JPH03221188A - 水中のケイ酸を活性化する方法ならびに装置 - Google Patents
水中のケイ酸を活性化する方法ならびに装置Info
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- JPH03221188A JPH03221188A JP31672890A JP31672890A JPH03221188A JP H03221188 A JPH03221188 A JP H03221188A JP 31672890 A JP31672890 A JP 31672890A JP 31672890 A JP31672890 A JP 31672890A JP H03221188 A JPH03221188 A JP H03221188A
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技 術 沖 野
本発明は水中力ゲイ酸を活性1ヒする方法なあびに水R
埋装置に関する乙のである、 従 来 技 術 水力濃縮を併なう循環水路系、例えは冷却塔からの冷却
水をポンプ送って゛熱交換器に送り、さらに冷却塔へ循
環する諸環水路、軟水器から給水タンクそ経てポンプ送
りてf気ホイラーに給水するボイラー系統ライン、ある
いは水の濃縮を併なわない非循環水路系、例えば単に受
水漕から高置貯水漕に水をポンプ送りし、各階へ洪水す
る高層ヒlし等て゛の飲料水給水ライン等て゛は、水を
送るライン内、又は熱交換器、ホrラー、冷却塔、給水
管等の内部での錆および またはスゲールの発生か常に
問題とされ、従来これを防止するため各種の防錆剤、ス
ゲール分散刊、清缶剤等が提供されてきたが、その使用
管理か難して、ランニンクコストち大きく、また飲料水
セとては医健上の理由からも問題かあり、未f薬刊使明
以外の有効な補、スケールの防止法か見出されていない
、本発明者は、近時+C!!!L埋用に開発されてき/
′、:會階力Fii場7電子場装置か効果に疑問が、b
ること4二鑑み、研究を続けた結東、有効l水処理方性
と(て、処理水中のシリカ濃度の制御0・重要て゛ある
こと、即ち水の濃度を併をわない非循環水路系て゛C;
該水路・\力洪給水あるいは貯水清水のシリカセ遷度を
20〜50mg Qに制御315、また水のia縮そ併
そう水路(上記ボイラー力場合)、またに循環水路系て
′は循環水のシリカ濃度そ50m gQ以上に制御した
う乙で、前記水路内あるいは虎環水路内に磁場、電子場
装置を位置させ、水に健場、電子場の作用そ及ぼせば、
確実に錆、スチールの発生を防止できることを見出し、
特許出願したく特願昭63−255498号) 本発明は前記発明をさらに進展せヒめたちの=あっ、ま
た冷却水等のイ虚縮管理状態そ別の視点てとらえ、より
良好な水質管理のための新規処理方法な4ひに処理装置
を提供しようとする乙のて′ある 発明が解決りようとする点 そこで、循環水あるいは水路供給水のシリカ濃度の制御
を行わずともより簡単な・方法で、水中のゲイ酸を活性
(ヒし確実往っ有効にjilfjりるいはスケールの発
生を防止しつる方法そらびに装置を提供することが本発
明目的の一つである。また飲料水のみならず、食品工業
、清涼飲料水その池各種分野て゛使用せられるに適した
良好で利用@値の高い水質の水を容易に且つ有効に得る
二とのできる方性、装置を提供することも発明目的の一
つて゛ある。
埋装置に関する乙のである、 従 来 技 術 水力濃縮を併なう循環水路系、例えは冷却塔からの冷却
水をポンプ送って゛熱交換器に送り、さらに冷却塔へ循
環する諸環水路、軟水器から給水タンクそ経てポンプ送
りてf気ホイラーに給水するボイラー系統ライン、ある
いは水の濃縮を併なわない非循環水路系、例えば単に受
水漕から高置貯水漕に水をポンプ送りし、各階へ洪水す
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管等の内部での錆および またはスゲールの発生か常に
問題とされ、従来これを防止するため各種の防錆剤、ス
ゲール分散刊、清缶剤等が提供されてきたが、その使用
管理か難して、ランニンクコストち大きく、また飲料水
セとては医健上の理由からも問題かあり、未f薬刊使明
以外の有効な補、スケールの防止法か見出されていない
、本発明者は、近時+C!!!L埋用に開発されてき/
′、:會階力Fii場7電子場装置か効果に疑問が、b
ること4二鑑み、研究を続けた結東、有効l水処理方性
と(て、処理水中のシリカ濃度の制御0・重要て゛ある
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該水路・\力洪給水あるいは貯水清水のシリカセ遷度を
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そう水路(上記ボイラー力場合)、またに循環水路系て
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う乙で、前記水路内あるいは虎環水路内に磁場、電子場
装置を位置させ、水に健場、電子場の作用そ及ぼせば、
確実に錆、スチールの発生を防止できることを見出し、
特許出願したく特願昭63−255498号) 本発明は前記発明をさらに進展せヒめたちの=あっ、ま
た冷却水等のイ虚縮管理状態そ別の視点てとらえ、より
良好な水質管理のための新規処理方法な4ひに処理装置
を提供しようとする乙のて′ある 発明が解決りようとする点 そこで、循環水あるいは水路供給水のシリカ濃度の制御
を行わずともより簡単な・方法で、水中のゲイ酸を活性
(ヒし確実往っ有効にjilfjりるいはスケールの発
生を防止しつる方法そらびに装置を提供することが本発
明目的の一つである。また飲料水のみならず、食品工業
、清涼飲料水その池各種分野て゛使用せられるに適した
良好で利用@値の高い水質の水を容易に且つ有効に得る
二とのできる方性、装置を提供することも発明目的の一
つて゛ある。
問題点を解決するための手段
本発明に従えば、上記目的か、150−450’VI
H2の高周波電源に接続された1、 1..2hるいは
1.、’4波長の線状アンテナにより発生せしめられる
振動磁界電界堝水路内を、02〜200m・時の流量で
水を通過せしめることを特徴とする水中のグイ酸を活性
fヒする方法、および水の出入口のもらけ毛れた鋼管、
該鋼管内部に収容されているI、l、2Rるいは1/4
波長線状アンテナおよび前記貞管、7′)%部(こ位置
せしめられ且つ線状アンテナに接続せられる1 51)
−4う0.好まl−<は300 M Hz高周波電源
からなる水中のティ酸そ活性(ヒする為に使用せられる
水処理装置により遠吠せられる、 デイ酸ζ;天然水中で単量体(モノマー)にもそるか、
時には重合ヒて二車体以上の多量体(ポリマー)と−4
,r)、重き度が大となるに従いコロイド状fヒ仁、二
カ辷き水分子や、各種、y′)無機、有機イオンと結き
あるいはこれ占を包みこみ可イ容性錯塩とそることか知
られている1本発明て゛使用せるケイ酸の活性1ヒなる
語は、水中のモノマーのゲイ酸をこの様f、:作用力あ
るポリマーにすることを意味するも力て′ある。
H2の高周波電源に接続された1、 1..2hるいは
1.、’4波長の線状アンテナにより発生せしめられる
振動磁界電界堝水路内を、02〜200m・時の流量で
水を通過せしめることを特徴とする水中のグイ酸を活性
fヒする方法、および水の出入口のもらけ毛れた鋼管、
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からなる水中のティ酸そ活性(ヒする為に使用せられる
水処理装置により遠吠せられる、 デイ酸ζ;天然水中で単量体(モノマー)にもそるか、
時には重合ヒて二車体以上の多量体(ポリマー)と−4
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カ辷き水分子や、各種、y′)無機、有機イオンと結き
あるいはこれ占を包みこみ可イ容性錯塩とそることか知
られている1本発明て゛使用せるケイ酸の活性1ヒなる
語は、水中のモノマーのゲイ酸をこの様f、:作用力あ
るポリマーにすることを意味するも力て′ある。
従来から冷却水力濃縮管理には導電率計が使用されてい
る、これは導電率の値が冷却水の濃縮の度きそ示す指標
の−ってあっ7′−η)らである、また塩素イオンの値
ら同様(こ濃縮の指標と1−て使用されていた、しかし
ζ−から実際の冷M1ネの濃縮パターン6;非常に複雑
で冷却水中の各種のイオン塩wI*、7)溶質か有する
性質、相互作用、pH,温度等力影響下で理論的には解
明し尽されてそい微妙:P、:挙動を示す。二の様な場
合に最も合理的な科学的アプローチ拉統計7些理による
究明である、本発明者は永年の経験によりpH,a離炭
酸、飽和指数の変fヒをみながら、補給水あるいは冷却
水の導電率、塩素イオン、硫酸イオン、■アルカリ度、
全硬度、グイ酸イオシ、蒸発残留物のfヒ学分析で得ら
れるデータを冷却水データ・補給水データの濃縮倍数デ
ータに転換し、この濃縮倍数データを統計処理すること
により冷却水と循環冷却水系の管理状態が最も良好且つ
現実にそくした形でとらえ得ることを見出した。即ち上
記試験7項目の夫々の濃m@数そ求め、その平均濃縮倍
数を(X)としたとき、−1えば硫酸イオンの濃縮倍数
が(X)より高く、Mアルカリ度の倍数が(X>より低
い堝き、冷却塔を通じてSO2系の排カスの影響が考え
られ、また、夫りの倍数の時系列的又1ヒかi) Ca
So 4 L硫酸カルシ巾ム)系又はCa5i02
(ティ酸カルンウム)系スチールの生成の可能性か示さ
れることとなり、これは単なる化字汁折データカ比較だ
けよりも定量的には把握り易い また各試験項目の濃縮倍数をそれぞれ導電率\1 、塩
素イオノ−X2.硫酸イオンーX31Mアルカリ度−I
4.全硬度−I5.ゲイ酸イオシーX6.%発残留拘−
X7とし、下式により標準漏差(S)そ電力 1旦 −i=1. 2. 3. 4. 3.
6. 7まfS(S X) 100により変動(
糸数((−” ”o l’を求めると錆、スケールの発
生についてより的確を情報把握か可能とそる、 即ち一定の水質の水の濃縮を進めてゆくと、ある、虚縮
培数に達するまでは標準屑差値は小さいか、その濃縮倍
数をこえると急激に標準隔差直か大となり冷却水の管理
状態は@(ヒし、スゲール、腐食、スライム障害そ招く
二ととなる2これは、例えは全硬度、ゲイ酸イオンの濃
縮倍数がXより大きよ落ち二み、その落ちこん7′l:
分たけCaや5i02か冷却水から析出し、スチールを
形成したこととなる、そして、これは実際に熱交換器や
ボイラー(蒸気ボイラー)を開封した場合のスケール、
#X食の所見とよく整合している。
る、これは導電率の値が冷却水の濃縮の度きそ示す指標
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ら同様(こ濃縮の指標と1−て使用されていた、しかし
ζ−から実際の冷M1ネの濃縮パターン6;非常に複雑
で冷却水中の各種のイオン塩wI*、7)溶質か有する
性質、相互作用、pH,温度等力影響下で理論的には解
明し尽されてそい微妙:P、:挙動を示す。二の様な場
合に最も合理的な科学的アプローチ拉統計7些理による
究明である、本発明者は永年の経験によりpH,a離炭
酸、飽和指数の変fヒをみながら、補給水あるいは冷却
水の導電率、塩素イオン、硫酸イオン、■アルカリ度、
全硬度、グイ酸イオシ、蒸発残留物のfヒ学分析で得ら
れるデータを冷却水データ・補給水データの濃縮倍数デ
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により冷却水と循環冷却水系の管理状態が最も良好且つ
現実にそくした形でとらえ得ることを見出した。即ち上
記試験7項目の夫々の濃m@数そ求め、その平均濃縮倍
数を(X)としたとき、−1えば硫酸イオンの濃縮倍数
が(X)より高く、Mアルカリ度の倍数が(X>より低
い堝き、冷却塔を通じてSO2系の排カスの影響が考え
られ、また、夫りの倍数の時系列的又1ヒかi) Ca
So 4 L硫酸カルシ巾ム)系又はCa5i02
(ティ酸カルンウム)系スチールの生成の可能性か示さ
れることとなり、これは単なる化字汁折データカ比較だ
けよりも定量的には把握り易い また各試験項目の濃縮倍数をそれぞれ導電率\1 、塩
素イオノ−X2.硫酸イオンーX31Mアルカリ度−I
4.全硬度−I5.ゲイ酸イオシーX6.%発残留拘−
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生についてより的確を情報把握か可能とそる、 即ち一定の水質の水の濃縮を進めてゆくと、ある、虚縮
培数に達するまでは標準屑差値は小さいか、その濃縮倍
数をこえると急激に標準隔差直か大となり冷却水の管理
状態は@(ヒし、スゲール、腐食、スライム障害そ招く
二ととなる2これは、例えは全硬度、ゲイ酸イオンの濃
縮倍数がXより大きよ落ち二み、その落ちこん7′l:
分たけCaや5i02か冷却水から析出し、スチールを
形成したこととなる、そして、これは実際に熱交換器や
ボイラー(蒸気ボイラー)を開封した場合のスケール、
#X食の所見とよく整合している。
本発明者は多く実験例から、S′マく100で表される
変動係数(CV ?6 )か10″36以下のとき冷却
水の管理はベストの状態にあり、スケール。
変動係数(CV ?6 )か10″36以下のとき冷却
水の管理はベストの状態にあり、スケール。
41スライムの発生かないこと、2096以内であれば
許容されうろことを見出し、水質管理上の有力な基準に
なりうろことを見出した。尚通常のスチール抑制剤を用
いても、濃縮倍数が5をこえてくると、水質にもよるが
、(:、 V%を20%以内に抑えこむことは極めて困
難であることも見出されている。
許容されうろことを見出し、水質管理上の有力な基準に
なりうろことを見出した。尚通常のスチール抑制剤を用
いても、濃縮倍数が5をこえてくると、水質にもよるが
、(:、 V%を20%以内に抑えこむことは極めて困
難であることも見出されている。
さて錆、スチールの発生に関し、水中のゲイ酸か重要な
かかわl)を有することに関しては既に特願昭b 3−
255498号(こ述へた通りである。即ちそカメカニ
スムは未た充汁解明されているわけて゛はむいか、天、
然水中に溶けているンリカの状態はH2S l 03と
考えら?Lイオシ1ヒ()(S I (’) 3’rp
でいるか I’iiTらI))力手段により太き全エネ
ルギーを得てこれかfヒ学的に活性(ヒされモノマー〃
)ポリマー化すると、その過程で水中の池の金属・イオ
ンと可溶性の錯塩を作り、解膠作用二安定ζ゛悲濁液を
作り、さらに金属表面に被膜を形成ヒ、結果として錆、
錆二ふ、スチールの発生を防止する効果を示すものと考
えられる。
かかわl)を有することに関しては既に特願昭b 3−
255498号(こ述へた通りである。即ちそカメカニ
スムは未た充汁解明されているわけて゛はむいか、天、
然水中に溶けているンリカの状態はH2S l 03と
考えら?Lイオシ1ヒ()(S I (’) 3’rp
でいるか I’iiTらI))力手段により太き全エネ
ルギーを得てこれかfヒ学的に活性(ヒされモノマー〃
)ポリマー化すると、その過程で水中の池の金属・イオ
ンと可溶性の錯塩を作り、解膠作用二安定ζ゛悲濁液を
作り、さらに金属表面に被膜を形成ヒ、結果として錆、
錆二ふ、スチールの発生を防止する効果を示すものと考
えられる。
′t′尾明者は、水中のケイ酸を活性fヒする古注につ
き種7検討を進め、極めて驚くへきことに、処理水カシ
リカJ度を予め制御しておいてlia場電子場装置によ
り処理する方策によらず辷も、ある特定の高周波電源に
接続された線状アンテナにより与えられる振動磁界電界
場を4通せしめるだけて、ケイ酸の活性1ヒか有効(5
行な・われ、前述のCvooを有効に2010以内に制
御することがて゛き、錆、スケールの発生防止か達成さ
れ、また水質改善目的の達成せられることを見出し、本
発明を完成させたものである。
き種7検討を進め、極めて驚くへきことに、処理水カシ
リカJ度を予め制御しておいてlia場電子場装置によ
り処理する方策によらず辷も、ある特定の高周波電源に
接続された線状アンテナにより与えられる振動磁界電界
場を4通せしめるだけて、ケイ酸の活性1ヒか有効(5
行な・われ、前述のCvooを有効に2010以内に制
御することがて゛き、錆、スケールの発生防止か達成さ
れ、また水質改善目的の達成せられることを見出し、本
発明を完成させたものである。
即ち本発明においては、披7些理水を、150450M
)I2の高周波電源に接続された1、1/2波長あるい
はl /’ 4波長線状アンテナにより発生せしめられ
るシリカの固有振動数に合わせた振動磁界電界湯水路内
を通過せしめることを特徴とするものである。かかる振
動磁界電界場は、望ましくは ステンレス又は銅導線て
゛所定の長さ、即ち230叩あるいは500叩及び10
00關の線状アンテナ(11を、鋼管内(2)に収納し
、これに約300MH,(波長的1m)の高周波電#(
3)を接続し、電源の出力電力を0.5〜IWとし、線
状アンテナ 電流を約10mAとすることにより与えら
れる 。被処理水は前記鋼管(′2Jにらうけられた出
入口 141(4’)を通じ一方向へ流される。
)I2の高周波電源に接続された1、1/2波長あるい
はl /’ 4波長線状アンテナにより発生せしめられ
るシリカの固有振動数に合わせた振動磁界電界湯水路内
を通過せしめることを特徴とするものである。かかる振
動磁界電界場は、望ましくは ステンレス又は銅導線て
゛所定の長さ、即ち230叩あるいは500叩及び10
00關の線状アンテナ(11を、鋼管内(2)に収納し
、これに約300MH,(波長的1m)の高周波電#(
3)を接続し、電源の出力電力を0.5〜IWとし、線
状アンテナ 電流を約10mAとすることにより与えら
れる 。被処理水は前記鋼管(′2Jにらうけられた出
入口 141(4’)を通じ一方向へ流される。
尚、水の誘電率(80)や防水絶縁コート(例えばポリ
エチレン〉の誘電率(2,3>により波長短縮率が与え
られ、実際のアンテナの長さは短くなる。
エチレン〉の誘電率(2,3>により波長短縮率が与え
られ、実際のアンテナの長さは短くなる。
(添 1寸図第 1 図参照 )
彼処理水の導入流量は0.2〜200rti・時の範囲
内に選択せられる5尚鋼管の直径は水の処理量、流量に
よるか通常5〜20cm程度である、かくすることによ
り、線状アンテナから3mの距離に於て500μV、m
以下の電界強度が与えられ、有効な水処理が可能であり
、且つ電波法に抵触する二とのない最適な振動磁界電界
場か与えられる。
内に選択せられる5尚鋼管の直径は水の処理量、流量に
よるか通常5〜20cm程度である、かくすることによ
り、線状アンテナから3mの距離に於て500μV、m
以下の電界強度が与えられ、有効な水処理が可能であり
、且つ電波法に抵触する二とのない最適な振動磁界電界
場か与えられる。
本発明方法は、水中のティ酸を活性1ヒし、既に述べた
如く、導電率、塩素イオン、硫酸イオン対アルカ9度、
全硬度、ケイ酸イオン、蒸発残留物の平均4縮倍数1標
4@差から導かれる変動品数CV%を20%以下に有効
にfi制御することができ、各種水路系での錆、スケー
ル発生防止に極めて有効であり、飲料水、酒類、ショウ
ユその池各種食品工業の於ける用水においてら、ゲイ酸
に溶質として用水中に存在する各種の無機、有機イオン
を結合させることか出来、最適水質の水を与えることが
できる。
如く、導電率、塩素イオン、硫酸イオン対アルカ9度、
全硬度、ケイ酸イオン、蒸発残留物の平均4縮倍数1標
4@差から導かれる変動品数CV%を20%以下に有効
にfi制御することができ、各種水路系での錆、スケー
ル発生防止に極めて有効であり、飲料水、酒類、ショウ
ユその池各種食品工業の於ける用水においてら、ゲイ酸
に溶質として用水中に存在する各種の無機、有機イオン
を結合させることか出来、最適水質の水を与えることが
できる。
本発明方法を実施する為に好iL <W困せられる装置
は第1図に関連し上述せる通っであるか、かかる装置は
例えは、循環冷却水系統ラインて゛は第2図に示される
如く、補給水か循環冷却水と共に冷却塔底部(5)かあ
ポンプ(6)により熱交換器(7)を経て冷却塔上部i
81へと送られ、散水せられる間に水の濃縮か行なわれ
、循環水濃度か順次高められていくので、本発明装置(
9)をこの水路のどこに設置しても良いか、好ましくは
冷却部(5)と熱交換器(7)との間に設置することに
より、熱交換器部及び水路内の錆、スチールの発生か有
効に防止せられろ。
は第1図に関連し上述せる通っであるか、かかる装置は
例えは、循環冷却水系統ラインて゛は第2図に示される
如く、補給水か循環冷却水と共に冷却塔底部(5)かあ
ポンプ(6)により熱交換器(7)を経て冷却塔上部i
81へと送られ、散水せられる間に水の濃縮か行なわれ
、循環水濃度か順次高められていくので、本発明装置(
9)をこの水路のどこに設置しても良いか、好ましくは
冷却部(5)と熱交換器(7)との間に設置することに
より、熱交換器部及び水路内の錆、スチールの発生か有
効に防止せられろ。
蒸気ボイラーの場合、第3図に示される如く軟水器αα
を通じ給水タンク(11)へと供給された水が、同タン
ク(11)からポンプ(12)によりボイラー(13)
へと送られる系において、給水タンク(11)内の水を
処理するためポンプ(14)により本発明装置(15〉
を通り再びタンク(11〉に戻るようにする二とにより
、給水管、ボイラー内のスr−ル、MI発生が有効に防
止せられる、本発明装置(15)は給水タンク(11)
とボイラー(13>a間に置ζ二とら可能である。
を通じ給水タンク(11)へと供給された水が、同タン
ク(11)からポンプ(12)によりボイラー(13)
へと送られる系において、給水タンク(11)内の水を
処理するためポンプ(14)により本発明装置(15〉
を通り再びタンク(11〉に戻るようにする二とにより
、給水管、ボイラー内のスr−ル、MI発生が有効に防
止せられる、本発明装置(15)は給水タンク(11)
とボイラー(13>a間に置ζ二とら可能である。
また高層ヒルの飲料水給水ラインにあっては、第4図に
示される如く受水漕(16)からポンプ(17)送りて
゛屋上など高位置に設置せられる貯水溝(18)に供給
された水漕内の水を処理するため、ポンプ(20)で同
水漕内の水か本発明装置(19〉内を通り再び同水漕(
18)へと戻されるようにし、このように処理された水
か各階の給水蛇口(21)へと送られ、給水管内の錆、
スケールの発生防止をすることが実用的であり好ましい
。
示される如く受水漕(16)からポンプ(17)送りて
゛屋上など高位置に設置せられる貯水溝(18)に供給
された水漕内の水を処理するため、ポンプ(20)で同
水漕内の水か本発明装置(19〉内を通り再び同水漕(
18)へと戻されるようにし、このように処理された水
か各階の給水蛇口(21)へと送られ、給水管内の錆、
スケールの発生防止をすることが実用的であり好ましい
。
しかしなから、本発明はこれら好ましい実施態様例に限
定せられることなく、各種食品工業、あるいは工業用水
の処理に使用可能であり、水質のそれぞれの用途に対し
て理、霊的な管理状態を現出せしめる二とが可能て゛あ
る。
定せられることなく、各種食品工業、あるいは工業用水
の処理に使用可能であり、水質のそれぞれの用途に対し
て理、霊的な管理状態を現出せしめる二とが可能て゛あ
る。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例1及び比較f!Al
添1寸図の第1図CB>に図示されている振動磁界電界
P4発生装置(第3図の13)(直径10cm+の鋼管
(21内に、直径的3 mm 、長さ約500 mm
、ステンレス線の17・2波長線アンテナ(1)か収容
され、鋼管中央外側部に設けられた約300 M HZ
高周波電源(31に接続され、鋼管(21の両端!41
(4°)か水の出入口となったもの)を、第3図に図示
されているようなボイラー給水系て゛軟水器(1す)を
通じ給水タンク(11)’\と供給された水か、ボイラ
ー(13〉に給水せられる前に処理されるよう、給水タ
ンク(11)に並置し、同タンク(11)内力水をポン
プ送りでこの装置内を通過せしめた7供給水としては下
記組成の軟水を用い、また振動磁界電界場発生装置には
IWの電力を出力せしめ、線状アンテナの電流を10m
Aとし、同装置内の処理水の流量を15rri/時とし
た。
P4発生装置(第3図の13)(直径10cm+の鋼管
(21内に、直径的3 mm 、長さ約500 mm
、ステンレス線の17・2波長線アンテナ(1)か収容
され、鋼管中央外側部に設けられた約300 M HZ
高周波電源(31に接続され、鋼管(21の両端!41
(4°)か水の出入口となったもの)を、第3図に図示
されているようなボイラー給水系て゛軟水器(1す)を
通じ給水タンク(11)’\と供給された水か、ボイラ
ー(13〉に給水せられる前に処理されるよう、給水タ
ンク(11)に並置し、同タンク(11)内力水をポン
プ送りでこの装置内を通過せしめた7供給水としては下
記組成の軟水を用い、また振動磁界電界場発生装置には
IWの電力を出力せしめ、線状アンテナの電流を10m
Aとし、同装置内の処理水の流量を15rri/時とし
た。
当初150μS 、′Cmて゛あった軟水の導電率が1
960μs・cmとそるまて゛ボイラー給水運転を続け
、その時点で給水タンク内の水をサンプリングし分析し
た結果を第1表に示した。
960μs・cmとそるまて゛ボイラー給水運転を続け
、その時点で給水タンク内の水をサンプリングし分析し
た結果を第1表に示した。
尚比較例として、実施例1と同様、阻し、振動磁界電界
場発生装置(15)そ用いず、かわりに市販清五刑を用
い、4電率1710μS (〜mまでホイラー給水運転
=Jけ、サンプリングI−た水の分析結果を同して第1
表に示した (以 下 余 白〉 H 供給軟水 7.1/20℃ 導電率 塩素イオン 硫酸イオン Mアルカリ度 Naイオン ティ酸イオン 蒸発残留物 μ S 、’ ell ■7′1 mg/1 111gzll I1g/l ■2.・ 名 l1g1’1 50 8.5 9 00 3 4 10 平均濃縮培数尺 標準偏差 S 変動係数 CV% 1表 実施f!I41 振動磁界電界場装置 12゜0./24 ’C (濃縮倍数〉 196013.1) 11012.9) 32111)) 122012.2> 63011.9) 89012.0> 273013.0) 比較例1 清缶剤 11.9.=’20℃ (濃縮倍数) 1710(11,4> 150(17,7) 2.9(1,0) 1140(11,4) 470(8,9> 730(9,9) 2110(10,0) 12.18 1)、76 10.1)4 4.9 49.0 導電率を目安としてボイラー運転を続け、6ケ月後ボイ
ラー、配管内の錆、スチールの発生状態を調へたところ
、実施例(の場訃には殆と認むべき錆、スチールの発生
かなく、比較例1の堝きにはかなりの鋳およびスチール
か認力らh fS尚上記各パラメータ測定は、JISK
OIOIに4処し、pHはガラス電極法、塩素イオンは
イオン電極法、硫酸イオン′はクロム酸7)り巾ム広M
アルカリ度は酸消費量法(13,1)、Naイオンはイ
オン電極法、ケイ酸イオンは全シリカ(44,3>、蒸
発残留物は重量法て′測定りた。
場発生装置(15)そ用いず、かわりに市販清五刑を用
い、4電率1710μS (〜mまでホイラー給水運転
=Jけ、サンプリングI−た水の分析結果を同して第1
表に示した (以 下 余 白〉 H 供給軟水 7.1/20℃ 導電率 塩素イオン 硫酸イオン Mアルカリ度 Naイオン ティ酸イオン 蒸発残留物 μ S 、’ ell ■7′1 mg/1 111gzll I1g/l ■2.・ 名 l1g1’1 50 8.5 9 00 3 4 10 平均濃縮培数尺 標準偏差 S 変動係数 CV% 1表 実施f!I41 振動磁界電界場装置 12゜0./24 ’C (濃縮倍数〉 196013.1) 11012.9) 32111)) 122012.2> 63011.9) 89012.0> 273013.0) 比較例1 清缶剤 11.9.=’20℃ (濃縮倍数) 1710(11,4> 150(17,7) 2.9(1,0) 1140(11,4) 470(8,9> 730(9,9) 2110(10,0) 12.18 1)、76 10.1)4 4.9 49.0 導電率を目安としてボイラー運転を続け、6ケ月後ボイ
ラー、配管内の錆、スチールの発生状態を調へたところ
、実施例(の場訃には殆と認むべき錆、スチールの発生
かなく、比較例1の堝きにはかなりの鋳およびスチール
か認力らh fS尚上記各パラメータ測定は、JISK
OIOIに4処し、pHはガラス電極法、塩素イオンは
イオン電極法、硫酸イオン′はクロム酸7)り巾ム広M
アルカリ度は酸消費量法(13,1)、Naイオンはイ
オン電極法、ケイ酸イオンは全シリカ(44,3>、蒸
発残留物は重量法て′測定りた。
実施例2および比較例2
実施例1で用いられたちのと同し線状アシテナによる振
動磁界電界場発生装置(出力電力IW線状アンテナ電流
10mA、約300 M H)を第2図の循環冷却水系
統ラインで(9)の位置、即ち熱交換器(7)と冷却塔
下部(5)の間に位置せしめた1M給水として下記組成
の工業用水を用い、導電率を目安に運転を行なった。尚
本発明装置(9)内の流量は50rtiy時に設定され
た。fm方比較の為に、本免明装置を用いず、同様の運
転を並行的に実施りな、水の導電率が約830μs 7
Cm程度に達した段階で両者の循環水をサシプリン7
ヒ守折した結果を第2表に示した、 (以 下 余 白) 補給水 pH 導電率 塩素イオン 硫酸イオン Mアルカリ度 全硬度 ゲイ酸イオン 蒸発残留物 μ S 7/” 13 ■/ ( lag /”’ 1 mg/ 々 ffigy# I1g/l l1g/g 7.7/24℃ 20 0 2 1 4 7.6 2 8.1 31 8 20 10 40 6 80 平均濃縮倍数 標準偏差 変動係数 第2表 実施例2 熱 交 換 器 冷 幾」圧azi巴−(濃縮倍数) 比較例2 却 循 環 水 不使用 (J#i賠数) 5 /’ 24 ’C b 96) 8.8) 10 、1) 5.21 7、Ob 6.05 74 8.4.・24°C 25 7 31 5 80 6 59() (6,88 <8.70 (10,9 (4,52 <8.24 (3,42 (9,52 41 1,61 21,8 7,15 2,69 36,2 上記の如く本発明装置を用いることにより変動係数の著
しい改善か認められた5尚本実施例の場き、空気中の排
カスの影響と管、われる硫酸イオン力濃縮培数が異常に
高く、この様セ場合変動f糸数は20 Goより幾升大
て゛あったか、錆、スゲール発生防止に対ヒかなり力効
果が認め毛れた。
動磁界電界場発生装置(出力電力IW線状アンテナ電流
10mA、約300 M H)を第2図の循環冷却水系
統ラインで(9)の位置、即ち熱交換器(7)と冷却塔
下部(5)の間に位置せしめた1M給水として下記組成
の工業用水を用い、導電率を目安に運転を行なった。尚
本発明装置(9)内の流量は50rtiy時に設定され
た。fm方比較の為に、本免明装置を用いず、同様の運
転を並行的に実施りな、水の導電率が約830μs 7
Cm程度に達した段階で両者の循環水をサシプリン7
ヒ守折した結果を第2表に示した、 (以 下 余 白) 補給水 pH 導電率 塩素イオン 硫酸イオン Mアルカリ度 全硬度 ゲイ酸イオン 蒸発残留物 μ S 7/” 13 ■/ ( lag /”’ 1 mg/ 々 ffigy# I1g/l l1g/g 7.7/24℃ 20 0 2 1 4 7.6 2 8.1 31 8 20 10 40 6 80 平均濃縮倍数 標準偏差 変動係数 第2表 実施例2 熱 交 換 器 冷 幾」圧azi巴−(濃縮倍数) 比較例2 却 循 環 水 不使用 (J#i賠数) 5 /’ 24 ’C b 96) 8.8) 10 、1) 5.21 7、Ob 6.05 74 8.4.・24°C 25 7 31 5 80 6 59() (6,88 <8.70 (10,9 (4,52 <8.24 (3,42 (9,52 41 1,61 21,8 7,15 2,69 36,2 上記の如く本発明装置を用いることにより変動係数の著
しい改善か認められた5尚本実施例の場き、空気中の排
カスの影響と管、われる硫酸イオン力濃縮培数が異常に
高く、この様セ場合変動f糸数は20 Goより幾升大
て゛あったか、錆、スゲール発生防止に対ヒかなり力効
果が認め毛れた。
同様の試験を、硫酸イオン濃度か平均値に近い通常の環
境下で実施した場合、同しような導電率を示した段階で
、本発明装置を用いた時の平均濃縮倍数は705.標準
@差116.変動1系数は16.4°らで、本発明効果
の著しいことが判明した。
境下で実施した場合、同しような導電率を示した段階で
、本発明装置を用いた時の平均濃縮倍数は705.標準
@差116.変動1系数は16.4°らで、本発明効果
の著しいことが判明した。
実施例3
第1図(B)と同様装置を同様条件(1〜V10mA、
約300M)I、)で自然水処理ニ使用した。尚同装置
内の流量を5M 時に設定した。
約300M)I、)で自然水処理ニ使用した。尚同装置
内の流量を5M 時に設定した。
処理水をビンづめにし6ケ月間放置したが、濁り、腐敗
を全く示さなかった。比較の為、非処理水を同じ〈6ケ
月間ヒシづめにし放置した場合、水の腐敗、ヒン壁への
著しい1寸着物、濁りを生L
を全く示さなかった。比較の為、非処理水を同じ〈6ケ
月間ヒシづめにし放置した場合、水の腐敗、ヒン壁への
著しい1寸着物、濁りを生L
第1図は1本発明方広の実施に使用せられろ装置の断面
図で、(A)は1,4波長アシテナを用いた装置、(B
)は12波長アンテナを用いた装置(C)は1 波長ア
ンテナを用いた装置第2図は、循環冷却水系統ライノに
本発明装置を使用した場合の水路経路図 第3図はボイラー給水系に本発明装置を使用した場合の
水路経路図。 第4図は高置水槽による飲料水供給系に本発明装置そ使
用した場合の水路経路図。 特許出願代理メ、
図で、(A)は1,4波長アシテナを用いた装置、(B
)は12波長アンテナを用いた装置(C)は1 波長ア
ンテナを用いた装置第2図は、循環冷却水系統ライノに
本発明装置を使用した場合の水路経路図 第3図はボイラー給水系に本発明装置を使用した場合の
水路経路図。 第4図は高置水槽による飲料水供給系に本発明装置そ使
用した場合の水路経路図。 特許出願代理メ、
Claims (3)
- (1)150−450MHz(メガヘルツ)の高周波電
源に接続された1、1/2あるいは1/4波長の線状ア
ンテナにより発生せしめられる振動磁界電界場水路内を
、0.2〜200m^2/時の流量で水を通過せしめる
ことを特徴とする水中のケイ酸を活性化する方法 - (2)高周波電源の出力電力が0.5〜1Wで、線状ア
ンテナ電流が約10mAである請求項第1項記載の方法 - (3)水の出入口のもうけられた鋼管、該鋼管内部に収
容されている1、12あるいは14波長線状アンテナお
よび前記鋼管の外部に位置せしめられ、且つ線状アンテ
ナに接続せられる150−450MHz高周波電源から
なる水中のケイ酸を活性化する為に使用せられる水処理
装置
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31672890A JPH0671588B2 (ja) | 1989-11-21 | 1990-11-20 | 水中のケイ酸を活性化する方法ならびに装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1-304482 | 1989-11-21 | ||
JP30448289 | 1989-11-21 | ||
JP31672890A JPH0671588B2 (ja) | 1989-11-21 | 1990-11-20 | 水中のケイ酸を活性化する方法ならびに装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20658192A Division JP3119318B2 (ja) | 1989-11-21 | 1992-08-03 | 循環水路系の水質管理方法及び水質管理表 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03221188A true JPH03221188A (ja) | 1991-09-30 |
JPH0671588B2 JPH0671588B2 (ja) | 1994-09-14 |
Family
ID=26563927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31672890A Expired - Fee Related JPH0671588B2 (ja) | 1989-11-21 | 1990-11-20 | 水中のケイ酸を活性化する方法ならびに装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0671588B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5393421A (en) * | 1992-02-14 | 1995-02-28 | Nippon Zoki Pharmaceutical Co., Ltd. | Apparatus for activating silicic acid in water |
-
1990
- 1990-11-20 JP JP31672890A patent/JPH0671588B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5393421A (en) * | 1992-02-14 | 1995-02-28 | Nippon Zoki Pharmaceutical Co., Ltd. | Apparatus for activating silicic acid in water |
AU673509B2 (en) * | 1992-02-14 | 1996-11-14 | Nippon Zoki Pharmaceutical Co., Ltd. | Apparatus for activating silicic acid in water |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0671588B2 (ja) | 1994-09-14 |
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