JPH03201400A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JPH03201400A JPH03201400A JP1338237A JP33823789A JPH03201400A JP H03201400 A JPH03201400 A JP H03201400A JP 1338237 A JP1338237 A JP 1338237A JP 33823789 A JP33823789 A JP 33823789A JP H03201400 A JPH03201400 A JP H03201400A
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
するものである。
ズマに高周波電力を入射してプラズマを加熱する高周波
加熱装置は、例えば第3図に示すように源発振器1、励
振増幅系2、大電力増幅系3、インピーダンス整合器4
、高周波加熱アンテナ5から構成され、源発振器1で発
生した高周波電力は励振増幅系2で適当な出力レベルま
で増幅されると共にプラズマを加熱するのに必要なパル
ス波形とパルス幅にMuされる。そして、励振増幅系2
で増幅及び波形:A4iされ・た高周波電力は大電力増
幅系3でプラズマ加熱に必要なMW級の大電力まで増幅
され、インピーダンス整合器4を介して高周波加熱アン
テナ5からプラズマ中に入射される。
射されて高周波加熱アンテナ5に戻ってきた反射電力が
大電力増幅系3から出力される高周波電力と重なり合う
ことによって大電力増幅系3と高周波加熱アンテナ5と
の間に定在波が発生し、この定在波によって大電力増幅
系3と高周波加熱アンテナ5とのIJに大きな電力が蓄
積される。
荷となり、反射電力の大きさによっては大電力増幅系3
の破損に至る可能性があるため、反射電力から大電力増
幅系3を保護するために大電力増幅系3とインピーダン
ス整合器4およびインピーダンス整合器4と高周波加熱
アンテナ5との間に方向性結合器6,7を設置し、これ
らの方向性結合器6.7により大電力増幅系3から高周
波加熱アンテナ5に送出される高周波電力とプラズマか
ら高周波加熱アンテナ5に戻ってきた反射電力を測定す
るようにしている。
検出器8および定在波検出器9と接続しており、これら
の検出器8.9によって大電力増幅系3と高周波加熱ア
ンテナ5との間に蓄積された反射電力と定在波を検出し
ている。また、上記反射電力検出器8および定在波検出
器9から出力された反射電力と定在波の検出信号はレベ
ル制御器10に人力され、このレベル制御器10であら
かじめ設定された反射電力設定値Pυおよび定在波設定
値SUと比較される。そして、反射電力検出器8および
定在波検出器9で検出された値が上記設定値P、、SU
より高い場合にはレベル制御器10から制御信号が出力
され、第4図または第5図に示すように励振増幅系2の
出力レベルをゼロまたは大きく下げることによって大電
力増幅系3を反射電力から保護している。
波をプラズマへ安定して入射させるために、大電力増幅
系3を構成する大電力増幅管(図示せず)とインピーダ
ンス整合器4よりアンテナ側の結合系と呼ばれる部分の
枯化(エージング)作業をプラズマへ高周波電力を入射
する前に完了させておく必要がある。このエージング作
業はいわゆるならし運転の意味を持ち、高周波加熱アン
テナ5からプラズマに入射された高周波電力が高周波加
熱アンテナ5に戻ってこないようにインピーダンス整合
器4を調整し、常に最良の整合状態を保ちながら大電力
増幅系3の出、力を徐々に上げていくものである。
業中に何等かの理由で整合状態が崩れ、高周波加熱アン
テナ5からの反射電力が大きくなった場合、前述した如
く励振増幅系2の出力をゼロまたは大きく下げる信号が
レベル制御器10から出力されるため、エージング作業
に要する時間が長くなり、励振珈幅系の出力レベルをプ
ラズマ加熱に必要な出力レベルに到達させるのに時間が
かかるという問題があった。
に高周波を入射する場合についても同様な問題があった
。
よりMW級の高周波を長時間プラズマへ入射する必要が
ある。しかしながら、プラズマは必ずしも安定なもので
はなく、インピーダンス整合器4で入射直前に最良の整
合状態に調整しであるにもかかわらず入射中に整合状態
がずれることがあ゛す、その場合も前述の如く高周波電
力を減する若しくはゼロにする必要があり、実験効率が
はなはだ悪いという問題もあった。
波加熱アンチ、すからの反射電力が大きくなっても励振
増幅系の出力をゼロまたは大きく下げることなくエージ
ング作業を行なうことができ、励振増幅系の出力レベル
をプラズマ加熱に必要な出力レベルに短時間で到達させ
ることができ、かつプラズマ入射実験時においても入射
電力を減する若しくはゼロにする必要がなく、常にプラ
ズマに対して高周波が入射可能な高周波加熱装置を提供
することを目的とする。
源発振器から発振した高周波電力を励振増幅する励振増
幅系と、この励振増幅系で増幅された高周波電力をプラ
ズマ加熱に必要な大電力まで増幅する大電力増幅系と、
この大電力増幅系で増幅された高周波電力をインピーダ
ンス整合器を介してプラズマへ入射する高周波加熱アン
テナと、前記大電力増幅系と前記高周波加熱アンテナと
の間に設けられた方向性結合器と、この方向性結合器を
介して前記高周波加熱アンテナからの反射電力を検出す
る反射電力検出器と、この反射電力検出器で検出された
反射電力があらかじめ定められた上限レベルより高い場
合に前記励振増幅系の出力を下げる信号を出力し前記反
射電力があらかじめ定められた下限レベルより低い場合
には前記励振増幅系の出力を上げる信号を出力するレベ
ル制御器とを具備したものである。
があらかじめ定められた上限レベルより高い場合には励
振増幅系の出力を下げる信号が出力され、また反射電力
があらかじめ定められた下限レベルより低い場合には励
振増幅系の出力を上げる信号が出力されるので、高周波
加熱アンテナからの反射電力が大きくなっても励振増幅
系の出力をゼロまたは大きく下げることなくエージング
作業を行なうことができ、励振増幅系の出力レベルをプ
ラズマ加熱に必要な出力レベルに短時間で到達させるこ
とができ、かつプラズマ入射実験時においても入射電力
を減する若しくはゼロにする必要がなく、常にプラズマ
に対して高周波が入射可能になる。
ブロック+i■成図で、この高周波加熱装置は第3図に
示した従来装置と同様に源発振器1、励振増幅系2、大
電力増幅系3、インピーダンス整合器4および高周波加
熱アンテナ5から構成され、源発振器1で発生した高周
波電力は励振増幅系2で適当な出力レベルまで増幅され
ると共にプラズマを加熱するのに必要な波形とパルス幅
に調整される。そして、励振増幅系2で増幅及び波形調
整された高周波電力は大電力増幅系3でプラズマ加熱に
必要なMW級の大電力まで増幅された後、インピーダン
ス整合器4を介して高周波加熱アンテナ5からプラズマ
中に入射されるようになっている。
よびインピーダンス整合器4と高周波加熱アンテナ5と
の間には方向性結合器6.7が設置されている。これら
の方向性結合器6.7はそれぞれ反射電力検出器8およ
び定在波検出器9と接続しており、これらの反射電力検
出器8および定在波検出器9により高周波加熱アンテナ
5からの反対ta力と定花波を検出している。また、上
記反射電力検出器8および定在波検出器9で検出された
反射電力と定在波の検出信号はレベル制御器10に入力
され、このレベル制御器1oでアラ力じめ設定された反
射電力上限レベル設定値PU、反射電力下限レベル設定
値PLおよび定在波設定値SUと比較される。そして、
反射電力検出器8で検出された反射電力が反射電力上限
レベル設定値PUより高い場合には励振増幅系2の出力
を下げる信号が、また反射電力が反射電力下限レベル設
定値PLより低い場合には励振増幅系2の出力を上げる
信号がレベル制御器10から出力されるようになってい
る。
きた反射電力と励振増幅系2から出力される高周波電力
との関係を示したもので、同図に示すように時刻t1に
おいて反射電力が反射電力主眼レベル設定値PUに達す
ると励振1曽幅系2の出力レベルがPlからPlに低下
し、さらに時刻1、から所定時間経過後の時刻t2にお
いて反射電力が再び反射電力上限レベル設定値PUに達
すると励振増幅系2の出力レベルがPlからP3にさら
に低下する。また、時刻t2から所定時間経過後の時刻
t3において反射電力が反射電力下限レベル設定値PL
に達すると励振マ告幅系2の出力レベルがP3からP2
に上昇する。そして、時刻t3から所定時間経過後の時
刻t4において反射電力が反射電力上限レベル設定値P
υに達すると励振増幅系2の出力レベルがP2からP3
1こ再び低下する。
射電力が反射電力上限レベル設定値Puより高い場合に
は励振増幅系2の出力を下げる信号が出力され、反射電
力が反射電力下限レベル設定値PLより低い場合には励
振増幅系2の出力を上げる信号が出力されるので、高周
波加熱アンテナ5からの反射電力をあらかじめ定められ
tこ許容範囲内に制御することがてきる。した力くって
、高周波加熱アンテナ5からの反射電力が大きくなって
も励振増幅系2から出力される高周波電力の出力レベル
をゼロまたは大きく下げることなくエージング作業およ
びプラズマ入射実験を行なうことができる。したがって
、エージング作業の時間を短縮することができ、励振増
幅系の出力レベルをプラズマ加熱に必要な出力レベルに
短時間で到達させることができ、かつプラズマ入射実験
時においても常にプラズマに対して高周波の入射が可能
となり、実験の効率が上がる。
整合器4との間に方向性結合器6を設置して高周波加熱
アンテナ5からの反射電力を測定するようにしたが、イ
ンピーダンス整合器4と高周波加熱アンテナ5との間に
設置された方向性結合器7を反射電力検出器8に接続し
て高周波加熱アンテナ5からの反射電力を測定するよう
にしてもよい。
器から発振した高周波電力を励振増幅する励振ま曽幅系
と、この励振増幅系で土曽幅された高周波電力をプラズ
マ加熱に必要な大電力まで土曽幅する大7は力堆幅系と
、この大電力増幅系で増幅された高周波電力をインピー
ダンス整合器を介してプラズマへ入射する高周波加熱ア
ンテナと、前記大電力増幅系と前記高周波加熱アンテナ
との間に設けられた方向性結合器と、この方向性結合器
を介して前記高周波加熱アンテナからの反射電力を検出
する反射電力検出器と、この反射電力検出器で検出され
た反射電力があらかじめ定められた上限レベルより高い
場合に前記励振増幅系の出力を下げる信号を出力し前記
反射電力があらかじめ定められた下限レベルより低い場
合には前記励振増幅系の出力を上げる信号を出力するレ
ベル制御器とを具備したものである。
かじめ定められた上限レベルより高い場合には励振増幅
系の出力を下げる信号が、また反射電力があらかじめ定
められた下限レベルより低い場合には励振増幅系の出力
を上げる信号が出力されるので、高周波加熱アンテナか
らの反射電力が大きくなっても励振増幅系から出力され
る高周波電力の出力レベルをゼロまたは大きく下げるこ
となくエージング作業を行なうことができ、励振増幅系
の出力レベルをプラズマ加熱に必要な出力レベルに短時
間で到達させることができ、かつプラズマ入射実験時に
おいて、プラズマが不安定でアンテナとプラズマ間の整
合がずれてしまってもプラズマへ入射する高周波電力を
大きく減する若しくはゼロにする必要がなく、常にある
レベル以上の高周波がプラズマへ入射できるため、プラ
ズマ入射実験において効率の良い高周波加熱装置を堤供
できる。
ブロック構成図、第2図は同実施例の作用説明図、第3
図は従来の高周波加熱装置のブロック構成図、第4図お
よび第5図は従来の高周波加熱装置の作用説明図である
。 1・・・源発振器、2・・・励振増幅系、3・・・大電
力増幅系、4・・・インピーダンス整合器、5・・・高
周波加熱アンテナ、6.7・・・方向性結合器、8・・
・反射電力検出器、9・・定在波検出器、10・・・レ
ベル制御器。
Claims (1)
- 源発振器と、この源発振器から発振した高周波電力を励
振増幅する励振増幅系と、この励振増幅系で増幅された
高周波電力をプラズマ加熱に必要な大電力まで増幅する
大電力増幅系と、この大電力増幅系で増幅された高周波
電力をインピーダンス整合器を介してプラズマへ入射す
る高周波加熱アンテナと、前記大電力増幅系と前記高周
波加熱アンテナとの間に設けられた方向性結合器と、こ
の方向性結合器を介して前記高周波加熱アンテナからの
反射電力を検出する反射電力検出器と、この反射電力検
出器で検出された反射電力があらかじめ定められた上限
レベルより高い場合に前記励振増幅系の出力を下げる信
号を出力し前記反射電力があらかじめ定められた下限レ
ベルより低い場合には前記励振増幅系の出力を上げる信
号を出力するレベル制御器とを具備したことを特徴とす
る高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338237A JP2859338B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1338237A JP2859338B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03201400A true JPH03201400A (ja) | 1991-09-03 |
JP2859338B2 JP2859338B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=18316219
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1338237A Expired - Lifetime JP2859338B2 (ja) | 1989-12-28 | 1989-12-28 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2859338B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0546502A3 (ja) * | 1991-12-09 | 1994-03-02 | Grace W R & Co |
-
1989
- 1989-12-28 JP JP1338237A patent/JP2859338B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0546502A3 (ja) * | 1991-12-09 | 1994-03-02 | Grace W R & Co | |
US5427645A (en) * | 1991-12-09 | 1995-06-27 | W. R. Grace & Co.-Conn. | Apparatus and method for radio frequency sealing thermoplastic films together |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2859338B2 (ja) | 1999-02-17 |
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