JPH03211556A - 光学ユニット - Google Patents

光学ユニット

Info

Publication number
JPH03211556A
JPH03211556A JP647190A JP647190A JPH03211556A JP H03211556 A JPH03211556 A JP H03211556A JP 647190 A JP647190 A JP 647190A JP 647190 A JP647190 A JP 647190A JP H03211556 A JPH03211556 A JP H03211556A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
irradiation
optical unit
light
integrator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP647190A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2795947B2 (ja
Inventor
Osamu Osawa
理 大澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP2006471A priority Critical patent/JP2795947B2/ja
Publication of JPH03211556A publication Critical patent/JPH03211556A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2795947B2 publication Critical patent/JP2795947B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、例えば紫外線硬化型樹脂の硬化等に用いら
れる光照射装置の光学ユニット、及びこの光学ユニット
を具備する光照射装置に関するものである。
[従来の技術] 光を利用した処理1例えば紫外線を利用した紫外線硬化
型樹脂の硬化処理を行う光照射装置かある。この光照射
装置は従来より、超高圧水銀灯などのショートアーク型
の放電灯の光を楕円集光鏡などの集光鏡で照射する光照
射装置か使用されている。
そして、微小域の光照射、光処理のため、集光された光
を光ファイバて照射する光照射装置か一般的に用いられ
ており、例えば種々の光照射の対象、光処理の種類等に
対応するため、実開昭63−11931号に開示されて
いるように、光フアイバユニットの他、他の光学ユニッ
トを交換接合する提案がなされている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上記のような従来の光照射装置のように
、光学ユニットを交換接合する装置においては、ワーク
に対する照射径及び照射面積を変更したい場合、従来は
その都度光学ユニット全体を交換する必要があり、照射
径及び照射面積に合わせて多数の光学ユニットを準備す
る必要があった。
この発明はかかる従来の課瑚を解決するためになされた
もので、ショートアーク型の放電灯と集光鏡を収納した
灯体に設けられたユニット接合部に接合される光学ユニ
ットにおいて、光学ユニットの光出射部に取付けるレン
ズにより容易に照射径及び照射面積を変更てきるように
した光学ユニット及びこの光学ユニットを具備した光照
射装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、この発明の光学ユニット
は、ショートアーク型の放電灯と集光鏡を収納した灯体
に設けられたユニット接合部に接合される光学ユニット
であって、前記集光鏡の第2焦点を他の位置に投影する
リレーレンズ系と、前記他の位置に設けられたインチク
ルータレンズと、このインチクルータレンズの出射側に
交換もしくは追加可能に設けられた少なくとも1つのレ
ンズとを具備したものてあり、また光照射装置は、ショ
ートアーク型の放電灯と、該放電灯からの光を集光する
集光鏡と、放電灯及び集光鏡を収納した灯体と、前記光
学ユニットか接合されるユニット接合を具備したもので
ある。
[作用] 上記の構成を有することにより、光学ユニット全体を交
換しなくてもインチクルータの出射側に取付けるレンズ
の種類及び組合せによりワークに対する照射径及び照射
面積を変更することかできる0例えば、2種類のレンズ
が1枚づつあったとすると、それぞれ1枚づつ取付けた
場合と、この2枚を重ねた場合の3通りに照射径を変更
することができるため、ワークサイズに合わせた均一な
光照射か容易に実現できる。また、ワークサイズか小さ
い程それに合わせて照射径も小さくてきるのて、高い放
射照度を得ることかでき処理時間か短縮てきる。
[実施例] 第1図はこの発明の一実施例である光学ユニット及び光
照射装置の構成を示す側断面図である。
第1図において、lはショートアーク型の放電灯、2は
楕円集光鏡、3は平面鏡、4は灯体てあり、ショートア
ーク型の放電灯1は、そのアークか楕円集光鏡2の第1
焦点Aに位置するように配置されている。また、5は鏡
筒て、この鏡筒5内に光学ユニットが形成され、灯体4
とユニット接合部6においてネジ等で接合されている。
モして鏡筒5内には、リレーレンズ系(第1図では2枚
のレンズで構成されている)7、平面鏡8、インチクレ
ータレンズ9、交換可能なレンズ10a。
10bからなる光学ユニットか形成されている。
第1図の光照射装置において、ショートアーク型の放電
灯1のアークは楕円集光鏡2の第1焦点Aに位置してい
るので、放電灯lからの光は、平面鏡3て反射して、楕
円集光鏡2の第2焦点Bに集光する。
この第2焦点Bに集光した光は、リレーレンズ系7によ
って平面鏡8を経てインチクルータレンズ9に最適に入
射するようになっており、さらに、インチクルータレン
ズ9によって、光が照射面に均一に照射するように形成
されて、レンズ10a、10bに入射し、照射面11に
投影されて、ワークである電子部品等に塗布された紫外
線硬化型樹脂等の光照射処理を行う。なお、この10a
と10bのレンズの組合せ、10a、10b、10a+
10bの3通りの照射面積を容易に得ることができる。
また、通常の光照射装置はこの第2焦点Bにインチクル
ータレンズを設けてワークへ光を導くのであるが、Bの
位置にインチクルータを配置し垂直方向に光を照射した
い場合、インチクルータから出た光を平面鏡で折返すこ
とになるので、小さい照射径を得ることができないとい
う問題があった。また、照射径が大きくて良い場合であ
っても十分な照射距離をとることができず使いにくい状
態で、光学ユニットとしてはインチクルータの出射側に
付けるレンズと平面鏡を一体に構成したものて照射径に
合せたものをその種類分準備する必要かあった。しかし
、第1図の装置においては必ずしも光学ユニットを取換
える必要はなく、図示の如く、インテグレータの出射側
に取付けるレンズによって照射径を変更することかでき
るのでこのレンズ10aまたは10bもしくは10c・
・・を取はずしたり、さらに、他のレンズと交換したり
することか可能な構成になっている。
また、このレンズは2枚以上を重ねて使用することがで
きるので、ワークサイズに合せた各種の照射径を容易に
得ることがてきる。本実施例では、従来からの光照射装
置のショートアーク放電灯1、楕円集光鏡2.平面鏡3
が第1図に示す配置てあってもリレーレンズ光学系によ
りインテグレータの光軸を垂直方向にすることができ、
インテグレータの後に平面鏡を配置することがなく、ワ
ークに対して垂直照射を実現している。インテグレータ
の出射側に取付けるレンズにより小さな照射径を得るこ
ともできる。また、リレーレンズ光学系とインテグレー
タの後に平面鏡を配置しない光学系により、小さな照射
径てあっても十分な照射距離をとることができる0本ユ
ニットは取付部により第2焦点を含む光軸を軸として3
60゜回転でき、任意の角度で固定できるので垂直下方
・照射のみでなく、水平照射や、垂直上方照射、斜め方
向照射にも対応できる。
さらにまた、ワークの照射面積か微小域の場合や装置内
の狭い場所にある場合などは、第1図の光学ユニットを
ユニット接合部6から取はずして、この部分に光フィイ
バユニットからなる光学ユニットを接合してワークに対
する光照射処理を行うことができる。
[発明の効果] 以上説明したとおり、この発明の光学ユニットはショー
トアーク型の放電灯と集光鏡を収納した灯体に設けられ
たユニット接合部に接合される光学ユニットであって、
前記集光鏡の第2焦点を他の位置に投影するリレーレン
ズ系と、前記他の位置に設けられたインテグレータレン
ズと、このインテグレータレンズの出射側に交換もしく
は追加可能に設けられた少なくとも一つのレンズとを具
備した構成を有するので、ワークの照射径及び照射面積
かかわってもこのレンズを交換もしくは追加するのみで
対応することがてき、またこの光学ユニットを取はずし
可能な本発明の光照射装置は、インテグレータレンズの
形状により丸・角のワークに対してはそれぞれに合わせ
た光学ユニットを取付けることもできる。また、別の微
小域の照射径、照射面積のワークに対しては光ファイバ
からなる光学ユニットを交換することにより、対応する
ことかできるので、いかなる照射域のワークに対しても
すぐに対応することが可能である。
【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明の一実施例である光学ユニット及び光
照射位置の構成を示す側断面図である。 図中。 1:放電灯    2・楕円集光鏡 3.8・平面鏡 4、灯体     5:鏡筒 6:ユニット接合部 7・リレーレンズ系 9:インテグレータレンズ 10a。 10b : レンズ 11:照射面

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ショートアーク型の放電灯と集光鏡を収納した灯
    体に設けられたユニット接合部に接合される光学ユニッ
    トであって、前記集光鏡の第2焦点を他の位置に投影す
    るリレーレンズ系と、前記他の位置に設けられたインテ
    グレータレンズと、このインテグレータレンズの出射側
    に交換もしくは追加可能に設けられた少なくとも一つの
    レンズとを具備したことを特徴とする光学ユニット。
  2. (2)ショートアーク型の放電灯と、該放電灯からの光
    を集光する集光鏡と、放電灯及び集光鏡を収納した灯体
    と、請求項(1)に記載の光学ユニットが接合されるユ
    ニット接合部とを具備したことを特徴とする光照射装置
JP2006471A 1990-01-17 1990-01-17 光学ユニット Expired - Fee Related JP2795947B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006471A JP2795947B2 (ja) 1990-01-17 1990-01-17 光学ユニット

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006471A JP2795947B2 (ja) 1990-01-17 1990-01-17 光学ユニット

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03211556A true JPH03211556A (ja) 1991-09-17
JP2795947B2 JP2795947B2 (ja) 1998-09-10

Family

ID=11639372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006471A Expired - Fee Related JP2795947B2 (ja) 1990-01-17 1990-01-17 光学ユニット

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2795947B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8888633B2 (en) 2009-05-28 2014-11-18 Tsubakimoto Chain Co. Low friction sound-type silent chain

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5681813A (en) * 1979-12-08 1981-07-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask lighting optical system
JPS63111931U (ja) * 1987-01-06 1988-07-19

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5681813A (en) * 1979-12-08 1981-07-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask lighting optical system
JPS63111931U (ja) * 1987-01-06 1988-07-19

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8888633B2 (en) 2009-05-28 2014-11-18 Tsubakimoto Chain Co. Low friction sound-type silent chain

Also Published As

Publication number Publication date
JP2795947B2 (ja) 1998-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20140001369A1 (en) Chamber apparatus and extreme ultraviolet light generation system
JPH049293A (ja) 投影装置及び光照射方法
JP6779313B2 (ja) レーザ光学装置およびヘッド
JPH01286478A (ja) ビーム均一化光学系おゆび製造法
KR20080059558A (ko) 노광 장치
JPH03211556A (ja) 光学ユニット
CN104483816A (zh) 一种用于极紫外光刻的类临界照明系统
JP2005503569A5 (ja)
JPH053214Y2 (ja)
CN214872715U (zh) 一种大尺寸光固化3d打印机光源
JP3057110B2 (ja) レーザー加工用マスク照射装置
JP2004245912A (ja) 光照射装置
JP2759890B2 (ja) 露光装置
JPS63108318A (ja) レ−ザ−加工装置
JP2001332473A5 (ja)
JPH03202147A (ja) 光学ユニット及びこの光学ユニットが接合される光照射装置
KR102580415B1 (ko) 레이저 조명기용 레이저 균질화 장치
CN113232299A (zh) 一种大尺寸光固化3d打印机的照明方法和光源
CN216595763U (zh) 一种矩形线光斑的生成装置
JPH01250907A (ja) ライトガイドファイバユニット及びそれを利用した光照射装置
JP3673255B2 (ja) レーザ加工方法及びレーザ加工装置
KR100497274B1 (ko) 웨이퍼 가장자리 노광 시스템
JP2003080391A (ja) レーザ加工装置
JPH02232618A (ja) レーザ加工用光ファイバー集光光学系
JPS5922946Y2 (ja) レ−ザ加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080626

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090626

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees