JPH03192246A - 感光シートの露光台 - Google Patents
感光シートの露光台Info
- Publication number
- JPH03192246A JPH03192246A JP33161289A JP33161289A JPH03192246A JP H03192246 A JPH03192246 A JP H03192246A JP 33161289 A JP33161289 A JP 33161289A JP 33161289 A JP33161289 A JP 33161289A JP H03192246 A JPH03192246 A JP H03192246A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive sheet
- exposing
- end parts
- center part
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Landscapes
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｆａ）産業上の利用分野
この発明は、光硬化材料、染料が封入されたマイクロカ
プセルを塗布した感光シートを用いて像形成を行う画像
形成装置に関し、特に前記感光シートを造像光に露光さ
せるときの露光台の改良に関する。
プセルを塗布した感光シートを用いて像形成を行う画像
形成装置に関し、特に前記感光シートを造像光に露光さ
せるときの露光台の改良に関する。
（ｂ）従来の技術
光硬化材料、染料が封入されたマイクロカプセルを塗布
した感光シートを用いて像形成を行う画像形成装置があ
る。前記マイクロカプセルは露光されると光硬化材料が
硬化するためそののち圧力が加えられても破壊されるこ
とはない。しかし光硬化材料が硬化していないマイクロ
カプセルは加圧されると破壊されて染料が流出し像とな
る。
した感光シートを用いて像形成を行う画像形成装置があ
る。前記マイクロカプセルは露光されると光硬化材料が
硬化するためそののち圧力が加えられても破壊されるこ
とはない。しかし光硬化材料が硬化していないマイクロ
カプセルは加圧されると破壊されて染料が流出し像とな
る。
ところが前記光硬化材料の感光性は温度の影響を受け、
露光時の感光シートの温度が変わると硬化堅も変わって
しまい、染料の流出量も変化し、結果として形成画像の
濃度が変わってしまう問題がある。そこで従来露光台に
ヒータ線を設けて感光シートを加熱することによって、
周囲温度によるマイクロカプセルの硬化状態の変動を防
止していた。
露光時の感光シートの温度が変わると硬化堅も変わって
しまい、染料の流出量も変化し、結果として形成画像の
濃度が変わってしまう問題がある。そこで従来露光台に
ヒータ線を設けて感光シートを加熱することによって、
周囲温度によるマイクロカプセルの硬化状態の変動を防
止していた。
（Ｃ１発明が解決しようとする課題
ところが従来のヒータ線の配置状態は例えば第６図に示
したように露光台１１の全面にほぼ一定間隔でヒータ線
１２を埋設したものであった。ところがこのように露光
台１１の全面にほぼ一定間隔でヒータ線１２を配置した
場合、露光台全面を均一加熱するのは困難な問題があっ
た。すなわち、露光台１１の両端部は外気や他の部品等
を影響を受け、温度が低くなってしまうことがある。そ
のため、中央部と両端部とでは感光シートの加熱状態が
異なり、マイクロカプセルの硬化状態が変わって画像濃
度にムラが発生しζいた。
したように露光台１１の全面にほぼ一定間隔でヒータ線
１２を埋設したものであった。ところがこのように露光
台１１の全面にほぼ一定間隔でヒータ線１２を配置した
場合、露光台全面を均一加熱するのは困難な問題があっ
た。すなわち、露光台１１の両端部は外気や他の部品等
を影響を受け、温度が低くなってしまうことがある。そ
のため、中央部と両端部とでは感光シートの加熱状態が
異なり、マイクロカプセルの硬化状態が変わって画像濃
度にムラが発生しζいた。
この発明の目的は、感光シートを 全面に渡って均一に
加熱することによって、画像濃度の１、う薮套煉を防止
することのできる感光シートの露光台を提供することに
ある。
加熱することによって、画像濃度の１、う薮套煉を防止
することのできる感光シートの露光台を提供することに
ある。
（ｄ１課題を解決するための手段
この発明は光硬化材料、染料が封入されたマイクロカプ
セルを塗布した感光シートを、露光台ヒを搬送させなが
ら原稿反射光等の造像光で露光することによって部分的
なマイクロカプセルを硬化させて潜像を形成する画像形
成装置において、前記露光台に、感光シート搬送方向の
両端部において密であり、中央部において疎となるよう
にヒータ綿を設けたことを特徴とする。
セルを塗布した感光シートを、露光台ヒを搬送させなが
ら原稿反射光等の造像光で露光することによって部分的
なマイクロカプセルを硬化させて潜像を形成する画像形
成装置において、前記露光台に、感光シート搬送方向の
両端部において密であり、中央部において疎となるよう
にヒータ綿を設けたことを特徴とする。
（１１＋作用
この発明では露光台の中央部でヒータ線が密になり両端
部では疎になっているため、このヒータを加熱した場合
露光台表面の温度は両端部で高く中央部で低くなる。一
方、露光台の両端部は外気や周囲部品等の影響を受けて
温度が下がり易くなっており、両端部の温度が低下して
前述した中央部と両端部との温度差が抹消される。した
がって、この露光台により加熱される感光シートは両端
部、中央部ともにほぼ均一な加熱が行われる。
部では疎になっているため、このヒータを加熱した場合
露光台表面の温度は両端部で高く中央部で低くなる。一
方、露光台の両端部は外気や周囲部品等の影響を受けて
温度が下がり易くなっており、両端部の温度が低下して
前述した中央部と両端部との温度差が抹消される。した
がって、この露光台により加熱される感光シートは両端
部、中央部ともにほぼ均一な加熱が行われる。
（ｆ）実施例
第２図は感光シートの露光を行う露光台近傍の側面図で
ある。露光台は板金１と、その下方部にシリコンゴム、
シリコン樹脂等の保持材２に埋設されたヒータ線３と、
を備えている。感光シート４はこの板金１上を矢印Ａ方
向へと搬送され、その搬送中に原稿反射光等の造像光に
より露光される。
ある。露光台は板金１と、その下方部にシリコンゴム、
シリコン樹脂等の保持材２に埋設されたヒータ線３と、
を備えている。感光シート４はこの板金１上を矢印Ａ方
向へと搬送され、その搬送中に原稿反射光等の造像光に
より露光される。
第１図は保持材２に埋設されたヒータｖＡ３の状態を示
した平面図である。
した平面図である。
ヒータ′ｆｓ３ａは保持材２ａに埋設されている。
保持材２ａの埋設方法は、例えば板状のシリコンゴムに
挟持する、シリコン樹脂中にモールドする、等の方法が
取られる。感光シートは図中矢印方向に搬送され、その
両端部のａ、ｂの領域はヒータ綿３ａが密であるが、中
央部では疎になっている。このようにしておけば、ヒー
タ線３ａの配置状態だけを考えれば中央部に比べて両端
部の温度は高くなってしまうが、両端部は外気や周辺機
器の影響を受けて２１１度が下がってしまうため結果と
して中央部と両端部との温度差は無くなる。なお図示し
たように、感光シートの搬送方向において前方部、後方
部のヒータ線３ａの配置状態を中央部の配置状態に比べ
て密にすることによって、感光シートの搬送方向におい
ても露光台温度をほぼ均一にしてもよい。これによって
感光シートの加熱状態をより均一にすることができる。
挟持する、シリコン樹脂中にモールドする、等の方法が
取られる。感光シートは図中矢印方向に搬送され、その
両端部のａ、ｂの領域はヒータ綿３ａが密であるが、中
央部では疎になっている。このようにしておけば、ヒー
タ線３ａの配置状態だけを考えれば中央部に比べて両端
部の温度は高くなってしまうが、両端部は外気や周辺機
器の影響を受けて２１１度が下がってしまうため結果と
して中央部と両端部との温度差は無くなる。なお図示し
たように、感光シートの搬送方向において前方部、後方
部のヒータ線３ａの配置状態を中央部の配置状態に比べ
て密にすることによって、感光シートの搬送方向におい
ても露光台温度をほぼ均一にしてもよい。これによって
感光シートの加熱状態をより均一にすることができる。
なおＳｌはサーミスタであり、中央部と両端部とのほぼ
境めで露光台の温度を検出している。また、５は感光シ
ート表面に記されているマークを読み取るための切り欠
き部である。
境めで露光台の温度を検出している。また、５は感光シ
ート表面に記されているマークを読み取るための切り欠
き部である。
おなヒータ線は第３図〜第５図の３ｂ〜３ｄに示したよ
うに配設してもよい６２ｂ〜２ｄはモールド樹脂である
。
うに配設してもよい６２ｂ〜２ｄはモールド樹脂である
。
（ｇ）発明の効果
以上のようにこの発明によれば露光台両端部のヒータ線
を密にすることによって外気等により露光台両端部の温
度が低下してしまっても、中央部と両端部とで温度差が
発生してしまうのを防止することができる。これによっ
てマイクロカプセルの中央部と両端部とでの硬化状態の
変化による画像の濃度ムラの発生を防１ヒすることがで
きる。
を密にすることによって外気等により露光台両端部の温
度が低下してしまっても、中央部と両端部とで温度差が
発生してしまうのを防止することができる。これによっ
てマイクロカプセルの中央部と両端部とでの硬化状態の
変化による画像の濃度ムラの発生を防１ヒすることがで
きる。
第１図はこの発明の実施例である露光台におけるヒータ
線の配置状態を示した図、第２図は露光台近傍の側面図
、第３図〜第５図はヒータ線配置状態の他の例を示した
図、第６図は従来のヒータ線配置例を示した図である。 ２，２ａ〜２ｄ−モールド樹脂、 ３．３ａ〜３ｄ−ヒータ線、 ４−感光シート。
線の配置状態を示した図、第２図は露光台近傍の側面図
、第３図〜第５図はヒータ線配置状態の他の例を示した
図、第６図は従来のヒータ線配置例を示した図である。 ２，２ａ〜２ｄ−モールド樹脂、 ３．３ａ〜３ｄ−ヒータ線、 ４−感光シート。
Claims (1)
- （１）光硬化材料、染料が封入されたマイクロカプセル
を塗布した感光シートを、露光台上を搬送させながら原
稿反射光等の造像光で露光することによって部分的なマ
イクロカプセルを硬化させて潜像を形成する画像形成装
置において、 前記露光台に、感光シート搬送方向の両端部において密
であり、中央部において疎となるようにヒータ線を設け
たことを特徴とする感光シートの露光台。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33161289A JPH03192246A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 感光シートの露光台 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33161289A JPH03192246A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 感光シートの露光台 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03192246A true JPH03192246A (ja) | 1991-08-22 |
Family
ID=18245604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33161289A Pending JPH03192246A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 感光シートの露光台 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03192246A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102955375A (zh) * | 2011-08-17 | 2013-03-06 | Asml荷兰有限公司 | 用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法 |
| US9835957B2 (en) | 2013-09-27 | 2017-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP33161289A patent/JPH03192246A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102955375A (zh) * | 2011-08-17 | 2013-03-06 | Asml荷兰有限公司 | 用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法 |
| US20130094005A1 (en) * | 2011-08-17 | 2013-04-18 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8970822B2 (en) * | 2011-08-17 | 2015-03-03 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9575419B2 (en) | 2011-08-17 | 2017-02-21 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9740110B2 (en) | 2011-08-17 | 2017-08-22 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9971252B2 (en) | 2011-08-17 | 2018-05-15 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10324382B2 (en) | 2011-08-17 | 2019-06-18 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US10747126B2 (en) | 2011-08-17 | 2020-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US11650511B2 (en) | 2011-08-17 | 2023-05-16 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US9835957B2 (en) | 2013-09-27 | 2017-12-05 | Asml Netherlands B.V. | Support table for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method |
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