JPH03189940A - Manufacture of optical disk - Google Patents

Manufacture of optical disk

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JPH03189940A
JPH03189940A JP33060889A JP33060889A JPH03189940A JP H03189940 A JPH03189940 A JP H03189940A JP 33060889 A JP33060889 A JP 33060889A JP 33060889 A JP33060889 A JP 33060889A JP H03189940 A JPH03189940 A JP H03189940A
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JP
Japan
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layers
layer
antistatic
pits
substrate
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JP33060889A
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Japanese (ja)
Inventor
Masahiro Yatake
正弘 矢竹
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Abstract

PURPOSE:To reduce the generation of defective disks by forming an antistatic layer on a hard coating layer and thereafter adhering two substrates forming a forming recording layer part on a side where grooves or pits of a substrate are successively formed. CONSTITUTION:Antistatic layers 16, 17 are formed on hard coating layers 14, 15 formed on a side where grooves or pits of substrates 1, 8, are not formed. On the side where grooves or pits of substrates 1, 8 are formed, two substrates 1, 8 where the recording layer part is successively with ceramic layers 2, 9, recording layers 3, 10, ceramic layers 4, 11, reflecting layers 5, 12, and protective layers 6, 13 are adhered. In this production process, disks having defects in hard coating layers or antistatic layers are rejected after the antistatic layers 16, 17 are formed, and only good disks are sent to next stage. Thereby, defective disks due to defects in hard coating layers or antistatic layers can be rejected.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は光を用いて情報の記録、再生、または消去を行
なう光ディスクの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing an optical disc in which information is recorded, reproduced, or erased using light.

[従来の技術] 従来の光ディスクは記録層を成膜した後、ハードコート
層を形成して、その後貼り合わせていた。
[Prior Art] In conventional optical discs, after a recording layer is formed, a hard coat layer is formed, and then the layers are bonded together.

そしてその後、帯電防止層をスプレー法や、スピンコー
ド法によって形成していた。
Thereafter, an antistatic layer is formed by a spray method or a spin code method.

[発明が解決しようとする課題] しかし従来技術では以下のような問題点を有していた。[Problem to be solved by the invention] However, the conventional technology had the following problems.

記録層を成膜した後にハードコートしたり、帯電防止コ
ートしたりすると、ハードコート欠陥や帯電防止コート
欠陥が生じて、それがディスクの不良になってしまう。
If a hard coating or antistatic coating is applied after forming the recording layer, hard coating defects and antistatic coating defects will occur, which will lead to defects in the disk.

そこで本発明はそのような課題を解決するものでその目
的とするところは以下のようなところにある。ハードコ
ート欠陥や帯電防止コート欠陥がでても、そのディスク
をそこで不良とするので。
The present invention is intended to solve such problems, and its objectives are as follows. Even if a hard coat defect or an antistatic coating defect occurs, the disk is considered defective.

記録層等を成膜しないので、ディスクが不良にならるこ
とが少ない。
Since no recording layer or the like is formed, the disc is less likely to be defective.

[課題を解決するための手段] 本発明の光ディスクは、基板の片面にトラッキング用の
溝またはピットを形成した後、該基板の前記溝またはピ
ットが形成されない側に光硬化性樹脂よりなるハードコ
ート層を形成し、該ハードコート層の上に帯電防止層を
形成し、その後、前1− 2− 記基板の前記溝またはビットが形成された側にセラミ、
クス層、記録層、セラミックス層1反射層。
[Means for Solving the Problems] In the optical disc of the present invention, tracking grooves or pits are formed on one side of a substrate, and then a hard coat made of a photocurable resin is applied to the side of the substrate where the grooves or pits are not formed. an antistatic layer is formed on the hard coat layer, and then a ceramic layer is formed on the side of the substrate on which the groove or bit is formed.
storage layer, recording layer, ceramic layer 1 reflective layer.

保護層と順時成膜した記録層部を形成した前記基板を2
枚用いて貼り合わせたことを特徴とする。
The substrate on which the protective layer and the recording layer part were sequentially formed was 2
It is characterized by using two sheets and pasting them together.

本発明に於て接着剤には少なくともエポキシの主剤及び
硬化剤1 紫外線硬化樹脂の主剤及び硬化剤の混合物に
有機過酸化物を添加したもの、あるいはエポキシ基と(
メタ)アクリロイル基を有する化合物1例えばビスフェ
ノールAやビスフェノールF型、フェノールノボラック
型、クレゾール/ボラック型のエポキシの部分(メタ)
アクリロイル変性型の化合物に、光重合開始剤、エポキ
シ硬化剤、必要に応じて有機加酸化物を添加したものを
用いるとよい。これらの接着剤において、エポキシ基の
総量とくメタ)アクリロイル基の総量の比はエポキシ基
95から60%l (メタ)アクリロイル基5から40
%になるように作成するとよい。願わ(はエポキシ基9
oから80%、 (メタ)アクリロイル基10から20
%が適当である。
In the present invention, the adhesive includes at least an epoxy base resin and a curing agent 1, a mixture of an ultraviolet curable resin base resin and a curing agent to which an organic peroxide is added, or an epoxy group (
Compounds having meth)acryloyl groups 1 For example, bisphenol A, bisphenol F type, phenol novolac type, cresol/borac type epoxy moiety (meth)
It is preferable to use an acryloyl-modified compound to which a photopolymerization initiator, an epoxy curing agent, and, if necessary, an organic oxide are added. In these adhesives, the ratio of the total amount of epoxy groups to the total amount of meth)acryloyl groups is 95 to 60% of epoxy groups, and 5 to 40% of (meth)acryloyl groups.
%. I hope (is an epoxy group 9
o to 80%, (meth)acryloyl group 10 to 20
% is appropriate.

エポキシの主剤の例としては、ビスフェノール− A系、ビスフェノールF系、ノボラック系等に。Examples of epoxy base agents include bisphenol- For A series, bisphenol F series, novolac series, etc.

低粘度エポキシである反応性希釈剤を添加したり。or by adding a reactive diluent, which is a low viscosity epoxy.

添加しなかったりするものを用いるとよい。反応性希釈
剤の含有量が多くなると、接着剤の粘度が低下して作業
性はよくなるが、接着層の耐熱性。
It is better to use one without adding it. When the content of the reactive diluent increases, the viscosity of the adhesive decreases and workability improves, but the heat resistance of the adhesive layer decreases.

反応性などが低下して、接着層の特性が悪くなるので添
加量はひかえた方がよい。
It is better to limit the amount of addition as it will reduce the reactivity and deteriorate the properties of the adhesive layer.

エポキシの硬化剤としては酸無水物、芳香族アミン、脂
肪族アミン、アミド等あるが、その中でポットライフが
常温で1から50時間にあるものを用いるとよ(,40
°Cから80°Cで硬化できる硬化剤を選択するとよい
。その例としては、2−エチル−4メチルイミタゾール
、1−ベンジル2−メチルイミダゾール、 1−インブ
チル−2メチルイミダゾール等のイミダゾール系、メン
タンジアミン等の環状脂肪族アミンなどがある。
Epoxy curing agents include acid anhydrides, aromatic amines, aliphatic amines, amides, etc. Among them, it is best to use one with a pot life of 1 to 50 hours at room temperature.
It is advisable to select a curing agent that can be cured at temperatures between °C and 80 °C. Examples include imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, and 1-inbutyl-2methylimidazole, and cycloaliphatic amines such as menthanediamine.

紫外線硬化樹脂の主剤としては常温で比較的低粘度のも
のがよく、シかも反応性の高いものを用いるとよく、そ
の例としては1,6−ヘキサンジオールジアクリレート
、 トリメチロールプロパン=4 トリアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレ
ート、 ジペンタエリスルトールへキサアクリレート、
 トリプロピレングリコールジアクリレート等があるの
で、これらを主成分にするとよい。
As the main ingredient of the UV-curable resin, it is best to use one with relatively low viscosity at room temperature and one with high reactivity. Examples include 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane=4 triacrylate. , neopentyl glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate,
Since tripropylene glycol diacrylate and the like are available, it is recommended to use these as the main ingredients.

紫外線硬化樹脂の硬化剤の例としては300nmより長
い波長に吸収があるものを用いる。その例としてはベン
ジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロへキシル
フェニルケトン 2−メチル−[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、ベンゾ
イン、ベンゾンエチルエーテル、ベンゾインイソブチル
エーテル、 1−(4−イソプロピルフェニル) −2
−1=ドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン1−オン
、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等が
挙げられる。
As an example of the curing agent for the ultraviolet curable resin, one that absorbs at wavelengths longer than 300 nm is used. Examples include benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone 2-methyl-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone, benzoin, benzone ethyl ether, benzoin isobutyl ether, 1- (4-isopropylphenyl) -2
-1=droxy-2-methylpropan-1-one, 2hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, and the like.

本発明において、貼り合わせ時の温度は接着剤の粘度に
より変える必要があり、常温より高くすることが好まし
いが、一定の定状温度を得やすくするため、70℃以下
にすることが好ましい。より好ましくは40°Cから6
0°Cである。接着剤を硬化させるための基板加熱は接
着剤の硬化温度に合わせて、40℃から80℃が好まし
い。より好ましくは50℃から70°Cである。
In the present invention, the temperature at the time of bonding needs to be changed depending on the viscosity of the adhesive, and is preferably higher than room temperature, but is preferably 70° C. or lower in order to make it easier to obtain a constant constant temperature. More preferably from 40°C to 6
It is 0°C. The substrate heating for curing the adhesive is preferably from 40°C to 80°C, depending on the curing temperature of the adhesive. More preferably it is 50°C to 70°C.

本発明に於て、エポキシと紫外線硬化樹脂の配合割合は
エポキシ樹脂の配合割合が多い方が接着剤としての特性
がよく、エポキシと紫外線硬化樹脂の比が重量比で95
: 5から70:  aoが好ましい。ここでエポキシ
とはエポキシの主剤と硬化剤のことを示し、紫外線硬化
樹脂とは紫外線硬化樹脂の主剤と硬化剤に有機過酸化物
を添加したものを示す。
In the present invention, as for the mixing ratio of epoxy and ultraviolet curing resin, the higher the mixing ratio of epoxy resin, the better the properties as an adhesive, and the ratio of epoxy and ultraviolet curing resin is 95% by weight.
: 5 to 70: ao is preferred. Here, epoxy refers to an epoxy main ingredient and a curing agent, and an ultraviolet curable resin refers to an ultraviolet curable resin in which an organic peroxide is added to the main ingredient and a curing agent.

本発明に於て、貼り合わせを減圧下で行なうと接着剤の
脱泡も容易になり、接着層に気泡を取り込みにくくなる
In the present invention, if the bonding is performed under reduced pressure, the adhesive can be easily degassed and air bubbles are difficult to be incorporated into the adhesive layer.

本発明において、ディスクを貼り合わせて光を照射して
仮止めした後放置する時間は接着剤が自然に硬化する時
間以上に設定した方がよい。例えば、自然放置して50
時間で全く流動性がなくなって硬化する接着剤で貼り合
わせた場合には505− 6 時間以」二に設定した方がよい。
In the present invention, it is preferable that the time for which the disks are left to stand after being bonded together and temporarily fixed by irradiation with light is set to be longer than the time for the adhesive to naturally harden. For example, if you leave it alone for 50
In the case of bonding with an adhesive that completely loses fluidity and hardens over time, it is better to set the time to 505-6 hours or more.

[実施例] 以下本発明について図面に基づいて詳細に説明する。[Example] The present invention will be explained in detail below based on the drawings.

第1図は本発明になる光ディスクの製造方法により形成
した光ディスクの基本構成図であり、1及び8はポリカ
ーボネートの基板、2及び8は5iAIN層、3及び1
0はTbFeCoN、4及び11はS iAI N層、
5及び12はA1層、6及び13は保護層、7は接着層
、14及び15はハードコート層、16及び17は帯電
防止層である。
FIG. 1 is a basic configuration diagram of an optical disk formed by the optical disk manufacturing method according to the present invention, in which 1 and 8 are polycarbonate substrates, 2 and 8 are 5iAIN layers, 3 and 1
0 is TbFeCoN, 4 and 11 are SiAI N layers,
5 and 12 are A1 layers, 6 and 13 are protective layers, 7 is an adhesive layer, 14 and 15 are hard coat layers, and 16 and 17 are antistatic layers.

1及び8のポリカーボネートの基板は射出圧縮成形によ
って形成した。そして、14および15のハードコート
層を形成した後、16及び17の帯電防止コート層を形
成した。そこでハードコート欠陥や帯電防止コート欠陥
が生じたものを除いて次の工程に進んだ。2及び9の5
iAIN層はS jAlの焼結ターゲットを用いて、窒
素とアルゴンの混合ガスを用いることによるRF反反応
マグマ フトロンスパッタ法によって成膜したものである。
The polycarbonate substrates of Nos. 1 and 8 were formed by injection compression molding. After forming hard coat layers 14 and 15, antistatic coat layers 16 and 17 were formed. Therefore, those with hard coat defects or antistatic coating defects were removed and the process proceeded to the next step. 2 and 9 of 5
The iAIN layer was formed by RF reaction magmaftron sputtering using a mixed gas of nitrogen and argon using a sintered target of SjAl.

3及び10のNdDyFeCo層はNdDyFeCoの
合金ターゲットを用いたDCマグネトロンスパッタ法に
よって成膜したものである。4及び11の5iAIN届
は2及び9の5iAIN層と同様に、窒素とアルゴンの
混合ガスを導入することによるRFF応マグネトロンス
パッタ法によって成膜したものである。5及び12のA
1層はA1のターゲットを用いてアルゴンガスを導入す
ることによるDCマグネトロンスパッタ法によって成膜
したものである。
The NdDyFeCo layers Nos. 3 and 10 were formed by DC magnetron sputtering using an NdDyFeCo alloy target. Similar to the 5iAIN layers 2 and 9, the 5iAIN layers Nos. 4 and 11 were formed by the RFF magnetron sputtering method by introducing a mixed gas of nitrogen and argon. 5 and 12 A
The first layer was formed by DC magnetron sputtering using an A1 target and introducing argon gas.

7の接着層は大日本インキ化学工業のエピクロンS−1
29と油化シェルエポキシのエビキュアーIBMI−1
2と1,6−へ牛サンジオールジアクリレートとt−ブ
チルパーオキシイソブチレートとチバガイギー社製のイ
ルガキュアー907の混合物を、記録層が成膜された側
にリング状に塗布した後、真空系内で別の基板と合わせ
て、その貼り合わせた基板をホットプレート上に乗せた
りまたはオーブンに入れて接着剤を広げて、メタ8− ルハライドランプまたは高圧水銀灯等で紫外線を照射し
て、記録層が成膜されていない部分の接着剤を仮硬化さ
せて、それから72時間放置して接着層を硬化させた。
The adhesive layer in No. 7 is Epicron S-1 from Dainippon Ink and Chemicals.
29 and oil-based shell epoxy Ebicure IBMI-1
After applying a mixture of 2 and 1,6-hesanodiol diacrylate, t-butylperoxyisobutyrate, and Irgacure 907 manufactured by Ciba Geigy in a ring shape to the side on which the recording layer was formed, vacuum Combine the bonded substrate with another substrate within the system, place the bonded substrate on a hot plate or put it in an oven to spread the adhesive, and irradiate it with ultraviolet rays using a meta-8-halide lamp or high-pressure mercury lamp. The adhesive in the area where the recording layer was not formed was temporarily cured, and then left for 72 hours to cure the adhesive layer.

その後50’Cで3時間60 ’Cで8時間、80°C
で2時間加熱して接着層を硬化させた。
then 50'C for 3 hours, 60'C for 8 hours, 80°C
The adhesive layer was cured by heating for 2 hours.

また、接着層の厚みは60μ以下にした方が耐候性の観
点から優れるので、接着層の厚みは60μ以下にする必
要がある。好ましくは50μ以下。
Further, since it is better to make the thickness of the adhesive layer 60μ or less from the viewpoint of weather resistance, the thickness of the adhesive layer needs to be 60μ or less. Preferably 50μ or less.

さらに好ましくは40μ以下になるように、接着剤量を
調整して、接着剤を広げるときの温度調整。
More preferably, the amount of adhesive is adjusted to 40μ or less, and the temperature is adjusted when spreading the adhesive.

あるいは貼り合わせ時にプレス等をするとよい。Alternatively, it is better to press or the like when bonding.

14及び15のハードコート層はトリメチロルブロバン
トリアクリレートと1. 6−ヘキサンジオールジアク
リレートとチバガイギー社製のイルカキュアー907を
基板表面にスピンコードした後、高圧水銀灯により紫外
線を照射して硬化させたものである。
The hard coat layers 14 and 15 are made of trimethylolbroban triacrylate and 1. After spin-coding 6-hexanediol diacrylate and Dolphincure 907 manufactured by Ciba Geigy on the surface of the substrate, it was cured by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp.

16及び17の帯電防止層は、大日本インキ化学工業の
グイ牛ニア−EX−801をスピンコード法によって成
膜したものである。
The antistatic layers Nos. 16 and 17 were formed using Guigyu Ni-EX-801 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals by a spin-coding method.

また、7の接着層として、ビスフェノールF系のエポキ
シ樹脂の全エポキシ基の20%がアクリロイル基である
化合物にチバガイギー社のイルガキュアー907を1.
5%、油化シェルエポキシのエビキュアーBMI−12
を6%、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
を3%添加したものを用いて、他の条件は第1図の構成
と変えずに光ディスクを作成したところ、第1図とほぼ
同等の特性を有する光ディスクが作成できた。
In addition, as the adhesive layer of No. 7, Ciba Geigy's Irgacure 907 was added to a bisphenol F-based epoxy resin in which 20% of all epoxy groups are acryloyl groups.
5%, oily shell epoxy Ebicure BMI-12
When an optical disc was prepared using 6% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, with the other conditions unchanged from the configuration shown in Figure 1, the characteristics were almost the same as in Figure 1. We were able to create an optical disc with

本発明の光ディスクの製造方法によればハードコート欠
陥や帯電防止コート欠陥による不良を排除できるので、
ディスクの歩留りが増加した。従来のように、貼り合わ
せた後にハードコートや帯電防止層を形成すると、そこ
で生じた欠陥により光ディスクが不良となってしまった
According to the optical disc manufacturing method of the present invention, defects caused by hard coat defects and antistatic coating defects can be eliminated.
Disc yield increased. When a hard coat or an antistatic layer is formed after bonding, as in the past, the optical disc becomes defective due to defects that occur there.

尚2本発明はこれらの実施例に限定されると考えられる
べきではなく9本発明の主旨を逸脱しない限り種々の変
更は可能である。
Note that the present invention should not be considered limited to these embodiments, and that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

[発明の効果コ 9 0 以上述べたように本発明の光ディスクの製造方法によれ
ば、ハードコート欠陥や帯電防止コート欠陥によりディ
スクが不良になることがないという効果を有する。
[Effects of the Invention (90) As described above, the optical disc manufacturing method of the present invention has the effect that the disc will not become defective due to hard coat defects or antistatic coating defects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明になる光記録媒体の基本構成図である。 1.8・・・・ポリカーボネートの基板2、 9・・・
・5iAINの保護層 3、 10−・−NdDyFeCoの記録層4、11・
・・5jAINの保護層 5.12・・・A1層 6.13・・・保護層 7、 ・・・・・接着層 14.15・・ハードコート層 16.17・・帯電防止層 以上 11− 14、I5・・・ハードコ
FIG. 1 is a basic configuration diagram of an optical recording medium according to the present invention. 1.8... Polycarbonate substrate 2, 9...
・5iAIN protective layer 3, 10-.-NdDyFeCo recording layer 4, 11・
...5jAIN protective layer 5.12...A1 layer 6.13...Protective layer 7, ...Adhesive layer 14.15...Hard coat layer 16.17...Antistatic layer 11- 14, I5...Hardco

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板の片面にトラッキング用の溝またはピットを形成し
た後、該基板の前記溝またはピットが形成されない側に
光硬化性樹脂よりなるハードコート層を形成し、該ハー
ドコート層の上に帯電防止層を形成し、その後、前記基
板の前記溝またはピットが形成された側にセラミックス
層、記録層、セラミックス層、反射層、保護層と順時成
膜した記録層部を形成した前記基板を2枚用いて貼り合
わせたことを特徴とする光ディスクの製造方法。
After forming tracking grooves or pits on one side of the substrate, a hard coat layer made of a photocurable resin is formed on the side of the substrate where the grooves or pits are not formed, and an antistatic layer is formed on the hard coat layer. and then, on the side of the substrate where the grooves or pits are formed, a ceramic layer, a recording layer, a ceramic layer, a reflective layer, a protective layer, and a recording layer portion are sequentially formed on the substrate. 1. A method for manufacturing an optical disc, characterized in that the optical disc is laminated using the same method.
JP33060889A 1989-12-20 1989-12-20 Manufacture of optical disk Pending JPH03189940A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5342669A (en) * 1991-04-02 1994-08-30 Kuraray Co., Ltd. Optical information recording medium

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5342669A (en) * 1991-04-02 1994-08-30 Kuraray Co., Ltd. Optical information recording medium

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