JPH03188308A - スルーホール充填状態検査装置 - Google Patents
スルーホール充填状態検査装置Info
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- JPH03188308A JPH03188308A JP32924289A JP32924289A JPH03188308A JP H03188308 A JPH03188308 A JP H03188308A JP 32924289 A JP32924289 A JP 32924289A JP 32924289 A JP32924289 A JP 32924289A JP H03188308 A JPH03188308 A JP H03188308A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(概数)
プリント基板のスルーホール内部に充填された導通材料
の充填状態を検査するスルーホール充填状態検査gt胃
に関し、 充填不足の深さが規格以内のスルーホールの過剰検出を
防止することを目的とし、 充填材が充填された被検査物にJ3ける所定数のスルー
ホールにビームを照射し、該スルーホールの表面及び斜
方向の反射光により表面状態検知信号及び充填状態検知
イ六号を得、該表面状態検知信号を第1の多値化回路に
より多値化信号として表面状態検査回路により欠陥を検
査すると共に、該充填状態検知信号を第2の多値化回路
により多値化信号として充填状態検査回路により欠陥を
検査するスルーホール充填状態検査装置において、前記
充填状態検査回路は、前記第1の多値化回路からの多値
化(を号におけるスルーホール領域に対応する前記第2
の多値化回路の多値化信号を抽出し、該抽出した多値化
信号における両糸の光強度のデータ値の総和を算出して
前記スルーホールの欠陥の有無を判定するように構成す
る。2 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板のスルーホール内部に充填され
た導通材料の充填状態を検査するスルーホール充填状態
検査vteに関する。
の充填状態を検査するスルーホール充填状態検査gt胃
に関し、 充填不足の深さが規格以内のスルーホールの過剰検出を
防止することを目的とし、 充填材が充填された被検査物にJ3ける所定数のスルー
ホールにビームを照射し、該スルーホールの表面及び斜
方向の反射光により表面状態検知信号及び充填状態検知
イ六号を得、該表面状態検知信号を第1の多値化回路に
より多値化信号として表面状態検査回路により欠陥を検
査すると共に、該充填状態検知信号を第2の多値化回路
により多値化信号として充填状態検査回路により欠陥を
検査するスルーホール充填状態検査装置において、前記
充填状態検査回路は、前記第1の多値化回路からの多値
化(を号におけるスルーホール領域に対応する前記第2
の多値化回路の多値化信号を抽出し、該抽出した多値化
信号における両糸の光強度のデータ値の総和を算出して
前記スルーホールの欠陥の有無を判定するように構成す
る。2 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント基板のスルーホール内部に充填され
た導通材料の充填状態を検査するスルーホール充填状態
検査vteに関する。
近年、プリント基板の^密度化、^連化に伴い、プリン
ト基板を多層化する傾向にある。特にセラミック基板の
場合、各プリント基板に層間の電気的接続を得るために
スルーホールを設けて導通材料を充填し、これらを積層
している。従って、積層されたプリント基板同志が人々
のスルーホールの導通材料によって完全に導通されるこ
とが要求されている。このため、スルーホールの充填状
態を1確に検査し、内部欠陥を有するプリント基板を排
除する必要がある。
ト基板を多層化する傾向にある。特にセラミック基板の
場合、各プリント基板に層間の電気的接続を得るために
スルーホールを設けて導通材料を充填し、これらを積層
している。従って、積層されたプリント基板同志が人々
のスルーホールの導通材料によって完全に導通されるこ
とが要求されている。このため、スルーホールの充填状
態を1確に検査し、内部欠陥を有するプリント基板を排
除する必要がある。
従来のプリント基板は、熱伝導率がQ好なセラミック系
素材が用いられている。このようなプリント基板は、例
えば、多層基板の各層を積層する前に、−枚毎に孔(バ
イア)を穿設し、この内部に導通材料(例えば、モリブ
デン、タングステン、銅等の金属粒子と溶剤の混合物)
を充填して最後に各層を重ね合わIた侵、焼結して全体
を完成させている。
素材が用いられている。このようなプリント基板は、例
えば、多層基板の各層を積層する前に、−枚毎に孔(バ
イア)を穿設し、この内部に導通材料(例えば、モリブ
デン、タングステン、銅等の金属粒子と溶剤の混合物)
を充填して最後に各層を重ね合わIた侵、焼結して全体
を完成させている。
第13図に従来のスルーホール充填状態検査装置の構成
図を示す。第13図において、レーザ光源10からのレ
ーザ光をビームエクスパンダ11により拡大し、ミラー
12で反射させてビームスプリッタ13を通過させる。
図を示す。第13図において、レーザ光源10からのレ
ーザ光をビームエクスパンダ11により拡大し、ミラー
12で反射させてビームスプリッタ13を通過させる。
ビームスプリッタ13を通過したレーザ光を、回転多面
鏡14により走査を行う。回転多面鏡14に反射したレ
ーザ光は、走査レンズ15によりスポット状に集光され
、ミラー16を介してテーブル17に載置された検査対
宋であるプリント基板18上で走査(第4図矢印)され
る。プリント基板18からの反射光は、入射光と同一の
杼路で9還し、ビームスプリッタ13により反射光成分
が分離される。この反射光は、再結像用レンズ19によ
り再結像され、再結像面上に配置された空間ノイルター
20を通過して、第1の光電子増倍管21にて検知され
る。
鏡14により走査を行う。回転多面鏡14に反射したレ
ーザ光は、走査レンズ15によりスポット状に集光され
、ミラー16を介してテーブル17に載置された検査対
宋であるプリント基板18上で走査(第4図矢印)され
る。プリント基板18からの反射光は、入射光と同一の
杼路で9還し、ビームスプリッタ13により反射光成分
が分離される。この反射光は、再結像用レンズ19によ
り再結像され、再結像面上に配置された空間ノイルター
20を通過して、第1の光電子増倍管21にて検知され
る。
第1の光電子増倍管21による検知信号は、プリント基
板18を上面から観測した場合に相当する信号(表面状
態検知信号)である。一方、プリント基板18からの反
射光は、レーザー光入射方向に対して斜方向(角度θ)
からも、第2の光電子増倍管22にて検知される。第2
の充電f増倍管22で検知される信号は、プリント基板
18のスルーホール充填状態に対応した信号(充填状態
検知信号)であり、スルーホール充填不足等の欠陥(t
l述する)が存在する場合に陰影として検知される。第
1の光電子増倍管21で検知された信号は、第1の二値
化回路23で可変抵抗24のスライスレベル八と比較さ
れ、表面状j&検査回路25により欠陥のhW、を判断
し、その結果の情報を情報部26に出力される。また、
第2の光電f増倍管22で検知された信号は、第2の二
値化回路27で可変抵抗28のスライスレベルBと比較
され、充填状態検査回路29にJ:り欠陥の4無を判断
し、ぞの結果の情報が情報部26に出力される。
板18を上面から観測した場合に相当する信号(表面状
態検知信号)である。一方、プリント基板18からの反
射光は、レーザー光入射方向に対して斜方向(角度θ)
からも、第2の光電子増倍管22にて検知される。第2
の充電f増倍管22で検知される信号は、プリント基板
18のスルーホール充填状態に対応した信号(充填状態
検知信号)であり、スルーホール充填不足等の欠陥(t
l述する)が存在する場合に陰影として検知される。第
1の光電子増倍管21で検知された信号は、第1の二値
化回路23で可変抵抗24のスライスレベル八と比較さ
れ、表面状j&検査回路25により欠陥のhW、を判断
し、その結果の情報を情報部26に出力される。また、
第2の光電f増倍管22で検知された信号は、第2の二
値化回路27で可変抵抗28のスライスレベルBと比較
され、充填状態検査回路29にJ:り欠陥の4無を判断
し、ぞの結果の情報が情報部26に出力される。
ここで、プリンl−L<板18の構成図を第14図に示
す。第14図にお1ノるプリント基板18は、所定数の
スルーホール18 a・・・が穿設され、このスルーホ
ール18a内部に導通44利18b・・・が充填された
ものである。
す。第14図にお1ノるプリント基板18は、所定数の
スルーホール18 a・・・が穿設され、このスルーホ
ール18a内部に導通44利18b・・・が充填された
ものである。
また、第15図に該プリント基板18のスルーホール1
8aの充填状態の部分断面図を示す。第15図(A)は
スルーホール18aに導通材料18bが正常に充填され
た場合を示している。
8aの充填状態の部分断面図を示す。第15図(A)は
スルーホール18aに導通材料18bが正常に充填され
た場合を示している。
方、第15図(B)ヘー(F)は欠陥の場合であり、第
15図(B)は充填不足、第15図(C)は貫通、第1
5図(D)は未充填、第15図(E)はにじみ、第15
図(F)は未充填(ボイド)の状態である。
15図(B)は充填不足、第15図(C)は貫通、第1
5図(D)は未充填、第15図(E)はにじみ、第15
図(F)は未充填(ボイド)の状態である。
次に、第13図における第1及び第2の光電子増倍管2
1,22のその信号処理を第16図により説明する。ま
f1スルーホール18aにおける導通材料18bの光反
射率はプリン1〜基板18表面の光反射率よりも小さい
ことから、−殻内にはスルーホール18a、導通材料1
8bが暗く検知される。第16図(A>のようなプリン
ト基板18の充填状態における第1の光電子増倍管21
の出力恒1表面状態位号、第16図(B))を、第1の
二値化回路23において所定のスライスレベル八で二値
化し、二値化された表面状態検知信号Ofi:mる(第
16図(C))。この表面状態検知信号Oを表面状態検
査回路25内の画像バッファ(図示せず)によりパター
ン化し、表面状態検知パターン(第16図(F))とす
る。この検知パターンは、表面状態検査回路25内で、
例えばラジアルマツヂング検査論理(特開昭62−26
3404号)と称されるパターン形状による良否判断に
より、第15図(F)(第16図(A)d)のにじみ等
の欠陥を検出する。
1,22のその信号処理を第16図により説明する。ま
f1スルーホール18aにおける導通材料18bの光反
射率はプリン1〜基板18表面の光反射率よりも小さい
ことから、−殻内にはスルーホール18a、導通材料1
8bが暗く検知される。第16図(A>のようなプリン
ト基板18の充填状態における第1の光電子増倍管21
の出力恒1表面状態位号、第16図(B))を、第1の
二値化回路23において所定のスライスレベル八で二値
化し、二値化された表面状態検知信号Ofi:mる(第
16図(C))。この表面状態検知信号Oを表面状態検
査回路25内の画像バッファ(図示せず)によりパター
ン化し、表面状態検知パターン(第16図(F))とす
る。この検知パターンは、表面状態検査回路25内で、
例えばラジアルマツヂング検査論理(特開昭62−26
3404号)と称されるパターン形状による良否判断に
より、第15図(F)(第16図(A)d)のにじみ等
の欠陥を検出する。
一方、第2の光電子増倍管22の出力O(充填状態検知
信号、第16図(D))を第2の二値化回路27におい
て陰影部のみを抽出する所定のスライスレベルBで二値
化し、二値化された充填状態検知信号0を得る(第16
図(E))。この充填状態検知信号0を充填状態検査回
路29内の画像バッファ(図示1!ず)によりパターン
化し、充填状態検知パターン(第16図(G))とする
。
信号、第16図(D))を第2の二値化回路27におい
て陰影部のみを抽出する所定のスライスレベルBで二値
化し、二値化された充填状態検知信号0を得る(第16
図(E))。この充填状態検知信号0を充填状態検査回
路29内の画像バッファ(図示1!ず)によりパターン
化し、充填状態検知パターン(第16図(G))とする
。
この検知パターンtよ、充填状態検査回路29で陰影パ
ターンの大小等を検査され、第15図(B)〜(D)の
充填不足、f1通の欠陥を検出する。例えば、第16図
(A>に示すように、陰影パターンが1画素10μmの
ドツトマトリクス内に1画素(斜線部SA)以上に存在
すれば欠陥と判定することもでき、又は、第17図(B
)に示すように、検知パターン(第111(G))の面
VASs(画素数)が規定鎮Ss以上か、未満かで判断
し、未満であれば正常と判定する。
ターンの大小等を検査され、第15図(B)〜(D)の
充填不足、f1通の欠陥を検出する。例えば、第16図
(A>に示すように、陰影パターンが1画素10μmの
ドツトマトリクス内に1画素(斜線部SA)以上に存在
すれば欠陥と判定することもでき、又は、第17図(B
)に示すように、検知パターン(第111(G))の面
VASs(画素数)が規定鎮Ss以上か、未満かで判断
し、未満であれば正常と判定する。
ところで、第18図(A)に、各スルーホール充填状態
及びその充填状態検知信号す示す。第18図(A>にお
いて、導通材料18bの充填状態がプリント基板18の
表面より深さdL以上であれば正常状態とした場合、ス
ルーボールa、b。
及びその充填状態検知信号す示す。第18図(A>にお
いて、導通材料18bの充填状態がプリント基板18の
表面より深さdL以上であれば正常状態とした場合、ス
ルーボールa、b。
c、dは■常であり、スルーホールeは欠陥となる。す
なわち、スルーホールa G1理想充填状態であり、ス
ルーホールb、c、dは名工の未完1it部分があるが
、深さが規格(dL>以内であるので正常であり、スル
ーホールeは未充填部分の深さが規格(dえ)以上であ
るので欠陥となる。この場合の充填状態検知信号[相]
を第18図(B)に示す。なお、第18図(A)d、e
の網掛部分は検知における陰影部分である。
なわち、スルーホールa G1理想充填状態であり、ス
ルーホールb、c、dは名工の未完1it部分があるが
、深さが規格(dL>以内であるので正常であり、スル
ーホールeは未充填部分の深さが規格(dえ)以上であ
るので欠陥となる。この場合の充填状態検知信号[相]
を第18図(B)に示す。なお、第18図(A)d、e
の網掛部分は検知における陰影部分である。
ところで、第18図(B)のように、充填状態検知信号
0を第2の二値化回路27においてスライスレベルBで
二値化すると、第18図(C)に示すように、スルーホ
ールb、c、d、eに二値化充填状態検知信号Oが表わ
れる。しかし、スル−ホールeを欠陥と判定されるが、
スルーホールb、c、dまでが欠陥として検出する。す
なわち、充填不足の深さが規格(dt )以内のスルー
小−ルが欠陥として過剰に検出されるという問題があっ
た。
0を第2の二値化回路27においてスライスレベルBで
二値化すると、第18図(C)に示すように、スルーホ
ールb、c、d、eに二値化充填状態検知信号Oが表わ
れる。しかし、スル−ホールeを欠陥と判定されるが、
スルーホールb、c、dまでが欠陥として検出する。す
なわち、充填不足の深さが規格(dt )以内のスルー
小−ルが欠陥として過剰に検出されるという問題があっ
た。
そこで本発明は上記課題に鑑みなされたもので、充填不
足の深さが規格以内のスルーホールの過剰検出を防止す
るスルーホール充填状態検出装置を提供することを目的
とする。
足の深さが規格以内のスルーホールの過剰検出を防止す
るスルーホール充填状態検出装置を提供することを目的
とする。
第1図乃至第3図に本発明の原理説明図を丞す。
第1図の第1の発明にJ3けるスルーホール充填状態検
査装置1において、2は第1の多値化回路であり、表面
状態検知信号を多値化信号とする。3は第2の多値化回
路であり、充填状態検知信号を多値化信号とする。ここ
で、表面状態検知信号及び充填状態検知信号は、充填材
(1適材Fl)が充填された被検査物における所定数の
スルーホールにビームを照射し、スルーホールの表面及
び斜方向の反射光より得るものである。
査装置1において、2は第1の多値化回路であり、表面
状態検知信号を多値化信号とする。3は第2の多値化回
路であり、充填状態検知信号を多値化信号とする。ここ
で、表面状態検知信号及び充填状態検知信号は、充填材
(1適材Fl)が充填された被検査物における所定数の
スルーホールにビームを照射し、スルーホールの表面及
び斜方向の反射光より得るものである。
4は表面状態検査回路であり、表面状態検知信号の多値
化信号によりスルーホールの表面状態の欠陥を検査し、
情報部5に出力する。6は充填状態検査回路であり、第
1の多値化回路2からの多値化信号にお番ノるスルーホ
ール領域に対応する第2の多値化回路3の多値化信号を
抽出し、該抽出した多値化信号における画素の光強痕の
データ値の総和を算出して前記スルーホールの欠陥の有
無を判定する。
化信号によりスルーホールの表面状態の欠陥を検査し、
情報部5に出力する。6は充填状態検査回路であり、第
1の多値化回路2からの多値化信号にお番ノるスルーホ
ール領域に対応する第2の多値化回路3の多値化信号を
抽出し、該抽出した多値化信号における画素の光強痕の
データ値の総和を算出して前記スルーホールの欠陥の有
無を判定する。
また、第2図の第2の発明におけるスルーホール充填状
態検査装置1は、第1図において、第1の多値化回路2
からの多値化信号によりスルーボールの中心位置を検出
し、該中心位置から峙記充填状態検査回路6内で抽出さ
れた多値化信号の画素までの距離を算出し、予め設定さ
れた該距離に対応する重み係数を算出するΦみ付は手段
7を設置ノたものである。そして、充填状態検査回路6
は、この重み係数と、前記抽出された多値化信号の画素
のデータ値とをv4尊する重み演算回路8を有する。
態検査装置1は、第1図において、第1の多値化回路2
からの多値化信号によりスルーボールの中心位置を検出
し、該中心位置から峙記充填状態検査回路6内で抽出さ
れた多値化信号の画素までの距離を算出し、予め設定さ
れた該距離に対応する重み係数を算出するΦみ付は手段
7を設置ノたものである。そして、充填状態検査回路6
は、この重み係数と、前記抽出された多値化信号の画素
のデータ値とをv4尊する重み演算回路8を有する。
さらに、第3図の第3の発明におけるスルーホール充填
状態検査装置1は、第1図又は第2図において、第2の
多植化回路3と充填状態検査回路6との間に、第2の多
値化回路3からの多値化信号の画素の九強頂のデータ値
に対応した重み係数を伺加して前記充填状態検査回路に
出力するデータ変換回路9が設けられる。
状態検査装置1は、第1図又は第2図において、第2の
多植化回路3と充填状態検査回路6との間に、第2の多
値化回路3からの多値化信号の画素の九強頂のデータ値
に対応した重み係数を伺加して前記充填状態検査回路に
出力するデータ変換回路9が設けられる。
第1図に示すように、各画素の光強疫のデータ値を総和
して基準値の比較でスルーホールの欠陥の有無を判定し
ており、また、第2図に示すように各画素の位置におけ
る重み係数とデータ値でスルーホールの欠陥の有無をよ
り顕著にしており、さらに、第3図に示すように各画素
の面積における重み係数とデータ値でスルーホールの欠
陥の有無をより顕著として判定を行っている。
して基準値の比較でスルーホールの欠陥の有無を判定し
ており、また、第2図に示すように各画素の位置におけ
る重み係数とデータ値でスルーホールの欠陥の有無をよ
り顕著にしており、さらに、第3図に示すように各画素
の面積における重み係数とデータ値でスルーホールの欠
陥の有無をより顕著として判定を行っている。
従って、未充填の深さが規格以内で正常であったスルー
ホールの充填状態を区別することが可能となり、欠陥と
して過剰検出されるのを防止することが可能となる。
ホールの充填状態を区別することが可能となり、欠陥と
して過剰検出されるのを防止することが可能となる。
第4図に第1の発明における一実施例のブロック構成図
を示す。なお、上述における同一部分には同一符号を付
す。第4図におけるスルーホール充填状態検査装置1は
、第11図における光学系の構成並びに動作及び表面状
態検知信号、充填状態検知信号の検出方法と同様である
。
を示す。なお、上述における同一部分には同一符号を付
す。第4図におけるスルーホール充填状態検査装置1は
、第11図における光学系の構成並びに動作及び表面状
態検知信号、充填状態検知信号の検出方法と同様である
。
第4図における検知信号を処理する構成及び処理は、ま
ず、第2の光電子増倍管22により検知された充填状態
検知信号Oを第1の多値化回路であるAD変換回路3に
より多値化する。AD変換の上限は完全な黒レベル(入
射光が全く無い場合の充填状態検知信号電圧に相当)に
設定し、上限は充填状態検知信号ort1の陰影領域の
みを効率的に抽出することができるレベル(例えば、正
常なスルーホールの検知レベル程度)に設定する。次に
、この多値化充填状態検知パターンの信号を、充填状態
検査回路6のデータ抽出回路31に入力し、第1の多値
化回路である二値化回路2 (23)からの表面状態検
知パターンを利用して、スルーホール領域内のデータの
みを抽出する。抽出したデータを、データ和算出回路3
2に入力し、各スルーホール領域について、その内部の
データ値の総和を算出する(訂細は後述する)。このデ
ータ値の総和を、判定回路33に入力し、あらかじめ設
定された判定基準値と比較することにより、そのスルー
ホールの充填状態の正常・欠陥を判別する。判定基’I
Eltffについては、実際のスルーホールの充填状態
と10られるデータ値の総和とのIII係を予め実験等
で求め、最適な値を設定しておけばよい。欠陥と判定さ
れたスルーホールについては、そのスルーホール位置等
の欠陥情報を情報部5〈26)に出力する。
ず、第2の光電子増倍管22により検知された充填状態
検知信号Oを第1の多値化回路であるAD変換回路3に
より多値化する。AD変換の上限は完全な黒レベル(入
射光が全く無い場合の充填状態検知信号電圧に相当)に
設定し、上限は充填状態検知信号ort1の陰影領域の
みを効率的に抽出することができるレベル(例えば、正
常なスルーホールの検知レベル程度)に設定する。次に
、この多値化充填状態検知パターンの信号を、充填状態
検査回路6のデータ抽出回路31に入力し、第1の多値
化回路である二値化回路2 (23)からの表面状態検
知パターンを利用して、スルーホール領域内のデータの
みを抽出する。抽出したデータを、データ和算出回路3
2に入力し、各スルーホール領域について、その内部の
データ値の総和を算出する(訂細は後述する)。このデ
ータ値の総和を、判定回路33に入力し、あらかじめ設
定された判定基準値と比較することにより、そのスルー
ホールの充填状態の正常・欠陥を判別する。判定基’I
Eltffについては、実際のスルーホールの充填状態
と10られるデータ値の総和とのIII係を予め実験等
で求め、最適な値を設定しておけばよい。欠陥と判定さ
れたスルーホールについては、そのスルーホール位置等
の欠陥情報を情報部5〈26)に出力する。
ここで、充填状態検査回路6の動作を第5図により詳説
する。第5図(A)、(B)は、第9図(A)a、b、
eと同様な、検査対象の断面及び充填状態検知信号0を
示している。充填状態検知信号◎の陰影領域を、従来の
単純な二値化の代わりに、AD変換回路3により多値化
(例えば、8ビツトでAD変換)して、パターン化する
。AD変換の範囲は、充填状態検知信号の全体でもよい
が、陰影領域、もしくは陰影領域付近(変換レベルC)
に限定し、検知精度を向上している。多値化充填状態検
知パターンを第5図(C)に示すようにスルーホールa
は、陰影が全く存在しないので、多値化充填状態検知パ
ターンは検知されない(例えば、16進法でスルーホー
ルa領域内の光強度のデータ値は、全て、(00)+6
になる)。
する。第5図(A)、(B)は、第9図(A)a、b、
eと同様な、検査対象の断面及び充填状態検知信号0を
示している。充填状態検知信号◎の陰影領域を、従来の
単純な二値化の代わりに、AD変換回路3により多値化
(例えば、8ビツトでAD変換)して、パターン化する
。AD変換の範囲は、充填状態検知信号の全体でもよい
が、陰影領域、もしくは陰影領域付近(変換レベルC)
に限定し、検知精度を向上している。多値化充填状態検
知パターンを第5図(C)に示すようにスルーホールa
は、陰影が全く存在しないので、多値化充填状態検知パ
ターンは検知されない(例えば、16進法でスルーホー
ルa領域内の光強度のデータ値は、全て、(00)+6
になる)。
スルーホールしでは、データ抽出回路31により中央に
5画素(データ値が(00)+6以外)のパターンが検
知される。スルーホールeにおいても同様に、中央に5
画素のパターンが検知される。
5画素(データ値が(00)+6以外)のパターンが検
知される。スルーホールeにおいても同様に、中央に5
画素のパターンが検知される。
スルーホールbとeでは、検知されたパターンの両糸数
は向−であるが、データ和9出回路32による各スルー
ホール領域内の光強度のデータ値の総和は、それぞれ異
なる。そこで、この多値化充填状態検知パターンのデー
タ値の総和を用いて、スルーホールbとeの充填状態の
相違を判定回路33により判別する。例えば、第5図(
C)の場合、データ値の総和は、スルーホールaでは(
00)+6.bでは(18+04X4)−(28)+6
.eでは(aQ+20X4) −(120) +sにな
る。ここで、欠陥の判定基準をデータl+i (80)
16とすると、(80)+s未満を正常、(80)
16以上を欠陥とすると、スルーホールaは正常、bも
正常、eは欠陥と、判定回路33により正しく判定され
ることになる。判定基1(aは、スルーホールの充填状
態と、得られるデータ値の総和とを比較することにより
求める。
は向−であるが、データ和9出回路32による各スルー
ホール領域内の光強度のデータ値の総和は、それぞれ異
なる。そこで、この多値化充填状態検知パターンのデー
タ値の総和を用いて、スルーホールbとeの充填状態の
相違を判定回路33により判別する。例えば、第5図(
C)の場合、データ値の総和は、スルーホールaでは(
00)+6.bでは(18+04X4)−(28)+6
.eでは(aQ+20X4) −(120) +sにな
る。ここで、欠陥の判定基準をデータl+i (80)
16とすると、(80)+s未満を正常、(80)
16以上を欠陥とすると、スルーホールaは正常、bも
正常、eは欠陥と、判定回路33により正しく判定され
ることになる。判定基1(aは、スルーホールの充填状
態と、得られるデータ値の総和とを比較することにより
求める。
次に、第6図に第2の発明の一実施例のブロック構成図
を示す。まず、第2の充電f増倍管22により検知され
た充填状態検知信号を、AD変換回路3により多値化す
る。AD変換の設定は第4図と同様である。このデータ
変換した多値化充填状態検知信号を、充填状態検査回路
6のデータ抽出回路31に入力し、二値化回路23から
の表面状態検知パターンを利用して、スルーホール領域
内の画素のみを抽出する。そして、その画素のデータ値
diを重み演算回路35に出力すると共に、重み付c)
手段7においてその画素の位置をスルーホール中心から
の距離を算出する距離算出回路36に出力する。スルー
ホール中心からの距11粋出回路36においては、中心
位置検出回路37で検出されたスルーホール中心位置を
用いて、データ抽出回路31から出力された画素の中心
からの距1iri(第11図参照)を算出する。距離r
iは、重み係数算出回路38に入力され、距離riに対
応した重み係数βiが算出される。この重み係数βiと
データ値diとを充填状態検査回路29の重み演桿回路
35に入力し、その積β1−diを求める。これらの積
の値を、データ和算出回路32に入力し、各スルーホー
ル領域について、その内部のデータ値の総和を算出する
。このデータ値の総和を、判定回路 33に入力し、あ
らかじめ設定された判定基準値と比較することにより、
そのスルーホールの充填状態の正常・欠陥を判別する。
を示す。まず、第2の充電f増倍管22により検知され
た充填状態検知信号を、AD変換回路3により多値化す
る。AD変換の設定は第4図と同様である。このデータ
変換した多値化充填状態検知信号を、充填状態検査回路
6のデータ抽出回路31に入力し、二値化回路23から
の表面状態検知パターンを利用して、スルーホール領域
内の画素のみを抽出する。そして、その画素のデータ値
diを重み演算回路35に出力すると共に、重み付c)
手段7においてその画素の位置をスルーホール中心から
の距離を算出する距離算出回路36に出力する。スルー
ホール中心からの距11粋出回路36においては、中心
位置検出回路37で検出されたスルーホール中心位置を
用いて、データ抽出回路31から出力された画素の中心
からの距1iri(第11図参照)を算出する。距離r
iは、重み係数算出回路38に入力され、距離riに対
応した重み係数βiが算出される。この重み係数βiと
データ値diとを充填状態検査回路29の重み演桿回路
35に入力し、その積β1−diを求める。これらの積
の値を、データ和算出回路32に入力し、各スルーホー
ル領域について、その内部のデータ値の総和を算出する
。このデータ値の総和を、判定回路 33に入力し、あ
らかじめ設定された判定基準値と比較することにより、
そのスルーホールの充填状態の正常・欠陥を判別する。
判定基準値については、第4図と同様である。
そして、欠陥と判定されたスルーホールについては、そ
のスルーホール位置等の欠陥情報を情報部5に出力する
。
のスルーホール位置等の欠陥情報を情報部5に出力する
。
ここで、重み付G)手段7について第7図及び第8図に
より説明する。第7図(A)、([3)は第18図(A
)a、d、eと同様の検査対象の断面及び充填状態検知
信号0を示している。第7図(A)、(B)のスルーホ
ールa、d、eにおいて、まヂ、中心位置検出回路37
により中心を検出する。距1Illl詐出回路36にお
いて、第8図に示すように、中心位置から距11r !
(r+ 、β2゜β3 、 β4 )の4つの領域に
該スルーホールを分割し、それぞれの領域について重み
係数βi(β1.β2.β3.β4)を設定している。
より説明する。第7図(A)、([3)は第18図(A
)a、d、eと同様の検査対象の断面及び充填状態検知
信号0を示している。第7図(A)、(B)のスルーホ
ールa、d、eにおいて、まヂ、中心位置検出回路37
により中心を検出する。距1Illl詐出回路36にお
いて、第8図に示すように、中心位置から距11r !
(r+ 、β2゜β3 、 β4 )の4つの領域に
該スルーホールを分割し、それぞれの領域について重み
係数βi(β1.β2.β3.β4)を設定している。
−殻内に、重み係数βiは、スルーホール中心からの距
離が増加するとともに(すなわち、スルーホールの外周
に近くなるほど)、小さくなるように設定する。このよ
うな手段を用いることにより、スルーホール外周付近の
画素については、そのデータ値が総和Xに与える影響を
小さくし、また、スルーホール中央付近の画素について
は、そのデータ値が総和Xに与える影響を大きくするこ
とが可能となる。従って、データ和算出回路32におけ
る各スルーホール領域内のデータ値の総和はΣ(β1−
di)となる。例えば、第7図(C)において、β1=
2.β2=1とするとスルーホールaは(00)+6r
あり、スルー ホー ルd ハ((20) +6 +
(40) +6 + (50) +6−+(60) +
6−暑+(40) +6 +(10) 16 +(10
)+s )= (170) +6となり、スルーボール
eは(2X (50)+6 + 2X (90)16
+2X(90)16 )−(2EO)16となる。欠陥
の基準を(200) +6に設定し、データ値の総和が
(200) 、6未満で正常、以上で欠陥とすると、ス
ルーホールa、dは共に正常となり、スルーホールeの
みが欠陥となり正しく判定される。なお、判定回路33
の判定基準値は実際のスルーホールの充填状態と、得ら
れるデータ値の総和とを比較することにより求める。
離が増加するとともに(すなわち、スルーホールの外周
に近くなるほど)、小さくなるように設定する。このよ
うな手段を用いることにより、スルーホール外周付近の
画素については、そのデータ値が総和Xに与える影響を
小さくし、また、スルーホール中央付近の画素について
は、そのデータ値が総和Xに与える影響を大きくするこ
とが可能となる。従って、データ和算出回路32におけ
る各スルーホール領域内のデータ値の総和はΣ(β1−
di)となる。例えば、第7図(C)において、β1=
2.β2=1とするとスルーホールaは(00)+6r
あり、スルー ホー ルd ハ((20) +6 +
(40) +6 + (50) +6−+(60) +
6−暑+(40) +6 +(10) 16 +(10
)+s )= (170) +6となり、スルーボール
eは(2X (50)+6 + 2X (90)16
+2X(90)16 )−(2EO)16となる。欠陥
の基準を(200) +6に設定し、データ値の総和が
(200) 、6未満で正常、以上で欠陥とすると、ス
ルーホールa、dは共に正常となり、スルーホールeの
みが欠陥となり正しく判定される。なお、判定回路33
の判定基準値は実際のスルーホールの充填状態と、得ら
れるデータ値の総和とを比較することにより求める。
このように、充填状態検知パターンの検知された位置及
びての画素のデータ値の大小(スルーホール陰影部の暗
さ)が総和に反映されることになり、より一層の適切な
充填不足欠陥の判定が可能となる。
びての画素のデータ値の大小(スルーホール陰影部の暗
さ)が総和に反映されることになり、より一層の適切な
充填不足欠陥の判定が可能となる。
次に、第9図に第3の発明の一実施例のブロック構成図
を示す。第9図のスルーホール充填状態検査装置1は、
第4図にお【ノるAD変換回路3と充填状態検査装置6
との間に、データ変換回路9を介在させたものである。
を示す。第9図のスルーホール充填状態検査装置1は、
第4図にお【ノるAD変換回路3と充填状態検査装置6
との間に、データ変換回路9を介在させたものである。
すなわち、第2の光電子増倍管22により検知された充
填状態検知信号0を、AD変換回路3により多値化する
。第4図と同様に、AD変換の上限は完全な黒レベル(
入射光が全く無い場合の充填状態検知信号電圧に相当)
に設定し、上限【よ充填状態検知信号◎中の陰影領域の
みを効率的に抽出することができるレベル(例えば、正
常なスルーボールの検知レベル程度)に設定する。この
多値化充填状態検知信号を、データ変換回路9に入力し
、各画素の光強度のデータ値diに対応した重み係数α
iとの積αi・diを求める。重み係数αiはデータ値
diの関数(f(di))であるので、積α1−di=
f(di>・di=g(di)であり、データ値diか
らi接、積α1−diを算出することが可能である。従
って、このデータ変換回路9は、例えばメモリを用いて
簡単に構成できる。メモリ中には、データ値diに対応
した(メモリのアドレスとして入力される)積α1−d
i=q(di)を格納しておく。次に、このデータ変換
した多値化充填状態検知信号を、充填状態検査回路6の
データ抽出回路31に入力し、第1の多値化回路である
二値化回路23からの表面状態検知パターンを利用して
、にじみ領域を含まないスルーホール領域内のデータの
みを抽出する。抽出したデータを、データ和わ出回路3
2に入力し、前述のように、各スルーホール領域につい
て、その内部のデータ値の総和を算出する。このデータ
値の総和を、判定回路33に入力し、あらかじめ設定さ
れた判定基準値と比較することにより、そのスルーホー
ルの充填状態の正常・欠陥を判別するものである。
填状態検知信号0を、AD変換回路3により多値化する
。第4図と同様に、AD変換の上限は完全な黒レベル(
入射光が全く無い場合の充填状態検知信号電圧に相当)
に設定し、上限【よ充填状態検知信号◎中の陰影領域の
みを効率的に抽出することができるレベル(例えば、正
常なスルーボールの検知レベル程度)に設定する。この
多値化充填状態検知信号を、データ変換回路9に入力し
、各画素の光強度のデータ値diに対応した重み係数α
iとの積αi・diを求める。重み係数αiはデータ値
diの関数(f(di))であるので、積α1−di=
f(di>・di=g(di)であり、データ値diか
らi接、積α1−diを算出することが可能である。従
って、このデータ変換回路9は、例えばメモリを用いて
簡単に構成できる。メモリ中には、データ値diに対応
した(メモリのアドレスとして入力される)積α1−d
i=q(di)を格納しておく。次に、このデータ変換
した多値化充填状態検知信号を、充填状態検査回路6の
データ抽出回路31に入力し、第1の多値化回路である
二値化回路23からの表面状態検知パターンを利用して
、にじみ領域を含まないスルーホール領域内のデータの
みを抽出する。抽出したデータを、データ和わ出回路3
2に入力し、前述のように、各スルーホール領域につい
て、その内部のデータ値の総和を算出する。このデータ
値の総和を、判定回路33に入力し、あらかじめ設定さ
れた判定基準値と比較することにより、そのスルーホー
ルの充填状態の正常・欠陥を判別するものである。
判定基準値については、第4図と同様である。そして、
欠陥と判定されたスルーホールについては、そのスルー
ホール位置等の欠陥情報を情報部5に出力する。なお、
データ変換回路(メtす)9の内容を変更することによ
り、データ1Iadiと重み係数αiの任意の関係を設
定することが可能である。
欠陥と判定されたスルーホールについては、そのスルー
ホール位置等の欠陥情報を情報部5に出力する。なお、
データ変換回路(メtす)9の内容を変更することによ
り、データ1Iadiと重み係数αiの任意の関係を設
定することが可能である。
ここで、データ変換回路9及び充填状態検査回路29の
動作を第10図及び第11図により詳説する。第10図
(A)、(B)は、第18図(A)a、c、eと同様の
検査対蒙の断面及び充填状態検知信号0を示している。
動作を第10図及び第11図により詳説する。第10図
(A)、(B)は、第18図(A)a、c、eと同様の
検査対蒙の断面及び充填状態検知信号0を示している。
AD変換回路3の動0は第4図の場合と同様であり、第
10図(C)に示ずような多値化充填状態検知パターン
が得られる。データ変換回路9では、AD変換回路3か
らの光強度のデータ(/idiに重み係数αiを付加す
るが、重み係数αiは例えば第11図のような変換j−
プルが設定される。このようなデータ値の総和を充填状
態検査装置6のデータ和算出回路32により行うことに
より、データ値diが人(陰影部の光強度が小)の画素
については、データ値diが小(陰影部の光強度が人)
の画素よりも総和に与える影響がより大きくなり、陰影
部の光強度の大小が総和に反映されるようになる。例え
ば、第10図(C)において、スルーホールaは<00
)+6.スルーホールCは((30)16Xnxl+(
20)+6X3X8+ (10)16X2X4)=(4
40)+6となり、スルーホールeは((90)+5X
10X2+(50)+6X6X1)=(d20)+6と
なる。欠陥の判定基準を< 500) +6に設定し、
データ値の総和が(500)拓未満で正常、(500)
+6以上で欠陥とすると、スルーホールa、bは正常
、スルーホールCは欠陥となり、判定回路33において
正しくマり定されることになる。なお、上記判定基準値
は実際のスルーホールの充填状態と、得られるデータ値
の総和とを比較することにより求められる。
10図(C)に示ずような多値化充填状態検知パターン
が得られる。データ変換回路9では、AD変換回路3か
らの光強度のデータ(/idiに重み係数αiを付加す
るが、重み係数αiは例えば第11図のような変換j−
プルが設定される。このようなデータ値の総和を充填状
態検査装置6のデータ和算出回路32により行うことに
より、データ値diが人(陰影部の光強度が小)の画素
については、データ値diが小(陰影部の光強度が人)
の画素よりも総和に与える影響がより大きくなり、陰影
部の光強度の大小が総和に反映されるようになる。例え
ば、第10図(C)において、スルーホールaは<00
)+6.スルーホールCは((30)16Xnxl+(
20)+6X3X8+ (10)16X2X4)=(4
40)+6となり、スルーホールeは((90)+5X
10X2+(50)+6X6X1)=(d20)+6と
なる。欠陥の判定基準を< 500) +6に設定し、
データ値の総和が(500)拓未満で正常、(500)
+6以上で欠陥とすると、スルーホールa、bは正常
、スルーホールCは欠陥となり、判定回路33において
正しくマり定されることになる。なお、上記判定基準値
は実際のスルーホールの充填状態と、得られるデータ値
の総和とを比較することにより求められる。
このように、光強度に重み係数を付加することにより、
第10図(A)Cのような幅の広い未充填部分が存在す
る場合であっても、欠陥の過剰検出が防止される。
第10図(A)Cのような幅の広い未充填部分が存在す
る場合であっても、欠陥の過剰検出が防止される。
次に、第12図に第3の発明における他の実施例のブロ
ック構成図を示す。第12図は第6図におくJる八り変
換回v113及びデータ抽出回路31との間に、データ
変換回路9を介在させたものである。このデータ変換回
路9は各画素のデータ値に対応した重み演棹を行うしの
であり、基本的動作は、第9図と同一である。これによ
り、スルーホール陰影部の明さがデータ値の総和により
反映されることになる。
ック構成図を示す。第12図は第6図におくJる八り変
換回v113及びデータ抽出回路31との間に、データ
変換回路9を介在させたものである。このデータ変換回
路9は各画素のデータ値に対応した重み演棹を行うしの
であり、基本的動作は、第9図と同一である。これによ
り、スルーホール陰影部の明さがデータ値の総和により
反映されることになる。
以上のように本発明によれば、各画素のデータ値を総和
して基準値の比較でスルーホールの欠陥の有無を判定し
ており、また、各画素の位置における重み係数とデータ
値でスルーホールの欠陥の有無をよりifi著にしてお
り、さらに、各画素の面積における重み係数とデータ値
でスルーホールの欠陥の有無をより顕著として判定する
ことにより、深さが規格以内の充填不足を有するスルー
ホールの過剰検出を防止することができ、検査装置の信
頼性を向上させることができる。
して基準値の比較でスルーホールの欠陥の有無を判定し
ており、また、各画素の位置における重み係数とデータ
値でスルーホールの欠陥の有無をよりifi著にしてお
り、さらに、各画素の面積における重み係数とデータ値
でスルーホールの欠陥の有無をより顕著として判定する
ことにより、深さが規格以内の充填不足を有するスルー
ホールの過剰検出を防止することができ、検査装置の信
頼性を向上させることができる。
第1図は本発明における第1の発明の原理説明図、
第2図は本発明における第2の発明の原理説明図、
第3図は本発明における第3の発明の原lIJ+説明図
、 第4図は第1の発明の一実施例のブロック構成図、 第5図は第1の発明の充填状態検査回路を説明するため
の図、 第6図は第2の発明の一実施例のブロック構成図、 第7図は第2の発明の重み付は手段を説明するための図
、 第8図は第2の発明のスルーホールの分割を説明するた
めの図、 第9図は第3の発明の一実施例のブロック構成図、 第10図は第3の発明のデータ変換回路を説明するため
の図、 第11図は第3の発明の重み係数の変換j−プルを小し
たグラフ、 第12図は第3の発明の他の実施例のブロック構成図、 第13図は従来のスルーホール充填状態検査装置の構成
図、 第14図は充填されたスルーホールを有するプリント基
板の構成図、 第15図はスルーホール充填状態を示した部分断面図、 第16図は従来の装置におtノる信号処理を示した説明
図、 第17図は従来の陰影パターンの検査を説明するための
図、 第18図は従来の充填状態を示したパターン図である。 図において、 1はスルーホール充填状態検査装置、 2は第1の多値化回路、 3は第2の多値化回路、 4は表面状態検査回路、 5Gよ情報部、 6は充填状態検査回路、 7は重み付は手段、 8は重み演算回路、 9はデータ変換回路 を示す。
、 第4図は第1の発明の一実施例のブロック構成図、 第5図は第1の発明の充填状態検査回路を説明するため
の図、 第6図は第2の発明の一実施例のブロック構成図、 第7図は第2の発明の重み付は手段を説明するための図
、 第8図は第2の発明のスルーホールの分割を説明するた
めの図、 第9図は第3の発明の一実施例のブロック構成図、 第10図は第3の発明のデータ変換回路を説明するため
の図、 第11図は第3の発明の重み係数の変換j−プルを小し
たグラフ、 第12図は第3の発明の他の実施例のブロック構成図、 第13図は従来のスルーホール充填状態検査装置の構成
図、 第14図は充填されたスルーホールを有するプリント基
板の構成図、 第15図はスルーホール充填状態を示した部分断面図、 第16図は従来の装置におtノる信号処理を示した説明
図、 第17図は従来の陰影パターンの検査を説明するための
図、 第18図は従来の充填状態を示したパターン図である。 図において、 1はスルーホール充填状態検査装置、 2は第1の多値化回路、 3は第2の多値化回路、 4は表面状態検査回路、 5Gよ情報部、 6は充填状態検査回路、 7は重み付は手段、 8は重み演算回路、 9はデータ変換回路 を示す。
Claims (3)
- (1)充填材が充填された被検査物における所定数のス
ルーホールにビームを照射し、該スルーホールの表面及
び斜方向の反射光により表面状態検知信号及び充填状態
検知信号を得、該表面状態検知信号を第1の多値化回路
(2)により多値化信号として表面状態検査回路(4)
により欠陥を検査すると共に、該充填状態検知信号を第
2の多値化回路(3)により多値化信号として充填状態
検査回路(6)により欠陥を検査するスルーホール充填
状態検査装置において、 前記充填状態検査回路(6)は、 前記第1の多値化回路(2)からの多値化信号における
スルーホール領域に対応する前記第2の多値化回路(3
)の多値化信号を抽出し、該抽出した多値化信号におけ
る画素の光強度のデータ値の総和を算出して前記スルー
ホールの欠陥の有無を判定することを特徴とするスルー
ホール充填状態検査装置。 - (2)前記第1の多値化回路(2)からの多値化信号に
よりスルーホールの中心位置を検出し、該中心位置から
前記充填状態検査回路(6)内で抽出された多値化信号
の画素までの距離を算出し、予め設定された該距離に対
応する重み係数を算出する重み付け手段(7)を設ける
と共に、 該充填状態検査回路(6)は、該重み係数と、該抽出さ
れた多値化信号の画素のデータ値とを演算する重み演算
回路(8)を有することを特徴とする請求項(1)記載
のスルーホール充填状態検査装置。 - (3)前記第2の多値化回路(3)と前記充填状態検査
回路(6)との間に、 該第2の多値化回路(3)からの多値化信号の画素の光
強度のデータ値に対応した重み係数を付加して前記充填
状態検査回路(6)に出力するデータ変換回路(9)を
設けることを特徴とする請求項(1)又は(2)記載の
スルーホール充填状態検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32924289A JPH03188308A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | スルーホール充填状態検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32924289A JPH03188308A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | スルーホール充填状態検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03188308A true JPH03188308A (ja) | 1991-08-16 |
Family
ID=18219240
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32924289A Pending JPH03188308A (ja) | 1989-12-19 | 1989-12-19 | スルーホール充填状態検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03188308A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998021567A1 (de) * | 1996-11-12 | 1998-05-22 | Heuft Systemtechnik Gmbh | Verfahren zum testen der zuverlässigkeit eines prüfgerätes, insbesondere eines leerflascheninspektors |
-
1989
- 1989-12-19 JP JP32924289A patent/JPH03188308A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998021567A1 (de) * | 1996-11-12 | 1998-05-22 | Heuft Systemtechnik Gmbh | Verfahren zum testen der zuverlässigkeit eines prüfgerätes, insbesondere eines leerflascheninspektors |
US6466691B1 (en) | 1996-11-12 | 2002-10-15 | Heuft Systemetechnik Gmbh | Method for testing the reliability of a testing apparatus, specially an empty bottle inspecting device |
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