JPH0320903B2 - - Google Patents

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JPH0320903B2
JPH0320903B2 JP55161630A JP16163080A JPH0320903B2 JP H0320903 B2 JPH0320903 B2 JP H0320903B2 JP 55161630 A JP55161630 A JP 55161630A JP 16163080 A JP16163080 A JP 16163080A JP H0320903 B2 JPH0320903 B2 JP H0320903B2
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JP
Japan
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mask
functions
function
memory cell
circuit
Prior art date
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JP55161630A
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Japanese (ja)
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JPS5785256A (en
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Takaaki Hayashi
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B20/00Read-only memory [ROM] devices

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、リードオンリメモリ(ROM)集積
回路に関する。本発明はリードオンリメモリ
(ROM)集積回路の外部入力端子、外部出力端
子、外部制御端子の切り換えおよび変更を、あら
かじめ機能変更可能な回路をもうけておき、前記
集積回路のメモリ・セル内にデータを書き込む方
法と同一の製造工程内で効率よくおこなうもので
ある。リードオンリメモリ(以後ROMと呼ぶ)
の代表的なものに、マスクプログラマブルROM
(以後マスクROMと呼ぶ)がある。マスクROM
は、ROMの内容の書き込みを、LSI製造に使う
一部のマスクパターンの変更によつておこなう方
式を用いたものである。この方式によつて書き込
まれるメモリ・セルのレイアウトを第1図に示
す。第1図のワード線、データ線はそれぞれポリ
シリコンおよびメタルで構成されている。メモリ
セルへのデータの書き込み方法は幾つかあるが、
第1図AのROMビツト・パターンは、チヤンネ
ルドープ層のマスクにより、拡散層へのチヤンネ
ルドープの有無により固定化(メモリ)されてい
る。第1図BのROMビツトパターンは、コンタ
クト層のマスクによりコンタクトホールの有無に
より固定化(メモリ)されている。この様にマス
クROMにおいては、メモリすべきデータを、
ROMの製造者がマスクパターンに変換して、メ
モリ・セルに書き込む方法がとられている。リソ
グラフイー法によつて製作されるマスクROMの
製造に必要なマスクは、ROMビツト・パターン
用マスクのほかに、別の工程に使用されるマスク
が11枚から15枚程度必要であり、それらを順番に
使用してマスクROMは製造される。ゆえにマス
クROM製造者は、メモリ・セルに書き込むデー
タ内容が異なる幾種類かのマスクROMを製作す
る場合は、マスクROMの使用者からデータを受
けてマスク・パターンに変換して、そのデータを
書き込む層のマスクのみを交換して、他の工程は
前回と同一マスクを使用して、マスクROMを製
造する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to read only memory (ROM) integrated circuits. The present invention enables switching and changing of external input terminals, external output terminals, and external control terminals of a read-only memory (ROM) integrated circuit by providing a circuit that can change functions in advance and storing data in memory cells of the integrated circuit. This method can be efficiently performed within the same manufacturing process as the writing method. Read-only memory (hereinafter referred to as ROM)
A typical example is mask programmable ROM.
(hereinafter referred to as mask ROM). mask rom
This method uses a method in which the contents of the ROM are written by changing some of the mask patterns used in LSI manufacturing. The layout of a memory cell written by this method is shown in FIG. The word line and data line in FIG. 1 are made of polysilicon and metal, respectively. There are several ways to write data to memory cells.
The ROM bit pattern in FIG. 1A is fixed (memory) by the mask of the channel dope layer depending on whether or not the diffusion layer is channel doped. The ROM bit pattern in FIG. 1B is fixed (memory) by the presence or absence of contact holes using a mask in the contact layer. In this way, in mask ROM, the data to be memorized is
A method is used in which the ROM manufacturer converts the mask pattern into a mask pattern and writes it into the memory cell. In addition to the ROM bit pattern mask, there are about 11 to 15 masks required for manufacturing mask ROM produced by the lithography method, which are used in other processes. A mask ROM is manufactured using sequentially. Therefore, when a mask ROM manufacturer manufactures several types of mask ROMs with different data contents to be written to memory cells, it is necessary to receive data from the mask ROM user, convert it into a mask pattern, and then write that data. A mask ROM is manufactured by exchanging only the layer mask and using the same mask as the previous step for other steps.

第2図は、代表的なマスクROMのブロツク図
を示す。第2図Aは、入力信号として15,16
のアドレス指定信号A0〜A11と、17のチツプ選
択信号CSを持ち、43の出力信号O1〜O8を持つ
ている。
FIG. 2 shows a block diagram of a typical mask ROM. Figure 2 A shows 15, 16 as input signals.
It has addressing signals A 0 -A 11 , 17 chip selection signals CS, and 43 output signals O 1 -O 8 .

第2図Bは、入力信号として15,16のアド
レス指定信号A0〜A11と、18,19,21のチ
ツプ選択信号CS1,CS2,を持ち、20の出
力制御信号、43の出力信号O1〜O8を持つて
いる。第2図のBは、チツプ選択信号が2つと、
出力制御信号が1つ、第2図のAよりも機能が増
加されている。第3図は、第2図AおよびBがパ
ツケージされた状態の集積回路のピン配置の一部
を表わしている。第3図Aの信号端子、24の
A8,25のA9,26のCS,27のA11は、第3
図Bの同一のピンでは、28のCS1,29の
CS2,30のA9,31のの機能の信号端子に
変更されている。
FIG. 2B has as input signals 15, 16 addressing signals A 0 -A 11 and 18, 19, 21 chip selection signals CS1, CS2, 20 output control signals, 43 output signals O 1 to have 8 . B in Fig. 2 has two chip selection signals,
The function is increased by one output control signal compared to A in FIG. FIG. 3 depicts a portion of the pinout of the packaged integrated circuit of FIGS. 2A and 2B. Signal terminal of Fig. 3A, 24
A 8 , A 9 of 25, CS of 26, A 11 of 27 are the third
For the same pin in Figure B, 28 CS1, 29 CS1
CS2, 30 A 9 and 31 have been changed to function signal terminals.

この様な信号線の端子の機能や配置は、マスク
ROM使用者により異なり、従来は、第2図のA
とBの2種類の機能を持つところの、第3図のA
とBの2種類のピン配置があり、機能や配置変更
のたびごとに、全工程のマスクを変更するか、最
小限でもメタルマスクを変更する必要があり、変
更するマスク数が多く、マスクの作成時間と費用
がかかる欠点があつた。
The function and arrangement of such signal line terminals are masked.
It varies depending on the ROM user, but conventionally, A in Figure 2
A in Figure 3 has two types of functions: and B.
There are two types of pin layouts: and The drawback was that it was time consuming and expensive to create.

本発明は、かかる欠点を除くため、あらかじめ
別の機能を持つ回路や、別の機能と共用できる回
路をもうけておき、これをメモリの書き込みの
ROMビツト・パターンと同一層のマスク1枚
で、回路を断続して、機能や信号端子の配置を変
更するものである。すなわち、本発明の集積回路
は、製造時にマスクを用いてデータを書き込まれ
るメモリセルと、複数の機能から択一的に機能の
設定が可能な外部端子と、該外部端子に設定され
た機能に応じた信号処理をするように構成される
論理回路に使われるトランジスタ群とを備え、該
トランジスタ群は、複数の機能のうちの第1の機
能に応じた信号処理をする第1の論理回路を構成
する場合に使われる第1のトランジスタ群と、前
記第1の論理回路を構成する場合又は前記複数の
機能のうちの第2の機能に応じた信号処理をする
第2の論理回路を構成する場合に共通に使われる
第2のトランジスタ群とを含み、前記メモリセル
へのデータ書き込み用の前記マスクを用いて、前
記トランジスタ群内に選択的な接続配線を形成す
ることにより前記外部端子に設定する機能に応じ
た信号処理をする論理回路を選択的に構成し、前
記外部端子に前記複数の機能のうちの1つの機能
を設定してなることを特徴とする。特にマスク
ROMの製造においては、使用者から、メモリへ
書き込むデータを受けてマスクパターンに変換す
るので、これと同一層のマスクで、信号の機能や
配置の切り換えや変更をおこなえば、1枚のマス
クで、メモリ内容の書き込みと、使用者から要求
される機能が得られ、効率が良い。
In order to eliminate such drawbacks, the present invention provides a circuit that has a different function or a circuit that can be shared with another function, and uses this circuit for memory writing.
Using a single mask on the same layer as the ROM bit pattern, circuits can be interrupted to change functions and signal terminal locations. In other words, the integrated circuit of the present invention includes a memory cell into which data is written using a mask during manufacturing, an external terminal whose function can be set selectively from a plurality of functions, and a memory cell into which data is written using a mask during manufacturing. a group of transistors used in a logic circuit configured to perform signal processing according to a first function of the plurality of functions; A first transistor group used when configuring the first logic circuit, or a second logic circuit that performs signal processing according to a second function of the plurality of functions. and a second group of transistors that are commonly used in the case, and are set to the external terminals by forming selective connection wiring within the transistor group using the mask for writing data to the memory cell. The device is characterized in that a logic circuit that performs signal processing according to the function to be used is selectively configured, and one of the plurality of functions is set to the external terminal. especially the mask
When manufacturing ROM, the data to be written into the memory is received from the user and converted into a mask pattern, so if you switch or change the signal function or arrangement using a mask on the same layer as this, you can use one mask. , it is efficient to write memory contents and provide the functions requested by the user.

第4図は、本発明の1つの使用例である。第4
図は、第2図のAとBのブロツク図を共有して、
共通に使用できる回路を表わしている。第4図の
実線による接続は、第2図のAの機能に相当す
る。第4図の実線に、破線の部分を接続すると、
第2図のBの機能を持つ回路となる。第4図の
a,bの部分は、第2図Bの18,19のチツプ
選択信号回路にあたり、あらかじめ別機能を持つ
回路である。第4図のCの部分は、第2図Aの場
合には、17のチツプセレクト信号CS回路とな
り、第2図Bの場合は、20の出力制御信号
回路となり、別機能を持たせるのに、共通に使用
できるトランジスタ群を持つ回路となつている。
すなわち、第4図Cにおいて実線で接続されるト
ランジスタ群はCSとの2つの機能に共通して
使われ、破線で接続されるトランジスタ群は
の機能に使われる。第4図のeの部分は第2図の
Aの場合には、21のアドレス信号A11回路とな
り、第2図Bの場合は、入力制御信号回路と
なり、共通トランジスタ群を持つ回路となつてい
る。
FIG. 4 is an example of the use of the present invention. Fourth
The figure shares the block diagrams of A and B in Figure 2,
It represents a circuit that can be used in common. The connection indicated by the solid line in FIG. 4 corresponds to the function of A in FIG. If we connect the broken line to the solid line in Figure 4, we get
The circuit has the function B in FIG. 2. Portions a and b in FIG. 4 correspond to the chip selection signal circuits 18 and 19 in FIG. 2B, and are circuits that have different functions in advance. In the case of Fig. 2A, the part C in Fig. 4 becomes 17 chip select signal CS circuits, and in the case of Fig. 2B, it becomes 20 output control signal circuits. , the circuit has a group of transistors that can be used in common.
That is, in FIG. 4C, the transistor groups connected by solid lines are commonly used for the two functions of CS, and the transistor groups connected by broken lines are used for the functions of CS. In the case of A in Fig. 2, the part e in Fig. 4 becomes the 21 address signal A 11 circuits, and in the case of Fig. 2 B, it becomes the input control signal circuit, which is a circuit with a common transistor group. There is.

この様な機能の切り換え、変更を、メモリへ書
き込むROMビツト・パターンと同一層のマスク
でおこなう場合の1つの例を第5図に示す。
FIG. 5 shows an example of switching and changing such functions using a mask in the same layer as the ROM bit pattern written into the memory.

第5図は、回路の切り換え、接続が、第1図の
Bで示されたメモリ・セルへの書き込みと同一層
のコンタクト層によるものである。第5図の3
3,34,35はトランジスタを形成するポリシ
リコンである。第5図の36,42は、メタルの
配線部分である。第5図の37は、拡散層であ
る。第5図の38,39,40,41は、コンタ
クト層を表わしている。38のコンタクト層を形
成すると、33のポリシリコンと、36のメタル
が導通になり配線が接続される。さらに、39,
40のコンタクト層が入ると、37の拡散と、3
6のメタルが導通となり配線が接続となり、回路
が構成される。逆に、41のコンタクト層が無い
場合は34,35のポリシリコンと42のメタル
は非導通となり、配線は切断される。この様な配
線の断続は、コンタクト層だけでなく、第1図A
の5のチヤンネルドープでも可能である。
In FIG. 5, the circuit switching and connections are by means of a contact layer in the same layer as the writing to the memory cell indicated by B in FIG. Figure 5, 3
3, 34, and 35 are polysilicon layers forming transistors. Reference numerals 36 and 42 in FIG. 5 are metal wiring portions. 37 in FIG. 5 is a diffusion layer. 38, 39, 40, and 41 in FIG. 5 represent contact layers. When the contact layer 38 is formed, the polysilicon layer 33 and the metal layer 36 are electrically connected, and the wiring is connected. Furthermore, 39,
With 40 contact layers, 37 diffusions and 3
The metal 6 becomes conductive and the wiring becomes connected, forming a circuit. Conversely, if there is no contact layer 41, the polysilicon 34 and 35 and the metal 42 are non-conductive and the wiring is cut. This kind of wiring discontinuity occurs not only in the contact layer but also in the
5 channel doping is also possible.

以上述べたように、本発明によれば、メモリの
書き込みと同一のマスクで、配線の切換ができ、
従来のメタルマスクなどの配線の切換え、変更に
比べてデータの書き込みと、信号線の切換え、変
更が1枚のマスクですみ能率的で、便利となつ
た。
As described above, according to the present invention, wiring can be switched using the same mask as for memory writing.
Compared to switching and changing wiring using conventional metal masks, writing data and switching and changing signal lines can be done with just one mask, making it more efficient and convenient.

なお、この様な手法は、マスクROMに限るこ
となく、ROM機能を内蔵する集積回路や、PLA
回路にも適用されるものである。
Note that this method is applicable not only to mask ROM but also to integrated circuits with built-in ROM functions and PLA.
It also applies to circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図Aは拡散層によりデータを書き込む場合
のメモリ・セルのレイアウト図。第1図Bはコン
タクト層によりデータを書き込む場合のメモリ・
セルのレイアウト図。 第1図A,Bにおいて、1……ポリシリコンの
ワード線、2……メタルのデータ線、3……コン
タクト部、4……拡散部、5……チヤンネルドー
プ部。 第2図Aは外部制御信号のチツプセレクト信号
CSが1つの場合の代表的なマスクROMのブロツ
ク図。第2図Bは外部制御信号がチツプセレクト
信号CS1,CS2,が3つ、出力制御信号が
1つの場合の代表的なマスクROMのブロツク
図。 第2図A,Bにおいて、5……メモリ・マトリ
ツクス、6……Yセレクター、7……Xデコー
ダ、8……Yデコーダ、9……A0〜A7アドレス
入力バツフア、10……A8〜A12アドレス入力バ
ツフア、11……出力バツフア、12……チツプ
セレクト入力バツフア、13……チツプイネーブ
ル入力バツフア、14……アウトプツトイネーブ
ル入力バツフア、15……A0〜A7アドレス入力、
16……A8〜A12アドレス入力、17……CSチ
ツプセレクト入力、18……CS1チツプセレクト
入力、19……CS2チツプセレクト入力、20…
…出力回路制御入力、21……CEアドレスバ
ツフア回路制御入力、22……A11アドレス入
力、43……O0〜O7データ出力。 第3図Aは第2図Aの機能を有するパツケージ
された集積回路のピン配置の部分図。第3図Bは
第2図Bの機能を有するパツケージされた集積回
路のピン配置の部分図。 第3図A,Bにおいて、23……プラス電源
VDD、24……A8アドレス入力、25……A9アド
レス入力、26……CSチツプセレクト入力、2
7……A11アドレス入力、28……CS1チツプセ
レクト入力、29……CS2チツプセレクト入力、
30……A9アドレス入力、31……出力回路
制御入力、32……アドレスパツフア回路制
御入力。 第4図はセツプセレクト回路図。 第4図において、a……CS1チツプセレクト入
力回路、b……CS2チツプセレクト入力回路、c
……CSとの共通回路、d……CSとの共通
回路、e……A11アドレス入力との共通回路。 第5図はコンタクト層によるポリシリコンとメ
タル、拡散層とメタルの接続図。 第5図において、33,34,35……ポリシ
リコン、36,42……メタル、37……拡散
層、38,39,40,41……コンタクト層。
FIG. 1A is a layout diagram of a memory cell when data is written using a diffusion layer. Figure 1B shows the memory structure when writing data using the contact layer.
Cell layout diagram. In FIGS. 1A and 1B, 1...polysilicon word line, 2...metal data line, 3...contact part, 4...diffusion part, 5...channel doped part. Figure 2 A is the chip select signal of the external control signal.
Block diagram of a typical mask ROM with one CS. FIG. 2B is a block diagram of a typical mask ROM when external control signals include three chip select signals CS1 and CS2 and one output control signal. In FIGS. 2A and B, 5...memory matrix, 6...Y selector, 7...X decoder, 8...Y decoder, 9... A0 to A7 address input buffer, 10... A8 ~A 12 address input buffer, 11...output buffer, 12...chip select input buffer, 13...chip enable input buffer, 14...output enable input buffer, 15...A 0 ~A 7 address input,
16... A8 to A12 address input, 17...CS chip select input, 18...CS1 chip select input, 19...CS2 chip select input, 20...
...Output circuit control input, 21...CE address buffer circuit control input, 22... A11 address input, 43... O0 to O7 data output. FIG. 3A is a partial diagram of the pinout of a packaged integrated circuit having the functionality of FIG. 2A. FIG. 3B is a partial diagram of the pinout of a packaged integrated circuit having the functionality of FIG. 2B. In Figure 3 A and B, 23...positive power supply
V DD , 24...A 8 address input, 25...A 9 address input, 26...CS chip select input, 2
7...A 11 address input, 28...CS1 chip select input, 29...CS2 chip select input,
30...A 9 address input, 31...Output circuit control input, 32...Address puffer circuit control input. Figure 4 is a sep select circuit diagram. In Fig. 4, a...CS1 chip select input circuit, b...CS2 chip select input circuit, c
...Common circuit with CS, d...Common circuit with CS, e...Common circuit with A 11 address input. FIG. 5 is a diagram showing the connection between polysilicon and metal, and between the diffusion layer and metal using a contact layer. In FIG. 5, 33, 34, 35... polysilicon, 36, 42... metal, 37... diffusion layer, 38, 39, 40, 41... contact layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 製造時にマスクを用いてデータを書き込まれ
るメモリセルと、複数の機能から択一的に機能の
設定が可能な外部端子と、該外部端子に設定され
た機能に応じた信号処理をするように構成される
論理回路に使われるトランジスタ群とを備え、該
トランジスタ群は、複数の機能のうちの第1の機
能に応じた信号処理をする第1の論理回路を構成
する場合に使われる第1のトランジスタ群と、前
記第1の論理回路を構成する場合又は前記複数の
機能のうちの第2の機能に応じた信号処理をする
第2の論理回路を構成する場合に共通に使われる
第2のトランジスタ群とを含み、 前記メモリセルへのデータ書き込み用の前記マ
スクを用いて、前記トランジスタ群内に選択的な
接続配線を形成することにより前記外部端子に設
定する機能に応じた信号処理をする論理回路を選
択的に構成し、前記外部端子に前記複数の機能の
うちの1つの機能を設定してなることを特徴とす
る集積回路。 2 前記マスクはコンタクト層を形成するための
マスクであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の集積回路。 3 前記マスクはチヤンネルドープのためのマス
クであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の集積回路。
[Scope of Claims] 1. A memory cell into which data is written using a mask during manufacturing, an external terminal whose function can be selectively set from a plurality of functions, and a memory cell whose function can be selectively set from a plurality of functions, and a memory cell whose function is set selectively from a plurality of functions, and a memory cell whose function is set selectively from a plurality of functions. and a transistor group used in a logic circuit configured to perform signal processing, the transistor group forming a first logic circuit that performs signal processing according to a first function among the plurality of functions. When configuring the first logic circuit with the first transistor group used in the case, or when configuring the second logic circuit that performs signal processing according to the second function of the plurality of functions, a second group of commonly used transistors, and a function of setting the external terminal by forming selective connection wiring within the transistor group using the mask for writing data to the memory cell; What is claimed is: 1. An integrated circuit comprising: selectively configuring a logic circuit that performs signal processing in accordance with the above; and setting one of the plurality of functions to the external terminal. 2. The integrated circuit according to claim 1, wherein the mask is a mask for forming a contact layer. 3. The integrated circuit according to claim 1, wherein the mask is a mask for channel doping.
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