JPS58103358A - Synthesization of antibiotic - Google Patents

Synthesization of antibiotic

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JPS58103358A
JPS58103358A JP57184794A JP18479482A JPS58103358A JP S58103358 A JPS58103358 A JP S58103358A JP 57184794 A JP57184794 A JP 57184794A JP 18479482 A JP18479482 A JP 18479482A JP S58103358 A JPS58103358 A JP S58103358A
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  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 式Iのチェナマイシン及び数種のストレプトマイセス(
Streptomycea)菌株よシ生産されるその類
縁体1−力ルバペネム抗生物質の発見により、新規カル
バペネムの合成に強い興#が持たれた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Chenamycin of formula I and several Streptomyces species (
The discovery of its analog 1-rubapenem antibiotic produced by strains of Streptomycea has given rise to strong interest in the synthesis of new carbapenems.

L−アスパラギンrIIt−出発原料としての、チェナ
マイシンのキラル(chiral)合成はザルラマン(
Salzmann)等により成功し、又、米国特許第4
,290,947号中に記載されているが、これらは、
工業的に利用出来ない長い製造工程と、きびしい反応条
件を必要としている。%にアゼチジン−2−オンの4位
に側鎖を導入するための化学がこれに関連している。
The chiral synthesis of chenamycin using L-asparagine rIIt- as a starting material was carried out using Zarraman (
Salzmann et al. and U.S. Patent No.
, 290,947, these are
It requires a long manufacturing process and harsh reaction conditions that cannot be used industrially. Related to this is the chemistry for introducing a side chain at the 4-position of azetidin-2-one.

アゼチジン−2−オンの4位に炭素−炭素結合を形成出
来れば、カルバペネム類の合成1桿に広く道を開く事が
出来る。しかしながら従来の方法では低収率で、反応条
件が複雑であり、官能基が限定される。
If a carbon-carbon bond can be formed at the 4-position of azetidin-2-one, it will open up a wide range of possibilities for the synthesis of carbapenems. However, conventional methods have low yields, complex reaction conditions, and limited functional groups.

したがって本発明の目的は、チェナマイシン類ヘネム類
、オキサペン−2−エム−3−カルボキシル酸類を包含
するカルバペネム製造の改良法を提供する事にある。さ
らに、これらの抗生物質の、単純で、より経済的な方法
を提供する事も、本発明の目的である。又、他の目的は
、これらの抗生物質の新規合成中間体を提供する事であ
る。本発明の、これらの目的及び他の目的は、以下の記
述で明らかになろう。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved process for the production of carbapenems, including chenamycins, henems, and oxapen-2-em-3-carboxylic acids. Furthermore, it is an object of the present invention to provide a simpler and more economical method of administering these antibiotics. Another objective is to provide new synthetic intermediates for these antibiotics. These and other objects of the invention will become apparent from the description below.

本発明を壷約すれば、β−ラクタム蟻酸を強塩基と反応
せしめて、ジアニオンに変換し、これをアシル化して、
その3位にアシル基を導入し、次に違元して、対応する
3 −(1’−アリール又は1′−アルキル、1′−ヒ
ドロキシメチル)−2−アゼチジノン−4−カルボキシ
ル酸金製するものである。ジアニオンとアルデヒドの直
接アルキル化によっても、同じヒドロキシメチル−2−
アセチジノン−4−カルボキシル酸が得られる。後者の
化合物において四酢哨鉛で酸化的脱炭酸反応を行い、カ
ルボキシル基全アセトキシ基に変換する。
In accordance with the present invention, β-lactam formate is reacted with a strong base to convert it into a dianion, which is then acylated.
An acyl group is introduced at the 3-position and then converted to form the corresponding 3-(1'-aryl or 1'-alkyl, 1'-hydroxymethyl)-2-azetidinone-4-carboxylic acid. It is something. The same hydroxymethyl-2-
Acetidinone-4-carboxylic acid is obtained. The latter compound undergoes oxidative decarboxylation with lead tetraacetate to convert all carboxyl groups into acetoxy groups.

N−保護基金除去した4−アセトキシ化合物f Lew
i s rlRの存在下シリルエノールエーテルと反応
せしめ、常法により酢酸ロジウム([1を用いて環化せ
しめ、1−カルバペネム構造の化合物を、はソ定量的に
得る。又、アセトキシ基をトリフェニルメチルチオ基に
変え、既知の方法で反応せしめペネムを得る。
4-acetoxy compound f Lew with N-protection removed
Reaction with silyl enol ether in the presence of i s rlR and cyclization using rhodium acetate ([1) quantitatively yields a compound with a 1-carbapenem structure.Also, the acetoxy group is converted into triphenyl The penem is converted into a methylthio group and reacted by a known method to obtain a penem.

本発明は、チェナマイシン、ペネム、オキセパン−2−
エム−3−カルボキシル酸ヲ包含するカルバペネム類に
関連している。特に特異的に言えば、その新規中間体を
含む、これらの抗生物質の新規合成法に関連している。
The present invention relates to chenamycin, penem, oxepane-2-
It is related to carbapenems including em-3-carboxylic acid. It particularly relates to new methods of synthesis of these antibiotics, including new intermediates thereof.

本発明に従えば、式Aのアスパラキンmt既知の方法に
よシシリル化して弐BのN、0゜0−トリストリメチル
シリル−アスパラキン酸に変換する。既知の方法とは、
例えば酸性触媒下、ヘキサメチルジシラザンの使用、ア
ミンの存在下トリメチルシリルクロライドの使用等であ
る。弐Bの化合物を、次に、強塩基と反応せしめ、式C
の7ゼチジノン蟻酸を製する。強塩基とはPKa)2Q
の塩基であり適当な例としては、式RMgX(Rはアル
キル基、Xはハロゲン)の化合物、例えばt−ブチル均
α又はOH3My I s )リメチルアルミニウム、
の如きトリアルキルアルミニウム;リチウムジイソプロ
ピルアミドの如きリチウムジアルキルアミド;リチウム
メトキサイド、ナトリウムイソプロポキサイド、K−t
−ブトキサイド、マグネシウム−t−ブトキサイドの如
き金属アルコキサイF::水素化カリウムの如きアルカ
リ金属水素化物等である。式0の化合物を次にN−保護
化して式2の化合物金得る。
According to the present invention, asparaquine m of formula A is silylated to N,0°0-tristrimethylsilyl-asparaquinic acid of B by known methods. The known methods are
For example, use of hexamethyldisilazane under acidic catalysis, use of trimethylsilyl chloride in the presence of an amine, etc. Compound 2B is then reacted with a strong base to form formula C
7zetidinone formic acid is prepared. Strong base is PKa)2Q
Examples of suitable bases include compounds of the formula RMgX (R is an alkyl group and
trialkylaluminums such as; lithium dialkylamides such as lithium diisopropylamide; lithium methoxide, sodium isopropoxide, K-t
metal alkoxides such as -butoxide, magnesium-t-butoxide, and alkali metal hydrides such as potassium hydride. The compound of formula 0 is then N-protected to give compound gold of formula 2.

A                     B式2
のN−保護化したラクタム蟻酸を強塩基と反応せしめる
。この塩基は式2の化合物を式3のジアニオンに変換す
るものである。
A B formula 2
The N-protected lactam formate is reacted with a strong base. This base converts the compound of formula 2 into the dianion of formula 3.

N−保護基は、容易に除去できる多くの窒素保護基で、
例えば、トリ置換シリル基で置換基がアルキル基又はア
リール基であるものである。適当なN−保護化剤は、ト
リブチルジメチルシリルクロライド、ジフェニルメチル
シリルクロライド、ジメチルイソブチルシリルクロライ
ドである。他のN−保護基の例は、トシル又はベンジル
基である。適当とする強塩基は例えばリチウムジイソプ
ロピルアミド、リチウムへキサメチルジシラミド、リチ
ウム2.2,6.6−チトラメチルピペリジド、ブチル
リチウムである。リチウムジイソプロピルアミドは艮好
な塩基である。反応は例えばテトラヒドロフラン(TH
F)、ジエチルエーテル、又はジメトキシエタンの如き
非プロトン性溶媒中で行う。出来た式3のジリチウム塩
を、   0 1 式R40X(式中、R4は炭素数1 −4のアルキル、炭素数2−4のフルケニル、フェニル
、炭素数1−3のアルキル基1〜3個ハロゲン原子1〜
3個、トリフルオロメチル基1〜3個、アミノ、シアノ
又はニトロで置侠されたフェニルである。Xは、例えば
ハライド、アセトキシ、アルコキシ、イミダゾール、ピ
リジルチオ、アリールチオ、アルキルチオの如き脱離基
である)のアシル化剤と反応せしめてアシル化する。ア
シル化は少くとも1当蓋過剰のリチウムジイソプロピル
アミドの存在下、で反応せしめ式4の化合物を製する。
N-protecting groups are many nitrogen protecting groups that can be easily removed.
For example, it is a trisubstituted silyl group in which the substituent is an alkyl group or an aryl group. Suitable N-protecting agents are tributyldimethylsilyl chloride, diphenylmethylsilyl chloride, dimethylisobutylsilyl chloride. Examples of other N-protecting groups are tosyl or benzyl groups. Suitable strong bases are, for example, lithium diisopropylamide, lithium hexamethyldisilamide, lithium 2,2,6,6-titramethylpiperidide, butyllithium. Lithium diisopropylamide is a good base. The reaction may be carried out using, for example, tetrahydrofuran (TH
F) in an aprotic solvent such as diethyl ether or dimethoxyethane. The resulting dilithium salt of formula 3 is expressed as 0 1 formula R40X (wherein R4 is alkyl having 1 to 4 carbon atoms, fluorenyl having 2 to 4 carbon atoms, phenyl, 1 to 3 alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, halogen Atom 1~
3, 1 to 3 trifluoromethyl groups, phenyl substituted with amino, cyano or nitro. X is a leaving group such as halide, acetoxy, alkoxy, imidazole, pyridylthio, arylthio, alkylthio) for acylation by reacting with an acylating agent. The acylation is carried out in the presence of at least one excess of lithium diisopropylamide to produce a compound of formula 4.

3 又、式2のN−保護化ラクタムM酸を少くとも3当量の
塩基と反応せしめると、更に塩基を加えなくてもアシル
化金行う手が出来る。
3 Also, reacting the N-protected lactam M acid of formula 2 with at least 3 equivalents of base provides a means to perform the gold acylation without the addition of further base.

式3のジリチウム塩は又、3aのモノリチウム塩を1当
蓋のリチウムジイソプロピルアミドと反応せしめても得
られる。式3aのモノリチウム塩は式2のN−保護化ラ
クタムー酸t−1当量のリチウム塩基、例えば水素化リ
チウム、水酸化リチウム、n−ブチルリチウム、リチウ
ムジイソプロピルアミドと反応せしめて製する。
The dilithium salt of formula 3 can also be obtained by reacting the monolithium salt of 3a with one portion of lithium diisopropylamide. The monolithium salt of formula 3a is prepared by reacting t-1 equivalents of the N-protected lactamic acid of formula 2 with a lithium base such as lithium hydride, lithium hydroxide, n-butyllithium, lithium diisopropylamide.

式4のジアニオン化合物は1当量の酸と反応せしめて式
5のモノアニオン化合物金製する事が出来、2当量の酸
と反応せしめ式6の化合物を形成せしめる事が出来る。
A dianionic compound of formula 4 can be reacted with one equivalent of acid to form a monoanionic compound of formula 5, and can be reacted with two equivalents of acid to form a compound of formula 6.

式3のジリチウム塩を弐R40HOのアルデヒドとアル
キル化反応せしめ、式8aのヒドロキシメチル賊酸化合
物のエピマー混合物を製する。このエピマー混合物は、
ナトリウムジクロメート−硫酸−水、三酸化クロム、ジ
メチルスルホキサイド−オキザリルクロライドの如き種
々の試薬で酸化せしめ、式6のβ−ラクタムケト酸を製
する。
The dilithium salt of formula 3 is subjected to an alkylation reaction with the aldehyde of 2R40HO to produce an epimer mixture of the hydroxymethyl dithiacid compound of formula 8a. This epimer mixture is
Oxidation with various reagents such as sodium dichromate-sulfuric acid-water, chromium trioxide, dimethyl sulfoxide-oxalyl chloride produces β-lactam keto acids of formula 6.

式6のケト酸化合物を、N a BH4、L i BI
I4 。
The keto acid compound of formula 6 is expressed as N a BH4, L i BI
I4.

アミンホウ素、H2/触媒還元等によシ還元せしめ、弐
8のR,s、5−tt換ヒドロキシメチル−β−ラクタ
ム蝋酸酸化合物含むエピマー混合物を得る。しかしなが
ら式5及び6の化合物を   0 1 Al1(0−0−OF a ) 2 (マグネシウムト
リフルオロ酢酸)及びジイソプロピルアミンホウ素と反
応せしめると、立体特異的に、それぞれ式7及び8の化
合物を製する墨が出来る。
The mixture is reduced by amine boron, H2/catalytic reduction, etc. to obtain an epimer mixture containing 28 R, s, 5-tt-substituted hydroxymethyl-β-lactam waxic acid compounds. However, when compounds of formulas 5 and 6 are reacted with 01Al1(0-0-OFa)2 (magnesium trifluoroacetic acid) and diisopropylamine boron, they stereospecifically produce compounds of formulas 7 and 8, respectively. I can make ink.

更に式7の化合物を酸で処理すると弐8の化合物を得る
Further treatment of the compound of formula 7 with an acid yields compound 28.

l                        
 88a 弐8の置換ヒドロキシメチル蟻酸化合物又はそのN−保
護基を除去した化合物は四酢酸鉛と反応せしめ、R1が
Hである式9の置換ヒドロキシメチルアセトキシアゼチ
ジノン又は、そのN−保護基を除去したR1がHである
式10の化合物を得る。次にR1がHである式9の化合
物を既知の方法によシ、例えばトリフルオロ酢酸、テト
ラブチルアンモニウムフルオライド、メタノール−塩酸
、アセトン−塩酸を用層てN−保護基を除去し、R1が
11である式lOの、保護基を除去した、置換ヒドロキ
シメチルアセトキシアゼチジノン化合物を得る。
l
88a The substituted hydroxymethyl formate compound of 28 or the compound from which its N-protecting group has been removed is reacted with lead tetraacetate to remove the substituted hydroxymethylacetoxyazetidinone of formula 9 in which R1 is H or its N-protecting group. A compound of formula 10 in which R1 is H is obtained. The compound of formula 9 in which R1 is H is then treated with known methods such as trifluoroacetic acid, tetrabutylammonium fluoride, methanol-hydrochloric acid, acetone-hydrochloric acid to remove the N-protecting group, and R1 A deprotected substituted hydroxymethylacetoxyazetidinone compound of formula 1O, where is 11, is obtained.

9              10 弐8Aの直換ヒドロキシメチル蟻酸化合物のエピマーを
四酢酸鉛と反応せしめ、対応す゛る式9Aの置換ヒドロ
キシメチルアセトキシアゼチジノンを製する。
9.10 The epimer of the direct substituted hydroxymethyl formate compound of 28A is reacted with lead tetraacetate to produce the corresponding substituted hydroxymethylacetoxyazetidinone of formula 9A.

一方又、式8Aの化合物は上述の反応を45℃以上(7
0〜75°Cが良好)で行っても、R1がHの、式10
Aの化合物を直接製する事が出来る。
On the other hand, the compound of formula 8A can also react above 45°C (7
Even when R1 is H, formula 10
Compound A can be produced directly.

式9Aの化合物又は式10Aの、N−保護基を除去した
化合物のエピマー混合物を常法に従って酸化せしめ、P
が保護基、例えばt−ブチルジメチルシリルである式1
9の化合物又はP=Hの式2oの化合物ヲ製する事が出
来る。
An epimer mixture of a compound of formula 9A or a compound of formula 10A from which the N-protecting group has been removed is oxidized in a conventional manner to give P
is a protecting group, for example t-butyldimethylsilyl
9 or a compound of formula 2o with P=H can be prepared.

式19又は20のケトアセテート化合物を、例&ばNa
 BO2、L i BO2、アミンホウ素又はII2/
触媒による還元によシ、式9.10のR9It 、 I
t−置換ヒドロキシメチル−β−ラクタムkllt2化
合物を含むエピマー混合物を得るが、1 式19.20の化合物をAlt+(0−0−OFa)z
(マグネシウムトリフルオロ酸M)及びジイソプロピル
アミンホウ素と反応せしめ、立体特異的に式9.10の
化合物を製する事が出来る。
A ketoacetate compound of formula 19 or 20 can be added to
BO2, Li BO2, amine boron or II2/
By catalytic reduction, R9It of formula 9.10, I
An epimer mixture containing the t-substituted hydroxymethyl-β-lactam kllt2 compound is obtained, but the compound of formula 19.20 is converted to Alt+(0-0-OFa)z
(magnesium trifluoroate M) and diisopropylamine boron to stereospecifically prepare the compound of formula 9.10.

R,がH以外の式9の化合物は、式9の化合物が(R1
がH)kトリメチルシリルクロライド、t−ブチルジメ
チルシリルクロライド、4−ニトロフェニルクロロホル
メートの如きハライドと反応せしめて製する。
The compound of formula 9 in which R, is other than H, the compound of formula 9 is (R1
H) k is prepared by reacting with a halide such as trimethylsilyl chloride, t-butyldimethylsilyl chloride, or 4-nitrophenylchloroformate.

式10の化合物tl”、RzとR3が水素、又は各々独
立して炭素数1−4のアルキル、炭素数2−4のフルケ
ニル、ベンジル、フェネチルである、式11のシリルエ
ノールニーテルト、ハロゲン化亜鉛又は、三フッ化ホウ
素−エーテル溶液、チタニウムテトラクロライド、塩化
スズ、塩化アルミニウムの如き他のLewiarRの存
在下、又は、トリメチルシリルトリフレートの如き高反
応性シリル化剤の存在下で反応せしめ、Rsがベンジル
、アリル、アルキル又はp−ニトロベシジル等である式
12のエステルを得る。R2及びR3の一ツが水素以外
の式11のモノ置換化合物は、Weller 、 J、
 A、 O,S、96.1082(1974)の方法に
従い、ベンジルアセトアセテートを水素化ナトリウムと
反応せしめ、n−ブチルリチウムと反応せしめた後、導
入すべき基を有するハライド、例えばヨウ化メチル、臭
化アリル、臭化ベンジルを加えて製する。ジアゾ化及び
シリルエノールエーテル形成によシ式11の化合物を得
る。R2,R3が両者水素以外である式11の二置換化
合物は同様にして製する。
Compound tl'' of formula 10, Rz and R3 are hydrogen, or each independently alkyl having 1 to 4 carbon atoms, fluorenyl having 2 to 4 carbon atoms, benzyl, phenethyl, silyl enol nitert of formula 11, halogenated Reacted in the presence of zinc or other Lewiar® such as boron trifluoride-ether solution, titanium tetrachloride, tin chloride, aluminum chloride, or in the presence of a highly reactive silylating agent such as trimethylsilyl triflate, Rs. is benzyl, allyl, alkyl or p-nitrobesidyl etc. Mono-substituted compounds of formula 11 where one of R2 and R3 is other than hydrogen are obtained according to Weller, J.
A, O, S, 96.1082 (1974), the benzyl acetoacetate is reacted with sodium hydride and, after reaction with n-butyllithium, the halide bearing the group to be introduced, for example methyl iodide, Manufactured by adding allyl bromide and benzyl bromide. A compound of formula 11 is obtained by diazotization and silyl enol ether formation. Disubstituted compounds of formula 11 in which R2 and R3 are both other than hydrogen are prepared in a similar manner.

2 次に、式12の化合物を既知の方法、例えば、米国特許
4,290,947の実施例15−18に示しだ方法に
よpカルバペネムに変換する。
2 The compound of formula 12 is then converted to the p-carbapenem by known methods, such as those set forth in Examples 15-18 of US Pat. No. 4,290,947.

式12の化合物の他の製法は、式9、lOの化合物’t
−Rz及びR3が、式11の化合物と同一のものでRが
炭素数1−4のアルキル、又は、トリメチルシリルの如
きシリル基である式13の化合物と、Lewis叡又は
、トリメチルシリルトリフレート、トリメチルシリル化
過フルオロ化スルホン酸樹脂等の存在下反応せしめて、
式14の化合物を製する事を特徴としている。
Another method for preparing the compound of formula 12 is to prepare the compound of formula 9, lO't
- A compound of formula 13 in which Rz and R3 are the same as the compound of formula 11 and R is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a silyl group such as trimethylsilyl, and a Lewis compound, trimethylsilyl triflate, trimethylsilylation By reacting in the presence of a perfluorinated sulfonic acid resin, etc.,
It is characterized by producing a compound of formula 14.

後者の化合物(式14)は、几がH以外の場合ケン化し
てRt−除去する(R,がH以外の場合R1も除去され
る)。カルボキシJL基をカルボニルジイミダゾールで
活性化し、次にMg (02CCH200z Rs )
2と反応せしめ、最後にジアゾ基を導入して、式12の
化合物を得る。
The latter compound (formula 14) is saponified to remove Rt- when R is other than H (R1 is also removed when R is other than H). Activate the carboxy JL group with carbonyldiimidazole and then Mg(02CCH200zRs)
2 and finally introduce a diazo group to obtain a compound of formula 12.

RaがLr g Na t K9Mg 2 cu+Ag
 l Zn l cdtの如き、アルカリ金属又はアル
カリ土類金属カチオン;トリメチルシリル、t−ブチル
ジメチルシリルの如き、トリアルキルシリル基;トリエ
チルアンモニウムの如きトリアルキルアンモニウム塩で
ありR5が式11の化合物で示したものと同一である式
15の2−ジアゾマロネートと式10の化合物を反応せ
しめ式16の化合物金製する。
Ra is Lr g Nat K9Mg 2 cu+Ag
an alkali metal or alkaline earth metal cation such as l Zn l cdt; a trialkylsilyl group such as trimethylsilyl, t-butyldimethylsilyl; a trialkylammonium salt such as triethylammonium, and R5 is a compound of formula 11 A compound of formula 10 is reacted with a 2-diazomalonate of formula 15, which is identical to the compound of formula 16, to form a compound of formula 16.

式16の化合物をロジウム([1触媒による速比反応V
こより式17の化合物に変換する。これは更に、式Vの
化合物全経由して式18のオキセパン−2−エム−3−
カルボ゛キシル酸に変換する。(式18中、R7は置換
又は非置換アルキル、アリーJL、ヘテロアリール、ヘ
テロサイクリル、又はSR7(R7f上述で示したもの
)である)。式17の化合物をジフェニルクロロホスフ
ェートと、三級アミンの存在下で反応せしめ式Vの化合
物ヲ表しく実施例7参照)次に式Vの化合物全経由アル
キル、金属アリール、金属ヘテロアリール、金属ヘテロ
サイクリル、又はn5Ry(金属はLi、Na、に、M
g、C’d; R7は上述で明示したもの)と反応せし
め、式18の化合物金製する。
The compound of formula 16 was synthesized by rhodium ([1 catalyst-based fast ratio reaction V
This converts to a compound of formula 17. This further provides oxepane-2-em-3- of formula 18 via all compounds of formula V.
Converts to carboxylic acid. (In Formula 18, R7 is substituted or unsubstituted alkyl, ary JL, heteroaryl, heterocyclyl, or SR7 (R7f as shown above)). A compound of formula 17 is reacted with diphenylchlorophosphate in the presence of a tertiary amine (see Example 7, which represents a compound of formula V) and then a compound of formula V is reacted with diphenylchlorophosphate in the presence of a tertiary amine to form a compound of formula V, which is then reacted with alkyl, metal aryl, metal heteroaryl, metal heteroaryl, etc. Cyclyl, or n5Ry (metal is Li, Na, M
g, C'd; R7 is specified above) to form a compound of formula 18.

17  002R418C!O,一 式10の化合物音ナトリウムトリフェニルメチルチオレ
ートと反応せしめ、式21の化金物を得る。この化合物
(R,1がH以外例えばt−ブチルジメチルシリル)ヲ
、英国特許2.042,512に記載の方法に従い、式
22.23.24.25の化合物に変換する。式22の
化合物は、式21の化合物f 0HOOO2Rs(R5
は式11で示したものと同一) 、8002及びトリフ
ェニルホスフィンと反応せしめて装する。式22の化合
物はAgN0.と反応せしめ、式23の化合物を製し、
これをアシルハライドと反応せしめて式24の化合物を
製する。この化合物を加熱して式25の化合物を得る。
17 002R418C! O, the compound of formula 10 is reacted with sodium triphenylmethylthiolate to obtain the metal compound of formula 21. This compound (R, 1 other than H, e.g. t-butyldimethylsilyl) is converted into a compound of formula 22.23.24.25 according to the method described in British Patent 2.042,512. The compound of formula 22 is the compound of formula 21 f 0HOOO2Rs(R5
is the same as that shown in formula 11), and is reacted with 8002 and triphenylphosphine. The compound of formula 22 is AgN0. to prepare a compound of formula 23,
This is reacted with an acyl halide to produce a compound of formula 24. This compound is heated to obtain a compound of formula 25.

21          25  002Rs又、23
の化合物をクロロチオネート、を製し、この化合物をヨ
ーロッパ特許出願第13.662号及び英国特許第2,
048,261号の方法に従い加熱せしめ式27あ化合
物を侍る。
21 25 002RsAlso, 23
chlorothionate, and this compound was disclosed in European Patent Application No. 13.662 and British Patent No. 2,
The compound of formula 27a is heated according to the method of No. 048,261.

R1=tBuMe2Si 、  Rs =アリルJ  
” P N B 020 *    Rs =P N 
B以下の実施例は本発明を例示したものであり、それを
限定したものではない。全ての温度はセラ氏で表わしで
ある。
R1=tBuMe2Si, Rs=allyl J
” P N B 020 * Rs = P N
B The following examples illustrate the present invention and do not limit it. All temperatures are in Mr. Serra.

実施例1 米国特許4,290,947に記載された如く製した非
保護化ラクタム、アゼチジノン−4−カルボキシル酸ベ
ンジルエステル(4,1,9゜20ミリモル)を乾燥ジ
メチルホルムアミド(DMF)15−に溶かしO″Cに
冷却する。
Example 1 The unprotected lactam azetidinone-4-carboxylic acid benzyl ester (20 mmol of 4,1,9°) prepared as described in U.S. Pat. No. 4,290,947 was dissolved in dry dimethylformamide (DMF) 15- Melt and cool to O''C.

これにt−ブチルジメチルシリルクロライド(3,16
5!7,21ミリモル)を加え、続いて、トリエチルア
ミン(2,93mA、21ミリモル)を加える。0℃で
40分撹拌後、反応混合物を石油エーテル(低沸点、2
001!lりを加え、水洗する。有機層を75−ずつ水
、2NHα、H□0、食塩水で順々に洗浄し、MgSO
4で乾燥する。溶媒を除去し、N−t−ブチルジメチル
シリルアゼチジノン−4−カルボキシル酸ベンジルエス
テルを流動性油状物として93優収率(5,B56.9
)で得る。
This was added with t-butyldimethylsilyl chloride (3,16
5!7.21 mmol) followed by triethylamine (2.93 mA, 21 mmol). After stirring for 40 min at 0°C, the reaction mixture was dissolved in petroleum ether (low boiling point, 2
001! Add a pinch of water and wash with water. The organic layer was washed with water, 2NHα, H
Dry at step 4. The solvent was removed and N-t-butyldimethylsilylazetidinone-4-carboxylic acid benzyl ester was obtained as a free-flowing oil in 93 excellent yield (5,B56.9
).

B1式2の脱保護基ラクタム蟻酸の製造無水エタノール
(20m)に溶かした保護化ラクタム(4,452,!
i’、14.1ミリモル)の溶液に10優pd10 (
400〜)′t−加え、水素圧40 psiにて25℃
で30分間接触還元する(理論量の水素を吸収するまで
)。触媒を濾過して除き、F液を凝縮し、結晶性の式2
のラクタム蟻gt得る(mp、143−145° 、〔
α:1D−74°、C−1、cHcts )。
B1 Preparation of deprotected lactam formic acid of formula 2 Protected lactam (4,452,!) dissolved in absolute ethanol (20m)
i', 14.1 mmol) in a solution of 10 predominant pd10 (
400~)'t-addition, 25°C at 40 psi hydrogen pressure
catalytic reduction for 30 minutes (until the theoretical amount of hydrogen has been absorbed). The catalyst was filtered off, the F solution was condensed, and the crystalline formula 2
of lactam gt obtained (mp, 143-145°, [
α: 1D-74°, C-1, cHcts).

収率86優(2,775F)。Yield: 86 excellent (2,775 F).

C,ジアニオンアシル化及び還元 THF(2tnlV)に溶かした式2のキラル(chi
ral)酸(458■、2ミリモル)の溶液を、THF
(6m)に溶かした3、1当量のリチウムジイソプロピ
ルアミド(6,2ミリモル)の溶液を窒素ガス下O″C
でカニユーレで加える。次に溶液を35分間攪拌する。
C, dianion acylation and reduction Chiral (chi) of formula 2 dissolved in THF (2tnlV)
ral) acid (458 μm, 2 mmol) in THF.
A solution of 3.1 equivalents of lithium diisopropylamide (6.2 mmol) dissolved in (6 m) was added to O″C under nitrogen gas.
Add with a canyule. The solution is then stirred for 35 minutes.

この間に、温度は15℃に上昇する。溶液を0℃に冷却
し、ジアニオン溶液k、T HF (4m)に浴かした
アセチルイミダゾール(330シ3ミリモル、1.5当
量)の0℃に冷却した溶液中にカニユーレで加え入れ、
30分攪拌すると、温度が室温にまで上昇する。出来た
アセチル化生成物は単離せず、クエン酸水溶液で5°C
にて、pH7にした後、混合物f N a B H4(
767%、2ミリモル)を加え、1時間攪拌する。クエ
ン酸で更にpH4にした後エーテルと水に分配する。エ
ーテル層を乾燥後留去すると油状物を侍る(470Tn
9.86優)。
During this time the temperature rises to 15°C. The solution was cooled to 0° C. and cannulated into a 0° C. cooled solution of acetylimidazole (3 mmol, 1.5 eq.) in dianion solution K, THF (4 m);
After stirring for 30 minutes, the temperature rises to room temperature. The resulting acetylated product was not isolated, but was incubated in an aqueous citric acid solution at 5°C.
After adjusting the pH to 7, the mixture f Na B H4 (
767%, 2 mmol) and stirred for 1 hour. After further adjusting the pH to 4 with citric acid, the mixture was partitioned between ether and water. When the ether layer is dried and distilled off, an oily substance is present (470Tn).
9.86 excellent).

N M Rスペクトルでは、式8A (R4=OH3)
のR,R,S及びS、S、S異性体が1.3:1の比で
混在している事を示している。
In the NMR spectrum, formula 8A (R4=OH3)
It shows that the R, R, S and S, S, S isomers of are mixed in a ratio of 1.3:1.

D、酸化的脱炭酸 DMF (10m1)と氷酢酸(2mA)中に溶かした
式8 (R4=OH3) (400m9.146ミリモ
ル)のヒドロキシエチル蟻酸を四酢酸鉛(714〜、1
.61モル)と混合し、35℃で40分加温して反応せ
しめる。室温にまで冷却し、DMFと酢酸を真空下留去
し残渣をエーテル(100m)中で粉砕する。エーテル
層を過塩素酸水溶液、飽和N a HO03、食塩、で
それぞれ洗浄し、MgSO4で乾燥後、エーテルを留去
し、式9のヒドロキシエチルアセトキシアゼチジノン(
R4=OH3)t’841収率(352■)で得られる
。この化合物をトリフルオロ酢酸と反応せしめて保護基
を除去し、式10の化合物(R4=OHs )を得る。
D, Oxidative decarboxylation Hydroxyethyl formate of formula 8 (R4=OH3) (400 m 9.146 mmol) dissolved in DMF (10 ml) and glacial acetic acid (2 mA) was dissolved in lead tetraacetate (714 ~, 1
.. 61 mol) and heated at 35°C for 40 minutes to react. Cool to room temperature, remove DMF and acetic acid under vacuum and triturate the residue in ether (100 m). The ether layer was washed with an aqueous perchloric acid solution, saturated NaHO, and salt, and dried over MgSO, and the ether was distilled off to give hydroxyethylacetoxyazetidinone (formula 9).
R4=OH3) t' obtained in a yield of 841 (352 ■). This compound is reacted with trifluoroacetic acid to remove the protecting group to obtain a compound of formula 10 (R4=OHs).

必要なら保謙基は四酢酸鉛との反応の前に除去する事が
出来る。
If necessary, the Hoken group can be removed prior to reaction with lead tetraacetate.

E、鎖延長 式10のヒドロキシエチルアセトキシアゼチジノン(R
4=C!H3) (346〜、2ミリモル)及び弐■の
シリルエノールエーテル(R= R3=HI R5=ベ
ンジル)(581■、2ミリモル)の混合物を乾燥ジク
ロルメタン(2tnl)に溶かし、ジクロルメタン(2
−)中の溶融ヨウ化曲鉛(639rv、2ミリモノりの
懸濁液中に加え入れる。25℃、16時間攪拌後、飽和
N a HO03水中に注ぎ入れ、酢酸エチル(200
mA)で抽出する。酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、M
gSO4で乾燥後濃縮して油状物を得る。シリカゲルク
ロマトグラフィーにより、式12 (R2=Ra =H
+ R4=C)(3゜R5=ベンジル)の化合物を89
壬収率(,590m?)で得る。
E, hydroxyethylacetoxyazetidinone (R
4=C! A mixture of H3) (346~, 2 mmol) and the silyl enol ether (R = R3 = HI R5 = benzyl) (581, 2 mmol) of 2) was dissolved in dry dichloromethane (2 tnl) and dichloromethane (2
-) into a suspension of molten curved lead iodide (639rv, 2mm). After stirring at 25°C for 16 hours, it was poured into saturated NaHO03 water, and ethyl acetate (200rv) was added to the suspension.
mA). The ethyl acetate layer was washed with brine, and M
Dry over gSO4 and concentrate to obtain an oil. By silica gel chromatography, formula 12 (R2=Ra=H
+ R4=C) (3°R5=benzyl) compound at 89
Obtained at a yield of (,590m?).

F、  (5R,68)ベンジル6−〔(刊−1−ヒド
ロキシエチルツー1−フザビシクロ[3,2,01へブ
タン−3,7−ジオ乾燥ベンセン(3−)中の(38,
41’L)−3−[(R)−1−ヒドロキシエチル〕−
4−〔3−ベンジロキシカルボニル−2−オキソ−3−
ジアゾプロピル〕−アゼチジン−2−オン(sorn9
.0.15ミリモル)、酢酸ロジウム(Ill、(0,
1m9)、の懸濁液に窒素カス゛を10分間導入して酸
素を除く。混合物を1時間78℃に加熱すると出発物質
の固形物が徐々に溶ける。次にこれを冷却し、ν過して
触媒を除去する。F液を真空下濃縮し、(5R,68)
ベンジル6− [(R) −1−ヒドロキシエチル〕−
1−アザビシクロ[3,2゜0〕ヘプタン−3,7−シ
オンー2−カルボキシレートを得る。45■(98優)
無色油状物。
F.
41'L)-3-[(R)-1-hydroxyethyl]-
4-[3-benzyloxycarbonyl-2-oxo-3-
diazopropyl]-azetidin-2-one (sorn9
.. 0.15 mmol), rhodium acetate (Ill, (0,
A nitrogen gas was introduced into the suspension of 1m9) for 10 minutes to remove oxygen. The mixture is heated to 78° C. for 1 hour, causing the starting solids to gradually dissolve. Next, it is cooled and passed through a v-pass to remove the catalyst. Concentrate solution F under vacuum, (5R, 68)
Benzyl 6-[(R)-1-hydroxyethyl]-
1-Azabicyclo[3,2°0]heptane-3,7-sion-2-carboxylate is obtained. 45■ (98 excellent)
Colorless oil.

G、p−ニトロベンジロキシカルボニルアミノエタンチ
オールの製造 600−のジエチルエーテル(Et、0)−75−のH
,Oの混液を氷浴中で攪拌し、32Iのシステアミンm
m塩(mw= 114 ; 28.1ミリモル)f加え
る。75−のH20に浴がした7、 149のNaHα
3 の溶液を加える。水浴を除き、室温にて、270−
のEt20 に溶かした6、 759のp−ニトロベン
ジルクロロ−ホルメート(mvi−216; 31.3
ミリモル)の溶液を1時間以上かけて滴下する。10分
後、層を分離し、エーテル層を150−の0、25 N
 Hα及び200I111!の食塩水で洗浄する。各洗
浄液を100−のBt20  で再び抽出し、抽出液を
合併して無水M g S 04で乾燥する。
G, Preparation of p-nitrobenzyloxycarbonylaminoethanethiol 600-diethyl ether (Et, 0)-75-H
, O was stirred in an ice bath, and 32I cysteamine m
Add m salt (mw=114; 28.1 mmol) f. 7,149 NaHα bathed in H20 of 75-
Add solution 3. At room temperature, excluding water bath, 270-
6,759 p-nitrobenzyl chloro-formate (mvi-216; 31.3
A solution of 1 mmol) is added dropwise over 1 hour. After 10 minutes, the layers were separated and the ether layer was soaked in 150-0,25 N
Hα and 200I111! Wash with saline solution. Each wash is extracted again with 100-Bt20 and the combined extracts are dried over anhydrous MgS04.

これを濾過し、N2カス下濃縮する。結晶性残渣を少量
のエーテルでスラリーにし、涙過する。淡黄色の結晶を
高真空下で乾燥し4.7gのp−ニトロベンジロキシカ
ルボニルアミノエタンチオールを得る(65幅収率)。
This is filtered and concentrated under a stream of N2. The crystalline residue is slurried with a small amount of ether and filtered. The pale yellow crystals are dried under high vacuum to obtain 4.7 g of p-nitrobenzyloxycarbonylaminoethanethiol (65% yield).

Il、(5R,68)ベンジル3−(2−(p−ニトロ
ベンジロキシカルボニル)−7ミノエチルチオ) −6
−[(1’L) −1−ヒドロキシエチル)−1−7ザ
ビシクロー[3,2,0)−ヘプト−2−7−オン(5
R,68)ベンジル6− [(R) −1−ヒドロキシ
エチルツー1−アザビシクロ〔3゜2.0〕へブタン−
3,7−シオンー2−カルボキシレート(45m9.0
.147ミリモル)をアセトニトリル(3−)に溶かし
0℃に冷却する。ジイソプロピルエチルアミン(22m
9.0.17ミリモル)をシリンジで加え、0℃で1分
間攪拌する。次に乾燥アセトニトリル(1−)に溶かし
た新たに再結晶したばかシの無水p−)ルエンスルホン
酸(51〜、0.156ミリモル)の溶液を加え、0℃
で1時間攪拌すると(5R,68)ベンジル3−(p−
トルエンスルホニロキシ)−6−[(R)−1−ヒドロ
キシエチル〕−1−7ザビシクロ[3,2,0]−ヘプ
ト−2−エン−7−オン−2−カルボキシレートが得ら
れる。これを−25℃に冷却し、シュイソプロピルエチ
ルアミン(80,5η、0.624ミリモル)をシリン
ジで加え次に1−の乾燥アセトニトリルに溶かしたN−
p−ニトロベンジロキシカルボニル−アミノエタンチオ
ール(401n9.0、15.6ミリモル)の溶液を加
える。反応混合物を冷蔵庫で16時間放置する。混合物
を25−の酢酸エチルで希釈し、食塩水で洗浄後、鎖酸
マグネシウムで乾燥して、真空下溶媒留去すると、黄色
油状物が得られる。これをシリカゲル板にてクロマトグ
ラフィーを行い(酢酸エチル展開)、(5R,68)ベ
ンジル−3−[2−(p−ニトロ−ベンジロキシカルボ
ニル)アミノ−エチルチオ〕−6−[(R) −1−ヒ
ドロキシエチルツー1−アザビシクロ〔3,2,0〕−
ヘプト−2−エン−7−シオンー2−カルボキシレート
を黄色油状物として得る。
Il, (5R,68)benzyl3-(2-(p-nitrobenzyloxycarbonyl)-7minoethylthio)-6
-[(1'L) -1-hydroxyethyl)-1-7zabicyclo[3,2,0)-hept-2-7-one (5
R,68) Benzyl 6-[(R)-1-hydroxyethyl-1-azabicyclo[3°2.0]hebutane-
3,7-Sion-2-carboxylate (45m9.0
.. 147 mmol) in acetonitrile (3-) and cooled to 0°C. Diisopropylethylamine (22m
9.0.17 mmol) is added via syringe and stirred for 1 minute at 0°C. A solution of freshly recrystallized Bakashi's anhydrous p-) toluenesulfonic acid (51~, 0.156 mmol) in dry acetonitrile (1-) was then added and the mixture was heated to 0°C.
When stirred for 1 hour at (5R,68)benzyl 3-(p-
Toluenesulfonyloxy)-6-[(R)-1-hydroxyethyl]-1-7zabicyclo[3,2,0]-hept-2-en-7-one-2-carboxylate is obtained. This was cooled to -25°C, and 1-N-
Add a solution of p-nitrobenzyloxycarbonyl-aminoethanethiol (401n9.0, 15.6 mmol). The reaction mixture is left in the refrigerator for 16 hours. The mixture is diluted with 25-ethyl acetate, washed with brine, dried over magnesium chloride, and evaporated in vacuo to give a yellow oil. This was chromatographed on a silica gel plate (developed with ethyl acetate) and (5R,68)benzyl-3-[2-(p-nitro-benzyloxycarbonyl)amino-ethylthio]-6-[(R) -1 -Hydroxyethyl-1-azabicyclo[3,2,0]-
Hept-2-ene-7-thion-2-carboxylate is obtained as a yellow oil.

■、チェナマイシンの製造 N−p−ニトロベンジロキシカルボニルチェナマイシン
ベンジルエステル(9,5〜、0.017ミリモル)、
104 Pd/C−Bolhofer型をテトラヒドロ
フラン(2−)中で混合する。これに0.1Mのリン酸
水素二カリウム溶液(1,4d)と2−プロパツール(
0,2mj )を加え、Parr  の装置中40 p
atで30分間水素添加する。混合物を濾過し、触媒を
水(3X3m)で洗浄後P液を合併して酢酸エチル−エ
チルエーテルで抽出する。これを〜3−に濃縮し凍結乾
燥する。出来た白色粉末は、全ての面で天然のチェナマ
イシンと同一である。
■ Production of chenamycin N-p-nitrobenzyloxycarbonyl chenamycin benzyl ester (9.5~, 0.017 mmol),
104 Pd/C-Bolhofer type is mixed in tetrahydrofuran (2-). To this, 0.1M dipotassium hydrogen phosphate solution (1,4d) and 2-propanol (
0.2 mj) and 40 p in Parr's apparatus.
Hydrogenate for 30 minutes at at. The mixture was filtered, the catalyst was washed with water (3×3 m), and the P solution was combined and extracted with ethyl acetate-ethyl ether. This is concentrated to ~3- and lyophilized. The resulting white powder is identical in all respects to natural chenamycin.

実施例2 ジアニオンアルキル化、酸化、立体特異的乾燥THF(
6m)に溶かした式2のキラル(0hiral)酸(6
90FQ、3ミリモル)の溶液を0℃で、THF(2−
)に浴がした2、07当量のリチウムシイ゛ソプロピル
アミド(6,2ミリモル)の溶液中に加える。溶液を3
5分攪拌すると、この間に反応温匿が25℃に上昇する
。この時点で、0℃のジアニオン溶液を過剰のアセドア
、ルデヒド(0,5sd )と10分間攪拌して反応せ
しめる。この間に反応温度が25°Cに上昇する。再び
0℃に冷却した後クエン酸水溶液で酸性にし、エーテル
と水に分配する。エーテル層を乾燥後留去すると、式8
Aのヒドロキシ蟻酸化合物(R4= 0H3)をヒドロ
キシルエピマーとの混合物で油状物として得られる(7
34〜.904)B、酸化 弐8Aのヒドロキシ蟻酸化合物のエピマー混合物(R,
、、、C1(、)(676■、2.47ミリモル)をエ
ーテル(15m)に溶かし石油エーテル(5ml)で希
釈し一20℃に冷却する。
Example 2 Dianionic alkylation, oxidation, and stereospecific dry THF (
A chiral (0hiral) acid of formula 2 (6m) dissolved in
A solution of 90FQ, 3 mmol) was diluted with THF (2-
) into a solution of 2.07 equivalents of lithium diisopropylamide (6.2 mmol). 3 of the solution
Stir for 5 minutes, during which time the reaction temperature increases to 25°C. At this point, the dianion solution at 0° C. is reacted with excess acedoyldehyde (0.5 sd ) by stirring for 10 minutes. During this time the reaction temperature increases to 25°C. After cooling to 0° C. again, the mixture is made acidic with an aqueous citric acid solution and partitioned between ether and water. When the ether layer is dried and distilled off, formula 8 is obtained.
A hydroxyformic acid compound (R4=0H3) is obtained as an oil in a mixture with a hydroxyl epimer (7
34~. 904) B, epimer mixture of hydroxyformic acid compounds of oxidation 28A (R,
C1(,) (676 ml, 2.47 mmol) was dissolved in ether (15 ml), diluted with petroleum ether (5 ml) and cooled to -20°C.

この溶液に、5ゴの2当量Na20r207溶液(10
0,!ii’、Na20r207.300 ml、R2
0,136H2SO4の混合物を、水で全量50〇−に
する)全滴下する。−20°Cで1.5時間攪拌後、エ
ーテルと氷水で分配する。エーテル層を乾燥して留去し
、式6の7セチル蟻酸化合物(Ra =CH3) f油
状物として得る。
To this solution, add 5 grams of 2 equivalent Na20r207 solution (10
0,! ii', Na20r207.300 ml, R2
A mixture of 0,136H2SO4 (total volume is made up to 500% with water) is added dropwise. After stirring for 1.5 hours at -20°C, partition between ether and ice water. The ether layer is dried and evaporated to obtain a 7-cetyl formate compound of formula 6 (Ra = CH3) as an oil.

(430m9.64係) C0立体特異的還元 エーテル(5−)に溶がした弐6のアセチル蟻酸化合物
(R4=CH3) (88m?、0.32ミリモル)の
溶液を一78℃に冷却する。初めに、マグネシウムトリ
フルオロアセテート(4251n9)次にエーテル(1
−)中のイソプロピルアミンホウ素(80mg ) 2
加え1時間攪拌する。この間に温度が25℃に上昇する
。クエン酸水4、溶液で酸性にし、混合物をジクロルメ
タン層を乾燥し留去して油状物を85優収率で得る。N
MRスペクトルでは、弐8のR,S、S異性体(R4=
CH3)のみである事を示している。
(430m Section 9.64) A solution of the acetylformic acid compound (R4=CH3) (88m?, 0.32 mmol) dissolved in C0 stereospecific reducing ether (5-) is cooled to -78°C. First, magnesium trifluoroacetate (4251n9) then ether (1
-) isopropylamine boron (80 mg) 2
Add and stir for 1 hour. During this time the temperature rises to 25°C. The mixture is made acidic with 4 ml of citric acid solution, and the dichloromethane layer is dried and evaporated to give an oil with an excellent yield of 85%. N
In the MR spectrum, R, S, S isomers of 28 (R4=
CH3) only.

00式8のR,S、S異性体を、実施例1、工程D−F
の方法に従って反応せしめ、チェナマイシンを得る。
The R, S, S isomers of formula 8 were prepared in Example 1, Steps D-F.
The reaction is carried out according to the method described in 2009 to obtain chenamycin.

実施例3 弐〇のアゼチジノン蟻酸−トリエチルアミA、N、0.
O−トリストリメチルシリルアスパルテートの製造 L−アスパラギン酸(13,31,?、 100ミリモ
ル)をへキサメチルジシラザン(607り中に懸濁させ
る。これを濃H2S04(4滴)と反応せしめ16時間
還流(125℃)する。
Example 3 Azetidinone formate-triethylamine A, N, 0.
Preparation of O-tristrimethylsilylaspartate L-aspartic acid (13,31,?, 100 mmol) is suspended in hexamethyldisilazane (607). This is reacted with concentrated H2S04 (4 drops) for 16 hours. Reflux (125°C).

過剰のへキサメチルジシラザンを真空下留去すると、ト
リシリルアスパルテート、N、0゜0−トリストリメチ
ルシリルアスパルテートを得る(32.9.S+、94
憾)、液体生成物を蒸留する。b、p、 84−93°
C10,05簡、B0式Cのアゼチジノン蟻酸・トリエ
チルアミン塩の製造 エーテル(80mA)に溶かしたトリシリルアスパルテ
ート(4,786&、13.688ミリモル)の溶液を
0℃に冷却し、エーテル(10m/)中に溶かしたt−
ブチルマグネシウムクロライド(エーテル中2.3 M
%  9 ml g20.7ミリモル)の溶液中に0℃
でカニユーレを用いて加える。混合物を25℃に加温し
4時間攪拌する。再び0℃に冷却後約40dのDowe
x 50樹脂(酸性)を加え混合物を水で抽出する。水
層をCα4で洗浄しHPLOでチェックする。収量・・
・700m9.44%。Et3 Nで処理し水を除去し
、弐〇の安定なアゼチジノン蟻酸−トリエチルアミン塩
ヲ得る。
Excess hexamethyldisilazane is distilled off under vacuum to obtain trisilylaspartate, N,0°0-tristrimethylsilylaspartate (32.9.S+, 94
), distilling the liquid product. b, p, 84-93°
C10,05 simple, B0 Preparation of azetidinone formic acid/triethylamine salt of formula C A solution of trisilyl aspartate (4,786 mmol) dissolved in ether (80 mA) was cooled to 0°C and diluted with ether (10 mA). ) dissolved in t-
Butylmagnesium chloride (2.3 M in ether)
% 9 ml g20.7 mmol) at 0 °C.
Add using cannula. The mixture is warmed to 25°C and stirred for 4 hours. Dowe for about 40d after cooling to 0℃ again
x50 resin (acidic) is added and the mixture is extracted with water. The aqueous layer is washed with Cα4 and checked by HPLO. yield··
・700m 9.44%. Water is removed by treatment with Et3N to obtain stable azetidinone formate-triethylamine salt 2.

実施例4 式2のN−(t−ブチルジメチルシリル)アゼチジノン
蟻酸の合成 りMF (8mj)に溶がした式Cのアゼチジノン蟻酸
のトリエチルアミン酸の溶液を0℃に冷却する。これを
トリエチルアミン(5,6ミリモル)及びt−ブチルジ
メチルシリルクロライド(11、フロミリモル)と反応
せしめる。0°Cで1時間攪拌後DMF’i真空下除去
し残渣をエーテルに溶かす。エーテル層をINHαlH
2O%食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥し濾過して濃
縮すると式2の結晶性N−シリル酸を得る(1.259
g、98憾)、〔α耀−74°(C=1、OHα3)、
m、p、143−145℃。
Example 4 Synthesis of N-(t-butyldimethylsilyl)azetidinone formic acid of formula 2 A solution of azetidinone formic acid of formula C dissolved in MF (8 mj) in triethylamine acid is cooled to 0<0>C. This is reacted with triethylamine (5.6 mmol) and t-butyldimethylsilyl chloride (11, furimmol). After stirring for 1 hour at 0°C, the DMF'i was removed under vacuum and the residue was dissolved in ether. The ether layer is INHαlH
Washing with 20% brine, drying over MgSO4, filtration and concentration affords crystalline N-silyl acid of formula 2 (1.259
g, 98 regret), [α -74° (C=1, OHα3),
m, p, 143-145°C.

実施例5 式10Aの脱保護化したヒドロキシアセテートのエピマ
ー混合物の製造及び式9.1oのヒドロキシアセテート
への変換 A1式9AのN−保護化ヒドロキシアセテートのエピマ
ー混合物の製造 DMF (137m/)及び氷酢酸(27m)に溶かし
た、式8 A (R4=CH3)のヒドロキシエチル蟻
酸のエピマー混合物(7,4’#。
Example 5 Preparation of an epimer mixture of deprotected hydroxyacetate of formula 10A and conversion to hydroxyacetate of formula 9.1o Preparation of an epimer mixture of A1 N-protected hydroxyacetate of formula 9A DMF (137 m/) and ice Epimeric mixture of hydroxyethyl formate of formula 8A (R4=CH3) (7,4'#) dissolved in acetic acid (27m).

27.3ミリモル)の溶液を四酢酸鉛(18,1711
41ミリモル)と混合゛し32℃で1.5時間反応せし
める。室温に冷却後、DMFと酢酸を真空下除去し残渣
をエーテル(150m)で粉砕し、不溶性鉛塩を濾過し
て除去した後F液を食塩水(125m1)で洗浄する。
A solution of lead tetraacetate (18,1711
41 mmol) and reacted at 32°C for 1.5 hours. After cooling to room temperature, DMF and acetic acid are removed under vacuum, the residue is triturated with ether (150 ml), insoluble lead salts are filtered off and solution F is washed with brine (125 ml).

乾燥(Mg5O4) L、これを濃縮して油状物を得る
Dry (Mg5O4) and concentrate to give an oil.

これを石油エーテルに溶がし、食塩水で洗浄後、乾燥し
て濃縮し、式9 A (R4=CH3) ノヒドロキシ
アセテートのエピマー混合物ヲ得る(5.51g、70
優)。
This was dissolved in petroleum ether, washed with brine, dried and concentrated to obtain an epimer mixture of formula 9 A (R4=CH3) nohydroxyacetate (5.51 g, 70
Yu).

80式10Aの、保護基を除去した、ヒドロキシアセテ
ートのエピマー混合物の製造1当量の、式9 A (R
4=CH5)のヒドロキシアセテートのエピマー混合物
’t O”Oで、テトラヒドロフラン(THF)に浴か
し×1当量のt−ブチルアンモニウムフルオライド溶液
及び2当量の酢酸と反応せしめる。THFを除去し、シ
リカゲルクロマトグラフィーを行い、固形の式10 A
 (R4=CHa)、ヒドロキシアセテートのエピマー
混合物を得る。
80 Preparation of a deprotected epimeric mixture of hydroxyacetates of formula 10A, one equivalent of formula 9 A (R
The epimer mixture of hydroxyacetate of 4=CH5) is reacted with 1 equivalent of t-butylammonium fluoride solution and 2 equivalents of acetic acid in tetrahydrofuran (THF) in a bath of tetrahydrofuran (THF). Perform silica gel chromatography to obtain solid formula 10A
(R4=CHa), an epimer mixture of hydroxy acetate is obtained.

C0保護化した、式8Aのヒドロまジアセテートから保
護基を除去した式10Aのヒドロキシアセテートの直接
的製造 工程Aの反応’170−75℃で行い、同時にラクタム
窒素の脱゛シリル化を行って、式10Aのヒドロキシア
セテートのエピマー混合物を得る。
Direct Preparation of Hydroxyacetate of Formula 10A by Removal of Protecting Group from C0-protected Hydroxyacetate of Formula 8A Reaction of Step A was carried out at 170-75°C, with simultaneous de-silylation of the lactam nitrogen. , to obtain an epimeric mixture of hydroxyacetates of formula 10A.

00式19の、エナンチオマーとして純粋な、ジクロル
メタンに溶かした式9Aのヒドロキシエチルアセトキシ
アゼチジノンのエピマー(11,7g、40.7ミリモ
ル、CH2c125〇−中)、溶液をCH2α2 (1
00−)中のピリジニウムクロロクロメート(17,5
5g、81.4ミリモル)及び無水酢酸ナトリウム<1
.67g、20.35ミリモル)の懸濁液中に室温で加
える。12時間後、混合物を400−のエーテルで希釈
し、フロラジルで濾過する。溶媒を真空下留去しI O
,1、!i’のエナンチオマーとして単一で純粋な式1
9のケトアセテートを単離する(86優)。
00 of formula 19, enantiomerically pure, epimer of hydroxyethylacetoxyazetidinone of formula 9A dissolved in dichloromethane (11.7 g, 40.7 mmol, in CH2c1250), the solution was diluted with CH2α2 (1
Pyridinium chlorochromate (17,5-) in
5 g, 81.4 mmol) and anhydrous sodium acetate <1
.. 67 g, 20.35 mmol) at room temperature. After 12 hours, the mixture is diluted with 400 ml of ether and filtered through Floradil. The solvent was distilled off under vacuum and IO
,1,! Enantiomerically pure formula 1 of i'
9 ketoacetates are isolated (86 excellent).

E0式20の、保護基金除去した、エナンチオマーとし
て純粋なケトアセテートの製造 ジクロルメタン(2’Od)に溶かした式10Aのヒド
ロキシエチルアゼチジノンのエピマー(20ミリモル)
溶液を、CH2α2(50m7り中のビリジニウムクP
ロクロメート(8,77g140ミリモル)及び無水酢
酸ナトリウム(0,84&、10ミリモル)の懸濁液中
に、室温で加える。8時間後、混合物(520(la/
のエーテルで希釈しフロラジルで濾過する。
E0 Preparation of defunded, enantiomerically pure ketoacetate of formula 20 Epimer of hydroxyethyl azetidinone of formula 10A (20 mmol) dissolved in dichloromethane (2'Od)
The solution was dissolved in CH2α2 (viridinium
Add to a suspension of rochromate (8.77 g 140 mmol) and anhydrous sodium acetate (0.84 mmol) at room temperature. After 8 hours, the mixture (520 (la/
Dilute with ether and filter through Floradil.

溶媒を真空下留去し、式20のケトアセテートを単離す
る(74壬収率)。
The solvent is removed under vacuum and the ketoacetate of formula 20 is isolated (yield: 74 lbs).

F0式10のヒドロキシアセテートの製造無水エーテル
(300m)に浴がした式1式% (10,0g、35ミリモル)の溶液を一78℃に冷却
する。これを、マグネシウムトリフルオロアセテートの
エーテル溶液(2M溶液、86m7りと反応せしめる。
F0 Preparation of hydroxyacetate of formula 10 A solution of formula 1% (10.0 g, 35 mmol) in anhydrous ether (300 m) is cooled to -78°C. This was reacted with an ethereal solution of magnesium trifluoroacetate (2M solution, 86ml).

5分間攪拌後エーテル(95m)に溶かしたジイソプロ
ピルアミンホウ素(6,0g)の溶液と反応せしめる。
After stirring for 5 minutes, it is reacted with a solution of diisopropylamine boron (6.0 g) in ether (95 m).

10分後−78℃の冷却浴を取シ除き、水浴に変える。After 10 minutes, the -78°C cooling bath is removed and replaced with a water bath.

混合物を40分間攪拌し冷I N Hα(200ml 
)を加える。混合物をエーテル(2X100m/)で抽
出し合併した有機層をNaHOOs水溶°液で中和する
。食塩水(200−)で洗浄し乾燥(Mg5Oi ) 
L濃縮し油状物を得る(9.55.9)。
The mixture was stirred for 40 minutes and added with cold IN Hα (200 ml
) is added. The mixture is extracted with ether (2×100 m/) and the combined organic layers are neutralized with aqueous NaHOOs. Wash with saline (200-) and dry (Mg5Oi)
Concentrate to give an oil (9.55.9).

得られた油状ヒドロキシアセテートi THF(40m
l)に溶かし、氷酢酸(3,5rnl)と反応せしめ、
テトラブチルアンモニウムフルオライド(’l” If
 F中IM溶液、33−)と反応せしめる。0°Cで1
時間反応後、混合物を濃縮し油状固形物を得る。シリカ
ゲルでクロマトグラフィーを行い、4゜2Iの、式10
の結晶性ヒドロキシアセテートを得る(式19の出発物
質から69優収率)、mp、 109−113℃〔α〕
D+86°、O= 0.5、OHα3)。
The obtained oily hydroxyacetate i THF (40 m
l) and reacted with glacial acetic acid (3.5rnl),
Tetrabutylammonium fluoride ('l” If
React with IM solution in F, 33-). 1 at 0°C
After reacting for an hour, the mixture is concentrated to obtain an oily solid. Chromatography on silica gel yields 4°2I, formula 10
(69 excellent yield from starting material of formula 19), mp, 109-113°C [α]
D+86°, O=0.5, OHα3).

実施例6 式12の、鎖延長した、ヒドロキシエチルアA、ベンジ
ル3−オキソペンタノエートの製1告 Weiler、 IL Am、 Ohem++ Soc
* 96.1082(1974)の方法に従い、THF
(100ml)中、水素化ナトリウムの懸濁液(50憾
懸濁液、2.1g、42ミリモル)を0℃に冷却し、ベ
ンジルアセトアセテート、7.68g(40ミリモル)
を加える。10分間攪拌後、n−ブチルリチウム(ヘキ
サン中2.5M、16−)ヲ加え、混合物を10分間反
応せしめ、THF(4fnl)に溶かしたヨウトメタン
(2,74td、44ミリモル)浴液を滴下する。
Example 6 Preparation of chain-extended hydroxyethyl A, benzyl 3-oxopentanoate of formula 12 Weiler, IL Am, Ohem++ Soc
* THF according to the method of 96.1082 (1974)
A suspension of sodium hydride (50% suspension, 2.1 g, 42 mmol) in (100 ml) was cooled to 0°C and benzyl acetoacetate, 7.68 g (40 mmol)
Add. After stirring for 10 minutes, n-butyllithium (2.5M in hexane, 16-) is added, the mixture is allowed to react for 10 minutes, and a bath of iodomethane (2,74 td, 44 mmol) in THF (4 fnl) is added dropwise. .

混合物を1時間反応せしめてゆっくり室温に加温する。The mixture is allowed to react for 1 hour and slowly warmed to room temperature.

INHαで0℃にて反応を中止し、エーテルで抽出する
。エーテルf N a HO03水溶液及び食塩水で洗
浄し、MgSO4で乾燥する。
The reaction is stopped with INHα at 0° C. and extracted with ether. Wash with aqueous ether fN a HO03 and brine and dry with MgSO4.

溶媒を留去しベンジル3−オキソペンタノエートを得る
The solvent was distilled off to obtain benzyl 3-oxopentanoate.

B、ベンジル2−ジアゾ−゛3−オキソペンタノエート
の製造 米国特許4,284,575に記載の方法に従い、アセ
トニトリル(61117り中、ベンジル3−オキソペン
タノエート(1,05,9,5,1ミリモル)、ナフタ
レン−2−スルホニルアジド(1,306g、 5.6
ミリモル)、トリエチルアミン(0,76m、5.4ミ
リモル)の混合物を一晩放置する。(0°−25℃)エ
ーテルで希釈した後、H3P o4水溶液、N a H
003水溶液、食塩水、で洗浄し乾燥(MgSO<、)
する。
B. Preparation of benzyl 2-diazo-3-oxopentanoate According to the method described in US Pat. No. 4,284,575, benzyl 3-oxopentanoate (1,05,9,5 , 1 mmol), naphthalene-2-sulfonyl azide (1,306 g, 5.6
A mixture of triethylamine (0.76m, 5.4 mmol) is left overnight. (0°-25°C) After dilution with ether, H3P o4 aqueous solution, NaH
Wash with 003 aqueous solution, saline, and dry (MgSO<,)
do.

これtm縮し油状残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
(4:1、ヘキサン:酢酸エチル)で精製し975〜(
82%)のベンジル2−ジアゾ−3−オキソペンタノエ
ートを得る。
This was condensed and the oily residue was purified by silica gel chromatography (4:1, hexane:ethyl acetate).
82%) of benzyl 2-diazo-3-oxopentanoate.

NM几(Cα4 )δ:1.2(311、t、J=7.
5112)、2.9 (2H,q、J=7.5Hz)、
5.3(2H,S)、7.3、(5H,S)。
NM几(Cα4)δ:1.2(311, t, J=7.
5112), 2.9 (2H, q, J=7.5Hz),
5.3 (2H,S), 7.3, (5H,S).

C,ベンジル2−ジアゾ−3−オキソペンタノエートの
シリルエノールエーテルの製造 THF(1,2−)中に浴かしたベンジル2−ジアゾ−
3−オキソペンタノエート(330m?、1.42ミリ
モル)の溶液(i−THF (12rnl)に溶かした
ベキサメチルジシラザン(0,37mll、n−ブチル
リチウム(2,5MsO,71m7りテトラメチルエチ
レンジアミン(TMlらDA−0,28td)の−78
℃溶液中に加える。10分後、クロロトリメチルシラン
(0,23mA )を加え混合物をゆっくり25°0に
加温する。1時間後混合物ケ真空下濃縮し、残渣をヘキ
サンで粉砕する。ヘキサン不溶物を痙過してP液を濃縮
し、394mp(91利)油状シリルエノールエーテル
を得る。NMI’t(CDα3) δ: 1.6 (3
H、d 、 J=711z)、5.1 (2H、R)、
5.1 (txt、q 、J=7Hz)、7.2 (5
H、s )。
Preparation of the silyl enol ether of C, benzyl 2-diazo-3-oxopentanoate.Benzyl 2-diazo-3-oxopentanoate in THF (1,2-)
A solution of 3-oxopentanoate (330 m?, 1.42 mmol) (bexamethyldisilazane (0.37 ml), n-butyl lithium (2.5MsO, 71 m7 trimethyldisilazane) dissolved in i-THF (12 rnl) -78 of ethylenediamine (TMl et al DA-0,28td)
Add to the solution at °C. After 10 minutes, chlorotrimethylsilane (0.23 mA) is added and the mixture is slowly warmed to 25°0. After 1 hour the mixture is concentrated under vacuum and the residue is triturated with hexane. The hexane insoluble material is filtered out and the P solution is concentrated to obtain 394 mp (91%) oily silyl enol ether. NMI't(CDα3) δ: 1.6 (3
H, d, J=711z), 5.1 (2H, R),
5.1 (txt, q, J=7Hz), 7.2 (5
H,s).

D、鎖延長した式12のヒドロキシエチルアセトキシア
ゼチジノンの製造 式10のヒドロキシエチルアセトキシアゼチジノン(1
12Fv、 0.65ミリモル)、ベンジル2−ジアゾ
−3−オキソペンタノエート(394m9.1.3ミリ
モル)の混合物を乾燥ジクロルメタン(2−)に浴かし
、ジクロルメタン(2−)中の溶融(真空下)塩化亜鉛
(55〜、0.4ミリモル)の懸濁液中に加える。緩和
に12時間還流した後混合物を飽和N a HC03水
浴液(50mA)中に注ぎ入れる。
D. Production of chain-extended hydroxyethylacetoxyazetidinone of formula 12 Hydroxyethylacetoxyazetidinone of formula 10 (1
12 Fv, 0.65 mmol), benzyl 2-diazo-3-oxopentanoate (394 m 9.1.3 mmol) was bathed in dry dichloromethane (2-) and dissolved in dichloromethane (2-). (under vacuum) into a suspension of zinc chloride (55 to 0.4 mmol). After 12 hours of gentle reflux, the mixture is poured into a saturated Na HC03 water bath (50 mA).

酢酸エチル(1oO−)で抽出し酢酸エチル層を食塩水
で洗浄し、MgSO4で乾燥し濃縮して油状物を得る。
Extract with ethyl acetate (1oO-) and wash the ethyl acetate layer with brine, dry over MgSO4 and concentrate to give an oil.

シリカゲルによるり凸マドグラフィーにより式12の化
合物を77憾収率で得る。
A compound of formula 12 is obtained by convex mudgraphy on silica gel in a yield of 77%.

実施例7 2 T I−I F (250ml )に溶かした式Iの5
−シアソー4,6−シケトー2,2−ジメチル−1,3
−ジオキサン(ジアゾMe ldrum 酸)(170
,13,!i+、1モル)の溶液にp−ニトロペンシル
アルコール(153,14,!i+、1.0モル)を加
える。混合物を25″C!で8時間攪拌する。エーテル
(500m)で希釈し、濾過して結晶性生成物を取り、
真空乾燥して223g(84幅)の式15のジアゾ酸−
エステルを得る。R,は11、xtsはp−ニトロベン
ジルである。
Example 7 5 of formula I dissolved in 2 T I-IF (250 ml)
-thiaso-4,6-thiketo-2,2-dimethyl-1,3
-Dioxane (diazo Meldrum acid) (170
,13,! p-Nitropencyl alcohol (153,14,!i+, 1.0 mol) is added to a solution of i+, 1 mol). The mixture was stirred at 25"C! for 8 hours. Diluted with ether (500mM) and filtered to remove the crystalline product.
Vacuum dried to give 223 g (84 widths) of the diazo acid of formula 15.
Obtain ester. R, is 11, and xts is p-nitrobenzyl.

5 ジクロルメタン(10m/)に浴がした式15のジアゾ
酸−エステル(2,652g、10ミリモル)の溶液1
o℃に冷却し、トリエチルアミン(1,4mA、10ミ
リモル)と反応せしめ、式10のR,R,R−4−7セ
トキシー3− (1−ヒドロキシエチル)−2−アゼチ
ジノンを加える。反応混合物を25℃で4゛時間攪拌し
た後、CH2αg(50m)で希釈し、食塩水(25m
)で洗浄し、乾燥(Na2804 )する。これt−濃
縮し残渣の油状物をシリカゲルでクロマトグラフィーを
行い、式16のジアゾマロネートを黄色固形物として得
る(2.16y157優)。式中のR1はH,R4はメ
チル、It5はp−ニトロベンジルである。
5 Solution of diazo acid-ester of formula 15 (2,652 g, 10 mmol) in dichloromethane (10 m/) 1
Cool to 0° C., react with triethylamine (1,4 mA, 10 mmol) and add R,R,R-4-7 setoxy 3-(1-hydroxyethyl)-2-azetidinone of formula 10. After stirring the reaction mixture at 25°C for 4 hours, it was diluted with CH2αg (50 m) and brine (25 m
) and dried (Na2804). This was concentrated and the residual oil was chromatographed on silica gel to obtain the diazomalonate of formula 16 as a yellow solid (2.16y157). In the formula, R1 is H, R4 is methyl, and It5 is p-nitrobenzyl.

6 式16のジアゾマロネート(378〜、1ミリモル)を
ジクロルメタン(4−)中に懸濁する。これを触媒量の
ロジウム(幻アセテートダイマー(5〜)と反応せしめ
る。スラリーV均一になるまで40℃で攪拌する。溶液
全25°Cに冷却する。これにヘキサンを加えて生成物
全沈澱せしめる。濾過し、ヘキサンで洗浄し式17の化
合物を得る。式中R1は11、R4はメチル、R5はp
−ニトロベンジルである。
6 Diazomalonate of formula 16 (378~, 1 mmol) is suspended in dichloromethane (4-). This is reacted with a catalytic amount of rhodium (phantom acetate dimer (5~)). The slurry V is stirred at 40°C until it becomes homogeneous. The entire solution is cooled to 25°C. Hexane is added to this to completely precipitate the product. Filter and wash with hexane to obtain a compound of formula 17, where R1 is 11, R4 is methyl, and R5 is p.
- nitrobenzyl.

ジクロルメタンに溶かした式17のオキサペネム化合物
の溶液をジイソプロピルエチルアミン(0,174ml
、  1.0ミリモル)及びジフェニルクロロホスフェ
ート(268〜、0.99ミリモル)と反応せしめる。
A solution of the oxapenem compound of formula 17 in dichloromethane was added to diisopropylethylamine (0,174 ml).
, 1.0 mmol) and diphenylchlorophosphate (268-, 0.99 mmol).

出来たVの溶液を、更に手を加えずに、そのま\用する
Use the resulting V solution as is without further modification.

化合物■の溶液をジイソプロピルエチルアミン(0,1
74m/、1.0ミリモル)■ 及びN−保護化システアミンVl(256■、1、0ミ
リモル)と反応せしめる。混合物を25℃で14時間撹
拌して全ての生成物を沈澱せしめる。結晶性の式28の
二保護化したオキサペネムを濾過して単離し、OH2α
2:へキサン(1:1)で洗浄し、492グを得る(0
.81ミリモル、834)。
A solution of compound ① was added to diisopropylethylamine (0,1
74 m/, 1.0 mmol) and N-protected cysteamine Vl (256 m, 1.0 mmol). The mixture is stirred at 25° C. for 14 hours to precipitate all the product. The crystalline diprotected oxapenem of formula 28 was isolated by filtration and OH2α
Wash with 2:hexane (1:1) to obtain 492g (0
.. 81 mmol, 834).

28002PNB CO□I( 8a 式28の二保護化オキサペネム(492771p。28002PNB CO□I( 8a Diprotected oxapenem of formula 28 (492771p.

0.81ミリモル)を104Pd10.THF(10,
0−)、0.1Mリン酸二カリウム溶液(70m7り、
2−プロパツール(10tnt)と混合する。混合物音
Parr  の装置中40 psjで40分間接接触光
する。混合物を濾過し触媒を水洗(2x100y)する
。p液全合併し酢飯エチルーエチルエーテルで抽出し水
層を100−に濃縮する。これを凍結乾燥して式18m
のオキサペネム全白色固形物として得る。
0.81 mmol) to 104Pd10. THF (10,
0-), 0.1M dipotassium phosphate solution (70ml),
2- Mix with propatool (10 tnt). The mixture is exposed to indirect contact light for 40 minutes at 40 psj in a Parr apparatus. Filter the mixture and wash the catalyst with water (2x100y). All the p liquids were combined, vinegared rice was extracted with ethyl ethyl ether, and the aqueous layer was concentrated to 100%. Freeze-dry this to form a formula 18m.
Oxapenem is obtained as an entirely white solid.

実施例8 式10のN−保護基金除去した化合物から式14のメチ
ル化合物の製造 無水0Hz(Jz (0,05ml )に浴かした式1
゜でR1がt−ブチルジメチルシリル、R4がメチルの
0−1−ブチルジメチルシリルアゼチジノン化合物(1
4,41n9.0.05モル)の溶液をドライフイスー
アセトン浴中、N2ガス下で冷却する。R及びR3がメ
チル、R2がHの式13のシリルエノールエーテル(2
5μt、0.15ミリモル)及びMe3 S 1OTf
 (10μt、0.055ミリモル)を加え、溶液をゆ
つくシ室温にまで加温する。3時間後、TLCでは出・
発物質を示す。6時間後、溶液1EtOAeで希釈し、
54 NaHCO3、食塩水、で洗浄し、Mg5O,で
乾燥し濾過する。これを真空下留去し、白色固形物を得
る(13.5rn9.86%)。
Example 8 Preparation of a methyl compound of formula 14 from an N-protection-free compound of formula 10.
0-1-butyldimethylsilylazetidinone compound (1) where R1 is t-butyldimethylsilyl and R4 is methyl at
A solution of 4,41n (9.0.05 mol) is cooled in a dry acetone bath under N2 gas. Silyl enol ether of formula 13 where R and R3 are methyl and R2 is H (2
5 μt, 0.15 mmol) and Me3S 1OTf
(10 μt, 0.055 mmol) and the solution is slowly warmed to room temperature. Three hours later, on TLC,
Indicates the emitting substance. After 6 hours, the solution was diluted with 1EtOAe and
Wash with 54 NaHCO3, brine, dry with Mg5O, and filter. This is distilled off under vacuum to obtain a white solid (13.5rn9.86%).

N M Rでは、R1がt−ブチルジメチルシリル、R
4がメチル、R2がH,RとR3がメチルである式14
のα−及びβ−メチル生成物の1=1混合物である事を
示している。出発物質又はN−シリル生成物のシグナル
は発現しない。
In NMR, R1 is t-butyldimethylsilyl, R
Formula 14 where 4 is methyl, R2 is H, and R and R3 are methyl
This shows a 1=1 mixture of α- and β-methyl products. No starting material or N-silyl product signals are expressed.

実施例9 式10のN−保護化、化合物から式14のメチル化合物
の製造 N2ガス下Zn I2 (13,8Tn9.0.043
ミリモル)全溶融する。室温に冷却した後ZnI2を、
無水CH2C7!2 (430μt)に溶かしたR1が
t−ブチル−ジメチルシリル、几4がメチル、P−トリ
メチルシリルである式9のN−トリメチルシリル保護化
、化合物の溶液と反応せしめ、次にR,R,がメチル、
R2がHである式13のシリルエノールエーテル(40
μt、0.25ミリモル)と反応せしめる。
Example 9 N-Protection of Formula 10, Preparation of Methyl Compound of Formula 14 from Compound Zn I2 (13,8Tn9.0.043 under N2 Gas)
mmol) completely melted. After cooling to room temperature, ZnI2
N-trimethylsilyl protection of formula 9, in which R1 is t-butyl-dimethylsilyl, 4 is methyl, and P-trimethylsilyl, dissolved in anhydrous CH2C7!2 (430 μt), was reacted with a solution of the compound, and then R,R , is methyl,
Silyl enol ether of formula 13 where R2 is H (40
μt, 0.25 mmol).

出来た混合物を室温で2時間、はげしく攪拌する。次に
gtOAc  で希釈し、54 NaHCO3、食塩水
でそれぞれ洗浄し、 Mg5O,で乾燥後真空下留去し
透明油状物を得る(31.29)。
The resulting mixture is stirred vigorously for 2 hours at room temperature. It was then diluted with gtOAc, washed with 54 NaHCO3 and brine, dried over Mg5O, and evaporated under vacuum to give a clear oil (31.29).

粗生成物を無水T HF (130μt)に溶かし、水
浴中、N2ガス下で冷却する。Ac011(9,8μ4
0.17ミリモル)、I M、 Bu4 NF(80μ
t)を加え、溶液を1時間0℃で放置する。
The crude product is dissolved in anhydrous T HF (130 μt) and cooled in a water bath under N2 gas. Ac011 (9,8μ4
0.17 mmol), IM, Bu4 NF (80 μ
t) is added and the solution is left at 0° C. for 1 hour.

EtOAcで希釈し、N20、食塩水、で洗浄し、乾燥
(MgSO4) して沖過する。これ全真空下留去しト
ルエンを加えて、再び留去し、無色半固形物を得る( 
24 m? )。NMl’Lスペクトルでは実施例8の
如く、α及びβ−メチルの5:4混合物の存在を示して
いる。
Dilute with EtOAc, wash with N20, brine, dry (MgSO4) and filter. This was distilled off under full vacuum, toluene was added, and distilled off again to obtain a colorless semi-solid (
24 m? ). The NMI'L spectrum shows the presence of a 5:4 mixture of α and β-methyl as in Example 8.

実施例10 式10のN−保護基を除去した化合物から式14のメチ
ル化合物の製造 無水OH2偶(250/j L )中でZnI2 (8
,0〜、0.025ミリモル、N2ガス下新たに溶融)
を懸濁する。これを、Rにt−プチル−ジメチルシリル
、R4がメチルである式10の7セトキシアゼチジノン
(14゜4〜.0.05ミリモル)及びRとR3がメチ
ルR2が14である式13のシリルエノールエーテル(
25μt1〜0.15ミリモル)と反応せしめる。混合
物を室温で70分、はげしく攪拌する。EtOAcで希
釈し、5 ’I NaHC!03、食塩水で、それぞれ
洗浄し、MgSO4で乾燥する。これ’t濾過し、真空
下留去し透明油状物を得る( 191ny)。NMRで
はN−トリメチルシリル化した出発物質と、N−トリメ
チルシリルα−及びβ−メチルメトキシカルボニル生成
物が20:63:17の比で混在している事を示す。
Example 10 Preparation of a methyl compound of formula 14 from a compound of formula 10 from which the N-protecting group has been removed ZnI2 (8
,0~,0.025 mmol, freshly melted under N2 gas)
suspend. This was combined with 7-cetoxyazetidinone (14°4-.0.05 mmol) of formula 10, where R is t-butyl-dimethylsilyl and R4 is methyl, and of formula 13, where R and R3 are methyl and R2 is 14. Silyl enol ether (
25 μt1-0.15 mmol). The mixture is stirred vigorously for 70 minutes at room temperature. Diluted with EtOAc and 5'I NaHC! 03. Wash each with brine and dry with MgSO4. This was filtered and evaporated under vacuum to give a clear oil (191 ny). NMR shows a mixture of N-trimethylsilylated starting material and N-trimethylsilyl α- and β-methylmethoxycarbonyl products in a ratio of 20:63:17.

粗生成物を無水THF(75μt)に溶かし、N2ガス
下水浴中で冷却しAcOH(5,7μt。
The crude product was dissolved in anhydrous THF (75 μt), cooled in a water bath under N2 gas and dissolved in AcOH (5.7 μt).

0.1ミリモル)及びI M Bu4NF/THF (
50μtVc加え1時間反応せしめる。溶液1BtOA
cで希釈し、N20.54 NaHCO2、食塩水で洗
浄し、MgSO4で乾燥する。これを濾過し真空下留去
して白色固形物を得る( 11 m9’)。
0.1 mmol) and I M Bu4NF/THF (
Add 50μtVc and react for 1 hour. Solution 1BtOA
dilute with c and wash with N20.54 NaHCO2, brine and dry with MgSO4. This is filtered and evaporated under vacuum to give a white solid (11 m9').

NMRでは、19憾の出発物質、63優のα−Me生成
物、18優のβ−Me生成物の混合物である事を示して
いる。R1がt−ブチルジメチルシリル、R2+ R4
がメチル、R3が水素である式14のα、とβ生成物の
比は3.5:1である。
NMR shows a mixture of 19 starting materials, 63 α-Me products, and 18 β-Me products. R1 is t-butyldimethylsilyl, R2+ R4
The ratio of the α and β products of formula 14, where R3 is methyl and R3 is hydrogen, is 3.5:1.

実施例11 式21の化合物の製造 無水MeOH(1,0ml )に溶かしたNaOMe(
5,4■、0.1ミリモル)の溶液を氷冷し攪拌する。
Example 11 Preparation of compound of formula 21 NaOMe (
A solution of 5, 4, 0.1 mmol) was cooled on ice and stirred.

これに、R1がH,R,がメチルである式10のアゼチ
ジノン化合物(17,51n9.0.1ミリモル)及び
トリチルメルカプタン(27,6■、0.1ミリモル)
を加える。水浴を除去しN2ガス下、1時間攪拌する。
To this, an azetidinone compound of formula 10 (17,51n9.0.1 mmol) in which R1 is H and R, is methyl and trityl mercaptan (27,6■, 0.1 mmol)
Add. Remove the water bath and stir under N2 gas for 1 hour.

MeOHで希釈し、真空下留去する。残渣i EtOA
Cに溶かし、食塩水で洗浄し、MgSO4で乾燥する。
Dilute with MeOH and evaporate under vacuum. Residue i EtOA
Wash with brine and dry with MgSO4.

これを沖過し臭空下貿去すると油状物會得る(52■)
。粗生成物を1■×20×20crnSGGF板を用い
、EtOACで展開してクロマトグラフィーを行う。U
V吸収帯ヲカキ取り、E t OA Cで溶出し、rt
 l がI(、R4が0113である式2Iの4−5O
O3アゼチジノンを泡状物として得、(77優)、これ
は放置すると、ゆっくり固形化する。
If you take this off the coast and trade it under a smelly atmosphere, you will get an oily substance (52■)
. The crude product is subjected to chromatography using a 1×20×20 crn SGGF plate and developed with EtOAC. U
Remove the V absorption band, elute with E t OA C, rt
4-5O of formula 2I where l is I(, R4 is 0113
The O3 azetidinone is obtained as a foam (77 excellent) which slowly solidifies on standing.

実施例12 式26の化合物の製造 15−の乾燥at−izctz中の1.83 gの式2
3の化合物(Rs=P−ニトロベンジル、R1二P−ニ
トロベンジロキシカルボニル)の攪拌懸濁液に、室温で
、347ダのエチルクロロジチオホルメート及び212
〜のピリジンを加える。混合物をN2ガス下、室温で1
.5時間攪拌する。不溶物を濾過して除き、p液全Et
OAeで良く洗浄する。
Example 12 Preparation of compound of formula 26 1.83 g of formula 2 in dry at-izctz of 15-
To a stirred suspension of compound No. 3 (Rs=P-nitrobenzyl, R12P-nitrobenzyloxycarbonyl) at room temperature was added 347 Da of ethyl chlorodithioformate and 212
Add ~ pyridine. The mixture was heated under N2 gas at room temperature for 1
.. Stir for 5 hours. Insoluble matters were removed by filtration, and the p-liquid total Et
Wash thoroughly with OAe.

EtOAc/氷水/ 2.5 N Hαで分配し、有機
層を分離する。飽和Naα、飽和N a HC03、で
洗浄し、N R2S 04で乾燥後沖過する。留去し、
九空下1晩乾燥して、暗色泡状物質を得る。
Partition with EtOAc/ice water/2.5 N Hα and separate the organic layer. Wash with saturated Naα, saturated NaHC03, dry with N2S04, and filter. leave,
Dry under nine air overnight to obtain a dark foam.

生成物を50gEM−60シリカゲルをトルエンで充て
んしたカラムで、トルエン: EtOAc 。
50 g of the product was added to a column filled with EM-60 silica gel and toluene: EtOAc.

3:1で溶出してクロマトグラフィーを行い、1.5S
の式26(R5=P−ニトロベンジル、RI=P−ニト
ロ−ベンジロキシカルボニル)の生成物を黄色泡状物と
して得る。
Chromatography was performed eluting with 3:1, 1.5S
The product of formula 26 (R5=P-nitrobenzyl, RI=P-nitro-benzyloxycarbonyl) is obtained as a yellow foam.

実施例13 式26の化合物の製造 90−のMeOH、22,5−のCH2α2に溶かした
式22の化合物(R1=t−ブチルメチルシリル、R,
=P−ニトロベンジル)の溶液に、攪拌下、室温で、2
.08−(2,04g、1.48 eq、、 2.58
 X 10”−2モル)のピリジンを加え、次にメタノ
ールに溶かした0、15MAgN03.139.4m(
2,09X10−”モル、1.2当量)を加える。混合
物をN2ガス下、0.5時間、室温で攪拌し濃縮して暗
色溶液とする。濃縮液を0142α2/氷水で分配し、
有機層を分離する。N R2S 04で乾燥し、E過し
て留去し真空下乾燥する。
Example 13 Preparation of compound of formula 26. Compound of formula 22 (R1 = t-butylmethylsilyl, R,
= P-nitrobenzyl) under stirring at room temperature.
.. 08-(2.04g, 1.48 eq, 2.58
x 10”-2 mol) of pyridine, then 0.15 MAgN03.139.4 m (
2,09×10-” moles, 1.2 eq.) is added. The mixture is stirred under N2 gas at room temperature for 0.5 h and concentrated to a dark solution. The concentrate is partitioned between 0142α2/ice water and
Separate the organic layer. Dry over N R2S 04, evaporate through E and dry under vacuum.

上述の残渣を125mのOH2α2に溶かし、室温で攪
拌する。これに1.4−のピリジン(1,38、!i’
、1.74X10−2モル、1当量)を加え、次に、2
.25−のエチルジチオクロロホルメート(2,929
,2,09xl O−2モル、1.2当量)全加える。
The above residue is dissolved in 125 m OH2α2 and stirred at room temperature. To this, 1,4-pyridine (1,38,!i'
, 1.74X10-2 moles, 1 eq), then 2
.. 25-ethyldithiochloroformate (2,929
, 2,09xl O-2 mol, 1.2 eq) total added.

混合物をN2ガス下室温で0.5時間攪拌し、不溶物を
セライトを用いてp過して除く。OH2偽で良く洗浄し
、E液を留去する。残渣’jiEtOAc/氷水/濃H
αで分配し、有機層を分離する。飽和Nact、氷冷希
Na1(00a水溶液、飽和Naαで順順に洗浄する。
The mixture was stirred at room temperature under N2 gas for 0.5 h, and insoluble materials were removed by filtration through Celite. Wash well with OH2 fake and distill off liquid E. Residue'jiEtOAc/ice water/concentrated H
Partition with α and separate the organic layer. Wash sequentially with saturated Nact, ice-cold dilute Na1 (00a aqueous solution), and saturated Naα.

無水Na2SO4で乾燥後、留去し1晩真空乾燥する。After drying with anhydrous Na2SO4, the residue was distilled off and vacuum-dried overnight.

これ1500〜のEM−60シリカゲルでCH2α2に
て充てんしたカラムを用い、初めOH2α2で溶出し、
次に2リツトルのOH2α2− EtOAc (20:
 1 )最後に9リツトルのCH2α2  :EtOA
c  (10: 1 )で溶出してクロマトグラフィー
を行1/>8.97Iの、RIとR5が、出発物質の置
換基に対応したものである黄色生成物を得る。
Using a column packed with CH2α2 with EM-60 silica gel of 1500~, elution was first performed with OH2α2,
Next, add 2 liters of OH2α2-EtOAc (20:
1) Finally, 9 liters of CH2α2:EtOA
Chromatography eluting with c (10:1) gives a yellow product in line 1/>8.97I, where RI and R5 correspond to the substituents of the starting material.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、式 のN−保護化β−ラクタム蟻酸を強塩基と反応せしめて
ジアニオンに変換しニ ジアニオンをアシル化し、3位にアセチル基を導入しニ アセチル基を還元して、対応する3− (1−ヒドロキシエチル)−2−7ゼチジノンー4−カ
ルボン酸を形成し; この化合物又は該化合物のN−説保護基類縁体を酸化的
脱炭酸せしめ、カルボキシル基を7セトキシ基に変換せ
しめる工程を特徴とする抗生物質の中間体の製法。 2、強塩基がリチウムジイソプロピルアミド、リチウム
へキサメチルジシラミド、リチウム2,2,6.6−チ
トラメチルピペリジド又はブチルリチウムである特許請
求の範囲第1項の方法。 1 3、 アシル化剤が式* CH3CX1(Xは脱離基)
を有するものである特許請求の範囲第1項の方法。 4、  Xがハライド、アセトキシ、アルコキシ又はイ
ミダゾールである特許請求の範囲第3項の方法。 5、還元剤がNaBH4、LiBH4sアミンボランで
あるか又は接触還元を用いる特許請求の範囲第1項の方
法。 6、還元剤がマグネシウムトリフルオロアセテート及び
ジイソプロピルアミンボランである特許請求の範囲第1
項の方法。 7、#i化的脱炭酸反応を四#:#I鉛で行う特許請求
の範囲第1項の方法。 8、  N−保護化アセトキシ化合物をルイス酸の存在
下、シリルエノールエーテルと反応せしめる特許請求の
範囲第1項の方法。 9、 シリルエノールエーテルが式; (式中1t2及びR3はH又は炭素数1−4のアルキル
、炭素数2−4のア九ケニル、ベンジル、フェネチル;
R5はベンジル、アリル、炭素数1−4のアルキル、p
〜ニトロベンジル)である特許請求の範囲第8項の方法
。 10、次式のエナンチオマー: 33a 5 8             8a 9A               l0A16   
            17(式中、Pは容易に除去
出来る窒素保護基:R4は炭素数1−4のアルキル、炭
素数2−4のフルケニル、フェニル、又は、炭素数1−
3の1−3個のアルキル基、1−3個のハロゲン原子、
1−3個のトリフルオロメチル基、アミノ基、シアノ、
ニトロで置換したフェニル;R1は;)1、トリアルキ
ルシリル、ドリアリールシリル、ジアリールアルキルシ
リル、アリールジアルキルシリル、でそのアルキル基が
、炭素数1−4を有し、アリール基は、フェニル又は置
換フェニル、あるいはp−ニトロベンジルカルボネート
*R6はベンジル、炭素1−4のアルキル、アリル、又
はp−ニトロベンジル;R7は置換又は非置換フルキル
、アリール、ヘテロアリール、ヘテロサイクリル、又は
Sks  (Ryは上述のもの);phはフェニル;P
NB#ip−ニトロベンジル)の一つを有する特許請求
の範囲第1項の方法に従って得られる中間体。 11  以下に示すエナンチオマーとして式=(式中の
Pは特許請求の範囲第10項に定義したもの)、の化合
物の一つを有する特許請求の範囲第10項の化合物。 12、特許請求の範囲第10項における式16.17.
18、又は■の化合物から成る、オキサペン−2−エム
−3−カルボキシル版化合物の製造中間体。 13、式: の化合物をナトリウムトリフェニルメチルチオレートと
反応せしめること’に%徴とする式: の化合物の製法(式中R1は水素、It、は特許請求の
範囲第10項で定義したもの)。 14、式: の化合物をクロロチオネートと反応せしめることを特徴
とする式: %式% の化合物の製法(式中R1、R5は特許請求の範囲第1
0項に定義したもの)。 15、式: の化合物を式: 2 の化合物と反応せしめること’Ik%徴とする式: の化合物の製法(R1+ R4* Rsは特許請求の範
囲第10項に定義したもの、R6はLi 、Na 、に
、Mg 、Cu 、Ag 、Zn 、Cdである。)。 16、式: の化合物をロジウム頭触媒壊化せしめ式:の化合物の製
法(式中、R1+R4tR5は特許請求の範囲第10項
に定義したもの)。 17、式: の化合物を金属アルキル、金属アリール、金属ヘテロア
リール、金属ヘテロサイクリル、又はH8R4(Rrは
置換又は非置換のアルキル、アリール、ヘテロアリール
、ヘテロサイクリル又はSRwで、金属はLi、Na、
。 K * Mg r又はCdである)と反応せしめること
を特徴とする式: の化合物の製法(式中のR,、R4,Rs 、Ph及び
PNBは特許請求の範囲第10項に定義したもの)。 18、式: の化合物を式: 3 の化合物とルイス酸、トリメチルシリルトリフレート又
はトリメチルシリル化した過フルオロスルホン酸の存在
下で反応せしめることを特徴とする式: の化合物の製法(式中、R4は特許請求の範囲第10項
で定義したもの、Rは炭素数1−4のアルキル、R2と
R3はH1炭素数1−4のアルキル、炭素数2−4のア
ルケニル、ベンジル、フェネチルである。)。 19、式: の化合物を強塩基と反応せしめて加水分解し、(S)−
7セチジンー2−オン−4−蟻酸金製することを特徴と
する式: の化合物の製法。
[Claims] 1. The N-protected β-lactam formic acid of the formula is reacted with a strong base to convert it into a dianion, the dianion is acylated, an acetyl group is introduced at the 3-position, and the niacetyl group is reduced. to form 3-(1-hydroxyethyl)-2-7zetidinone-4-carboxylic acid; oxidative decarboxylation of this compound or an N-protecting group analog of the compound, converting the carboxyl group to a 7-cetoxy group. A method for producing an antibiotic intermediate, which is characterized by a process of nucleation. 2. The method according to claim 1, wherein the strong base is lithium diisopropylamide, lithium hexamethyldisilamide, lithium 2,2,6,6-titramethylpiperidide or butyllithium. 1 3. The acylating agent has the formula * CH3CX1 (X is a leaving group)
The method according to claim 1, which comprises: 4. The method of claim 3, wherein X is halide, acetoxy, alkoxy or imidazole. 5. The method of claim 1, wherein the reducing agent is NaBH4, LiBH4s amine borane, or catalytic reduction is used. 6. Claim 1 in which the reducing agent is magnesium trifluoroacetate and diisopropylamine borane
Section method. 7. The method according to claim 1, wherein the #i-forming decarboxylation reaction is carried out using 4 #: #I lead. 8. The method of claim 1, wherein the N-protected acetoxy compound is reacted with a silyl enol ether in the presence of a Lewis acid. 9, silyl enol ether is of the formula;
R5 is benzyl, allyl, alkyl having 1-4 carbon atoms, p
~nitrobenzyl). 10. Enantiomer of the following formula: 33a 5 8 8a 9A 10A16
17 (wherein, P is an easily removable nitrogen protecting group: R4 is alkyl having 1-4 carbon atoms, fluorenyl having 2-4 carbon atoms, phenyl, or
1-3 alkyl groups of 3, 1-3 halogen atoms,
1-3 trifluoromethyl groups, amino groups, cyano,
phenyl substituted with nitro; Phenyl or p-nitrobenzyl carbonate *R6 is benzyl, C1-4 alkyl, allyl, or p-nitrobenzyl; R7 is substituted or unsubstituted furkyl, aryl, heteroaryl, heterocyclyl, or Sks (Ry is as above); ph is phenyl; P
NB#ip-nitrobenzyl). 11. A compound according to claim 10, which has one of the following enantiomers: (P in the formula is as defined in claim 10). 12, Equation 16.17 in claim 10.
An intermediate for producing an oxapen-2-em-3-carboxyl version compound consisting of compound No. 18 or (1). 13. Process for preparing a compound of the formula: (wherein R1 is hydrogen and It is as defined in claim 10) by reacting the compound of the formula with sodium triphenylmethylthiolate. . 14. A process for producing a compound of the formula: % formula %, characterized by reacting the compound of the formula: with chlorothionate (wherein R1 and R5 are defined in claim 1
(as defined in item 0). 15. A process for producing a compound of the formula: wherein the compound of the formula: is reacted with a compound of the formula: 2 (R1+R4*Rs is as defined in claim 10, R6 is Li, (Na, Mg, Cu, Ag, Zn, Cd). 16. A method for producing a compound of the formula: by decomposing the compound of the formula with a rhodium head catalyst (wherein R1+R4tR5 are defined in claim 10). 17, a compound of the formula: metal alkyl, metal aryl, metal heteroaryl, metal heterocyclyl, or H8R4 (Rr is substituted or unsubstituted alkyl, aryl, heteroaryl, heterocyclyl, or SRw, the metal is Li, Na,
. K . 18. A process for producing a compound of the formula: characterized by reacting the compound of the formula: with a compound of the formula: 3 in the presence of a Lewis acid, trimethylsilyl triflate or trimethylsilylated perfluorosulfonic acid (wherein R4 is As defined in claim 10, R is alkyl having 1-4 carbon atoms, R2 and R3 are H1 alkyl having 1-4 carbon atoms, alkenyl having 2-4 carbon atoms, benzyl, phenethyl.) . 19, a compound of the formula: is reacted with a strong base and hydrolyzed to form (S)-
7. A method for producing a compound of the formula: characterized in that it is made of gold cetidine-2-one-4-formate.
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