Al
This is a low melting point glass for sealing whose basic composition is PbO-B2O3 glass for 2O3 and whose coefficient of thermal expansion is matched to that of AlN. However, in this package, countless air bubbles 5 grow at the boundary between AlN and the low melting point glass. These bubbles significantly reduce the sealing strength of the package and impair its airtightness. This is considered to be because gas was generated at the interface due to a chemical reaction between AlN and the Pb0-BzOa glass melt, resulting in foaming. Because of these drawbacks, a package like the one shown in FIG. 3 is not actually commercially available. It is an object of the present invention to provide a package mainly made of AJN, sealed with low melting point glass, and without foaming. As such, the present inventor has already filed a patent application in 1986-33.
No. 0010 (S[i3.12.2B) discloses a new package. This involves sandwiching a high melting point glass between a low melting point glass and an AJN. The high melting point glass inhibits the chemical reaction between the low melting point glass and AlN. However, this invention still had some shortcomings regarding the type of high melting point glass. The present invention clarifies the composition of high melting point glass.
発泡を防ぐためには、ＡｊＨの基板、または基板とキャ
ップとが、ＰｂＯ−Ｂ２Ｏ３系低融点ガラスに接触しな
いようにすればよい。
５−
本発明においては、ＡｌＮの基板などと、ＰｂＯ−Ｂ２
Ｏ３系低融点ガラスの間にバリア層を設ける。
バリア層はＡＪＮと低融点ガラスとの化学反応を遮るも
のであれば良いわけである。しかし、自由な賦形性がな
ければならないので、バリア層もガラスが適する。
もしも、ＰｂＯ−８２０３系ガラスより融点が低ければ
、先にバリア層が融け、Ｐｂ０−ＢｚＯ３ガラスが後に
融けた時、ＰＩ）０−Ｂ２０３ガラスが自由に拡散して
しまうこれではバリアにならない。
そこで、バリア層のガラスはＰｂＯ−Ｂ２Ｏ，ガラスよ
り、融点の高いガラスとする。本発明では、ＣａＯ−Ｓ
１０゜−ＭｘＯｙ系高融点ガラスを用いる。（ここでＭ
＝Ｌｉ、 Ｎａ１Ｍｇ１に％ Ｔｉ、ｖｌＭｎｌＦｅｌ
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ１Ｚｎ１Ｇａ１ｙ１Ｚｒ、 Ｎｂ、
Ｎｏ、Ｉｎ１Ｓｎ１ｓａ１Ｗのうちひとつまたは複数の
元素）
図面によって本発明のパッケージの構造を説明する。
第１図は本発明の一例を示す半導体装置用パッケージの
縦断面図である。
６一
基板１はＡＪＮ製である。形状は従来どおりである。矩
形状で、中央に矩形状のキャビティ１０が形成されてい
る。キャビティ１０の中には、半導体チップ６が、ダイ
ボンド用接着剤７によって、グイボンドされている。
この例では、キャップ９もＡＪＮ製である。ＡｌＮにし
ているので、Ａｌ２Ｏ３製のものより高放熱性である。
ＡＪＮの基板１とキャップ９の接合面には、高融点ガラ
ス２が、塗付しである。基板の高融点ガラス２の上に低
融点ガラス３が塗付してあり、キャップの高融点ガラス
２の下にも低融点ガラス８が塗付しである。リードフレ
ーム４が、基板１とキャップ９に挟まれ、低融点ガラス
３によって封着されている。リードフレーム４と半導体
チップ６の電極部パッドとはボンディングワイヤ８によ
って接続されている。
第３図と比較すれば、本発明では、低融点ガラスがＡｌ
Ｎと直接触れないように、高融点ガラス２が間に入って
いるという違いがある。その他の点では第３図のものと
同じである。
第２図は本発明の他の例を示す。
これはキャップ９が、ＡｌＮでない場合である。
例えばムライト等熱膨張係数がＡｌＮに近いセラミック
である。この場合はキャップ９と低融点ガラスを直接に
接触させても差し支えないので、高融点ガラスが間に入
らない。キャップ９が、低融点ガラス３に接触している
。
これは、第１図のものより簡略化されている。
半導体チップ６から熱がでるが、熱は主に、基板１に伝
わり、キャップ９には一部しか伝わらないので、キャッ
プを高放熱性にする必要性が低い。
そこで、キャップはＡｆＮでないセラミックとすること
もできる。
本発明は少なくとも基板にＡＪＮを使う必要があるが、
キャップはＡｌＮであっても、他のセラミックであって
も良い。In order to prevent foaming, the AjH substrate or the substrate and the cap should be prevented from coming into contact with the PbO-B2O3-based low melting point glass. 5- In the present invention, an AlN substrate etc. and a PbO-B2
A barrier layer is provided between O3-based low melting point glasses. The barrier layer only needs to be one that blocks the chemical reaction between AJN and the low melting point glass. However, since it must have free formability, glass is also suitable for the barrier layer. If the melting point is lower than that of the PbO-8203 glass, the barrier layer melts first, and when the Pb0-BzO3 glass melts later, the PI)0-B203 glass will diffuse freely and will not become a barrier. Therefore, the glass for the barrier layer is PbO-B2O, a glass having a higher melting point than glass. In the present invention, CaO-S
10°-MxOy type high melting point glass is used. (Here M
=Li, Na1Mg1% Ti, vlMnlFel
Co, Ni, Cu1Zn1Ga1y1Zr, Nb,
No., one or more elements among In1Sn1sa1W) The structure of the package of the present invention will be explained with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a package for a semiconductor device showing an example of the present invention. 6- Board 1 is manufactured by AJN. The shape is the same as before. It has a rectangular shape, and a rectangular cavity 10 is formed in the center. A semiconductor chip 6 is firmly bonded into the cavity 10 using a die bonding adhesive 7. In this example, the cap 9 is also made by AJN. Since it is made of AlN, it has higher heat dissipation than those made of Al2O3. A high melting point glass 2 is coated on the joint surface between the AJN substrate 1 and the cap 9. A low melting point glass 3 is coated on top of the high melting point glass 2 of the substrate, and a low melting point glass 8 is also coated under the high melting point glass 2 of the cap. A lead frame 4 is sandwiched between a substrate 1 and a cap 9 and sealed with a low melting point glass 3. The lead frame 4 and the electrode pads of the semiconductor chip 6 are connected by bonding wires 8. Comparing with FIG. 3, in the present invention, the low melting point glass is Al
The difference is that a high melting point glass 2 is inserted in between to prevent direct contact with N. In other respects, it is the same as the one in FIG. FIG. 2 shows another example of the invention. This is the case when the cap 9 is not AlN. For example, ceramics such as mullite have a coefficient of thermal expansion close to that of AlN. In this case, there is no problem even if the cap 9 and the low melting point glass are brought into direct contact with each other, so that the high melting point glass does not come in between. Cap 9 is in contact with low melting point glass 3. This is simplified from that of FIG. Although heat is emitted from the semiconductor chip 6, the heat is mainly transmitted to the substrate 1 and only partially to the cap 9, so there is little need for the cap to have high heat dissipation properties. Therefore, the cap can also be made of ceramic other than AfN. Although the present invention requires at least the use of AJN on the board,
The cap may be AlN or other ceramic.
本発明の構成を採ることにより、ＡｌＮを用いた高放熱
性、気密性、信頼性の高いサーバツク型パッケージが、
従来の封着技術を用いて封着可能となった。
封着用低融点ガラスよりも高い融点を持つ高融点ガラス
は、ＡｌＮ基板上に、封着用低融点ガラスと同じ手法で
印刷することができる。
基板に高融点ガラス粉末を印刷したものを、低融点ガラ
スに対して使っていたのと同じライン上で、焼き付は温
度をより高くして焼き付けることができる。この焼き付
けによって、バリア層が形成できる。
バリア層の上に、封着用低融点ガラスを印刷して、リー
ドフレーム付けを行う。次に、半導体チップ８をキャビ
ティ１０に搭載する。リードフレームと半導体チップの
電極部をボンディングワイヤ８で接続する。
キャップ９に対しても同様である。キャップがＡｌＮで
できている場合は、高融点ガラスを印刷、焼き付けして
、さらに、低融点ガラスを印刷、焼き付けする。
キャップがＡＪＮでなく低融点ガラスと反応しな９−
いのちである場合は、低融点ガラスを直接にキャップに
印刷、焼き付けする。
このキャップによって、基板を密封する。
このようにして、従来通りの工程に、高融点ガラスの印
刷と焼き付けを加えるだけで、ＡｆＮパッケージが製造
できる。By adopting the configuration of the present invention, a server-pack type package using AlN with high heat dissipation, airtightness, and reliability can be obtained.
It is now possible to seal using conventional sealing techniques. A high melting point glass having a higher melting point than the low melting point glass for sealing can be printed on the AlN substrate in the same manner as the low melting point glass for sealing. Printing high-melting glass powder onto a substrate can be baked at higher temperatures on the same lines used for low-melting glass. A barrier layer can be formed by this baking. A low melting point glass for sealing is printed on the barrier layer and a lead frame is attached. Next, the semiconductor chip 8 is mounted in the cavity 10. The lead frame and the electrode portion of the semiconductor chip are connected with bonding wires 8. The same applies to the cap 9. If the cap is made of AlN, high melting point glass is printed and baked, and then low melting point glass is printed and baked. If the cap is not AJN but does not react with low melting point glass, print and bake the low melting point glass directly onto the cap. The cap seals the substrate. In this way, an AfN package can be manufactured by simply adding printing and baking of high melting point glass to the conventional process.
一例として、低融点ガラスにＰｂＯ−８２０３系ガラス
を用い、高融点カラスニｃａｏ−８ｉｏ２−Ｍｘｏ、、
系高融点ガラス（ここでＭ ＝＝ ｔ、ｔｌＮａＮ Ｍ
ｇ’ｉ Ｋ ’ｔ ＴＩＮ Ｖ ＮＭｎ１Ｆｅ１Ｃｏ１
Ｎ１１Ｃｕ、 Ｚｎ１Ｇａ、 ｙｓ Ｚｒ、 ＮｂＮ
Ｍｏ５Ｉｎ１Ｓｎ１Ｂａ１Ｗのうちひとつまたは複数の
元素）を用いてパッケージを作りその特性を調べた。
気密性ニツイテハ、封着後、ＮＩＬ−３ＴＤ−８８３０
１０１４，７Ａ２の試験を行った。Ｈｅリークレートが
、１．ＯＸ １０−８ａ０−８ａｔ／ｓｅｃ未満であっ
た。これは、従来のＡ ｌ ２０ａパツケージと同等の
値である。
ついで、加熱、冷却を繰り返して、気密性の低下の有無
を調べた。
旧Ｌ−ＳＴＤ−８８３Ｃ１０１０，８ヒートサイクルテ
スト条１０−
件Ｃ−６５℃〜＋１５０℃でヒートサイクルをかけた。
１００サイクル後に於いても、Ｈｅリークレートが１、
ＯＸ １０−８ａ０−８ａｔ／ｓｅｃ未満を維持してい
た。
ヒートショックに対する性能も調べた。
ＮＩＬ−ＳＴＤ−８８３０１０１１，８ヒ一トシヨツク
テスト条件ＡＯ℃〜＋１００℃ （フロリナート中）で
、ヒートシロツクをかけた。１００サイクル後において
も、Ｈｅリークレートが１．ＯＸ １０−８ａｔｍ−ｃ
ｃ／ｓｅｃ未満を維持していた。
さらに、これらのテストを連続して行い、ヒートサイク
ルとヒートシロツクとを行った後でも、Ｈｅリークレー
トが、１．ＯＸ １０−８ａｔｍ−ｃｃ／ｓｅｃを維持
していた。
断面観察を行った。封着ガラス、バリア層のいずれにお
いても、界面に集中した発泡は見られなかった。Ａｌ２
０Ｇパツケージ封着時に見られるような、ガラス層全体
に均一に発生する泡のみが見られた。
ついで、強度試験を行った。
３０ｍｍ角の基板中、１２ｍｍ角のキャビティ以外をガ
ラスで封着したパッケージにおいて、ＭＩＬ−ＳＴＤ−
８８３０２０２４，２）ルク強度テストを行った。最大
トルク強度が、２００〜３００ｋｇｆ−ｃｍという値が
得られた。規定値である１３０ｋｇｆ−ｃｍを大きく越
えた。
気密性、放熱性が良く、機械的強度も優れたサーバツク
型パッケージが得られた。As an example, PbO-8203 type glass is used as the low melting point glass, high melting point glass is used,
system high melting point glass (here M == t, tlNaN M
g'i K't TIN V NMn1Fe1Co1
N11Cu, Zn1Ga, ys Zr, NbN
A package was made using one or more of Mo5In1Sn1Ba1W) and its characteristics were investigated. Airtightness, after sealing, NIL-3TD-8830
1014,7A2 was tested. He leak rate is 1. OX was less than 10-8a0-8at/sec. This is comparable to the conventional Al 20a package. Next, heating and cooling were repeated to check for any decrease in airtightness. Old L-STD-883C1010,8 Heat cycle test condition 10-C Heat cycle was applied at -65°C to +150°C. Even after 100 cycles, the He leak rate is 1,
OX was maintained at less than 10-8a0-8 at/sec. Performance against heat shock was also investigated. NIL-STD-88301011,8 Heat Shock Test Conditions Heat syrup was applied at AO°C to +100°C (in Fluorinert). Even after 100 cycles, the He leak rate was 1. OX 10-8 atm-c
It was maintained at less than c/sec. Furthermore, even after performing these tests consecutively and performing heat cycles and heat shields, the He leak rate was still 1. OX was maintained at 10-8 atm-cc/sec. A cross-sectional observation was performed. No foaming concentrated at the interface was observed in either the sealing glass or the barrier layer. Al2
Only bubbles uniformly generated throughout the glass layer were observed, as seen when sealing the 0G package. Then, a strength test was conducted. MIL-STD-
88302024, 2) Luk strength test was conducted. A maximum torque strength of 200 to 300 kgf-cm was obtained. This far exceeded the standard value of 130 kgf-cm. A server pack type package with good airtightness, heat dissipation, and mechanical strength was obtained.
【 発 明 の 効 果 】ＡｌＮをパッ
ケージ材料にするので、ＡＩ。０３のパッケージより放
熱性が高い。
ＡｌＮ表面にバリア層を設けるので、ＰＩ）Ｏ’Ｂ２Ｏ
３系低融点ガラスによる気密封着が可能となる。これに
より、低コストで、長期信頼性の高いパッケージが得ら
れる。
よって、本発明のパッケージは、高い放熱性と長期信頼
性の要求される半導体装置用に、好適である。従来のパ
ッケージに代えて、それより同等以上の性能を持ちなが
ら、より低コストのパッケージとして用いることができ
る。[Effects of the invention] AI is used because AlN is used as the packaging material. It has higher heat dissipation than the 03 package. Since a barrier layer is provided on the AlN surface, PI)O'B2O
Hermetic sealing using 3 series low melting point glass becomes possible. This results in a package with low cost and high long-term reliability. Therefore, the package of the present invention is suitable for semiconductor devices that require high heat dissipation and long-term reliability. It can be used as a lower-cost package in place of conventional packages while having the same or better performance.
第１図は本発明のバリア層を持つＡｌＮを用いた半導体
装置用パッケージの１例を示す断面図。
第２図は本発明の他の例を示す半導体装置用パッケージ
断面図。
第３図はＡｌＮ基板を直接低融点ガラスで封止した半導
体装置用パッケージの断面図。
１・・・ＡｌＮ基板
２・・・高融点ガラス
３・・・封着用低融点ガラス
４・・・リードフレーム
５・・・封着界面発泡による気泡
６・・・半導体チップ
７・・・ダイボンド用封着剤
８・・・ボンディングワイヤ
９・・・キャップ
１０・・キャビティ
発 明 者 大久保 総一部
安 原 正 晴
大 塚 昭
特開平３
２４２９５７ （５）FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a semiconductor device package using AlN having a barrier layer according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view of a package for a semiconductor device showing another example of the present invention. FIG. 3 is a cross-sectional view of a semiconductor device package in which an AlN substrate is directly sealed with low-melting glass. 1... AlN substrate 2... High melting point glass 3... Low melting point glass for sealing 4... Lead frame 5... Bubbles due to sealing interface foaming 6... Semiconductor chip 7... For die bonding Sealing agent 8...Bonding wire 9...Cap 10...Cavity Inventor Okubo Total part Masashi Yasuhara Haruhiro Tsuka Sho Japanese Patent Publication No. 3 242957 (5)
Claims (1)
ャップと、リードフレームとよりなり、基板とリードフ
レームとキャップとを低融点ガラスで気密封止した半導
体装置用パッケージにおいて、封着用低融点ガラスが、
ＡｌＮ製の基板、キャップと直接接触しないように、低
融点ガラスとＡｌＮ製部材の界面にバリア層を設けるこ
ととし、バリア層がＣａＯ−ＳｉＯ＿２−Ｍ＿ｘＯ＿ｙ
系高融点ガラス（ここでＭ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｋ、Ｔ
ｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、
Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｂａ、Ｗのうちひ
とつまたは複数の元素）であることを特徴とする半導体
装置用パッケージ。(1) In a semiconductor device package consisting of a substrate made of AlN, a cap made of AlN or not, and a lead frame, the substrate, lead frame, and cap are hermetically sealed with low melting glass. but,
A barrier layer is provided at the interface between the low melting point glass and the AlN member to avoid direct contact with the AlN substrate and cap, and the barrier layer is CaO-SiO_2-M_xO_y.
system high melting point glass (here M=Li, Na, Mg, K, T
i, V, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga,
A package for a semiconductor device, characterized in that the package contains one or more of Y, Zr, Nb, Mo, In, Sn, Ba, and W.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4060590A JPH03242957A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Package for semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4060590A JPH03242957A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Package for semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03242957A true JPH03242957A (en) | 1991-10-29 |
Family
ID=12585149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4060590A Pending JPH03242957A (en) | 1990-02-21 | 1990-02-21 | Package for semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03242957A (en) |
-
1990
- 1990-02-21 JP JP4060590A patent/JPH03242957A/en active Pending
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