JPH0320287A - Production of beta-lactam compound - Google Patents

Production of beta-lactam compound

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JPH0320287A
JPH0320287A JP1155043A JP15504389A JPH0320287A JP H0320287 A JPH0320287 A JP H0320287A JP 1155043 A JP1155043 A JP 1155043A JP 15504389 A JP15504389 A JP 15504389A JP H0320287 A JPH0320287 A JP H0320287A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
manufacturing
general formula
alkyl group
phenyl group
Prior art date
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Pending
Application number
JP1155043A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akimasa Miyama
晃正 三山
Shingo Matsumoto
慎吾 松本
Noboru Kamiyama
昇 上山
Kazunori Suga
和憲 菅
Takehisa Ohashi
武久 大橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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Publication of JPH0320287A publication Critical patent/JPH0320287A/en
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

PURPOSE:To obtain the subject compound, having a silyl ether group at the 4-position and useful as an intermediate convertible into various derivatives by reducing a specific beta-lactam compound with an organometallic compound in an organic solvent. CONSTITUTION:An N-sulfonyl beta-lactam compound expressed by formula I (R represents OH-protecting group; R<2> to R<4> represent 1-6C alkyl, phenyl or aralkyl; X<1> represents halogen) [example; 3-(1-tert.-butyldimethyl-silyloxyethyl)-1- chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxy-ozetidin-2-one] is reduced in an organic solvent (example; toluene) with an organometallic compound expressed by the formula R<5>-M [R<5> represents (substituted) alkyl, (substituted) phenyl or aralkyl; M represents (halogeno)metal] (preferably phenylmagnesium chloride or benzyl- magnesium chloride) preferably at -30 deg.C to ambient temperature the objective compound expressed by formula II.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は3一位に水酸基が保護されたヒドロキシエチル
基を有し、4一位にシリルエーテル基を有するβ−ラク
タム化合物の製造法に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for producing a β-lactam compound having a hydroxyethyl group with a protected hydroxyl group at the 31-position and a silyl ether group at the 41-position. .

本発明によるβ−ラクタム化合物は、4一位に反応性に
富むシリルエーテル基を有し、種々の誘導体に変換でき
る有用な中間体である。たとえば、本発明化合物の4一
位のシリルエーテル基に、置換反応を行なうことによっ
て、第4世代のβ−ラクタム抗生物質として知られてい
るチェナマイシン製造に有用な3−(l−ヒドロキシエ
チル)−4−アセトキシアゼチジン−2−オンや、3一
(l−ヒドロキシエチル)−4−ハロアゼチジン−2−
オンが取得できる。
The β-lactam compound according to the present invention has a highly reactive silyl ether group at the 41-position and is a useful intermediate that can be converted into various derivatives. For example, by performing a substitution reaction on the 41-position silyl ether group of the compound of the present invention, 3-(l-hydroxyethyl), which is useful in the production of chenamycin, which is known as a fourth-generation β-lactam antibiotic -4-acetoxyazetidin-2-one, 3-(l-hydroxyethyl)-4-haloazetidine-2-
On can be obtained.

[従来の技術・発明が解決しようとする課1i]4一位
にシリルエーテル基を有するβ−ラクタム化合物とその
製造法に関しては、本発明者らがすでに出願している(
特開昭81−18791号公報参照)。
[Prior art/Issues to be solved by the invention 1i] The present inventors have already filed an application regarding a β-lactam compound having a silyl ether group at the 4-1 position and a method for producing the same (
(See Japanese Unexamined Patent Publication No. 81-18791).

その製造過程でのβ−ラクタム環のN一保護基の還元的
脱離に関しては、水素化アルミニウムリチウム、水素化
ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム
、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムなど
の水素化金属化合物や、ラネーニッケル、メルカブタン
類、アルカリ金属一電子受容体を用いる系に限られてい
た。
Regarding the reductive elimination of the N-protecting group of the β-lactam ring during the production process, lithium aluminum hydride, sodium bis(2-methoxyethoxy)aluminum hydride, sodium borohydride, lithium borohydride, etc. It has been limited to systems using metal hydride compounds, Raney nickel, mercabutanes, and alkali metal one-electron acceptors.

これらの系で還元的脱保護を行なったぱあい、たとえば
、水素化アルミニウム化合物を用いたぱあいは水酸化ア
ルミニウム、メルカブタン類を用いたぱあいはジスルフ
ィド、アルカリ金属一電子受容体系を用いたぱあいは電
子受容体の除去などに困難な点があり、またその他の系
では前記に比べて若干収率がわるいという問題があった
Reductive deprotection in these systems, for example, aluminum hydroxide for aluminum hydride compounds, disulfide for mercabutanes, and disulfide for alkali metal one-electron acceptor systems. In the case of A, it is difficult to remove the electron acceptor, and in other systems, there is a problem that the yield is slightly lower than that of the above.

本発明者らはさらに検討を行ない、4位にシリルエーテ
ル基を有し、β−ラクタム環のチッ素原子が無置換であ
るβ−ラクタム化合物を収率よく、かつ副生物の除去に
困難を伴わない方法でN−ハロスルホニル体から還元的
に誘導する新しい合成法を見出し本発明を完成した。
The present inventors conducted further studies and found that a β-lactam compound having a silyl ether group at the 4-position and in which the nitrogen atom of the β-lactam ring is unsubstituted can be produced with high yield and without difficulty in removing by-products. The present invention was completed by discovering a new synthetic method for reductively deriving N-halosulfonyl derivatives using a method that does not involve the use of N-halosulfonyl derivatives.

[課題を解決するための手段] 本発明は一般式(10 : (式中、R1は水酸基の保護基、R2   R3および
R4はそれぞれ同一または相異なるC1〜Ceの低級ア
ルキル基、フエニル基またはアラルキル基s  X’は
ハロゲン原子を示す)で表わされるβ−ラクタム化合物
を、有機溶媒中、一般式(■): RS  −M              (1)υ (式中、Riは水酸基の保護基、R2   R3および
R4はそれぞれ同一または相異なるCt〜C●の低級ア
ルキル基、フェニル基またはアラルキル基を示す)で表
わされるβ−ラクタム化合物の製造法に関する。
[Means for Solving the Problems] The present invention is based on the general formula: A β-lactam compound represented by the general formula (■): RS -M (1)υ (wherein, Ri is a hydroxyl protecting group, R2 R3 and The present invention relates to a method for producing a β-lactam compound represented by R4 each representing the same or different lower alkyl group, phenyl group, or aralkyl group of Ct to C●.

すなわち、一般式(l): (式中、Rsはアルキル基もしくは置換アルキル基、フ
ェニル基もしくは置換フエニル基またはアラルキル基、
Xは金属またはハロゲン化金属を示す)で表わされる有
機金属化合物によって還元することを特徴とする一般式
圓:(式中、RI   R2   R3およびR◆は前
記と同じ)で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法に
関する。
That is, general formula (l): (wherein Rs is an alkyl group or a substituted alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group, or an aralkyl group,
A β-lactam compound represented by the general formula: (wherein RI R2 R3 and R◆ are the same as above), which is reduced by an organometallic compound represented by X represents a metal or a metal halide. Concerning the manufacturing method.

[作用・実施例】 前記一般式圓中の3位ヒドロキシエチル基の〇一保護基
であるR1の具体例としては、一般式N二 R6 (式中 R@   R7およびR8はそれぞれ同一また
は相異なるC1〜C●の低級アルキル基、フエニル基ま
たはアラルキル基を示す)で表わされる基があげられ、
たとえばtert−ブチルジメチルシリル基、トリイソ
プロピルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、イ
ンブチルジメチルシリル基、ジメチル−(l62−ジメ
チルプロビル)シリル基、ジメチルー(1,1.2−}
リメチルプロビル)シリル基などのトリアルキルシリル
基、その他teft−プチル基、ペンジル基、トリクロ
ロエトキシカルポニル基% tart−ブトキシカルボ
二ル基、p−ニトロベンジルオキシ力ルボニル基などが
あげられる。好ましくは、反応中、安定であり、さらに
酸処理により選択的に脱保護されうるiert−プチル
ジメチルシリル基、イソブロピルジメチルシリル基、ジ
メチルー(1.1.2−}リメチルブ口ピル)一シリル
基およびジメチル−(1.2−ジメチルプ口ピル)シリ
ル基がよい。
[Operations/Examples] Specific examples of R1, which is a protecting group for the 3-position hydroxyethyl group in the general formula circle, include the general formula N2R6 (wherein R@R7 and R8 are each the same or different). C1 to C● lower alkyl group, phenyl group or aralkyl group);
For example, tert-butyldimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, isopropyldimethylsilyl group, inbutyldimethylsilyl group, dimethyl-(l62-dimethylprobyl)silyl group, dimethyl-(1,1.2-}
Other examples include trialkylsilyl groups such as (trimethylpropyl)silyl group, tft-butyl group, penzyl group, trichloroethoxycarbonyl group, tart-butoxycarbonyl group, p-nitrobenzyloxycarbonyl group, and the like. Preferably, an iert-butyldimethylsilyl group, an isopropyldimethylsilyl group, or a dimethyl-(1.1.2-}limethylbutopyl)-silyl group, which is stable during the reaction and can be selectively deprotected by acid treatment. and dimethyl-(1,2-dimethylbubutyl)silyl group.

またβ−ラクタム化合物圓のR2   R3およびR4
はメチル、エチル、イソブチル、1.1.2−トリメチ
ルプロビルなどのC+ − 06の低級アルキル基、フ
ェニル基およびペンジル基、P−二トロペンジル基など
のアラルキル基から同一または相異なった基を選択でき
るが、好ましくはR2   .H3およびR4が共にメ
チルであるのが最適である。
Also, R2 R3 and R4 of the β-lactam compound circle
are the same or different groups selected from lower alkyl groups at C+-06 such as methyl, ethyl, isobutyl, 1.1.2-trimethylpropyl, phenyl groups and aralkyl groups such as penzyl and P-nitropenzyl groups. However, preferably R2. Optimally, H3 and R4 are both methyl.

またXIはハロゲン原子を示すが、好ましくは塩素原子
が好ましい。
Further, XI represents a halogen atom, preferably a chlorine atom.

本発明の反応を下記反応式1に示す。反応式1 : (1) (1) + 副生物 前記反応における原料のN−スルホニルβ−ラクタム化
合物(1)としては、3=(1−tert−プチルジメ
チルシリロキシエチル)−1−クロロスルホニル−4−
トリメチルシリロキシーアゼチジン−2−オン、3−(
1−tert−ブチルジメチルシリロキシエチル)−1
−クロロスルホニル−4−トリエチルシリロキシーアゼ
チジン−2−オン、3−(1−tert−ブチルジメチ
ルシリロキシエチル)−1−クロロスルホニル−4−ジ
メチルイソプロピルシリロキシーアゼチジン−2−オン
、3−(1−tert−ブチルジメチルシリロキシエチ
ル)−4−tert−プチルジメチルシリロキシー1−
クロロスルホニルーアゼチジン−2−オン、l−クロロ
スルホニル−3−(l−ジメチルイソプロピルシリロキ
シエチル)−4−トリメチルシリロキシーアゼチジン−
2−オン、l−クロロスルホニル−3−[1− (ジメ
チル−(1.1.2−トリメチルブロピル)一シリロキ
シ)エチル]−4−トリメチルシリロキシーアゼチジン
−2−オン、l−クロ口スルホニル−3−(1−ter
t−プチルジフエニルシリロキシエチル)−44リメチ
ルシリロキシーアゼチジン−2−オン、l−クロロスル
ホニル−3−[1−(ジメチル−(l,2−ジメチルプ
ロビル)シリロキシ)エチル]−4− トリメチルシリ
ロキシーアゼチジン−2一オン、3−(1−tert−
ブトキシエチル)−1−クooスルホニル−4−トリメ
チルシリロキシーアゼチジン −2−オン、3−(1−
tert−プトキシエチル)−1−クロロスルホニル−
4−トリエチルシリロキシーアゼチジン−2−オン、a
−(i−ペンジルオキシエチル)−1−クロロスルホニ
ル−4−トリメチルシリロキシーアゼチジン−2−オン
、3−(1−tert−プチルカルボニルオキシエチル
)−1−クロロスルホニル−4−トリメチルシリロキシ
ーアゼチジン−2−オン、3−(1−ペンジルオキシ力
ルポニルオキシエチル)−1−クロロスルホニル−4−
トリメチルシリロキシーアゼチジン−2−オン、8−(
1−ペンゾイルオキシエチル)−1−クロロスルホニル
−4−トリメチルシリロキシーアゼチジン−2−オン、
l−クロロスルホニル−3−(1−p一二トロベンジル
オキシ力ルポニルオキシエチル)−4−}リメチルシリ
ロキシーアゼチジン−2−オン、1−クロロスルホニル
−4−トリメチルシリロキシ−3−(1− トリメチル
シリロキシエチル)一アゼチジン−2−オン、などが採
用できる。好ましくは、3−(1−tert−プチルジ
メチルシリロキシエチル)−1−クロロスルホニル−4
−トリメチルシリロキシーアゼチジン−2一オン、l−
クロロスルホニル−3−[1− (ジメチル−(1.1
.2−トリメチルプロビル)シリロキシ〉エチル]−4
−トリメチルシリロキシーアゼチジン2−オン、l−ク
ロロスルホニル−3−(l−ジメチルイソプロピルシリ
ロキシ)エチル−4−トリメチルシリロキシーアゼチジ
ン−2−オンなどがあげられる。
The reaction of the present invention is shown in Reaction Formula 1 below. Reaction formula 1: (1) (1) + By-product The raw material N-sulfonyl β-lactam compound (1) in the above reaction is 3=(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl- 4-
Trimethylsilyloxyazetidin-2-one, 3-(
1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1
-chlorosulfonyl-4-triethylsilyloxyazetidin-2-one, 3-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-dimethylisopropylsilyloxyazetidin-2-one, 3- (1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-4-tert-butyldimethylsilyloxy 1-
Chlorosulfonyl-azetidin-2-one, l-chlorosulfonyl-3-(l-dimethylisopropylsilyloxyethyl)-4-trimethylsilyloxyazetidine-
2-one, l-chlorosulfonyl-3-[1-(dimethyl-(1.1.2-trimethylpropyl)monosilyloxy)ethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one, l-chlorosulfonyl Sulfonyl-3-(1-ter
t-Butyldiphenylsilyloxyethyl)-44-limethylsilyloxyazetidin-2-one, l-chlorosulfonyl-3-[1-(dimethyl-(l,2-dimethylprobyl)silyloxy)ethyl]-4 - trimethylsilyloxyazetidine-2-one, 3-(1-tert-
butoxyethyl)-1-koosulfonyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one, 3-(1-
tert-ptoxyethyl)-1-chlorosulfonyl-
4-triethylsilyloxyazetidin-2-one, a
-(i-penzyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one, 3-(1-tert-butylcarbonyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxy Azetidin-2-one, 3-(1-penzyloxytriponyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-
Trimethylsilyloxyazetidin-2-one, 8-(
1-penzoyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one,
l-chlorosulfonyl-3-(1-p-nitrobenzyloxylponyloxyethyl)-4-}limethylsilyloxyazetidin-2-one, 1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxy-3- (1-trimethylsilyloxyethyl)-azetidin-2-one, etc. can be employed. Preferably, 3-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4
-trimethylsilyloxyazetidine-2-one, l-
Chlorosulfonyl-3-[1- (dimethyl-(1.1
.. 2-trimethylprobyl)silyloxy>ethyl]-4
-trimethylsilyloxyazetidin-2-one, l-chlorosulfonyl-3-(l-dimethylisopropylsilyloxy)ethyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one, and the like.

前記のN−スルホニルβ −ラクタム化合物(1)は、
3−ヒドロキシ酪酸を出発原料として合成したエノール
シリルエーテル類とスルホニルイソシアナート類の反応
により合成できる(特開昭61−1879L号公N 参
照)。このぱあい、スルホニルイソシアナート類として
は、たとえばクロロスルホニルイソシアナートなどのハ
ロゲン原子がスルホニル基に結合したスルホニルイソシ
アナートを使用することができる。
The above N-sulfonyl β-lactam compound (1) is
It can be synthesized by reacting enol silyl ethers synthesized from 3-hydroxybutyric acid as a starting material and sulfonylisocyanates (see JP-A-61-1879L Publication N). As the sulfonyl isocyanate, for example, a sulfonyl isocyanate in which a halogen atom is bonded to a sulfonyl group, such as chlorosulfonyl isocyanate, can be used.

前記原料であるN−スルホニルβ−ラクタム化合物(1
)の合成に関して、下記反応式2に示す。
The raw material N-sulfonyl β-lactam compound (1
) is shown in reaction formula 2 below.

反応式2: [以下余白] (.I) 前記反応により生成したN−スルホニルーβラクタム化
合物(1)のチッ素原子上の置換基を還元的に脱離させ
、目的化合物(自)をうる反応について述べる。
Reaction formula 2: [Left below] (.I) A reaction in which the substituent on the nitrogen atom of the N-sulfonyl-β-lactam compound (1) produced by the above reaction is reductively eliminated to obtain the target compound (self). Let's talk about.

この還元反応は、有機溶媒中、一般式(l):RS =
M         (1) (式中、RSはアルキル基もしくは置換アルキル基、フ
ェニル基もしくは置換フエニル基またはアラルキル基、
Mは金属またはハロゲン化金属を示す)で表わされる有
機金属化合物をβ−ラクタム化合物(1)に作用させる
ことにより行なわれる。RSとしては、たとえばメチル
基、エチル基、n−プロビル基、イソプロテル基、n−
ブチル基、t−ブチル基などのアルキル基の他、置換ア
ルキル基、フェニル基、トリル基などのフエニル基およ
び置換フエニル基、ベンジル基などのアラルキル基が用
いられ、Mとしては、たとえばリチウム、カリウムなど
のアルカリ金属、マグネシウムクロリド、マグネシウム
ブロミド、マグネシウムヨージドなどのハロゲン化金属
があげられる。さらに具体的には、一般式M:R9  
−Mg−X2          (V)(式中R9は
アルキル基もしくは置換アルキル基、フエニル基もしく
は置換フエニル基、またはアラルキル基、X2はハロゲ
ン原子を示す)で表わされるグリニャール試薬および一
般式+170:R幻 −Li (4) (式中、帥はC1〜CIの低級アルキル基もしくは置換
アルキル基、フエニル基もしくは置換フエニル基または
アラルキル基を示す)で表わされる有機リチウム化合物
があげられる。すなわち、有機金属化合物としては例示
すると、n−プチルリチウム、フエニルリチウム、エチ
ルマグネシウムクロリド、エチルマグネシウムプロミド
、n−プロビルマグネシウムクロリド、n−プロビルマ
グネシウムプロミド、イソブロビルマグネシウムクロリ
ド、イソプロビルマグネシウムブロミド、イソプロビル
マグネシウムヨージド、フェニルマグネシウムクロリド
、フエニルマグネシウムブロミド、べ冫ジルマグネシウ
ムクロリド、ベンジルマグネシウムブロミドなどが用い
られるが;とくにフエニルマグネシウムクロリドおよび
ベンジルマグネシウムクロリドを用いるのが好ましい。
This reduction reaction is carried out in an organic solvent using the general formula (l): RS =
M (1) (wherein RS is an alkyl group or a substituted alkyl group, a phenyl group or a substituted phenyl group, or an aralkyl group,
This is carried out by allowing an organometallic compound represented by (M represents a metal or a metal halide) to act on the β-lactam compound (1). As RS, for example, methyl group, ethyl group, n-probyl group, isoprotel group, n-
In addition to alkyl groups such as butyl group and t-butyl group, substituted alkyl groups, phenyl groups such as phenyl group and tolyl group, and aralkyl groups such as substituted phenyl group and benzyl group are used, and M is, for example, lithium, potassium and metal halides such as magnesium chloride, magnesium bromide, and magnesium iodide. More specifically, the general formula M:R9
-Mg-X2 (V) (wherein R9 is an alkyl group, a substituted alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, or an aralkyl group; Examples include organolithium compounds represented by Li (4) (in the formula, ``H'' represents a C1 to CI lower alkyl group, a substituted alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, or an aralkyl group). That is, examples of organometallic compounds include n-butyllithium, phenyllithium, ethylmagnesium chloride, ethylmagnesium bromide, n-probylmagnesium chloride, n-probylmagnesium bromide, isobrobylmagnesium chloride, and isoprobil. Magnesium bromide, isoprobylmagnesium iodide, phenylmagnesium chloride, phenylmagnesium bromide, benzylmagnesium chloride, benzylmagnesium bromide and the like are used; in particular, phenylmagnesium chloride and benzylmagnesium chloride are preferably used.

還元反応に用いられる溶媒としては、たとえばトルエン
、ヘキサン、エーテル、テトラヒドロフランなどの不活
性有機溶媒があげられ、混合溶媒系でもよい。また、グ
リニャール試薬などを用いるぱあいには、ハロゲン化ア
ルキルとMgからグリニャール試薬を合成する溶媒とは
異なる溶媒を還元反応に用いてもよい。
Examples of the solvent used in the reduction reaction include inert organic solvents such as toluene, hexane, ether, and tetrahydrofuran, and a mixed solvent system may also be used. Further, in a reaction using a Grignard reagent or the like, a solvent different from the solvent for synthesizing the Grignard reagent from the alkyl halide and Mg may be used for the reduction reaction.

還元反応は、−ioo℃〜溶媒の沸点付近の任意の温度
で行なえばよく、さらに好ましくは、一30℃〜室温付
近で行なえばよい。原料であるハロスルホンラクタムを
還元剤中に添加してもよく、またはハロスルホンラクタ
ムの溶液中に還元剤を添加してもよい。
The reduction reaction may be carried out at any temperature between -ioo<0>C and around the boiling point of the solvent, more preferably between -30<0>C and around room temperature. The halosulfonlactam as a raw material may be added to a reducing agent, or the reducing agent may be added to a solution of the halosulfonlactam.

この還元反応を行なったのちに、通常の方法にしたがっ
て加水分解、水洗、濃縮を行なうことにより、目的とす
るN一無置換のβ −ラクタム化合物圓をうろことがで
きる。
After this reduction reaction, the desired N-unsubstituted β-lactam compound can be obtained by hydrolysis, washing with water, and concentration according to a conventional method.

本発明の方法によれば副生物である金属は水洗により無
害な塩として、アルキルハライドは濃縮により溶媒と共
に容易に留去される。
According to the method of the present invention, by-product metals are easily distilled off as harmless salts by washing with water, and alkyl halides are easily distilled off together with the solvent by concentration.

次に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが本
発明はこれらの実施例のみで限定されるものではない。
Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited only to these Examples.

参考例1 [ 3−(1−tert−ブチルジメチルシリロキシエ
チル)−1−クロロスルホニル−4−トリメチルシリロ
キシーアゼチジン−2−オンの生成] クロロスルホニルイソシアナート35μgをトルエンd
−8に溶解し、アルゴンガス雰囲気下で−78℃まで冷
却し、−70℃以下に保ちながら3−ielrt−ブチ
ルジメチルシリロキシブテ−l−ニルトリメチルシリル
エーテル100鳳gを添加した。
Reference Example 1 [Production of 3-(1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] 35 μg of chlorosulfonyl isocyanate was added to toluene d
-8C and cooled to -78°C under an argon gas atmosphere, and 100 g of 3-ielt-butyldimethylsilyloxybut-l-nyltrimethylsilyl ether was added while keeping the temperature below -70°C.

1時間後、この反応液の一部を抜き取り、−70℃に液
体窒素で冷却した状態でIH−NMRスペクトルを測定
した。原料の3−i0rt−ブチルジメチルシリロキシ
ープテ−1−ニルトリメチルシリルエーテルの1位プロ
トン(6.5ppm付近、d)と2位プロトン(5.2
pp一付近、一)のシグナルが消失し、新たに6.2p
p−(LH.d)(ラクタム環4一位)、2.8ppm
(IH.麿)(ラクタム環3一位〉にシグナノレを生じ
たことにより、8−(L−tert−プチルジメチルシ
リロキシエチル)−1−クロロスルホニル−4−トリメ
チルシリロキシーアゼチジン−2−オンの生成を認めた
After 1 hour, a portion of this reaction solution was taken out, and an IH-NMR spectrum was measured while cooling it to -70°C with liquid nitrogen. The 1-position proton (around 6.5 ppm, d) and the 2-position proton (5.2
Around pp1, the signal of 1) disappears, and a new signal of 6.2p
p-(LH.d) (lactam ring position 41), 2.8 ppm
(IH. Maro) 8-(L-tert-butyldimethylsilyloxyethyl)-1-chlorosulfonyl-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one was produced by generating a signal at the 31st position of the lactam ring. The formation of

実施例1 [ (lR.4R)−3−[(R)−(1−tert−
ブチルジメチルシリロキシエチル)]−4− トリメチ
ルシリロキシアゼチジン−2−オンの合成] クロロスルホニルイソシアナート 0 . 7 mlを
トルエンlOmlに加えたものをアルゴンガス雰囲気下
−70℃に冷却したものの中に、3−(R)−tert
−ブチルジメチルシリロキシブテ−1−ニルトリメチル
シリルエーテル2.0gを反応液を−70℃以下に保ち
ながら約5分間で滴下する。この反応液を−70℃以下
に1時間放置したのち、2.OMフェニルマグネシウム
クロリドのテトラヒドロフラン溶液4.4mlを内温を
−70℃以下に保ったまま約10分間で滴下する。その
まま反応液を−70℃以下に20分間保ったのち、氷水
2 0 0 ml中に2NH2SO4を添加することに
よりpHを3〜7に保ちながら移送した。トルエン10
 0 mlを加え抽出し、分液したのち、トルエン層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。このトルエン層をガス
クロマトグラフィーにより分析定量することにより目的
物である(3R.4R)−3−(R)−(1−tert
−プチルジメチルシリ口キシエチル〉−4−トリメチル
シリロキシアゼチジン−2−オンが1.30g生成して
いることを認めたく反応収率56%〉。
Example 1 [(lR.4R)-3-[(R)-(1-tert-
Synthesis of butyldimethylsilyloxyethyl)]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] Chlorosulfonyl isocyanate 0. 7 ml of toluene was added to 10 ml of toluene and cooled to -70°C under an argon gas atmosphere, and 3-(R)-tert was added.
2.0 g of -butyldimethylsilyloxybut-1-nyltrimethylsilyl ether is added dropwise over about 5 minutes while keeping the reaction solution at -70°C or lower. After this reaction solution was left at -70°C or lower for 1 hour, 2. 4.4 ml of a tetrahydrofuran solution of OM phenylmagnesium chloride is added dropwise over about 10 minutes while keeping the internal temperature below -70°C. After the reaction solution was kept at −70° C. or below for 20 minutes, 2NH2SO4 was added to 200 ml of ice water to transfer the solution while keeping the pH at 3 to 7. toluene 10
After adding 0 ml for extraction and separating the layers, the toluene layer was dried over anhydrous sodium sulfate. By analyzing and quantifying this toluene layer by gas chromatography, the target product (3R.4R)-3-(R)-(1-tert
-butyldimethylsilyloxyethyl> -4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one was produced in an amount of 1.30 g. Reaction yield: 56%.

さらに乾燥したトルエン溶液をエバポレーターで濃縮し
たのち、ヘキサン5+nmを加え溶解させ−30℃に3
時間冷却すると針状結晶が析出した。これをグラスフィ
ルターでt戸遇し、冷ヘキサン2ccでてばやく洗浄し
、乾燥して、純粋な3−(R)  −[(R)−ter
t−ブチルジメチルシリロキシエチル]−4−(R)−
 }リメチルシリロキシーアゼチジン−2−オン0.8
gをえた。
Furthermore, after concentrating the dried toluene solution with an evaporator, 5+ nm of hexane was added and dissolved, and the temperature was kept at -30℃ for 3
After cooling for an hour, needle-like crystals were precipitated. This was filtered through a glass filter, quickly washed with 2 cc of cold hexane, and dried to obtain pure 3-(R)-[(R)-ter.
t-Butyldimethylsilyloxyethyl]-4-(R)-
}Limethylsilyloxyazetidin-2-one 0.8
I got g.

’H−NMR(90MHz. CDCI !)δ (p
pm)   :  0.09(CHs  X  2.s
)、 0.20(CHs  X  3.s)、0.90
(CHs X 3,s)、1.26(CHs ,d) 
、2.96(lH.dd)  、4.13(IH,m)
、5.33(lH.d)、7.23(NH.broad
) s.p:95〜9B’C Cal  2S−−9.5° (c= 1.0 、CH
C# 3)D 実施例2 [ (3R.4R)−3−[(R)−1−tart−ブ
チルジメチルシリロキシエチル]−4−トリメチルシリ
ロキシーアゼチジン−2−オンの合成] 実施例1のフェニルマグネシウムクロリドのTHF溶液
のかわりに2.OMベンジルマグネシウムクロリドのT
IIP溶液4.4mlを用い、同様な操作を行ない、前
記目的物1;27gが生成していることを認めた(反応
収率55%〉。
'H-NMR (90MHz. CDCI!) δ (p
pm): 0.09 (CHs x 2.s
), 0.20 (CHs x 3.s), 0.90
(CHs X 3,s), 1.26(CHs,d)
, 2.96 (IH.dd) , 4.13 (IH, m)
, 5.33 (lH.d), 7.23 (NH.broad
) s. p:95~9B'C Cal 2S--9.5° (c=1.0, CH
C# 3)D Example 2 [Synthesis of (3R.4R)-3-[(R)-1-tart-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] Example 1 2. instead of the THF solution of phenylmagnesium chloride. OM benzylmagnesium chloride T
A similar operation was performed using 4.4 ml of the IIP solution, and it was found that 27 g of the target product 1 was produced (reaction yield: 55%).

実施例3 [ (sR,4R)−s−[(R)−1−tert−ブ
チルジメチルシリロキシエチル] −4− }リメチル
シリロキシーアゼチジン−2−オンの合成] クロロスルホニルイソシアナート0.35mlをトルエ
ン5ccに加え、アルゴンガス雰囲気下、−78℃まで
冷却し、3−(R)−tert−プチルジメチルシリロ
キシーブテーl−ニルトリメチルシリルエーテル1.0
gを滴下し、−70℃以下に1時間保った。これとは別
の反応容器に、マグネシウム(リボン状) 823 1
g,臭化ベンゼン2.7mlおよびTIP 25mlよ
り調整したフェニルマグネシウムブロミド溶液をアルゴ
ン雰囲気下、−20℃に冷却した。この溶液中に、先に
調整した環化反応液を保冷した移送管を通じて、グリニ
ャール反応液の温度が−lO℃以下に保たれるように移
液した。この際に、環化反応液の温度が−70℃以上に
上がらないよう注意した。移液終了後、反応液を−15
℃付近に15分間放置し、氷水200ml中に2NH2
SO4で9Hを3〜7に保ちながら添加した。トルエン
200mlで抽出し、分液し、乾燥したのち、トルエン
層をガスクロマトグラフィーにより分析することにより
、(SR,4R)−1−[(R)−l−tert−ブチ
ルジメチルシリロキシエチル1−4−トリメチルシリロ
キシアゼチジン−2−オンが0.82g含まれることが
わかった(反応収率54%)。
Example 3 [Synthesis of (sR,4R)-s-[(R)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-}limethylsilyloxyazetidin-2-one] Chlorosulfonyl isocyanate 0. 35 ml was added to 5 cc of toluene, cooled to -78°C under an argon gas atmosphere, and 3-(R)-tert-butyldimethylsilyloxybutyl l-nyltrimethylsilyl ether 1.0
g was added dropwise, and the temperature was kept below -70°C for 1 hour. In a separate reaction vessel, magnesium (ribbon shape) 823 1
A phenylmagnesium bromide solution prepared from 2.7 ml of benzene bromide and 25 ml of TIP was cooled to -20°C under an argon atmosphere. The previously prepared cyclization reaction solution was transferred into this solution through a cooled transfer tube so that the temperature of the Grignard reaction solution was maintained at -lO<0>C or lower. At this time, care was taken not to allow the temperature of the cyclization reaction solution to rise above -70°C. After the liquid transfer is completed, the reaction liquid is heated to -15
Leave it at around ℃ for 15 minutes and add 2NH2 in 200ml of ice water.
Added while keeping 9H at 3-7 with SO4. After extraction with 200 ml of toluene, separation and drying, the toluene layer was analyzed by gas chromatography to obtain (SR,4R)-1-[(R)-l-tert-butyldimethylsilyloxyethyl 1- It was found that 0.82 g of 4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one was contained (reaction yield 54%).

実施例4 [ (3R.4R)−3−[(R)−1−tert−プ
チルジメチルシリロキシエチル]−4−トリメチルシリ
ロキシアゼチジン−2−オンの合成] 実施例3の臭化ベンゼンのかわりに臭化エチル1.9m
lを用いて、実施例3と同様の操作を行なうことにより
、目的物0.52gをえた(反応収率45%)。
Example 4 [Synthesis of (3R.4R)-3-[(R)-1-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] of the benzene bromide of Example 3 1.9m of ethyl bromide instead
By performing the same operation as in Example 3 using 1, 0.52 g of the target product was obtained (reaction yield 45%).

実施例5 [ (3R.4R)−3−[(R)−tart−ブチル
ジメチルシリロキシエチル】−4−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−2−オンの合成〕 実施例3の臭化ベンゼンのかわりに臭化イソブロビル2
.4mlを用いて実施例3と同様の操作を行なうことに
より、目的物0.511gをえたく反応収率50%〉。
Example 5 [Synthesis of (3R.4R)-3-[(R)-tart-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] Instead of benzene bromide in Example 3 Isobrovir bromide 2
.. By performing the same operation as in Example 3 using 4 ml, 0.511 g of the target product was obtained, and the reaction yield was 50%.

実施例6 [ (SR.4R)−1−[(R)−tert−ブチル
ジメチルシリロキシエチル]−4−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−2−オンの合成] マグネシウム531■、塩化ベンゼン2.2mlおよび
テトラヒドロフランl.8mlより調整したフェニルマ
グネシウムクロリド溶液にトルエンl(1mlを加えた
ものを還元剤として用いることにより、:l−(R)−
tart−ブチルジメチルシリロキシエチルブテ−1−
ニルートリメチルシリルエーテル1.0gとクロロスル
ホニルイソシアナート0.85mlから−70℃で調整
した環化反応物を実施例3と全く同様の操作を行なうこ
とによって、目的物0.87gをえた(反応収率5B%
)。
Example 6 [Synthesis of (SR.4R)-1-[(R)-tert-butyldimethylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] Magnesium 531■, benzene chloride 2.2ml and Tetrahydrofuran l. By adding 1 ml of toluene to a phenylmagnesium chloride solution prepared from 8 ml as a reducing agent, :l-(R)-
tart-butyldimethylsilyloxyethylbute-1-
A cyclization reaction product prepared at -70°C from 1.0 g of nyl-trimethylsilyl ether and 0.85 ml of chlorosulfonyl isocyanate was subjected to the same operation as in Example 3 to obtain 0.87 g of the target product (reaction yield: 5B%
).

実施例7 [ (3R.4R)−3−[(R)−1−tert−プ
チルジメチルシリ口キシエチル〕−4−トリメチルシリ
ロキシアゼチジン−2−オンの合或] 実施例3と同様にして、3−(R)−tert−ブチル
ジメチルシリロキシエチルブテー1−ニルトリメチルシ
リルエーテル1gとクロロスルホニルイソシアナー}0
.35mlから−70℃以下で調整した環化反応物を−
70℃以下に保ったままl5%n−ブチルリチウムのヘ
キサン溶液中にn−ブチルリチウム溶液が一BO℃以上
に上がらないように注意して添加した。添加終了後実施
例3と同様に加水分解、抽出、水洗、乾燥を行なうこと
により目的物0.52gをえた(反応収率45%)。
Example 7 [Combination of (3R.4R)-3-[(R)-1-tert-butyldimethylsilytoxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one] In the same manner as in Example 3 , 1 g of 3-(R)-tert-butyldimethylsilyloxyethyl but-1-nyltrimethylsilyl ether and chlorosulfonyl isocyaner}0
.. The cyclization reaction product prepared from 35 ml at -70°C or less is -
The n-butyllithium solution was added to a 15% hexane solution of n-butyllithium while being kept at 70°C or lower, taking care not to allow the temperature to rise above 1BO°C. After the addition was completed, 0.52 g of the target product was obtained by performing hydrolysis, extraction, washing with water, and drying in the same manner as in Example 3 (reaction yield: 45%).

実施例8 [ (3R.4R)−3−[(R)−1−[ジメチル−
(1,1.2〜トリメチルプロビル)シリロキシ]エチ
ル]−4− }リメチルシリロキシアゼチジン−2−オ
ンの合成]実施例1の3−(R)−tert−ブチルジ
メチルシリロキシーブテ−1−ニルトリメチルシリルエ
ーテルのかわりに3−(R)−[ジメチルー(1.1.
2−}リメチルプロビル)シリロキシ〕−ブテーl−ニ
ル′トリメチルシリルエーテル2.21gを用い、同様
の操作を行なうことにより加水分解、抽出後目的とする
(3R.4R)−3−[(R)−1−[ジメチル(1.
1.2−トリメチルプロピル)シリロキシ]エチル]−
4−トリメチルシリロキシアゼチジン−2−オン1.5
1gを含むトルエン溶液をえたく反応収率6o%〉。こ
のトルエン溶液をロータリーエバポレータで濃縮し、真
空ポンプで完全にトルエンを留去した.この残渣にn−
ヘキサン5 mlを加え、冷蔵庫に一晩放置し、析出し
た結晶を手早くグラスフィルターで濾過した。冷ヘキサ
ンで洗浄後乾燥し、純粋な(aR,4R)−a−o−(
R)−[ジメチル−(1,1.2−トリメチルブロピル
)シリロキシ]エチル]−4− トリメチルシリロキシ
ーアゼチジン−2−オン1.1gを取得した。
Example 8 [(3R.4R)-3-[(R)-1-[dimethyl-
Synthesis of (1,1.2-trimethylprobyl)silyloxy]ethyl]-4-}limethylsilyloxyazetidin-2-one] 3-(R)-tert-butyldimethylsilyloxybutene of Example 1 -3-(R)-[dimethyl-(1.1.
Using 2.21 g of 2-}limethylpropyl)silyloxy]-butyl-nyl' trimethylsilyl ether, the desired (3R.4R)-3-[(R )-1-[dimethyl (1.
1.2-trimethylpropyl)silyloxy]ethyl]-
4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one 1.5
The reaction yield was 6o% when the toluene solution containing 1g was obtained. This toluene solution was concentrated using a rotary evaporator, and the toluene was completely distilled off using a vacuum pump. This residue has n-
5 ml of hexane was added, and the mixture was left in the refrigerator overnight, and the precipitated crystals were quickly filtered through a glass filter. After washing with cold hexane and drying, pure (aR,4R)-a-o-(
1.1 g of R)-[dimethyl-(1,1.2-trimethylpropyl)silyloxy]ethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one was obtained.

1}1−NMR(90MHz. CDCl3)δ(pp
m)  : 0.02(I1iH.s)、0.08(9
H.s)、0.72(OH,S)、0.75(6H.d
)、1.12(3H.d)、1.5(IH,m)、2.
85(IH.dd) 、4.08(lH.l)、5.2
8(IH.d)、8.45(NH.broad)実施例
9 [ (3R.4R)−3−[(R)−1−ジメチルイソ
プロピルシリロキシエチル]−4−トリメチルシリロキ
シアゼチジン−2−オンの合成] 実施例lの3−(R)−tert−プチルジメチルシリ
ロキシーブテーl−ニルトリメチルシリルエーテルのか
わりに、3−(R)一ジメチルイソプロビルシリロキシ
ーブテ−1−二ルートリメチルシリルエ一テル1.9g
を用いて、同様な操作を行なうことにより目的物1.l
lgかえられたことを、ガスクロマトグラフィーで確認
した(反応収率50%)。
1}1-NMR (90MHz. CDCl3) δ (pp
m): 0.02 (I1iH.s), 0.08 (9
H. s), 0.72 (OH, S), 0.75 (6H.d
), 1.12 (3H.d), 1.5 (IH, m), 2.
85 (IH.dd), 4.08 (lH.l), 5.2
8 (IH.d), 8.45 (NH.broad) Example 9 [(3R.4R)-3-[(R)-1-dimethylisopropylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidine-2 Synthesis of -one] Instead of 3-(R)-tert-butyldimethylsilyloxybuter l-nyltrimethylsilyl ether in Example 1, 3-(R)-tert-butyldimethylsilyloxybuter-1-niru Trimethylsilyl ether 1.9g
By performing similar operations using , object 1. l
It was confirmed by gas chromatography that 1g was changed (reaction yield 50%).

これを実施例1と同じ方法でn−ヘキサンから再結晶す
ることにより、純粋な(IR,4R)−3−[(R)−
1−ジメチルイソブロビルシリロキシエチル]一4−ト
リメチルシリロキシアゼチジン−2−オン0.5gを取
得した。
By recrystallizing this from n-hexane in the same manner as in Example 1, pure (IR,4R)-3-[(R)-
0.5 g of 1-dimethylisobrobylsilyloxyethyl]-4-trimethylsilyloxyazetidin-2-one was obtained.

’H−NMR(90MHz. CDC#3)δ(ppI
1)  : 0.0g(CH3 X 2.S)、0.2
1(CH3 x 3,s)、1.29(CHI ,d)
 、1.75(LH.s+)、1.98(CHs X2
.d)、3.05(lH.dd) 、4.20(IH,
a)、5.35(lH.d)、6.9(NH.broa
d)〔発明の効果] 本発明の製造法によれば、4一位にシリルエーテル基を
有し、β−ラクタム環のチッ素原子が無置換であるβ−
ラクタム化合物(自)を効率的に製造しうる。
'H-NMR (90MHz. CDC#3) δ (ppI
1): 0.0g (CH3 x 2.S), 0.2
1 (CH3 x 3, s), 1.29 (CHI, d)
, 1.75 (LH.s+), 1.98 (CHs
.. d), 3.05 (IH.dd), 4.20 (IH,
a), 5.35 (lH.d), 6.9 (NH.broa
d) [Effect of the invention] According to the production method of the present invention, β-lactam having a silyl ether group at the 41-position and the nitrogen atom of the β-lactam ring being unsubstituted
Lactam compounds (self) can be efficiently produced.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1は水酸基の保護基、R^2、R^3およ
びR^4はそれぞれ同一または相異なるC_1〜C_6
の低級アルキル基、フェニル基またはアラルキル基、X
^1はハロゲン原子を示す)で表わされるβ−ラクタム
化合物を有機溶媒中、一般式(II): R^5−M(II) (式中、R^5はアルキル基もしくは置換アルキル基、
フェニル基もしくは置換フェニル基またはアラルキル基
、Mは金属またはハロゲン化金属を示す)で表わされる
有機金属化合物により還元することを特徴とする一般式
(III):▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^1、R^2、R^3およびR^4は前記と
同じ)で表わされるβ−ラクタム化合物の製造法。 2 R^1が一般式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^6、R^7およびR^8はそれぞれ同一ま
たは相異なるC_1〜C_6の低級アルキル基、フェニ
ル基またはアラルキル基を示す)で表わされる基である
請求項1記載の製造法。 3 R^1がt−ブチルジメチルシリル基である請求項
1記載の製造法。 4 R^1がジメチルイソプロピルシリル基である請求
項1記載の製造法。 5 R^1がジメチル−(1,1,2−トリメチルプロ
ピル)シリル基である請求項1記載の製造法。 6 R^2、R^3およびR^4がメチル基である請求
項1記載の製造法。 7 X^1が塩素原子である請求項1記載の製造法。 8 還元に使用する有機金属化合物が、一般式(V): R^9−Mg−X^2(V) (式中、R^9はアルキル基もしくは置換アルキル基、
フェニル基もしくは置換フェニル基、またはアラルキル
基、X^2はハロゲン原子を示す)で表わされるグリニ
ャール試薬である請求項1記載の製造法。 9 R^9がフェニル基である請求項8記載の製造法。 10 R^9がベンジル基である請求項8記載の製造法
。 11 R^9がエチル基である請求項8記載の製造法。 12 R^9がイソプロピル基である請求項8記載の製
造法。 13 還元に使用する有機金属化合物が、一般式(VI)
: R^1^0−Li(VI) (式中、R^1^0はC_1〜C_6の低級アルキル基
もしくは置換アルキル基、フェニル基もしくは置換フェ
ニル基またはアラルキル基を示す)で表わされる有機リ
チウム化合物である請求項1記載の製造法。 14 R^1^0がn−ブチル基である請求項13記載
の製造法。
[Claims] 1 General formula (I): ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R^1 is a hydroxyl protecting group, R^2, R^3 and R^4 are respectively the same or different C_1 to C_6
lower alkyl group, phenyl group or aralkyl group,
^1 represents a halogen atom) in an organic solvent, a β-lactam compound represented by the general formula (II): R^5-M(II) (wherein R^5 is an alkyl group or a substituted alkyl group,
General formula (III) characterized by reduction by an organometallic compound represented by a phenyl group or a substituted phenyl group or an aralkyl group, M represents a metal or a metal halide: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (III) A method for producing a β-lactam compound represented by (wherein R^1, R^2, R^3 and R^4 are the same as above). 2 R^1 is the general formula (IV): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (IV) (In the formula, R^6, R^7 and R^8 are the same or different lower grades of C_1 to C_6, respectively. The method according to claim 1, wherein the group is a group represented by an alkyl group, a phenyl group, or an aralkyl group. 3. The manufacturing method according to claim 1, wherein R^1 is a t-butyldimethylsilyl group. 4. The manufacturing method according to claim 1, wherein R^1 is a dimethylisopropylsilyl group. The method according to claim 1, wherein 5R^1 is a dimethyl-(1,1,2-trimethylpropyl)silyl group. 6. The manufacturing method according to claim 1, wherein R^2, R^3 and R^4 are methyl groups. 7. The production method according to claim 1, wherein X^1 is a chlorine atom. 8 The organometallic compound used for reduction has the general formula (V): R^9-Mg-X^2(V) (wherein R^9 is an alkyl group or a substituted alkyl group,
2. The method according to claim 1, which is a Grignard reagent represented by a phenyl group, a substituted phenyl group, or an aralkyl group, where X^2 represents a halogen atom. 9. The manufacturing method according to claim 8, wherein R^9 is a phenyl group. 10. The manufacturing method according to claim 8, wherein R^9 is a benzyl group. 11. The production method according to claim 8, wherein R^9 is an ethyl group. 12. The production method according to claim 8, wherein R^9 is an isopropyl group. 13 The organometallic compound used for reduction has the general formula (VI)
: Organolithium represented by R^1^0-Li(VI) (wherein R^1^0 represents a C_1 to C_6 lower alkyl group or substituted alkyl group, phenyl group, substituted phenyl group, or aralkyl group) The manufacturing method according to claim 1, which is a compound. 14. The manufacturing method according to claim 13, wherein 14 R^1^0 is an n-butyl group.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008108145A1 (en) * 2007-03-06 2008-09-12 Kaneka Corporation Method for producing beta-lactam compound
US8734698B2 (en) 1998-05-28 2014-05-27 Entegris, Inc. Composite substrate carrier

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8734698B2 (en) 1998-05-28 2014-05-27 Entegris, Inc. Composite substrate carrier
WO2008108145A1 (en) * 2007-03-06 2008-09-12 Kaneka Corporation Method for producing beta-lactam compound

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