JPH03194178A - 真空ポンプのつまり検知装置 - Google Patents

真空ポンプのつまり検知装置

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JPH03194178A
JPH03194178A JP33382589A JP33382589A JPH03194178A JP H03194178 A JPH03194178 A JP H03194178A JP 33382589 A JP33382589 A JP 33382589A JP 33382589 A JP33382589 A JP 33382589A JP H03194178 A JPH03194178 A JP H03194178A
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vacuum pump
clogging
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coolers
vacuum
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JP33382589A
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Harumitsu Saito
斎藤 晴光
Hiroyoshi Yamamoto
博義 山本
Ritsuo Kikuta
菊田 理津雄
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Ebara Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、CVD装置、エツチング装置等の半導体製造
装置に付属する真空ポンプのつまり検出装置に関するも
のである。
〔従来技術〕
周知のように半導体ウェハの製造工程では、真空中で各
プロセスを行なう。例えば、CVD装置やエツチング装
置等の広く用いられているこれらの装置において、主プ
ロセスを行なう真空装置は、蒸着或いはエツチングを行
なう際に、真空ポンプで通常0.1torr〜数tor
rの真空にしておく必要がある。
近年、半導体の高集積化に伴い真空装置2内の油の逆拡
散によるが製品の品質及び歩留まりの観点から、従来多
用されてきた油回転ポンプに替えて、例えば実願昭39
−28416号に開示されガス流路に油を用いない冷却
器付きの真空ポンプを用いる場合が多い。
第4図は上記冷却器付きの真空ポンプを用いた真空シス
テムの構成を示す図である。同図において、1は開閉弁
、2は真空装置、3は開閉弁、4は真空ポンプ、5は冷
却器、6はモータである。
真空装置2内で蒸着或いはエツチングを行なう際には開
閉弁1を経由してシラン、フロン等の所謂ことにより、
真空装置2内を真空状態にする。
〔発明が解決しようとする課題〕
CVD装置やエツチング装置等では反応性のガスを扱う
ため、真空装置2からの排気には粉状の固体を含んだり
、圧縮されると凝固する性質を有する半導体材料ガス及
び副次的に発生ずるガスを含む場合が多い。それらのも
のは冷却器5の部分に(4着し、蓄積し、長期間運転す
ると真空ポンプ4の性能を低下させてしまう。そのため
冷却器5を定期的に清掃する必要がある。
しかしながら、この清掃の周期は、装置の負荷、ガスの
種類、量、操作条件等により千差万別であり、清掃の周
期を正しく把握することは極めて困難であった。
また、この清掃の周期が正しくないと、予期しないトラ
ブルが真空ポンプ4に発生し、半導体ウェハの製造に支
障をきたし、損害が大となるという問題があった。
本発明は上述の点に鑑みてなされたもので、冷却器に上
記異物がつまりトラブルを起す前に清掃を行なうことに
よって真空装置の円滑な運転ができる真空ポンプのつま
り検知装置を提供することにある。
〔課題を解決するだめの手段〕 上記課題を解決するため本発明は、ガスの流路に冷却器
を有する真空ポンプにおいて、該流路内に該流路内を流
れるガスの温度を検出する温度センサを設け、該温度セ
ンサの出力から前記真空ポンプのつまりを検知する検知
手段を設けたことを特徴とする。
〔作用〕
上記のように真空装置からの各種ガス等から発生する異
物が冷却器に付着し、蓄積した場合、冷却器の冷却機能
が低下し、真空ポンプの排気温度が上昇する。
第2図は真空ポンプの運転時間と排気温度の関係を示す
図である。図示するように、真空ポンプを長く運転する
と、各種ガス等から発生ずる異物が冷却器への付着・蓄
積しその冷却性能が低下し、排気温度が上昇する。冷却
器に異物が付着・蓄積し、冷却性能が下がるということ
は同一のガス流路に設けられた真空ポンプにも異物が4
=J着・蓄積したと判断できるから、排気温度により真
空ポンプのつまりを検出できる。真空ポンプに異物が付
着し、蓄積すると、異音が発生したり著しく回転が不能
になるというトラブルが発生する。異物は冷却部分によ
り付着しやすいという性質があるが、通常は冷却器の温
度は真空ポンプの温度に比べて充分低いため真空ポンプ
より先に冷却器部分に異物が付着する。従って、上記の
如くガス流路内に温度センサを設け、該温度センサの出
力から前記真空ポンプのつまりを検知する検知手段を設
けることにより、真空ポンプの異物のっまりをトラブル
発生前に知ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明のつまり検知装置を具備する真空システ
ムの構成を示す図である。同図において第4図と同一符
号を付した部分は同−又は相当を示す。図示するように
、冷却器5の下流のガス流路10に排気の温度を検出す
る温度センサ7が設けられている。該温度センサ7の出
力は、該出力より冷却器5のつまりを検出するつまり検
出部8に送られる。つまり検出部8からのつまり検出出
力は表示部9に出力され、冷却器5が詰まったことを表
示する。
前記真空ポンプ4において、冷却器5の排気温度と運転
時間の関係は第2図に示すようになっており、運転時間
が長時間になると真空装置2で使用されるガス等から発
生する異物が冷却器5に付着し、蓄積し、その冷凍機能
が低下するから、排気温度は上昇してくる。そこで異物
の付着・蓄積が所定量以上となるのをこの排気温度で検
出することが可能である。つまり検出部8は温度センサ
7の出力から冷却器5の異物の付着・蓄積を検出する手
段である。
第2図において、冷却器5に異物が付着・蓄積し、真空
ポンプ4の性能が低下する排気温度TIは、通常の排気
温度より、5°C〜20℃高い温度であり、つまり検出
部8にはこの温度T、を予め設定しておき、温度センサ
7の出力がこの設定温度TIを越えたら、真空ポンプが
つまっていると見做し、表示部9に出力し、つまりを表
示する。
なお、表示部9に代えて、表示部9にイ」加して警報装
置を設け、つまり検出部8のつまり検出出力でこの警報
装置から警報を発するようにしてもよい。
また、温度センサ7の設ける位置は冷却器5の下流のガ
ス流路に限定することなく、例えば、第3図示すように
冷却器5の上流側で真空ポンプ4と冷却器5の間に設け
てよいことは当然である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、ガス流路内に温度
センサを設け、排気温度を検出し、該排気温度から真空
ポンプかつまりを検出するので、真空ポンプのつまりを
トラブル発生前に知ることができるという優れた効果が
得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のつまり検知装置を具備する真空システ
ムの構成を示す図、第2図は排気温度と運転時間の関係
を示す図、第3図は本発明の他のつまり検知装置を具備
する真空システムの構成を示す図、第4図は冷却器付き
の真空ポンプを用いた真空システムの構成を示す図であ
る。 図中、1・・・開閉弁、2・・・真空装置、3・・開閉
弁、4・・・真空ポンプ、5・・・・冷却器、6・・モ
ータ、7・・・・温度センサ、8・・ つまり検出部、
9・・・・表示部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ガスの流路に冷却器を有する真空ポンプにおいて、 該流路内に該流路内を流れるガスの温度を検出する温度
    センサを設け、 該温度センサの出力から前記真空ポンプのつまりを検知
    する検知手段を設けたことを特徴とする真空ポンプのつ
    まり検知装置。
JP1333825A 1989-12-21 1989-12-21 真空ポンプのつまり検知装置 Expired - Lifetime JPH07109191B2 (ja)

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JPH03194178A true JPH03194178A (ja) 1991-08-23
JPH07109191B2 JPH07109191B2 (ja) 1995-11-22

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5440321A (en) * 1977-09-05 1979-03-29 Nippon Electron Optics Lab Exhaust apparatus
JPS61154232U (ja) * 1985-03-19 1986-09-25

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5440321A (en) * 1977-09-05 1979-03-29 Nippon Electron Optics Lab Exhaust apparatus
JPS61154232U (ja) * 1985-03-19 1986-09-25

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