JPH03191511A - Electron beam exposure apparatus - Google Patents
Electron beam exposure apparatusInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子ビーム露光装置に関し、特に露光パラメー
ターを自動入力する電子ビーム露光装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electron beam exposure apparatus, and more particularly to an electron beam exposure apparatus that automatically inputs exposure parameters.
従来、この種の電子ビーム露光装置は、第４図のブロッ
ク図に示すように、ＣＰＵＩと１０グラムストアメモリ
２とデータストアメモリ３と割込処理回路及び入出力制
御回路４からなる製作仕様データベース５が、マスク製
作仕様入出力端末６と管理票打ち出し用プリンター７と
にオンラインで接続されていて、打ち出された管理票９
によって１作業者１０が、露光パラメーター（ビーム電
流、スポットサイズ、マスク基板材質、レジストの種類
、キュア時間等）を決定するための情報としての露光条
件を読み収り、露光パラメーターを露光条件表等により
決定し、電子ビーム露光装置８へ入力していた。Conventionally, this type of electron beam exposure apparatus has a production specification database consisting of a CPU, a 10-gram store memory 2, a data store memory 3, an interrupt processing circuit, and an input/output control circuit 4, as shown in the block diagram of FIG. 5 is connected online to the mask production specification input/output terminal 6 and the printer 7 for printing out the control form, and the control form 9 that has been printed out is
, one worker 10 reads the exposure conditions as information for determining exposure parameters (beam current, spot size, mask substrate material, resist type, curing time, etc.), and writes the exposure parameters to an exposure condition table, etc. was determined and inputted to the electron beam exposure device 8.
上述した従来の露光装置は、露光パラメーターの設定が
作業者に委ねられているため、管理票からの露光条件の
読取りミス、露光パラメーターの算出ミス、露光パラメ
ーターの入力ミスというヒューマンエラーが付きまとい
、且つ露光パラメーターの設定に時間がかかるという欠
点がある。In the conventional exposure equipment described above, the setting of exposure parameters is left to the operator, so human errors such as mistakes in reading the exposure conditions from the control sheet, mistakes in calculating the exposure parameters, and mistakes in inputting the exposure parameters are common. The disadvantage is that it takes time to set the exposure parameters.
上述した従来の電子ビーム露光装置に対し、本発明は製
作仕様データベースとオンラインで接続されているとい
う相違点を有する。The present invention differs from the conventional electron beam exposure apparatus described above in that it is connected online to a production specification database.
本発明の電子ビーム露光装置は、製作仕様データベース
との間をオンライン接続し、プログラム設定された露光
パラメーターを自動入力する手段を有している。The electron beam exposure apparatus of the present invention has means for online connection to a production specification database and for automatically inputting exposure parameters set in a program.
次に本発明について図面を参照して説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
第１図は本発明の実施例１のブロック図を示している。FIG. 1 shows a block diagram of a first embodiment of the present invention.
ＣＰ Ｕ １ 、プログラムストアメモリ２、データス
１〜アメモリ３、割込処理回路及び入出力制御回路４か
らなる製作仕様データベース５と、マスク製作仕様入出
力端末６と、管理票打ち出し用プリンター７とが電子ビ
ーム露光装置８とオンラインで接続されている。A production specification database 5 consisting of a CPU 1, a program store memory 2, a data storage 1 to memory 3, an interrupt processing circuit and an input/output control circuit 4, a mask production specification input/output terminal 6, and a printer 7 for printing out management forms. It is connected online to the electron beam exposure device 8.
マスク製作仕様入出力端末６より、各マスク毎の製作仕
様データを製作仕様データベース５のデータストアメモ
リ３内に入力し、露光パラメーターを算出するプログラ
ムもプログラムストアメモリ２内に入力する。次に、電
子ビーム露光装置８の端末においてマスク名を入力し、
製作仕様データベース５から露光パラメーターを引き出
し、端末上にて露光パラメーターを表示させ、露光パラ
メーターに異常がないかを、管理票打ち出し用プリンタ
ー７から出力された管理票や露光条件表等を用いて確認
した後、露光パラメーターを電子ビーム露光装置８１＼
入力する。From the mask manufacturing specification input/output terminal 6, manufacturing specification data for each mask is input into the data store memory 3 of the manufacturing specification database 5, and a program for calculating exposure parameters is also input into the program store memory 2. Next, enter the mask name at the terminal of the electron beam exposure apparatus 8,
Pull out the exposure parameters from the production specification database 5, display the exposure parameters on the terminal, and check whether there are any abnormalities in the exposure parameters using the control form, exposure condition table, etc. output from the control form printing printer 7. After that, the exposure parameters are changed to the electron beam exposure device 81\
input.
以」二のプロセスにより、これから露光しようとするマ
スクの露光パラメーターが自動的に入力され、作業者は
その露光パラメーターの確認のみを行えばよい。Through the above two processes, the exposure parameters of the mask to be exposed are automatically input, and the operator only has to confirm the exposure parameters.
例えば、加速電圧２０ＫＶの可変成形型の電子ビーム露
光装置により、ネガ型電子ピームレジス）ＯＥＢＲ−１
００（東京応化製）を用いて、２μｍ口のコンタクトパ
ターンを露光する場合、近接効果の影響により通常の条
件では解像が難しいが、このパターン寸法に合った露光
パラメーターの設定により解像可能とすることかできる
。For example, a negative electron beam resist) OEBR-1
When exposing a 2 μm contact pattern using 00 (manufactured by Tokyo Ohka), resolution is difficult under normal conditions due to the influence of the proximity effect, but resolution can be achieved by setting exposure parameters that match the pattern dimensions. I can do something.
この際、本実施例においては、露光するマスク名を入力
すると設計値寸法（２μｍ口）が出力され、これに合っ
た露光条件があらかじめプログラムされている条件表よ
り選択され、露光量が０．８μＣ／ｃＩＩ＋２、キュア
時間３０分が自動的に装置に設定される。At this time, in this embodiment, when the name of the mask to be exposed is input, the design value dimension (2 μm opening) is output, and the exposure conditions matching this are selected from a pre-programmed condition table, and the exposure amount is set to 0. 8 μC/cII+2 and a cure time of 30 minutes are automatically set on the device.
第２図は、本実施例の電子ビーム露光装置の端末におい
て、マスク名人力から露光パラメーターを人力するまで
のフローチャートを示す。このフローチャー１〜は、露
光パラメーターに異常があった場合等に、パラメーター
の値を変更できるように入力モードを選択（入力か検索
か）することもでき、該当データがなかった場合（該当
データあり？）や、露光パラメーターに異常が見られた
場合（確認ＯＫ？）についても対応できるように構成さ
れている。■は初期状態を表わす。FIG. 2 shows a flowchart from the mask master's manual input to the manual input of exposure parameters in the terminal of the electron beam exposure apparatus of this embodiment. In this flowchart 1~, if there is an abnormality in the exposure parameters, you can select the input mode (input or search) to change the parameter value, and if there is no corresponding data (corresponding data It is configured so that it can also respond to cases where an abnormality is found in the exposure parameters (Is it OK to check?). ■ represents the initial state.
第３図は本発明の実施ｆｙＩＪ２を示すブロック図であ
る。これから露光しようとするマスクのマスク名を、管
理票打ち出し用プリンター７の端末番こ入力し、製作仕
様データベース５から露光ノ（ラメ−ターを引き出し、
管理票に打ち出す。FIG. 3 is a block diagram showing an implementation fyIJ2 of the present invention. Enter the mask name of the mask you are about to expose and the terminal number of the printer 7 for printing out the control form, pull out the exposure name (lamter) from the production specification database 5,
Enter it on the management form.
次に、電子ビーム露光装置８の端末にてマスク名を入力
して、製作仕様データベース５から露光パラメーターを
引き出すことも可能だが、管理票打ち出し用プリンター
７から、直接露光）＜ラメ−ターが入力可能である。又
、露光時の実際の露光パラメーターのデータが管理票打
ち出し用プ１ノンターフへ入力可能であり、すなわち管
理票への打ち出しが可能なのである。Next, it is possible to input the mask name on the terminal of the electron beam exposure device 8 and retrieve the exposure parameters from the production specification database 5, but it is also possible to input the exposure parameters from the control sheet printing printer 7 (direct exposure) It is possible. Further, the data of the actual exposure parameters at the time of exposure can be input to the control sheet printing plate, that is, it is possible to print the data on the control sheet.
この実施例においては、管理票打ち出し用プ１ノンター
フと電子ビーム露光装置８が直接接続されているため、
電子ビーム露光装置８の端末から操作して、露光パラメ
ーターを管理票打ち出し用プリンター７から管理票に出
力させつつ、そのプＩＪンターから露光パラメーターを
電子ビーム露光装置８へ入力することも可能であり、ｆ
ｆ光ノ（ラメ−ターの出力及び設定時間の短縮化を行え
る。In this embodiment, since the control sheet printing plate 1 non-turf and the electron beam exposure device 8 are directly connected,
It is also possible to operate from the terminal of the electron beam exposure apparatus 8 and output the exposure parameters to the control form from the control form printing printer 7, while inputting the exposure parameters from the printer to the electron beam exposure apparatus 8. , f
It is possible to shorten the output and setting time of the f-light meter.
更に、実際の露光時の露光パラメーターを、管埋金に確
実かつ自動的に記録することも可能であるという利点が
ある。又、製作仕様データベース５と電子ビーム露光装
置８との間に回線異常が発生し、露光パラメーターが電
子ビーム露光装置８の端末から引き出せなかった時の、
バックアップとしても有用である。A further advantage is that it is also possible to reliably and automatically record exposure parameters during actual exposure on the tube insert. Also, when a line abnormality occurs between the production specification database 5 and the electron beam exposure apparatus 8 and the exposure parameters cannot be retrieved from the terminal of the electron beam exposure apparatus 8,
It is also useful as a backup.
以上説明したように本発明は、電子ビーム露光装置を製
作仕様データベースとオンラインで接続することにより
、作業者による露光パラメーターの設定ミスというヒユ
ーマンエラーを低減できる効果がある。As described above, the present invention has the effect of reducing human errors caused by exposure parameter setting errors by operators by connecting an electron beam exposure apparatus online with a production specification database.
第１−図は本発明の実施ＰＡｌのブロック図、第２図は
実施例１の電子ビーム露光装置に設けられた端末上での
７０−チヤー＋へ、第３図は本発明の実施例２のブロッ
ク図、第４図は従来装置のブロック図である。
１・・・ＣＰＵ、２・−・１０グラムストアメモリ、３
・・・データストアメモリ、４・・・割込処理回路及び
入出力制御回路、５・・・製作仕様データベース、６・
・・マスク製作仕様入出力端末、７・・・管理票打ち出
し用プリンター、８・・・電子ビーム露光装置、９・・
・管理票、１０・・・作業者。Fig. 1 is a block diagram of an implementation PAl of the present invention, Fig. 2 is a 70-ch+ on the terminal provided in the electron beam exposure apparatus of Embodiment 1, and Fig. 3 is a block diagram of PAl according to Embodiment 2 of the present invention. FIG. 4 is a block diagram of a conventional device. 1...CPU, 2...10g store memory, 3
...Data store memory, 4.Interrupt processing circuit and input/output control circuit, 5.Production specification database, 6.
・・Mask production specification input/output terminal, 7 ・Printer for printing control slips, 8 ・Electron beam exposure device, 9 ・・
・Management form, 10... worker.
Claims (1)
ち出し用プリンターとが接続された製作仕様データベー
スとを備え、このデータベースから得られる露光条件に
より露光パラメーターを設定して入力する電子ビーム露
光装置において、前記製作仕様データベースとの間をオ
ンラインで接続し、プログラム設定された露光パラメー
ターを自動入力することを特徴とする電子ビーム露光装
置。An electron beam exposure system that is equipped with a production specification database connected to a terminal for inputting and outputting production specification data for each mask and a printer for printing out control forms, and in which exposure parameters are set and input based on exposure conditions obtained from this database. , an electron beam exposure apparatus characterized in that it connects online with the production specification database and automatically inputs exposure parameters set in a program.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33207389A JPH03191511A (en) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | Electron beam exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33207389A JPH03191511A (en) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | Electron beam exposure apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03191511A true JPH03191511A (en) | 1991-08-21 |
Family
ID=18250845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33207389A Pending JPH03191511A (en) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | Electron beam exposure apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03191511A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005181367A (en) * | 2003-12-16 | 2005-07-07 | Toppan Printing Co Ltd | Processing method by rf-id management and method for drawing photomask using the same |
-
1989
- 1989-12-20 JP JP33207389A patent/JPH03191511A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005181367A (en) * | 2003-12-16 | 2005-07-07 | Toppan Printing Co Ltd | Processing method by rf-id management and method for drawing photomask using the same |
| JP4543671B2 (en) * | 2003-12-16 | 2010-09-15 | 凸版印刷株式会社 | Photomask manufacturing method by RF-ID management and photomask drawing method using the same |
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