JPH03190195A - Circuit device shielding structure and formation of shield - Google Patents

Circuit device shielding structure and formation of shield

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JPH03190195A
JPH03190195A JP32888489A JP32888489A JPH03190195A JP H03190195 A JPH03190195 A JP H03190195A JP 32888489 A JP32888489 A JP 32888489A JP 32888489 A JP32888489 A JP 32888489A JP H03190195 A JPH03190195 A JP H03190195A
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terminal
circuit device
coating layer
conductive film
insulating coating
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JP32888489A
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Hideki Shibuya
渋谷 秀樹
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Nippon Chemi Con Corp
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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    • H05K1/0218Reduction of cross-talk, noise or electromagnetic interference by printed shielding conductors, ground planes or power plane
    • HELECTRICITY
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    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings

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Abstract

PURPOSE:To realize a shielding structure excellent in shielding effect by a method wherein terminal leads are extracted out of an insulating coating layer, and a conductive film is connected to a terminal lead which serves as a grounding terminal through a terminal piece provided between the insulating coating layer and the conductive film. CONSTITUTION:The surface of a circuit device 2 is electrically insulated through an insulating coating film 6 and covered with a conductive film 8, and the circuit device 2 can be shielded by the conductive film 8. The conductive film 8 is connected to a terminal lead 40 which serves as a grounding terminal through the intermediary of a grounding lead 7. Other terminal leads other than the terminal lead which serves as a grounding terminal are selectively removed, a terminal piece electrically connected to the terminal lead which is used as a grounding terminal is installed on the upside of an insulating coating layer, a conductive film is formed thereon, and a circuit device is covered with a conductive film to serve as a shielded case.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、回路基板に複数の電子部品が実装される混
成集積回路等に用いられる回路装置のシールド構造及び
シールド形成方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a shield structure and a shield forming method for a circuit device used in a hybrid integrated circuit or the like in which a plurality of electronic components are mounted on a circuit board.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、混成集積回路等の回路装置では、実装される回路
に応じてシールドが必要となるが、そのシールドには、
シールドケース等が用いられ、例えば、金属ケースに回
路装置を収容して外部回路と静電的又は磁気的に遮断す
る方法が取られている。
Conventionally, circuit devices such as hybrid integrated circuits require shielding depending on the circuit to be mounted.
A shield case or the like is used, and for example, a method is adopted in which a circuit device is housed in a metal case to electrostatically or magnetically isolate it from an external circuit.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、金属ケースでは、金属板で内蔵すべき回路装
置に対応する形状や容積等を持つ形態に金型等を用いて
成形加工するため、製造コストが高くなる。また、金属
ケースを用いた場合には、内蔵される回路装置の部品と
の絶縁間隔が必要となるので、その体積が大きくなり、
装置全体の小型化を妨げる。そして、金属ケースを回路
基板に取り付ける場合には、金属ケースに形成した接続
爪を回路基板に貫通させた後、回路基板上の導体パター
ンに半田付けして固定する等の手数があった。
By the way, in the case of a metal case, manufacturing costs are high because a metal plate is molded using a mold or the like into a form having a shape, volume, etc. corresponding to the circuit device to be housed. In addition, when a metal case is used, an insulating gap is required between the built-in circuit device components, which increases the volume.
This prevents miniaturization of the entire device. When attaching the metal case to the circuit board, it is a hassle to make the connection claws formed on the metal case penetrate the circuit board and then solder and fix the metal case to the conductor pattern on the circuit board.

このため、シールドケースに代わる導電性皮膜を回路装
置の外面を被覆する絶縁被覆層上に形成することにより
構造の簡略化を実現した回路装置のシールド構造が提案
されている。
For this reason, a shield structure for a circuit device has been proposed in which the structure is simplified by forming a conductive film in place of the shield case on an insulating coating layer covering the outer surface of the circuit device.

そこで、この発明は、回路装置と絶縁被覆層が一体化さ
れたシールド構造を成す前記絶縁被覆層とアース用の端
子リードとを電気的に接続し、シールド効果を高めた回
路装置のシールド構造の提供を第1の目的とする。
Therefore, the present invention provides a shield structure for a circuit device in which the insulation coating layer and the grounding terminal lead are electrically connected to form a shield structure in which the circuit device and the insulation coating layer are integrated, thereby increasing the shielding effect. The primary purpose is to provide information.

また、この発明は、シールド効果を改善した回路装置の
シールド形成方法を第2の目的とする。
A second object of the present invention is to provide a method for forming a shield for a circuit device that improves the shielding effect.

〔課題を解決するための手段] (請求項1) 即ち、この発明の回路装置のシールド構造は、第1の目
的を達成するため、回路基板(10)に複数の電子部品
(141,142・・・14N)とともに複数の端子リ
ード(40,41,42・・・4N)が設置された回路
装置(2)と、前記端子リードを露出させて前記回路装
置の周面を覆う絶縁被覆層(6)と、この絶縁被覆層の
表面に設置されるとともに、前記端子リードの中の少な
くとも1つの端子リードに電気的に接続された端子片(
アースリード7)と、前記端子片を覆って前記絶縁被覆
層の表面に設置された導電性皮膜(8)とを備えたこと
を特徴とする請 求 また、この発明の回路装置のシールド形成方法は、第2
の目的を達成するため、回路基板(10)に複数の電子
部品(141、142・・・14N)を実装するととも
に複数の端子リードを設置した回路装置(2)を形成す
る工程と、前記端子リードを選択的に露出させて前記回
路基板及び前記電子部品を覆う絶縁被覆層(6)を形成
する工程と、前記絶縁被覆層の表面に前記端子リードの
少なくとも1つに電気的に接続すべき端子片(アースリ
ード7)を配設した後、他の前記端子リードを除いて前
記絶縁被覆層の表面に導電性皮膜(8)を形成する工程
とからなることを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] (Claim 1) That is, in order to achieve the first object, the shield structure of the circuit device of the present invention includes a circuit board (10) having a plurality of electronic components (141, 142, . . 14N) and a plurality of terminal leads (40, 41, 42... 4N) are installed on the circuit device (2), and an insulating coating layer (2) that exposes the terminal leads and covers the peripheral surface of the circuit device. 6), and a terminal piece (
A method for forming a shield for a circuit device according to the present invention is characterized by comprising: a ground lead (7); and a conductive film (8) disposed on the surface of the insulating coating layer to cover the terminal piece. , second
In order to achieve the above purpose, a process of forming a circuit device (2) in which a plurality of electronic components (141, 142...14N) are mounted on a circuit board (10) and a plurality of terminal leads are installed; forming an insulating coating layer (6) covering the circuit board and the electronic components by selectively exposing leads, and electrically connecting the surface of the insulating coating layer to at least one of the terminal leads; The method is characterized by a step of forming a conductive film (8) on the surface of the insulating coating layer except for the other terminal leads after disposing the terminal piece (earth lead 7).

(作   用〕 (請求項l) この回路装置では、複数の電子部品が設置されていると
ともに端子リードが取り付けられた回路装置の周面に絶
縁被覆層が設置されており、その絶縁被覆層から複数の
端子リードが引き出され、絶縁被覆層の表面に導電性皮
膜が形成されている。
(Function) (Claim 1) In this circuit device, an insulating coating layer is provided on the circumferential surface of the circuit device in which a plurality of electronic components are installed and a terminal lead is attached, and the insulating coating layer A plurality of terminal leads are drawn out, and a conductive film is formed on the surface of the insulating coating layer.

そして、導電性皮膜は、絶縁被覆層と導電性皮膜との間
に設置されている端子片を通してアース用端子に用いら
れる端子リードに接続されているので、端子リードを通
して一定の電位に設定できる。
Since the conductive film is connected to a terminal lead used as a grounding terminal through a terminal piece installed between the insulating coating layer and the conductive film, a constant potential can be set through the terminal lead.

シタがって、この回路装置では、シールド効果の高いシ
ールド構造が実現されている。
In other words, this circuit device realizes a shield structure with high shielding effect.

(請求項2) 回路装置は、回路基板に必要な電子部品を実装するとと
もに、回路基板に対して複数の端子リードの取付けによ
って形成される。この回路装置の表面に端子リードを除
いて絶縁被覆層を被覆すれば、これによって回路装置の
実質的な外装手段が構成され、各電子部品や導体パター
ンに対する電気的な絶縁が図られる。
(Claim 2) The circuit device is formed by mounting necessary electronic components on a circuit board and attaching a plurality of terminal leads to the circuit board. If the surface of this circuit device is coated with an insulating coating layer except for the terminal leads, this constitutes a substantial exterior means for the circuit device, and electrical insulation is achieved with respect to each electronic component and conductor pattern.

そして、アース用端子に用いられる端子リードの他の端
子リードを選択的に除いて、絶縁被覆層の上面にアース
用端子に用いられる端子リードに電気的に接続される端
子片を設置し、その上に導電性皮膜を形成すれば、回路
装置を導電性皮膜で覆うことができ、これが実質的なシ
ールドケースとして形成される。
Then, selectively remove other terminal leads from the terminal lead used for the grounding terminal, and install a terminal piece electrically connected to the terminal lead used for the grounding terminal on the top surface of the insulating coating layer. By forming a conductive film thereon, the circuit device can be covered with the conductive film, and this is formed as a substantial shield case.

〔実 施 例] 以下、この発明を図面に示した実施例を参照して詳細に
説明する。
[Example] Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to an example shown in the drawings.

第1図ないし第3図は、この発明の回路装置のシールド
構造の一実施例を示す。
1 to 3 show an embodiment of a shield structure for a circuit device according to the present invention.

回路装置2には、複数の端子リード4o、41.42・
・・4Nが形成されており、この実施例では端子リード
40がアース用端子に設定されている。この回路装置2
の表面部は絶縁性合成樹脂等からなる絶縁被覆層6で覆
われ、その表面には端子片として導体ワイヤ等からなる
L字形を成すアースリード7が設置され、その上に端子
リード41〜4Nを避けて導電性皮膜8が設置されてい
る。
The circuit device 2 includes a plurality of terminal leads 4o, 41.42.
...4N is formed, and in this embodiment, the terminal lead 40 is set as a grounding terminal. This circuit device 2
The surface portion of is covered with an insulating coating layer 6 made of an insulating synthetic resin or the like, and an L-shaped ground lead 7 made of a conductor wire or the like is installed as a terminal piece on the surface, and terminal leads 41 to 4N are placed on the surface. The conductive film 8 is installed to avoid this.

導電性皮膜8から引き出されたアースリード7の端部は
、アース用端子に用いられる端子リード40に巻付けら
れて電気的に接続されており、その接続手段には、例え
ば半田等を用いることができる。
The end of the ground lead 7 drawn out from the conductive film 8 is wrapped around and electrically connected to a terminal lead 40 used as a ground terminal, and the connection means may use, for example, solder. I can do it.

そして、回路装置2には、第2図に示すように、任意の
電子部品を実装する実装媒体としての回路基板10が設
置され、この回路基板IOの表面には特定の回路を構成
するための導体パターン12.13が形成されており、
その導体パターン12上にコンデンサやIC等の複数の
電子部品141.142.143・・・14Nが固着さ
れているとともに、各電極との電気的な接続が行われ、
また、回路基板10の端部の導体パターン12上には、
端子リード41〜4Nが取り付けられ、半田16によっ
て電気的に接続されている。この実施例の場合、導体パ
ターン13がアース用配線に設定されているので、この
導体パターン13には、アース用端子に用いられる端子
リード40が取り付けられ、半田16で電気的に接続さ
れている。なお、18はソルダーレジストである。
As shown in FIG. 2, the circuit device 2 is equipped with a circuit board 10 as a mounting medium for mounting arbitrary electronic components. Conductor patterns 12 and 13 are formed,
A plurality of electronic components 141, 142, 143... 14N such as capacitors and ICs are fixed on the conductive pattern 12, and electrical connections are made with each electrode.
Moreover, on the conductor pattern 12 at the end of the circuit board 10,
Terminal leads 41 to 4N are attached and electrically connected by solder 16. In the case of this embodiment, since the conductor pattern 13 is set as a ground wiring, a terminal lead 40 used as a ground terminal is attached to this conductor pattern 13 and electrically connected with solder 16. . Note that 18 is a solder resist.

また、導電性皮膜8は、第2図に示すように、アース用
端子に用いられる端子リード40に接触し、第3図に示
すように、端子リード41〜4Nには非接触状態となる
ように絶縁被覆層6の表面に形成されている。
Further, as shown in FIG. 2, the conductive film 8 is in contact with a terminal lead 40 used as a ground terminal, and as shown in FIG. It is formed on the surface of the insulating coating layer 6.

このような構成とすれば、回路装置2の表面が絶縁被覆
層6によって電気的に絶縁されるとともに導電性皮膜8
で覆われ、この導電性皮膜8を以てシールドが実現され
ている。そして、導電性皮膜8は、絶縁被覆層6と導電
性皮膜8との間に設置されたアースリード7を通してア
ース用端子に用いられる端子リード40に接続されてい
るので、この端子リード40を通して導電性皮膜8を基
準電位や接地点に接続することにより、回路装置2の周
面部を導電性皮膜8を通して等電位面で包囲することが
でき、静電的、磁気的に隣接する外部回路との間を遮蔽
することができる。
With such a configuration, the surface of the circuit device 2 is electrically insulated by the insulating coating layer 6 and the conductive coating 8
This conductive film 8 realizes a shield. The conductive film 8 is connected to a terminal lead 40 used as a ground terminal through an earth lead 7 installed between the insulating coating layer 6 and the conductive film 8, so that conductive film 8 can be conducted through the terminal lead 40. By connecting the conductive film 8 to a reference potential or a ground point, the peripheral surface of the circuit device 2 can be surrounded by an equipotential surface through the conductive film 8, and electrostatically and magnetically connected to adjacent external circuits. It is possible to block the gap between the two.

また、このようなシールド構造では、回路装置2に一体
的に絶縁被覆層6が設置され、その表面に導電性皮膜8
が形成されるので、従来の金属ケースを用いた場合のよ
うな金属板の成形による形態的な無駄がなく、最適なシ
ールド構造が実現できる。そして、導電性皮膜8によっ
てシールドが構成されるため、金属ケースの成形作業や
金型が不要になるとともに、回路基板に実装する場合に
も、金属ケースに予め接続爪を形成してそれを接続する
等の手数も全く不要になるので製造コストの低減をも図
ることができる。
In addition, in such a shield structure, an insulating coating layer 6 is provided integrally with the circuit device 2, and a conductive coating 8 is provided on the surface of the insulating coating layer 6.
is formed, so there is no waste in terms of shape due to molding of the metal plate, which occurs when a conventional metal case is used, and an optimal shield structure can be realized. Since the shield is formed by the conductive film 8, there is no need for molding work or a mold for the metal case, and when mounting on a circuit board, connection claws are formed in advance on the metal case and connected. Since there is no need to carry out any additional steps, manufacturing costs can also be reduced.

次に、第4図及び第5図は、この発明の回路装置のシー
ルド形成方法の一実施例を示す。
Next, FIGS. 4 and 5 show an embodiment of a method for forming a shield for a circuit device according to the present invention.

第4図の(A)に示すように、回路基板10の表面に形
成されている導体パターン12.13における所定の実
装位置に電子部品141〜14Nを実装するとともに、
端子リード40〜4Nを取り付け、半田16によって回
路装置2を形成する。
As shown in FIG. 4A, the electronic components 141 to 14N are mounted at predetermined mounting positions on the conductor pattern 12.13 formed on the surface of the circuit board 10, and
Terminal leads 40 to 4N are attached, and circuit device 2 is formed with solder 16.

なお、半田16のデイツプ処理にあたっては、回路基板
10の導体パターン12に選択的にソルダーレジスト1
8を印刷し、適正な半田デイツプ部分を特定する。
In addition, in the dip treatment of the solder 16, a solder resist 1 is selectively applied to the conductor pattern 12 of the circuit board 10.
8 and identify the appropriate solder dip area.

次に、第4図の(B)に示すように、端子リード40〜
4Nの一部を包含して回路装置2の表面部分に絶縁性樹
脂によって樹脂モールドを施し、絶縁被覆層6を形成す
る。この場合、絶縁被覆層6は、アースリード7を設置
すべき表面部を平坦に形成する。この絶縁被覆層6を構
成するモールド用樹脂には、例えば、エポキシ変性フェ
ノール樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン、ポリビニル、
ポリブタジェン等の何れか又はそれらの2以上を組み合
わせたものを用いることができる。これらの樹脂の、常
温で液状を成して適当な粘性を持ち加熱等の手段により
硬化する特性を利用して回路装置2の周面に信転性の高
い絶縁被覆層6を形成することができる。そして、絶縁
被覆層6の形成には、デイツプ槽内に液状を成すモール
ド用樹脂を溜め、その中に端子リード40〜4N側を上
にして回路装置2の本体部分である回路基板10及びそ
の上に実装されている電子部品141〜14Nを浸して
形成する。
Next, as shown in FIG. 4(B), the terminal leads 40 to
A resin mold is applied to the surface portion of the circuit device 2 using an insulating resin, including a part of the 4N, to form an insulating coating layer 6. In this case, the insulating coating layer 6 forms a flat surface portion on which the earth lead 7 is to be installed. The molding resin constituting this insulating coating layer 6 includes, for example, epoxy-modified phenol resin, epoxy resin, silicone, polyvinyl,
Any one of polybutadiene or a combination of two or more thereof can be used. The insulating coating layer 6 with high reliability can be formed on the circumferential surface of the circuit device 2 by utilizing the properties of these resins that are liquid at room temperature, have appropriate viscosity, and harden by means such as heating. can. To form the insulating coating layer 6, liquid molding resin is stored in a dip bath, and the circuit board 10, which is the main body of the circuit device 2, and its It is formed by dipping the electronic components 141 to 14N mounted thereon.

次に、第4図の(C)に示すように、絶縁被覆層6の表
面に導体ワイヤ等からなるアースリード7をL字形に這
わせて導電性接着剤を用いて固定する。このとき、アー
スリード7の一方の端部は、端子リード40に巻き付け
て電気的に接続する。
Next, as shown in FIG. 4C, an earth lead 7 made of a conductor wire or the like is extended in an L-shape over the surface of the insulating coating layer 6 and fixed using a conductive adhesive. At this time, one end of the ground lead 7 is wound around the terminal lead 40 to be electrically connected.

次に、第4図の(D)に示すように、絶縁被覆層6から
露出している端子リード41〜4Nに、その絶縁被覆層
6の近傍部分を覆う被覆手段としてメンディングテープ
20を貼り付け、その上からマスキング樹脂22を塗り
付け、端子リード41〜4Nを選択的に覆う。
Next, as shown in FIG. 4(D), mending tape 20 is applied to the terminal leads 41 to 4N exposed from the insulation coating layer 6 as a covering means to cover the vicinity of the insulation coating layer 6. The masking resin 22 is applied thereon to selectively cover the terminal leads 41 to 4N.

メンディングテープ20は、例えば、第5図の(Dl)
に示すように、アース用端子に用いられる端子リード4
0を除き、絶縁被覆層6の一部を含んで各端子リード4
1〜4Nの付は根部分の表裏両面に貼り付ける。次に、
第5図の(D2)に示すように、絶縁被覆層6の一部及
び端子リード41〜4Nの付は根部分に貼り付けられた
メンディングテープ20の上からそのメンディングテー
プ20を覆うように表裏両面にマスキング樹脂22を塗
布する。このマスキング樹脂22には、ビニル系ストリ
ップマスク樹脂を用いることができ、このような樹脂を
用いた場合には、その硬化条件として、130°Cの雰
囲気温度を設定し、その中で10分間放置すれば、適当
な硬化状態が得られる。
The mending tape 20 is, for example, (Dl) in FIG.
Terminal lead 4 used as a ground terminal as shown in
Each terminal lead 4 including a part of the insulation coating layer 6 except 0
Paste 1 to 4N on both the front and back sides of the root part. next,
As shown in FIG. 5 (D2), a part of the insulation coating layer 6 and the terminal leads 41 to 4N are attached so as to cover the mending tape 20 attached to the root part. Masking resin 22 is applied to both the front and back surfaces. A vinyl strip mask resin can be used as the masking resin 22, and when such a resin is used, the curing condition is set at an ambient temperature of 130°C and left in that temperature for 10 minutes. In this way, an appropriate cured state can be obtained.

次に、第4図の(E)及び第5図の(E)に示すように
、絶縁被覆層6上にメンディングテープ20の一部を含
んで絶縁被覆層6の周面を全面的に覆うように導電性皮
膜8を形成してコーティング処理する。この導電性皮膜
8には、導体ペーストとしてCuペースト等を用いるこ
とができる。
Next, as shown in FIG. 4 (E) and FIG. A conductive film 8 is formed and coated so as to cover it. For this conductive film 8, Cu paste or the like can be used as a conductive paste.

例えば、Cuペーストを用いた場合には、デイツプ槽に
溜めたCuペーストに絶縁被覆層6を形成した回路装置
2を浸し、厚さIIIIlIl程度の膜厚にCuペース
トを付着させた後、硬化条件として、30〜60分間、
150″Cの雰囲気温度に設定すれば、適当な硬化状態
が得られる。
For example, when Cu paste is used, the circuit device 2 on which the insulating coating layer 6 is formed is immersed in the Cu paste stored in a dip tank, and the Cu paste is applied to a thickness of about IIIIIIl, after which the curing conditions are set. for 30 to 60 minutes,
By setting the ambient temperature to 150''C, a suitable cured state can be obtained.

次に、メンディングテープ20を剥がしてメンディング
テープ20とともにマスキング樹脂22を除けば、マス
キング樹脂22上に付着している導電性皮膜8が除去さ
れ、第1図ないし第3図に示す回路装置2のシールド構
造が実現される。
Next, when the mending tape 20 is peeled off and the masking resin 22 is removed together with the mending tape 20, the conductive film 8 adhering to the masking resin 22 is removed, and the circuit device shown in FIGS. 1 to 3 is removed. A second shield structure is realized.

以上の形成方法によれば、回路装置2にシールド効果の
高いシールド構造を極めて簡単に実現することができる
According to the above-described formation method, a shield structure with a high shielding effect can be extremely easily realized in the circuit device 2.

なお、実施例では導電性皮膜8の形成前に、端子リード
40にアースリード7の端部を巻付けて電気的に接続し
たが、導電性皮膜8を形成した後、アースリード7を端
子リード40に巻付けて電気的に接続するようにしても
よい。
In the example, before forming the conductive film 8, the end of the ground lead 7 was wrapped around the terminal lead 40 for electrical connection. However, after forming the conductive film 8, the ground lead 7 was 40 for electrical connection.

次に、第6図は、この発明の回路装置のシールド形成方
法の他の実施例を示す。
Next, FIG. 6 shows another embodiment of the method for forming a shield for a circuit device according to the present invention.

前記実施例では、導電性皮膜8をCuペースト等の液状
導体で形成した場合を例に取ったが、この発明は、導電
性皮膜8を無電解メツキによって形成する場合にも適用
できる。
In the embodiment described above, the conductive film 8 was formed using a liquid conductor such as Cu paste, but the present invention can also be applied to a case where the conductive film 8 is formed by electroless plating.

即ち、第6図の(A)に示すように、回路装置2の回路
基板10側に絶縁被覆層6を設置した後、端子リード4
1〜4Nを選択的に覆うメンディングテープ20及びマ
スキング樹脂22を設置した後、マスキング樹脂22の
一部及び絶縁被覆層6の表面に無電解メツキ処理のため
の触媒24を付与する。
That is, as shown in FIG. 6(A), after installing the insulating coating layer 6 on the circuit board 10 side of the circuit device 2, the terminal leads 4
After installing the mending tape 20 that selectively covers 1 to 4N and the masking resin 22, a catalyst 24 for electroless plating is applied to a part of the masking resin 22 and the surface of the insulating coating layer 6.

そして、無電解メツキ処理では、第5図の(D2)に示
すように、回路装置2の端子リード41〜4Nにメンデ
ィングテープ20及びマスキング樹脂22を設置すると
ともに絶縁被覆層6の表面にアースリード7を設置した
後、無電解メツキ処理の前処理として、脱脂処理を行っ
た後、エツチング処理、表面の活性化及び洗浄処理を行
って触媒24を設置する。即ち、脱脂処理を行った回路
装置2をキシレン中に1分程度浸し、次に、メタノール
中に1分程度浸し、5%程度のHCj2液中に浸した後
、水で洗浄を行い、1分程度のセンシタイザ−処理を行
う。センシタイザ−には、例えば、 S n CL  ・2 H2O: 20〜40g#!H
C12: 10〜20m 1 / 1を用いる。
In the electroless plating process, as shown in (D2) in FIG. After the leads 7 are installed, a degreasing process is performed as a pretreatment for the electroless plating process, followed by an etching process, a surface activation process, and a cleaning process, and then the catalyst 24 is installed. That is, the degreased circuit device 2 is immersed in xylene for about 1 minute, then immersed in methanol for about 1 minute, immersed in about 5% HCJ2 solution, washed with water, and then immersed in xylene for about 1 minute. Perform some sensitizer treatment. For the sensitizer, for example, S n CL 2 H2O: 20 to 40 g #! H
C12: Use 10 to 20 m 1/1.

センシタイザ−処理の後、回路装置2の絶縁被覆層6を
水で洗浄し、次に、1分程度のアクチベータ処理を行う
。アクチベータには、例えば、Pd(42・2H20:
0.1〜0.3 g / IHCn : 3〜5mff
1/j2 を用いる。
After the sensitizer treatment, the insulating coating layer 6 of the circuit device 2 is washed with water, and then an activator treatment is performed for about 1 minute. The activator includes, for example, Pd(42.2H20:
0.1~0.3 g/IHCn: 3~5mff
Use 1/j2.

次に、このセンシタイザ−処理を行った絶縁被覆層6を
水で洗浄した後、第6図の(B)に示すように、メンデ
ィングテープ20及びマスキング樹脂22を前記実施例
と同様に除去し、選択的に触媒24を除いて無電解メツ
キ処理を行う。この場合、メンディングテープ20及び
マスキング樹脂22は、端子リード40を除いて端子リ
ード41〜4N側に選択的に設置されているので、端子
リード40には、絶縁被覆層6とともに触媒24が付与
されている。そして、無電解メツキ処理用のメツキ液に
回路装置2を漬け、触媒24としてのPdが付着してい
る部分に無電解メツキ処理を行って導電性皮膜8を形成
する。導電性皮膜8は、例えば、4μm/h程度の無電
解メツキ処理によって形成され、その無電解メツキ処理
には、例えば、Cu5O−:0.04M、EDTA−4
H:0.09M、HCHO:0.06M、その他の添加
物からなる組成で、pH=12.2に設定されたメツキ
液を用いてその温度を70°Cに設定し、その処理の後
、回路装置2を水にて洗浄すれば、無電解メツキによっ
て前記実施例と同様に回路装置2のシールド構造が実現
される。
Next, after washing the insulating coating layer 6 which has been subjected to the sensitizer treatment with water, the mending tape 20 and the masking resin 22 are removed in the same manner as in the previous embodiment, as shown in FIG. 6(B). , selectively removes the catalyst 24 and performs an electroless plating process. In this case, since the mending tape 20 and the masking resin 22 are selectively installed on the terminal leads 41 to 4N side except for the terminal lead 40, the catalyst 24 is applied to the terminal lead 40 together with the insulating coating layer 6. has been done. Then, the circuit device 2 is immersed in a plating solution for electroless plating, and the conductive film 8 is formed by electroless plating on the portion to which Pd as the catalyst 24 is attached. The conductive film 8 is formed, for example, by electroless plating at a rate of about 4 μm/h, and the electroless plating includes, for example, Cu5O-:0.04M, EDTA-4
Using a plating solution with a composition consisting of H: 0.09M, HCHO: 0.06M, and other additives and set at pH = 12.2, the temperature was set at 70 ° C, and after the treatment, If the circuit device 2 is washed with water, the shield structure of the circuit device 2 can be realized by electroless plating in the same manner as in the above embodiment.

以上の形成方法によれば、マスキング樹脂22の除去に
よって触媒24を選択的に取り除(ことができるので、
端子リード41〜4Nを除いて無電解メツキ処理により
、絶縁被覆層6の表面及び絶縁被覆層6に連続して端子
リード40の一部に必要な導電性皮膜8が、例えば、5
〜25μmのCu層を以て形成され、回路装置2にシー
ルド効果の高いシールド構造が極めて簡単に実現される
According to the above formation method, the catalyst 24 can be selectively removed by removing the masking resin 22.
By electroless plating except for the terminal leads 41 to 4N, the conductive film 8 necessary for the surface of the insulating coating layer 6 and a part of the terminal lead 40 continuous to the insulating coating layer 6 is formed, for example, 5
Formed with a Cu layer of ~25 μm, a shield structure with high shielding effect can be realized in the circuit device 2 very easily.

その結果、絶縁被覆層60表面に設置されているアース
リード7を覆って導電性皮膜8が形成され、アースリー
ド7と導電性皮膜8との電気的な接続が行われる。、二
の場合、アースリード7を巻付けた端子リード40に無
電解メツキ処理によって導電性皮膜8を形成すれば、ア
ースリード7と端子リード40とを導電性皮膜8の形成
により電気的に強固に接続することができる。なお、こ
の実施例では、絶縁被覆層16の表面に選択的に付着さ
せる触媒としてPdを用いた場合について説明したが、
Ag、Au、PC等を用いてもシールドに適した金属層
、即ち、導電性皮膜8を形成することができるものであ
る。
As a result, the conductive film 8 is formed to cover the ground lead 7 installed on the surface of the insulating coating layer 60, and the ground lead 7 and the conductive film 8 are electrically connected. In the case of , 2, if a conductive film 8 is formed on the terminal lead 40 around which the ground lead 7 is wound by electroless plating, the ground lead 7 and the terminal lead 40 can be electrically strengthened by the formation of the conductive film 8. can be connected to. In addition, in this example, a case was explained in which Pd was used as a catalyst to be selectively attached to the surface of the insulating coating layer 16.
Even if Ag, Au, PC, etc. are used, a metal layer suitable for a shield, that is, a conductive film 8 can be formed.

そして、絶縁被覆層6を形成するモールド樹脂を設置し
た後、その内部にワックスを含浸すれば、絶縁被覆層6
の耐湿性がより高められる。
Then, after installing the mold resin forming the insulating coating layer 6, if wax is impregnated inside it, the insulating coating layer 6
Moisture resistance is further improved.

また、図示しないが、導電性皮膜8の上にさらに絶縁被
覆層を設置してもよく、このようにすれば、導電性皮膜
8を損傷から保護することができる。
Further, although not shown, an insulating coating layer may be further provided on the conductive film 8, and in this way, the conductive film 8 can be protected from damage.

なお、第4図ないし第6図に示す実施例では、導電性皮
膜8を選択的に形成するために被覆手段としてメンディ
ングテープ20及びマスキング樹脂22を併用する場合
について説明したが、何れか一方のみを用いてもよい。
In the embodiments shown in FIGS. 4 to 6, the mending tape 20 and the masking resin 22 are used together as coating means to selectively form the conductive film 8. You may also use only

また、実施例では、端子片としてアースリード7として
導体ワイヤを用いた場合について説明したが、板状を成
す導体箔を用いても同様の効果が期待できる。
Further, in the embodiment, a case has been described in which a conductor wire is used as the ground lead 7 as a terminal piece, but the same effect can be expected even if a plate-shaped conductor foil is used.

〔発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、次のような効
果が得られる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the following effects can be obtained.

(a)  この発明の回路装置のシールド構造によれば
、回路装置の絶縁被覆層の表面に導電性皮膜を形成して
シールド構造としたので、回路装置の表面に沿って設置
された導電性皮膜によってシールド効果が高められ、シ
ールドケースを除いてシールド構造の簡略化及び小型化
とともに、低コスト化を図ることができる。
(a) According to the shield structure of the circuit device of the present invention, since the conductive film is formed on the surface of the insulating coating layer of the circuit device to obtain the shield structure, the conductive film installed along the surface of the circuit device This increases the shielding effect, and by excluding the shield case, the shield structure can be simplified and miniaturized, and costs can be reduced.

(b)  この発明の回路装置のシールド形成方法によ
れば、シールド効果の高いシールド構造を極めて容易に
しかも低コストで実現できる。
(b) According to the method for forming a shield for a circuit device of the present invention, a shield structure with high shielding effect can be realized extremely easily and at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の回路装置のシールド構造の一実施例
を示す平面図、 第2図は第1図に示した回路装置のシールド構造の■−
■線断面図、 第3図は第1図に示した回路装置のシールド構造のI[
[−I[[線断面図、 第4図はこの発明の回路装置のシールド形成方法の一実
施例を示す断面図、 第5図はこの発明の回路装置のシールド形成方法の一実
施例を示す平面図、 第6図はこの発明の回路装置のシールド形成方法の他の
実施例を示す断面図である。 2・・・回路装置 6・・・絶縁被覆層 7・・・アースリード(端子片) 8・・・導電性皮膜 10・・・回路基板 40・・・端子リード(アース用端子)41.42・・
・4N・・・端子リード141.142.143・・・
14N・・子部品 ・電 ■“ 第  1  図 (回路装置のシールド構造の一実施例)第6図
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the shielding structure of the circuit device of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the shielding structure of the circuit device shown in FIG. 1.
■ Line cross-sectional view, Figure 3 shows the shield structure of the circuit device shown in Figure 1.
[-I [[ Line sectional view, FIG. 4 is a sectional view showing an embodiment of the method for forming a shield for a circuit device of the present invention, and FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of the method for forming a shield for a circuit device of the present invention. FIG. 6 is a plan view and a sectional view showing another embodiment of the method for forming a shield for a circuit device according to the present invention. 2... Circuit device 6... Insulating coating layer 7... Earth lead (terminal piece) 8... Conductive film 10... Circuit board 40... Terminal lead (earth terminal) 41.42・・・
・4N...Terminal lead 141.142.143...
14N...Subparts/Electric Figure 1 (Example of shield structure for circuit device) Figure 6

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.回路基板に複数の電子部品とともに複数の端子リー
ドが設置された回路装置と、 前記端子リードを露出させて前記回路装置の周面を覆う
絶縁被覆層と、 この絶縁被覆層の表面に設置されるとともに、前記端子
リードの中の少なくとも1つの端子リードに電気的に接
続された端子片と、 前記端子片を覆って前記絶縁被覆層の表面に設置された
導電性皮膜と、 を備えたことを特徴とする回路装置のシールド構造。
1. A circuit device in which a plurality of electronic components and a plurality of terminal leads are installed on a circuit board; an insulating coating layer covering a peripheral surface of the circuit device with the terminal leads exposed; and a circuit device installed on a surface of the insulating coating layer. and a terminal piece electrically connected to at least one terminal lead among the terminal leads, and a conductive film disposed on the surface of the insulating coating layer covering the terminal piece. Features a shield structure for circuit devices.
2.回路基板に複数の電子部品を実装するとともに複数
の端子リードを設置した回路装置を形成する工程と、 前記端子リードを選択的に露出させて前記回路基板及び
前記電子部品を覆う絶縁被覆層を形成する工程と、 前記絶縁被覆層の表面に前記端子リードの少なくとも1
つに電気的に接続すべき端子片を配設した後、他の前記
端子リードを除いて前記絶縁被覆層の表面に導電性皮膜
を形成する工程と、 からなることを特徴とする回路装置のシールド形成方法
2. forming a circuit device in which a plurality of electronic components are mounted on a circuit board and a plurality of terminal leads are installed; and forming an insulating coating layer covering the circuit board and the electronic components by selectively exposing the terminal leads. and at least one of the terminal leads on the surface of the insulating coating layer.
a step of forming a conductive film on the surface of the insulating coating layer excluding other terminal leads after arranging a terminal piece to be electrically connected to the circuit device. How to form a shield.
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