JPH03209909A - 弾性表面波装置の製造方法 - Google Patents

弾性表面波装置の製造方法

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JPH03209909A
JPH03209909A JP411390A JP411390A JPH03209909A JP H03209909 A JPH03209909 A JP H03209909A JP 411390 A JP411390 A JP 411390A JP 411390 A JP411390 A JP 411390A JP H03209909 A JPH03209909 A JP H03209909A
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JP
Japan
Prior art keywords
bonding pad
aluminum
acoustic wave
surface acoustic
wave device
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Pending
Application number
JP411390A
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English (en)
Inventor
Kozo Murakami
弘三 村上
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はテレビジョン受像機やビデオテープレコーダ等
にフィルタや発振子として使用される弾性表面波装置の
製造方法に関するものである。
従来の技術 以下に従来の弾性表面波装置の製造方法について説明す
る。
弾性表面波装置はニオブ酸リチウム(LiNbO3) 
タンタル酸リチウム(LiTaO:i)又は水晶等の圧
電体基板の表面上に表面波を励振及び受信するための電
気−機械変換器や、表面波を反射するための反射器から
なる電極パターンを設ける。圧電体基板の表面上にアル
ミニウムを蒸着し、周知のフォトエツチングで電極パタ
ーンを形成した基板を個々の素子に切断し金属ステム等
に固着しワイヤボンディングして電気的に接続する。
電極パターンの膜厚が厚い場合は前記の製造方法で問題
はないが、電極パターンの膜厚が薄い場合は、ワイヤボ
ンドのボンダビリティ−が悪くなるという問題が生じる
。この問題を解決する方法として、ワイヤボンデインを
行うボンディングパッドの膜厚を厚くして補強する方法
が考えられる。
ボンディングパッドの膜厚を厚くして補強する方法とし
ては、第2図(a)〜同図telに示すように、圧電体
基板1にくし形電極用アルミニウム薄膜4を形成しフォ
トエツチングにより所定の厚さのくし形電極5を形成し
た後、フォトレジスト6を用いて、ボンディングパッド
以外のくし形電極5を被覆し、ボンディングパッド用ア
ルミニウム薄膜7を形成した後、フォトエツチングによ
りボンディングパッド8を形成し、不要なフォトレジス
ト6を除去する方法がある。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記の従来の方法では、ボンディングパ
ッドを補強する際に使用した不要なフォトレジストを除
去するのにアセトン等の引火性があり、人体に有害な有
機溶剤を使用するので安全衛生上の問題を有していた。
本発明は上記従来の問題点を解決するもので、フォトエ
ツチングのみでボンディングパッドの膜厚を補強できる
弾性表面波装置の製造方法を提供することを目的とする
課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明の弾性表面波装置の製
造方法は最初にフォトエツチングによりワイヤボンディ
ングを行うためのボンディングパッドを形成した圧電体
基板の表面に所定の厚さのアルミニウム薄膜を蒸着して
フォトエツチングで所定のくし形電極やグレーティング
反射器電極を形成する方法とするものである 作用 この製造方法によってくし形電極やグレーティング反射
器電極の膜厚が薄いことが要求される弾性表面波装置に
おいても、ボンディングパッドを厚くすることが可能と
なり、ボンディング不良を少なくシ、かつアセトン等の
引火性のある人体にも有害な有機溶剤を使用しないので
、女性衛生面でも問題が生じないこととなる。
実施例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
一般に弾性表面波装置はその動作周波数が高くなるほど
、<シ形電極を形成するアルミニウム薄膜の厚さは薄く
する。第1図(alに示すように圧電体基板1の表面に
ボンダビリティを考慮して約3000人の厚さのボンデ
ィングパッド形成用のアルミニウム薄膜2を真空蒸着に
より形成する。次いで第1図(b)に示すようにホトエ
ツチングにより、ボンディングパッド3を形成し、さら
に第1図(C)に示すようにくし形電極用アルミニウム
薄膜4を真空蒸着で形成する。前記くし形電極用アルミ
ニウム薄膜4の厚さはIGH2で動作するフィルタでは
約700人が適当である。前記アルミニウム薄膜4の厚
さを厚くすると、くシ形電極による表面波の反射の影響
が大きくなったり、バルク波の励振が大きくなってフィ
ルタの特性が劣化する。次いで第1図(d)に示すよう
にフォトエツチングによりくし形電極5を形成する。
以上のように本実施例によれば、最初に約3000人の
厚さのボンディングパッドを形成した圧電体基板1上に
約700人の薄いくし形電極用のアルミニウム薄膜を形
成する製造方法により、アセトン等の引火性のある人体
に有害な有機溶剤を使用することなく、<シ形電極のア
ルミニウム薄膜を薄く、ボンディングパッドを厚くする
ことができ、ボンダビリティの良い高信頼性の弾性表面
波装置を製造することができる。
発明の効果 以上の実施例の説明からも明らかなように本発明は、最
初にボンディングパッドを形成することにより、ボンデ
ィングパッドを厚くしてボンダビリティを良<シ、クシ
形電極のアルミニウム薄膜の厚さを薄くした優れた弾性
表面波装置を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図(al〜第1図1は本発明の一実施例における弾
性表面波装置のくし形電極及びボンディングパッドを形
成する製造工程を示す断面図、第2図(al〜第2図t
elは従来の製造方法による弾性表面波装置のくし形電
極及びボンディングパッドを形成する製造工程を示す断
面図である。 1・・・・・・圧電体基板、2,4・・・・・・アルミ
ニウム薄膜、3・・・・・・ボンディングパッド、5・
・・・・・くし形電極。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  圧電体基板の表面にアルミニウムを蒸着し、フォトエ
    ッチングによりワイヤボンディングを行うためのボンデ
    ィングパッドを形成し、次いで前記圧電体基板の表面に
    アルミニウムを蒸着し所定のくし形電極及びグレーティ
    ング反射器電極を、フォトエッチングにより形成する弾
    性表面波装置の製造方法。
JP411390A 1990-01-11 1990-01-11 弾性表面波装置の製造方法 Pending JPH03209909A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0444408A (ja) * 1990-06-12 1992-02-14 Toshiba Corp 弾性表面波装置の製造方法
US7913367B2 (en) * 2007-06-27 2011-03-29 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Method of manufacturing a piezoelectric component

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0444408A (ja) * 1990-06-12 1992-02-14 Toshiba Corp 弾性表面波装置の製造方法
US7913367B2 (en) * 2007-06-27 2011-03-29 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Method of manufacturing a piezoelectric component

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