JPH03189937A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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JPH03189937A
JPH03189937A JP1330610A JP33061089A JPH03189937A JP H03189937 A JPH03189937 A JP H03189937A JP 1330610 A JP1330610 A JP 1330610A JP 33061089 A JP33061089 A JP 33061089A JP H03189937 A JPH03189937 A JP H03189937A
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JP
Japan
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film
layer
layers
substrate
zno
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JP1330610A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yatake
正弘 矢竹
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE:To suppress the sticking of dust and the possibility of breakdown of a head by forming a ZnO-based transparent conductive film on a hard coating layer and thereafter adhering two substrates forming a recording layer part on a side where the grooves or pits are successively formed. CONSTITUTION:Hard coating layers 7, 16 consisting of a photosetting resin are formed on a side where grooves or pits of the substrates 1, 10 are not formed and ZnO-based transparent conducting films 8, 17 are formed thereon, then, two substrates 1, 10 where ceramic layers 2, 11, recording layers 3, 12, ceramic layers 4, 13, reflecting layers 5, 14, and protective layers 6, 15 are successively formed are adhered on a side where grooves or pit are formed. By this constitution, the sticking of dust on the substrate surfaces due to the generation of electrostatic force for long period of the possibility of breakdown of the head can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光ディスクに関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to optical discs.

[従来の技術] 従来の光ディスクは、基板にノ・−ドコートをした後、
記録層を成膜して貼り合わせていた。あるいは、記録層
を成膜した後、貼り合わせて、それからディスクの表面
にハードコートしていた。そして、ハードコート層の上
にITOの透明導電膜や銀、金、白金等の金属膜、ある
いは帯電防止剤等を形成していた。
[Conventional technology] Conventional optical discs are manufactured by applying a node coating to the substrate.
A recording layer was formed and bonded together. Alternatively, after forming a recording layer, it is pasted together and then a hard coat is applied to the surface of the disk. Then, a transparent conductive film of ITO, a metal film of silver, gold, platinum, etc., an antistatic agent, etc. are formed on the hard coat layer.

[発明が解決しようとする課題] しかし従来技術では以下のような問題点を有していた。[Problem to be solved by the invention] However, the conventional technology had the following problems.

帯電防止剤は導電性が低く、長期の安定性に欠ける。銀
、金、白金等の金属膜は厚くつけると透明性がなくなり
、薄くつけると密着性や導電性の点で問題がある。IT
Oは安定した膜を形成するのに高熱が必要となり、基板
変形の危険性がある。
Antistatic agents have low conductivity and lack long-term stability. Metal films such as silver, gold, and platinum lose their transparency when applied thickly, and have problems with adhesion and conductivity when applied thinly. IT
O requires high heat to form a stable film, and there is a risk of substrate deformation.

そこで本発明はそのような課題を解決するものでその目
的とするところは以下のようなところにある。ZnO系
の透明導電膜にZnO膜、ZnAl0膜、  ZnGa
O膜、  Zn1nO膜、  ZnTiO膜、あるいは
これらの混合系を用いることにより、透明性と導電性が
十分で、低温でも形成できるため、形成が容易で、基板
を成膜時の熱により変形させることがなく、長期的に透
明性と導電性が変化しない長期安定性のある透明導電膜
とすることにより、長期的に静電気発生による基板表面
へのゴミの付着や、ヘッドの破損の危険性カナイため取
扱環境の制限が少なくなる。
The present invention is intended to solve such problems, and its objectives are as follows. ZnO-based transparent conductive film, ZnO film, ZnAl0 film, ZnGa
By using an O film, a Zn1nO film, a ZnTiO film, or a mixture thereof, the film has sufficient transparency and conductivity and can be formed even at low temperatures, making it easy to form and preventing the substrate from being deformed by heat during film formation. By creating a transparent conductive film with long-term stability that does not change its transparency and conductivity over a long period of time, there is no risk of dust adhering to the substrate surface or damage to the head due to static electricity generation over a long period of time. There are fewer restrictions on the handling environment.

[課題を解決するための手段] 本発明の光ディスクは、基板の片面にトラッキング用の
溝またはビットを形成した後、その基板の前述の溝また
はビットが形成されない側に光硬化性樹脂よりなるハー
ドコート層を形成し、そのハードコート層の上にZnO
系の透明導電膜を成膜し、その後、前述の基板の前述の
溝またはビットが形成された側にセラミックス層、記録
層、セラミックス層1反射層、保護層と順時成膜した記
録層部を形成した前述の基板を2枚用いて貼り合3− わせたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] The optical disc of the present invention has a tracking groove or bit formed on one side of a substrate, and then a hard disk made of a photocurable resin on the side of the substrate where the groove or bit is not formed. A coat layer is formed, and ZnO is deposited on the hard coat layer.
A recording layer portion in which a transparent conductive film of the system was formed, and then a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer 1 reflective layer, and a protective layer were sequentially formed on the side of the substrate on which the grooves or bits were formed. The present invention is characterized in that two of the above-mentioned substrates each having a 3- layer formed thereon are bonded together.

ZnO膜、  ZnAl0膜、  ZnGaO膜、  
ZnInO膜、ZnTIO膜あるいはこれらの混合系の
膜について、こららの酸化物は金属と酸素が完全に飽和
状態で結合した場合は導電性がなくなるので、多少還元
性である必要がある。従って、Zn xoyとおいた場
合X>Yでなければならない。
ZnO film, ZnAl0 film, ZnGaO film,
Regarding a ZnInO film, a ZnTIO film, or a film of a mixture thereof, these oxides need to be somewhat reducing, since they lose their conductivity when the metal and oxygen combine in a completely saturated state. Therefore, if Zn xoy, then X>Y must be satisfied.

ZnOに添加されるAI、Ga、In及びTIはZnの
含有量の10%未満がよい。好ましくは8%から2%の
間、より好ましくは6%から3%の間が好ましい。そう
することによって膜の長期安定性、透明性、導電性が確
保できる。これらの膜の膜厚は50オングストロームか
ら1000オングストロームの間がよく、好ましくは1
00オングストロームから500オングストロームで、
さらに好ましくは150オングストロームかう350オ
ングストロームである。
The content of AI, Ga, In, and TI added to ZnO is preferably less than 10% of the Zn content. Preferably it is between 8% and 2%, more preferably between 6% and 3%. By doing so, the long-term stability, transparency, and conductivity of the film can be ensured. The thickness of these films is preferably between 50 angstroms and 1000 angstroms, preferably 1
00 angstroms to 500 angstroms,
More preferably, the thickness is between 150 angstroms and 350 angstroms.

[実施例] 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in detail below based on the drawings.

4− 第1図は本発明になる光ディスクの基本構成図であり、
1及び10はポリカーボネートの基板。
4- FIG. 1 is a basic configuration diagram of an optical disc according to the present invention,
1 and 10 are polycarbonate substrates.

2及び11は5IAIN層、3及び工2はNdDyFe
(o層、4及び13は5IAIN層、5及び14はAI
Tf層、6及び15は5IAINの保護層、7及び16
はハードコート層、8及び17はZnA10層、9は接
着層である。
2 and 11 are 5IAIN layers, 3 and 2 are NdDyFe
(o layer, 4 and 13 are 5IAIN layers, 5 and 14 are AI
Tf layers, 6 and 15 are 5IAIN protective layers, 7 and 16
is a hard coat layer, 8 and 17 are ZnA10 layers, and 9 is an adhesive layer.

1及び10のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形に
よって形成した。2及び11のS 1AIN層はS i
Alの焼結ターゲットを用いて、窒素とアルゴンの混合
ガスを用いることによるRF反応マグネトロンスパッタ
法によって成膜したものである。3及び12のNdDy
FeCo層はN(IDyFeCoの合金ターゲットを用
いたDCマグネトロンスパッタ法によって成膜したもの
である。
The polycarbonate substrates of Nos. 1 and 10 were formed by injection compression molding. The S 1AIN layers of 2 and 11 are S i
The film was formed by RF reaction magnetron sputtering using a mixed gas of nitrogen and argon using a sintered Al target. 3 and 12 NdDy
The FeCo layer was formed by DC magnetron sputtering using an alloy target of N(IDyFeCo).

4及び13の5IAIN層は2及び11の5IAIN層
と同様に、窒素とアルゴンの混合ガスを導入することに
よるRF反応マグネトロンスパッタ法によって成膜した
ものである。5及び14のAlTi層はAlTiの合金
ターゲットを用いてアルゴンガスを導入することによる
DCマグネトロンスパッタ法によって成膜したものであ
る。6及び15の5iAINの保護層は5iAINの焼
結ターゲットを用いてアルゴンと窒素の混合ガスを導入
することによるRFマグネトロンスパッタ法によって成
膜したものである。
Similar to the 5IAIN layers 2 and 11, the 5IAIN layers 4 and 13 were formed by the RF reaction magnetron sputtering method by introducing a mixed gas of nitrogen and argon. The AlTi layers 5 and 14 were formed by DC magnetron sputtering using an AlTi alloy target and introducing argon gas. The 5iAIN protective layers of Nos. 6 and 15 were formed by RF magnetron sputtering using a 5iAIN sintered target and introducing a mixed gas of argon and nitrogen.

第2図は本発明になる光ディスクの製造方法の概略図で
ある。18は基板の外周部の記録層が成膜されない部分
、 19は基板の内周部の記録層が成膜されない部分、
20はディスクのセンターホール部、21はデイスペン
サー、22はリング状に塗布された接着層、23はヒー
ター、24はメタルハライドランプ、25は紫外線、2
6はオーブンである。
FIG. 2 is a schematic diagram of a method for manufacturing an optical disc according to the present invention. 18 is a portion on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed; 19 is a portion on the inner periphery of the substrate where the recording layer is not formed;
20 is the center hole of the disk, 21 is a dispenser, 22 is an adhesive layer applied in a ring shape, 23 is a heater, 24 is a metal halide lamp, 25 is an ultraviolet ray, 2
6 is an oven.

9の接着層は大日本インキ化学工業のエピクロンS−1
29と油化シェルエポキシのエビ、キュアーTBMI−
12と1,6−ヘキサンジオールジアクリレートとt−
ブチルパーオキシイソブチレートとチバガイギー社製の
イルガキュアー907の混合物を、記録層が成膜された
側に22のようにリング状に塗布した後、真空系内で別
の基板と合わせて、その貼り合わせた基板を23のヒー
ターを用いて接着剤を広げて、24のメタルハライドラ
ンプまたは高圧水銀灯等で紫外線を照射して。
The adhesive layer in No. 9 is Epicron S-1 from Dainippon Ink and Chemicals.
29 and oiled shell epoxy shrimp, cure TBMI-
12 and 1,6-hexanediol diacrylate and t-
A mixture of butyl peroxyisobutyrate and Ciba Geigy's Irgacure 907 is applied in a ring shape as shown in 22 on the side where the recording layer is formed, and then combined with another substrate in a vacuum system. Spread the adhesive on the bonded substrates using a heater (No. 23), and irradiate it with ultraviolet light using a metal halide lamp or high-pressure mercury lamp (No. 24).

18や19のような記録層が成膜されていない部分の接
着剤を仮硬化させて、それから24時間放置して接着層
を硬化させた。その後26のオーブンを用いて508C
で3時間606Cで8時間、80°Cで2時間加熱して
接着層を硬化させた。
The adhesive in the areas where the recording layer was not formed, such as Nos. 18 and 19, was temporarily cured, and then left to stand for 24 hours to cure the adhesive layer. Then 508C using 26 ovens
The adhesive layer was cured by heating at 606°C for 3 hours, 8 hours at 80°C, and 2 hours at 80°C.

また、接着層の厚みは60μ以下にした方が耐候性や製
造方法の観点から優れているので、60μ以下にした方
がよい。好ましくは50μ以下。
Further, it is better to set the thickness of the adhesive layer to 60 μm or less since it is better from the viewpoint of weather resistance and manufacturing method. Preferably 50μ or less.

さらに好ましくは40μ以下になるように、接着剤量を
調整して、接着剤を広げるときの諷度調整。
More preferably, the amount of adhesive is adjusted to be 40μ or less, and the degree of plausibility when spreading the adhesive is adjusted.

あるいは貼り合わせ時にプレス等をするとよい。Alternatively, it is preferable to press or the like when bonding.

7及び16のハードコート層はトリメチロールプロパン
トリアクリレートと1. 6−ヘキサンジオールジアク
リレートとチバガイギー社製のイルガキュアー907を
基板表面にスピンコードした後、高圧水銀灯により紫外
線を照射して硬化させたものである。
The hard coat layers 7 and 16 are made of trimethylolpropane triacrylate and 1. After spin-coding 6-hexanediol diacrylate and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy on the surface of the substrate, it was cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp.

8及び17のZnAl0層はZnA1の焼結ターゲット
を用いてアルゴンと酸素の混合ガスを導入することによ
るRF反応マグネトロンスパッタ法によって250オン
グストローム成膜したものである。
The ZnAl0 layers of Nos. 8 and 17 were formed to a thickness of 250 angstroms by RF reaction magnetron sputtering using a sintered target of ZnA1 and introducing a mixed gas of argon and oxygen.

また、9の接着層としてビスフェノールF系のエポキシ
樹脂の全エポキシ基の20%がアクリロイル基である化
合物にチバガイギー社のイルガキュアー907を1.5
%、油化シェルエポキシのエビキュアーBMI−12を
6%、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランを
3%添加したものを用いて、他の条件は第1図の構成と
変えずに光ディスクを作成したところ、第1図とほぼ同
等の特性を有する光ディスクが作成できた。
In addition, as the adhesive layer of No. 9, 1.5% of Ciba Geigy's Irgacure 907 was added to the compound in which 20% of the total epoxy groups of bisphenol F-based epoxy resin are acryloyl groups.
%, 6% of oily shell epoxy Ebicure BMI-12, and 3% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were used to make an optical disc, with the other conditions unchanged from the configuration shown in Figure 1. As a result, an optical disc having almost the same characteristics as shown in FIG. 1 was created.

次に、従来の方法で光ディスクを作成した例について説
明する。ロールコート法で貼り合わせた光ディスクは、
70℃90%RHで1000時間耐候性試験したところ
、記録層が酸化してピットエラーレートが増大した。本
発明になる第2図に7− 示す光ディスクも同時に試験したがピットエラーレート
の変化はなかった。通常のエポキシ樹脂を用いて貼り合
わせた光ディスクは貼り合わせ時の粘度が高かったため
接着層が厚めになり,面振れ量が本発明になる第2図に
示す光ディスクより大きくなった。通常のエポキシ樹脂
を用いたものが最大7ミリラジアン、第2図に示す光デ
ィスクが最大2ミリラジアンであった。また、通常のエ
ポキシ樹脂を用いて貼り合わせた光ディスクでは。
Next, an example of creating an optical disc using a conventional method will be described. Optical discs bonded together using the roll coating method are
When a weather resistance test was conducted at 70° C. and 90% RH for 1000 hours, the recording layer was oxidized and the pit error rate increased. An optical disk according to the present invention shown in FIG. 2 as shown in FIG. 2 was also tested at the same time, but there was no change in pit error rate. The optical disc bonded using a normal epoxy resin had a high viscosity at the time of bonding, so the adhesive layer was thicker, and the amount of surface runout was larger than that of the optical disc of the present invention shown in FIG. The maximum power consumption was 7 milliradians using a normal epoxy resin, and the maximum power consumption was 2 milliradians for the optical disc shown in FIG. Also, optical discs bonded together using ordinary epoxy resin.

接着剤硬化時にディスクの外周から溢れ出して光ディス
クの概観を損なった。接着剤が熱で硬化するタイプでは
温度制御が難しく,基板が接着層硬化時に動かないよう
にしておく必要があり,常温硬化型の接着剤で貼り合わ
せると接着層硬化時に記録層に応力がかかり再生信号の
エンベロープが乱れ,エラーが増加した。以上の様に従
来の方法で作成した光ディスクは耐候性が悪かったり,
作成方法が難しい等の問題点を有している。
When the adhesive cured, it overflowed from the outer periphery of the disc, spoiling the appearance of the optical disc. Temperature control is difficult with adhesives that harden with heat, and it is necessary to ensure that the substrate does not move while the adhesive layer is curing.If the adhesive is bonded with an adhesive that hardens at room temperature, stress will be applied to the recording layer when the adhesive layer hardens. The envelope of the reproduced signal was disturbed and errors increased. As mentioned above, optical discs created using conventional methods have poor weather resistance,
It has problems such as the difficulty of creating it.

表1に,本発明になる光ディスクと従来の方法によって
成膜した光ディスクの70℃90%で1000時間の耐
候性試験したときの耐候性試験前後での導電率の変化結
果を示す。
Table 1 shows the results of changes in electrical conductivity before and after the weather resistance test when the optical disk according to the present invention and the optical disk formed by the conventional method were subjected to a weather resistance test at 70° C. 90% for 1000 hours.

表1 表1の結果をみると分かるように1本発明の光ディスク
は透明性と導電性が十分で、低温でも形成できるため、
形成が容易で、基板を成膜時の熱により変形させること
がなく、長期的に透明性と導電性が変化しない長期安定
性のある透明導電膜とすることにより、長期的に静電気
発生による基板表面へのゴミの付着や、ヘッドの破損の
危険性がないため取扱環境の制限が少ない長期信頼性の
ある光ディスクとなる。
Table 1 As can be seen from the results in Table 1, the optical disk of the present invention has sufficient transparency and conductivity, and can be formed even at low temperatures.
By creating a transparent conductive film that is easy to form, does not deform the substrate due to heat during film formation, and has long-term stability in which transparency and conductivity do not change over a long period of time, the substrate is free from static electricity generation. Since there is no risk of dust adhering to the surface or damage to the head, the optical disc has long-term reliability with fewer restrictions in the handling environment.

尚2本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく2本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。例えば2本発明に於て、透明導電膜は
基板にハードコートした後に成膜するが、ハードコート
直後に限らず、記録層部を成膜した後や、貼り合わせた
後でも構わない。
It should be noted that the present invention should not be considered limited to these embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the second invention, the transparent conductive film is formed after hard coating the substrate, but it is not limited to immediately after the hard coating, but may be after forming the recording layer portion or after bonding.

[発明の効果] 以上述べたように本発明の光ディスクによれば。[Effect of the invention] As described above, according to the optical disc of the present invention.

ZnO系の透明導電膜にZnO膜、ZnAl0膜。ZnO film, ZnAl0 film for ZnO-based transparent conductive film.

ZnGaO膜、  Zn1nO膜、  ZnT10膜、
 あるいはこれらの混合系を用いることにより、透明性
と導電性が十分で、低温でも形成できるため。
ZnGaO film, Zn1nO film, ZnT10 film,
Alternatively, by using a mixed system of these, the film has sufficient transparency and conductivity, and can be formed even at low temperatures.

形成が容易で、基板を成膜時の熱により変形させること
がなく、長期的に透明性と導電性が変化しない長期安定
性のある透明導電膜とすることにより、長期的に静電気
発生による基板表面へのゴミの付着や、ヘッドの破損の
危険性がないため取扱環境の制限が少なくなるという効
果を有する。
By creating a transparent conductive film that is easy to form, does not deform the substrate due to heat during film formation, and has long-term stability in which transparency and conductivity do not change over a long period of time, the substrate is free from static electricity generation. Since there is no risk of dust adhering to the surface or damage to the head, there are fewer restrictions on the handling environment.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明になる光記録媒体の基本構成図。 第2図は本発明になる光ディスクの製造方法の概略図で
ある。 1、 10 2、 11 3、 12 4、 13 5、 14 6、 15 7、 16 ポリカーボネートの基板 5iAINの保護層 NdDyFeCoの記録層 5iAINの保護層 AlTi層 5iAINの保護層 ハードコート層 一11= 12− 8.17−・ZnAl0層 9・・・・・接着層 18・・・・基板の外周部の記録層が成膜されない部分 19・・・・基板の内周部の記録層が成膜されない部分 20・・・・ディスクのセンターホール部21・・・・
デイスペンサー 22・・・・リング状に塗布された接着層23・ ・ 
・ ・ヒーター 24・・・・メタルハライドランプ 25・・・・紫外線 26・・・・オーブン y、+7.・、ムφ4
FIG. 1 is a basic configuration diagram of an optical recording medium according to the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram of a method for manufacturing an optical disc according to the present invention. 1, 10 2, 11 3, 12 4, 13 5, 14 6, 15 7, 16 Polycarbonate substrate 5i AIN protective layer NdDyFeCo recording layer 5i AIN protective layer AlTi layer 5i AIN protective layer hard coat layer 11 = 12- 8.17-.ZnAl0 layer 9...adhesive layer 18...portion 19 on the outer periphery of the substrate where the recording layer is not formed...portion on the inner periphery of the substrate where the recording layer is not formed 20... Disc center hole part 21...
Dispenser 22...Adhesive layer 23 applied in a ring shape...
・ ・Heater 24...Metal halide lamp 25...Ultraviolet light 26...Oven y, +7.・、muφ4

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板の片面にトラッキング用の溝またはピットを
形成した後、該基板の前記溝またはピットが形成されな
い側に光硬化性樹脂よりなるハードコート層を形成し、
該ハードコート層の上にZnO系の透明導電膜を成膜し
、その後、前記基板の前記溝またはピットが形成された
側にセラミックス層、記録層、セラミックス層、反射層
、保護層と順時成膜した記録層部を形成した前記基板を
2枚用いて貼り合わせたことを特徴とする光ディスク。
(1) After forming tracking grooves or pits on one side of the substrate, forming a hard coat layer made of a photocurable resin on the side of the substrate where the grooves or pits are not formed,
A ZnO-based transparent conductive film is formed on the hard coat layer, and then a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer, a reflective layer, and a protective layer are sequentially formed on the side of the substrate where the grooves or pits are formed. An optical disc characterized in that two of the above-mentioned substrates each having a recording layer portion formed thereon are bonded together.
(2)前記ZnO系の透明導電膜がZnO膜、ZnAl
O膜、ZnGaO膜、ZnInO膜、ZnTiO膜、あ
るいはこれらの混合系であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の光ディスク。
(2) The ZnO-based transparent conductive film is a ZnO film, ZnAl
The optical disc according to claim 1, characterized in that it is an O film, a ZnGaO film, a ZnInO film, a ZnTiO film, or a mixture thereof.
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